KR100267897B1 - 고순도 테레프탈산의 제조방법 - Google Patents

고순도 테레프탈산의 제조방법 Download PDF

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가쓰히꼬 후꾸이
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미우라 아끼라
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Abstract

파라크실렌의 산화반응에 의하여 얻어진 조테레프탈산을 가열하여 물에 용해시키고, 얻어진 수용액을 260 ~ 320℃ 의 온도에서, 백금족 금속촉매의 존재하에, 수소와 접촉시켜서 정제하는 방법에 있어서, 이 수용액이 가열 과정에서 250℃ 이상에 도달하고 부터 정제를 개시할때 까지의 시간을 3 분이하로 하는 것을 특징으로 하는 고순도 테레프탈산의 제조방법.

Description

고순도 테레프탈산의 제조방법
제1도는 본 발명에 사용되는 충전형 반응기의 일예의 구조를 나타내는 도면이고,
제2도는 본 발명에 사용되는 충전형 반응기의 다른 일예의 구조를 나타내는 도면이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 수소의 공급구 2 : 조테레프탈산 수용액 공급구
3 : 오버플로 벽 4 : 칸막이판
5 : 촉매충전층 6 : 테레프탈산 수용액 출구
7 : 테레프탈산 수용액의 유로
본 발명은 고순도 테레프탈산의 제조방법에 관한 것이다. 상세하게는 파라크실렌의 산화반응에 의해 얻어진 조테레프탈산을 백금족 금속의 존재하에, 수소와 접촉시켜서 정제할 때에, 불순물의 생성을 억제함으로써 고순도의 테레프탈산을 제조하는 방법에 관한 것이다.
파라크실렌의 산화에 의해서 얻어지는 조테레프탈산 중에는, 통상, 4 - 카르복시벤즈알데히드 (「4CBA」라고 생략하여 표시한다) 를 비롯하는 각종 불순물이 비교적 다량으로 함유되어 있으며, 종래는 이것을 정제 한 후, 폴리에스테르의 원료로서 사용하고 있다.
이와같은 조테레프탈산의 정제 방법으로서는, 조테레프탈산을 수소화 처리 혹은 산화처리하는 방법이 알려져 있다. 이중 테레프탈산을 수소화 처리하는 방법으로서, 고온, 고압하에서 조테레프탈산의 수용액을 수소화 촉매의 존재하에 수소환원 처리하고, 또한 처리된 수용액으로 부터 테레프탈산의 결정을 회수하는 방법이 제안되어 있다. (일본국 특공소 41 - 16860 호 공보).
이러한 조테레프탈산을 수소첨가하여 정제하는 방법에 의하면 조테레프탈산중의 무기성 불순물인 금속이온, 및 유기성 불순물 중에서 가장 함유량이 많은 4CBA 의 혼합량을 현저하게 저하시킬 수가 있다. 그러나, 4CBA 이외의 구조 불명의유기성 불순물 (이하 「착색원인 불순물」이라고 한다) 를 완전히 제거할 수는 없고, 정제 테레프탈산중에 이 착색원인 불순물의 일부가 잔존하고, 예를들면 폴리에스테르 제조시에 착색을 야기시키고 중합체의 백색도를 저하시킨다.
본 발명은 종래의 고순도 테레프탈산의 제조에 있어서의 상기한 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로써, 고온, 고압하에, 조테레프탈산의 수용액을 수소와 접촉시켜서 정제하는 방법, 즉 수소환원 정제하는 방법에 있어서, 수소환원 정제하기 전의 고온하에서 착색원인 불순물이 생성되는 것을 억제하여 고순도의 정제 테레프탈산을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 감안하여, 예의 검조를 한 결과, 수소환원 정제전의 조테레프탈산이 고온에 노출되는 시간, 특히 250℃ 이상에서 노출되는 시간을 한정함으로써, 착색원인 불순물의 생성을 억제할 수 있고, 극히 고순도의 정제테레프탈산을 얻을 수가 있다는 것을 발견하여 본 발명에 도달하였다.
