JPWO2023170822A5 - - Google Patents

Description

真空容器１０１は、放電部１０２と、処理室１０４と、ＩＲランプユニット１０５と、通路１０６及び分散板１０７とを備えている。放電部１０２は、真空容器１０１上部に配置された円筒形状を有した側壁の内側の空間であって内部でプラズマ１０１１が形成される箇所である。処理室１０４は、真空容器１０１下部を構成し円筒形を有した空間であってウエハが上面に載置される試料台１０３を備えた空間である。また、ＩＲランプユニット１０５は、試料台１０３上に載せられたウエハに上方から赤外線を照射して加熱するものである。さらに、通路１０６は、放電部１０２と処理室１０４との間を連結する円筒形の通路である。そして、分散板１０７は、通路１０６の内部に配置されプラズマ１０１１中に生成されたラジカル等の活性を有した粒子（活性種）が内部を処理室１０４に向けて通過する複数の貫通孔を備えた円板状の誘電体で構成されている。

＜集積ガスボックスとガスブロック＞
以下、図２を参照して、集積ガスボックスを説明する。
図２は、第１実施形態に係るプラズマ処理装置１００の集積ガスボックス１１２を模式的に示す図である。図２（ａ）は集積ガスボックス１１２全体を示す図である。集積ガスボックス１１２は各種ガスブロック２０９が集積して構成される。図２（ｂ）は集積ガスボックスに含まれるガスブロック２０９のうち、ＨＦガスのガスブロック２０９ａを抜き出して記載した図である。図２（ａ）において、複数のガス管Ｐ１にガスボンベ等のガス供給源からの各処理ガスが供給され、複数のガス管Ｐ２が図１に示されるガス供給管１０１６に纏められる。

ガスブロック２０９ａは後述する。ガスブロック２０９ｂは、ハンドバルブ２０１、バイパスブロック２０２、エアオペバルブ２０４、マスフローコントローラ２０３、を構成要素として含む。
ガスブロック２０９ｃは、ハンドバルブ２０１、圧力調整器２０６、エアオペバルブ２０４、マスフローコントローラ２０３、を構成要素として含む。
ガスブロック２０９ｄは、ハンドバルブ２０１、圧力調整器２０６、２つのエアオペバルブ２０４、マスフローコントローラ２０３、を構成要素として含む。ガスブロック２０９ｅからガスブロック２０９ｏは、ガス以外はガスブロック２０９ｄと同じ構成を有する。

図４（ｄ）に示されるように、バイパスブロック２０２の内部には、バイパスブロック２０２の底面の一方の端部から他方の端部までの間に、台座４０１と円筒部４０３との内部を貫通しガスが流れるバイパス経路４０４が備えられている。バイパス経路４０４の両端は、台座４０１の底面に配置された開口４０５につながっている。すなわち、バイパス経路４０４は、これら２つの開口４０５を端部に有しバイパスブロック２０２内部を貫通する貫通孔となっている。

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