즉, 본 발명의 요지는 파라크실렌의 산화반응에 의해 얻어진 조테레프탈산을 가열하여 물에 용해시키고, 260 ~ 320℃ 의 온도에서 백금족 금속 촉매의 존재하에, 수소와 접촉 시켜서 정제하는 방법에 있어서, 이 수용액이 가열과정에서 250℃ 이상에 도달하고 나서 정제를 개시할 때 까지의 시간을 3 분 이하로 하는 것을 특징으로 하는 고순도 테레프탈산의 제조방법에 있다.
한편, 이 수용액이 250℃ 이상에 도달하고부터 정제를 개시할 때까지의 시간을 짧게 하면 조테레프탈산의 결정입자직경에 따라서는 용해가 불충분한 경우가 있을 수 있다. 만일 미용해의 테레프탈산 결정이 백금족 금속촉매의 충전층에 흘러들어간 경우에는 안정된 연속운전이 불가능하게 된다.
이 때문에, 종래 조테레프탈산을 완전 용해시키는 방법으로서, 통상 튜우브형 가열기와 촉매의 충전층으로 이루어지는 반응기와의 사이에, 따로 버퍼 용해조를 설치하고, 여기서 완전 용해시키고 있다 (일본국 특공소 51 - 32618 호등).
그러나, 이 버퍼 용해조에서의 체류시간은 수분 내지 수십분이며, 버퍼 용해조를 사용하는 방법은 250℃ 이상에 도달하고 부터 정제 개시까지의 시간을 3 분 이하로 하는데는 적합한 방법이 아니다.
그래서 본 발명자들은 버퍼 용해조를 설치하지 않고, 단시간에서 확실하게 조테레프탈산의 용해처리를 하고, 250℃ 이상에 도달하고 부터 정제 개시까지의 시간을 3 분이하로 하는 방법으로서 충전탑형 반응기의 상부 입구 부분에 오버플로 벽에 의해 칸막이가 형성된 체류영역을 설치하고 이 체류영역에 조테레프탈산 수용액을 공급하여, 오버플로 벽을 오버플로시킨 후, 이 체류영역의 하부에 위치하는 촉매층에 수용액을 통과시키는 방법을 발명하였다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
파라크실렌의 산화방법은, 통상, 저급지방족 카르복실산으로 이루어지는 용매중, 특히 아세트산 용매중에서, 촉매로서 천이 금속 화합물 및 브롬 화합물의 존재하에, 분자상 산소에 의해 액상산화함으로써 실시된다. 촉매로서의 천이금속 화합물로서는 망간, 코발트, 철, 니켈, 크롬등의 천이 금속의 브롬염, 벤조산염, 나프텐산염, 아세트산염 등의 카르복실산염, 아세틸아세트네이트 등이, 또 브롬화합물로서는 망간, 코발트, 철, 니켈, 크롬 등의 브롬염, 브롬화수소산, 브롬화나트륨, 디브로모에틸렌, 테트라브로모에탄 등이 사용되고 있다. 그리고 천이 금속의 브롬염은 천이 금속화합물 성분과 브롬화합물 성분을 겸할 수가 있다. 또 분자상 산소로서는 순산소, 공기, 수산소와 불활성가스와의 혼합물 등이 사용된다.
보다 구체적으로는 예컨대 파라크실렌을 아세트산 중에서 액상 산화하여 테레프탈산을 제조하는 경우에는 원료 파라크실렌은, 통상, 아세트산 용매에 대하여 1 ~ 50 중량 % 의 비율로 사용된다. 촉매로서 코발트 화합물 또는 망간화합물과 브롬화합물이 사용될 때는, 이것들의 화합물은 용매에 대하여 통상 코발트 원자가 10 ~ 5000 중량 ppm, 망간원자가 10 ~ 5000 중량 ppm, 브롬원자가 10 ~ 10000 중량 ppm 으로 되도록 사용된다. 또 산화반응기에 공급되는 분자상 산소는 통상, 파라크실렌 1 몰에 대하여 산소로서 3 ~ 20 몰의 비율로 되도록 사용된다. 그리고 반응은 통상, 반응온도 160 ~ 260℃, 반응압력 약 0.5 ~ 5 MPa (4 ~ 50 ㎏/㎠ G), 체류시간 10 ~ 200 분의 범위에서 수행된다.
이와같이 해서 얻어지는 조테레프탈산은, 불순물로서 4CBA 를 통상 50 ~ 10000 중량 ppm 으로 함유하고 있으며, 폴리에스테르의 원료로서 사용하기 위하여 수소환원 정제하는 것이 바람직하다. 즉, 조테레프탈산의 물슬러리를 가열하고, 슬러리중의 테레프탈산을 물에 완전히 용해시키고, 고온, 고압하에, 수소의 존재하에 백금족 금속과 접촉시키고, 이후, 정석에 의해서 정제 테레프탈산을 얻는 방법이 채용된다.
보다 상세하게는 물 100 중량부에 대하여 조테레프탈산을 통상 1 ~ 80 중량부, 바람직하기는 15 ~ 65 중량부로 이루어지는 물슬러리를 가열하여 조테레프탈산을 물에 용해시키고, 260 ~ 320℃, 바람직하기는 270 ~300℃ 에서 수소첨가 반응을 시킨다. 320℃ 를 초과하면 수소환원 반응중에서의 부생물의 생성이 현저하게 되고, 또 250℃ 미만에서는 수첨가율이 저하함으로 바람직하지 않다.
또 조테레프탈산 수용액 lt / hr 당, 분자상 수소를 0.05 ~ 10 N㎥/hr로, 바람직하기는 0.1 ~ 3N㎥/hr 로 사용하고, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 백금, 오스뮴 등의 백금족 금속촉매와 통상 1 ~ 100 분간 접촉한다. 이 때의 반응계의 전압력은 통상 5 ~ 15 MPa, 바람직하기는 6 ~ 10 MPa, 특히 바람직하기는 7 ~ 10 MPa 이다. 이것들의 백금족 금속촉매는 통상 테레프탈산 열수용액에 불용성의 담체, 예를들면 활성탄 등에 담지시켜서 사용된다. 이것들 중에서는 특히 활성탄에 0.1 ~ 10 중량 % 의 팔라듐 (이하 : 「Pd / c」라고 생략한다) 을 담지시킨 촉매를 사용하는 것이 정제효과면서 바람직하다.
반응기로서는 충전탑형 반응기를 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 Pd / c 를 촉매층으로 하는 충전탑형 반응기를 사용하고, 분자상 수소의 존재하에, 조테레프탈산 수용액을 촉매층에 통과시킨다. 이와같이 해서 정제 처리한 테레프탈산의 열수용액은 이어서, 70 ~ 180℃ 까지 냉각되고, 테레프탈산을 정석시켜 분리된다.
이상과 같은 수소환원의 프로세스에 있어서, 조테레프탈산을 물에 용해시키고 수용액으로서 반응기에 공급하기 위해서는 통상 260 ~ 320℃ 의 반응 온도로 사전에 가온시켜둘 필요가 있다. 또 입자상의 테레프탈산의 미용해물이 잔존한 상태에서 반응기에 공급되면 수첨정제를 할수 없을 뿐만 아니라 Pd / c 의 고정상에서 폐색의 사고가 생기고, 더 나아가서는 플랜트의 정지까지에도 이른다. 따라서 종래는 미용해의 조테레프탈산이 반응기에 공급되지 않도록 물슬러리중의 조테레프탈산의 농도에 걸맞는 용해온도 보다 약간 높인 온도를 유지함으로써 체류시간을 길게하여 강제로 용해시키고 있었다. 구체적으로는 슬러리를 가열하기 시작하여, 반응온도인 260 ~ 320℃ 의 온도로 도달할 때까지에 0.5 ~ 3 분내에, 반응온도에 도달하고 부터 버퍼용해조 등에서 강제로 용해시켜 수소환원 정제하기 까지의 시간에 3 ~ 10 분정도 요하고 있었다.
그런데, 본 발명자들이 상세히 검토를 한 결과로는 이와같은 고온하에, 특히 250℃ 이상으로 테레프탈산을 노출시킴으로써 열적변질이 이어나고 분자량이 수백에서 수만의 고분자량인 착색원인 불순물이 생성한다는 것을 발견하고, 또한 이것들의 착색원인 불순물은 고온하에 노출되는 시간이 짧을수록 생성되는 양이 적게되는 관계가 있다는 것을 발견하였다.
그래서, 본 발명의 특징으로 하는 바는 파라크실렌의 산화에 의해 얻어진 조테레프탈산의 물슬러리를 가열하여 용해시킬때, 250℃ 이상의 온도로 가열된 상태로 부터 수소 분위기하에, 백금족금속과 접촉시켜 수소환원 정제를 개시할때 까지의 시간 (유지시간, 체류시간) 을 3 분이하, 바람직하기는 2 분이하에서 수행함으로써 고온에 노출되는 시간을 가급적 짧게하는 것으로서, 온도에 인한 변질을 억제하고 착색원인 불순물의 생성을 억제한 점에 있다.
250℃ 이상에 도달하고 부터 정제 개시까지의 시간의 하한은 특별히 규정하지 않으며, 조테레프탈산이 완전히 용해되면 된다. 통상은 약 0.5 분 이상이다.
250℃ 이상에 도달하고 부터 정제개시 까지의 시간을 상기 범위내로 하는 방법으로서는, 버퍼용해조에서의 체류시간을 짧게 제어함으로서도 가능하지만, 버퍼용해조를 설치하지 않고, 충전탑형 반응기 상부 입구부분에 오버플로 벽에 의해 칸막이가 형성된 체류영역을 설치하고, 이 체류영역에 조테레프탈산 수용액을 공급하고, 오버플로 벽을 오버플로시킴으로써 이 체류영역의 하부에 위치하는 촉매충전층에 조테레프탈산 수용액을 통과시킴으로써, 체류시간을 단축시키는 방법이 바람직하다.
이러한 상부에 오버플로 벽을 갖는 충전탑형 반응기를 사용한 태양에 관하여 더욱 설명하면, 상기 반응기는 상부입구 부분에 오버플로벽에 의해 칸막이된 조테레프탈산수용액의 체류영역을 설치하고, 이 체류영역의 하부에 촉매 충전층을 갖는 반응영역을 갖는 구조이다. 약간의 미용해 결정입자를 함유할 가능성이 있는 조테레프탈산 수용액은, 먼저 상부의 체류 영역에 가압하에 공급되어 반응기 상부로 부터 하부로 향해서 흐르고, 탑바닥에서 유출된다. 수소도 상부로 부터 공급되고, 액상중에 용해되어 간다. 반응기 내부는 상방에 수증기와 수소가스의 기상부분이 존재하고, 하방에 촉매충전층의 전체를 포함하는 대부분의 액상부분으로 이루어진다. 상기 반응기의 구조에 관하여, 특히 반응기의 상부의 구조에 관하여 도면을 사용하여 더욱 구체적으로 설명한다.
제 1 도는 본 발명에 사용되는 반응기의 일예의 구조를 나타내는 것이다. (1) 은 수소 공급구, (2) 는 조테레프탈산 수용액 공급구, (3) 은 오버플로 벽, (4) 는 칸막이판, (5) 는 촉매충전층, (6) 은 테레프탈산수용액의 출구 및 (7) 은 테레프탈산 수용액의 유로를 나타낸다. 그리고, 반응을 시킬경우, 칸막이판 (4) 과 촉매충전층 (5) 과의 사이에 액상과 기상의 계면부분이 존재한다. 액상 부분은 통상 촉매충전층의 상부가 채워질 정도의 높이로 설정된다.
수소는 탑정부근의 공급구 (1) 로부터 공급된다. 수소는 고온고압의 탑내에서 테레프탈산 수용액중에 충분히 용해되나, 용해효율을 높이기 위해서는 오버플로하여 하강하는 테레프탈산 수용액의 유로에 따라 수소가스를 공급하고, 액속으로 휩쓸려 들어가기 쉽게하면 바람직하다.
조테레프탈산 수용액은 공급구 (2) 로 부터 공급된다. 공급구 (2) 의 위치는 칸막이판 (4) 으로부터 오버플로 벽 (3) 의 통상 0.2 ~ 0.4 배의 높이로 설치하고, 오버플로벽 (3) 과 칸막이판 (4) 에 에워 쌓여진 부분이 체류영역을 형성한다. 따라서 오버플로벽 (3) 의 높이는 체류영역에서의 수용액의 체류 시간을 고려하여 적당히 설정되고, 또 체류영역의 온도는 통상, 반응영역과 동일하게 설정된다. 이 체류영역의 주된 의의는 조테레프탈산 수용액을 가급적 단시간으로 반응영역에 공급하고, 수용액 중에 근소하게 혼재하는 미용해의 비교적 큰 결정입자를 체류영역에 체류시켜, 여기서 완전 용해 시키는데 있다.
체류영역내로 공급된 수용액은 오버플로 벽 (3) 에 따라 상승하고, 최후로 오버플로하고, 간막이판 (4) 의 하측의 반응영역에 공급되게 된다. 따라서, 혹시 미용해결정 입자가 있더라도 이 입자는 오버플로하는 일이 없이 체류영역의 하부로 침강하여 체류하고, 거기서 공급액이나 수소의 흐름에 의한 혼합에 제공되어 신속하게 용해되게 된다. 미용해 입자의 체류는 용액의 상승흐름과 중력의 작용에 의한 침강과의 관계에서 생기므로, 용액의 상승흐름의 속도를 가급적 작게하고, 또한 체류영역의 용량은 가급적 작게 하는 것이 바람직하다. 체류영역에서의 체류 시간은 장치의 크기에 따라서 다르지만, 예를들면 0.5 ~ 2 분 정도이다. 이 때문에 용액이 상승하는 부분의 수평방향의 단면적을 가급적 크게하는 편이 바람직하다. 예를 들면 제 1 도의 반응기에 있어서의 체류영역내의 경우는 수용액이 상승하는 원통부분의 지름과 반응영역의 지름이 동일 원통이며, 오버플로하여 하강하는 유로가 반응영역 내경과 동심원의 원통형을 하고 있으나, 반응기 내경을 D 로 하면 오버플로벽 (3) 의 길이가 D 의 0.3 내지 0.9 배, 수용액이 오버플로하여 하강하는 유로의 원통부분의 직경이 D 의 0.2 ~ 0.4 배의 범위로 설치하면 바람직하다.
이상과 같은 원리에 의거한 구조의 반응기라면 제 1 도의 것에 한정되는 것은 아니고, 예를들면 제 2 도에 표시한 바와 같이 탑정부근의 공급구 (2) 로 부터 조테레프탈산 수용액을 공급하고, 이 공급구 (2) 의 선단부를 포함하는 형태로 오버플로 벽 (3) 과 간막이 벽 (4) 을 포함하여 이루어지는 체류 영역을 설치하는 구조의 것이라도 좋다.
이와같은 구조로 함으로써 가열라인에서 미용해의 비교적 입경이 큰 조테레프탈산 결정의 체류시간만은 길게하고 다른 수용액의 체류시간을 짧게 할 수가 있다.
[실시예]
이하 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 실시예에 있어서, GPC 성분이란 GPC (겔투과크로마토그래피) 분석에 의해 표준 폴리스티렌 환산으로 분자량이 수백으로 부터 수만에 상당하는 테레프탈산 제품중의 착색 원인 불순물을 의미한다. GPC 성분량의 비교로서는 GPC 의 크로마토그램의 피크면적 (상대치) 를 표시하였다. 또, 조테레프탈산중의 4CBA 의 함유율은 액체 크로마토그래피에 의해서 측정하고, 마찬가지로 알칼리 투과율 (「T340」이라고 생략하여 나타낸다.) 은 조테레프탈산 7.5 g 을 2 노르말의 수산화칼륨 50 ml 에 용해하여 광로 길이 1 ㎝ 의 석영셀에 의해서 340 mμ 에서의 광선투과율로 표시하였다.
[실시예 1]
조테레프탈산의 물슬러리 화조, 계량조, 슬러리 공급펌프, 슬러리 가열라인, 슬러리 용해조, 0.5 중량 % 의 Pd 를 활성탄에 담지시킨 촉매를 충전한 수첨반응기 및, 정석조를 구비한 장치를 사용하여 고정상 유통방식에서의 수첨실험을 하였다. 본 장치에 있어서, 각기기나 가열라인에 관하여서는 폐색방지를 위하여 전기히터와 보온재 및 압력 조정기를 장비하고 있으며, 온도, 압력이 가능한 한 정확히 제어되고 있다.
최초로 슬러리화조를 제외한 전시스템을 질소가스로 충분히 치환한 후 질소가스로 90 ㎏/㎠G (8.9MPa) 에 가압하였다. 다음에 계량조내에 투입한 물을 슬러리 공급펌프를 사용하여 슬러리가열라인, 버퍼용해조, 반응기를 경유하여 정석조로 순차적으로 유통시키고, 시스템내의 가열을 하였다. 가열라인의 최종부에서 반응온도가 290℃ 로 도달하도록 가열을 조정하고, 다음의 버퍼용해조에서는 290℃ 로 유지하여 강제로 용해되도록 온도를 조정하였다.
온도가 안정되고, 용량 50ℓ 의 교반기가 부착된 슬러리 화조에서 4CBA 를 2850 ppm 을 함유하고, T340 가 38 % 인 조테레프탈산을 30 중량부, 물 70 중량부로 미리 조정한 슬러리를 계량조에 이송하고, 물로부터 슬러리로 교체하는 공급 (6ℓ/hr) 을 개시하였다. 이때 슬러리가 250℃ 로 가열되고 부터 가열라인의 최종부에 도달할 때까지의 시간은 0.5 분, 용해조에서의 유지시간은 1.5 분이었다. 이 슬러리를 반응기에 도입하여 수소유량 3ℓ/hr, 반응계의 전압력 90 ㎏/㎠G (8.9 MPa), 반응온도에서 290℃ 에서 수첨 반응 처리를 받은 테레프탈산 수용액은 연속적으로 정석조에 보내지고, 테레프탈산을 정출시키고, 100℃ 의 온도에서 모액을 분리한 후, 수세하고 이어서 건조시켰다.
얻어진 정제 테레프탈산중의 GPC 분석의 결과를 표 - 1 에 표시하였다.
[비교예 1]
가열라인 및 용해조에서의 유지시간을 표 - 1 에 표시한 바와 같이 한것 이외는 실시예 1 과 완전히 같은 장치, 조건으로 실험하였다. 결과를 표 - 1 에 표시하였다. 표 - 1 에서 명백한 바와 같이 250℃ 이상의 고온유지시간이 길수록 착색원인 불순물인 GPC 성분량이 현저하게 증가하였다.
[실시예 2]
제 1 도에 표시한 반응기를 사용하여 체류시간을 짧게한 예를 표시한다.
원료테레프탈산 (4CBA 를 테레프탈산에 대하여 2700 ppm 함유함) 을 수용액농도로 30 중량 % 의 슬러리로 하고, 이것을 압력 90 ㎏/㎠G (8.9MPa) 로 승압하고, 다관식열교환기에 의해 285℃ 까지 승온하였다. 여기서의 체류시간은 약 90 초로 하였다. 슬러리는 45 ㎥/hr 의 함유량으로 본 발명의 충전탑형 반응기에 공급하였다. 반응기는 제 1 도와 같은 구조이며, 탑지름 1260 m/m, 높이 10m, 촉매층의 높이는 7m 이다. 체류영역의 구조는 오버플로벽의 높이 700 m/m, 하강관의 직경은 300 m/m 이다. 여기서의 체류시간은 약 1 분으로 하였다. 반응조건은 압력 80 ㎏/㎠G (7.9 MPa), 온도 285℃ 에서, 수소유량은 36 N㎥/hr 로 하고, 촉매는 0.5 % 팔라듐 / 카본을 사용하였다.
이와같은 조건으로 약 170 일간 연속운전을 하였으나, 반응기 내에서의 폐색에 의한 사고도 없고, 얻어진 정제테레프탈산은 4CBA 농도로 6 ppm 이하라는 품질을 유지할 수 있었다.
이상과 같이 조테레프탈산의 수용액의 수소환원 정제까지의 가열 조건을 특정함으로써 착색원인 불순물의 생성이 억제되고, 색상이 좋은 고순도의 테레프탈산을 얻을 수가 있다.

Claims (13)

  1. 조 (組) 테레프탈산을 가열하여 물에 용해시키고, 얻어진 수용액을 260 ~ 320℃ 의 온도에서, 백금족 금속촉매의 존재하에, 수소와 접촉시켜서 정제하는 방법에 있어서, 이 수용액이 가열 과정에서 250℃ 이상에 도달하고 부터 정제를 개시할때 까지의 시간을 3 분이하로 하는 것을 특징으로 하는 고순도 테레프탈산의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 조테레프탈산이 파라크실렌의 산화에 의하여 얻어지는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 조테레프탈산의 수용액이 물 100 중량부에 대하여 1 ~ 80 중량부의 조테레프탈산을 용해시키는 것인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 조테레프탈산이 15 ~ 65 중량부인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 백금족 금속 촉매가 활성탄에 담지된 파라듐인 방법.
  6. 제1항에 있어서, 수소가 조테레프탈산 수용액 1000 ㎏ 당 0.05 ~ 10 N㎥ 의 분자상 수소에 의해서 공급되는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 분자상 수소의 양이 조테레프탈산 수용액 1000 ㎏ 당 0.1 ~ 3 N㎥ 인 방법.
  8. 제1항에 있어서, 250℃ 에 도달하고 부터 정제를 개시할때 까지의 시간이 2 분이하인 방법.
  9. 제1항에 있어서, 수소와 접촉시켜서 정제 할때의 반응계의 전압력이 5 ~ 15 MPa 인 방법.
  10. 제9항에 있어서, 압력이 6 ~ 10 MPa 인 방법.
  11. 제1항에 있어서, 수소와 접촉시키는 정제가 충전탑형 반응기를 사용하여 수행하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 수소와 접촉시키는 정제가 충전탑형 반응기를 사용하여 수행하고, 이 충전탑형 반응기의 상부 입구부분에 오버플로 벽에 의해 칸막이가 형성된 체류영역을 설치하고, 이 체류영역에 조테레프탈산 수용액을 공급하여, 오버플로 벽을 오버플로시킨후, 이 체류영역의 하부에 위치하는 촉매충전층에 수용액을 통과시킴으로써 정제하는 방법.
  13. 제1항에 있어서, 조테레프탈산을 물에 용해시킨 후, 버퍼 용해조를 사용하는 일이 없이 상부 입구부분에 오버플로 벽에 의해 칸막이가 형성된 체류영역을 설치한 충전탑형 반응기에 공급하고, 조테레프탈산 수용액의 온도가 250℃ 이상에 도달하고 부터 정제를 개시할 때까지의 시간을 상기 체류영역에서의 체류시간의 조절로써 제어하는 방법.
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