JPWO2020194899A1 - 被覆切削工具 - Google Patents

被覆切削工具 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2020194899A1
JPWO2020194899A1 JP2021508734A JP2021508734A JPWO2020194899A1 JP WO2020194899 A1 JPWO2020194899 A1 JP WO2020194899A1 JP 2021508734 A JP2021508734 A JP 2021508734A JP 2021508734 A JP2021508734 A JP 2021508734A JP WO2020194899 A1 JPWO2020194899 A1 JP WO2020194899A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hard film
atomic
less
cutting tool
tool
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021508734A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6969703B2 (ja
Inventor
智也 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Moldino Tool Engineering Ltd
Original Assignee
Moldino Tool Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Moldino Tool Engineering Ltd filed Critical Moldino Tool Engineering Ltd
Publication of JPWO2020194899A1 publication Critical patent/JPWO2020194899A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6969703B2 publication Critical patent/JP6969703B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B27/00Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
    • B23B27/14Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
    • B23B27/148Composition of the cutting inserts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641Nitrides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B27/00Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
    • B23B27/14Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23CMILLING
    • B23C5/00Milling-cutters
    • B23C5/16Milling-cutters characterised by physical features other than shape
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3435Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3485Sputtering using pulsed power to the target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5886Mechanical treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/347Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with layers adapted for cutting tools or wear applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B2228/00Properties of materials of tools or workpieces, materials of tools or workpieces applied in a specific manner
    • B23B2228/10Coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本発明の被覆切削工具は、基材の表面に硬質皮膜を有する。硬質皮膜は、Alが50原子%以上、Crが30原子%以上、Siが1原子%以上5原子%以下のAlとCrとSiの窒化物である。硬質皮膜は、Arを0.02原子%以下で含有し、原子比率Aと窒素の原子比率Bとが1.02≦B/A≦1.10の関係を満たし、面心立方格子構造の(111)面に起因する回折ピークが最大強度を示す。硬質皮膜の断面観察において、円相当径が3μm以上のドロップレットが100μm2当たり1個未満である。硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定される山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値が5000以下である。

Description

本発明は、基材の表面に硬質皮膜を有する被覆切削工具に関する。
本願は、2019年3月22日に、日本に出願された特願2019−055368号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
AlCrSiの窒化物は耐摩耗性と耐熱性に優れる膜種であり被覆切削工具に広く適用されている。一般的に、被覆切削工具に適用するAlCrSiの窒化物は物理蒸着法の中でも基材との密着性に優れるアークイオンプレーティング法を用いて被覆されている。但し、アークイオンプレーティング法ではターゲット成分をアーク放電によって蒸発させて被覆するため、硬質皮膜は不可避的に数マイクロメートルのドロップレットを多く含有する。工具径が3mm以下、更には1mm以下の小径工具へ被覆した場合、工具径に対して硬質皮膜の表面に存在するドロップレットの影響が大きくなるため、加工精度および工具寿命が十分でない場合がある。また、工具への負荷が大きい使用環境下においては、硬質皮膜の内部に存在するドロップレットが起点となり、硬質皮膜の破壊が発生する場合がある。
一方、物理蒸着法の中でもターゲット成分をアルゴンガスでスパッタリングして被覆するスパッタリング法ではドロップレットが発生し難いため平滑な硬質皮膜が得られる。但し、スパッタリング法は、アークイオンプレーティング法に比べてターゲットのイオン化率が低いため、硬質皮膜の内部に空隙を形成し易く、硬質皮膜と基材との密着性にも乏しい傾向にある。スパッタリング法において、ターゲットのイオン化率を高める手段として、磁場バランスを意図的に崩して磁力線の一部を基材側まで延伸させたアンバランスドマグネトロンスパッタリング法が知られている。例えば、特許文献1はアンバランスドマグネトロンスパッタリング法によりAlCrSiの窒化物を被覆することを開示している。
また、近年では、ターゲットに印加する電力を瞬間的に高くした高出力スパッタリング法でAlCrSiの窒化物を被覆した被覆切削工具も提案されている。例えば、特許文献2に開示される方法では、スパッタリング法で、Tiターゲットに投入する最大電力を0.1〜0.2MWとして基材の表面に微細なTiの化合物からなる中間皮膜を形成する。次いで、スパッタリング法で、ターゲットに印加する電力を4kWとして中間皮膜の上のAlCrSiの窒化物を被覆する。
特開2005−344148号公報 特開2012−092433号公報
特許文献1、2に記載のように、スパッタリング法で被覆することで硬質皮膜の内部に粗大なドロップレットを含有しないAlCrSiの窒化物を得ることができる。但し、スパッタリング法で被覆した硬質皮膜はアークイオンプレーティング法で被覆した硬質皮膜に比べて緻密化が十分でなく、また不可避的にArを多く含有し易い。そのため、従来から提案されているスパッタリング法のAlCrSiの窒化物を被覆した被覆切削工具は、アークイオンプレーティング法のAlCrSiの窒化物を被覆した被覆切削工具に比べて工具損傷が大きく、耐久性が劣る傾向にあり、改善の余地があった。
本発明は上記の事情に鑑み、スパッタリング法で被覆したAlCrSiの窒化物の耐久性を高め、耐久性に優れた被覆切削工具を提供することを目的とする。
本発明の一様態によれば、基材の表面に硬質皮膜を有する被覆切削工具であって、
前記硬質皮膜は、金属(半金属を含む)元素の総量に対して、Alが50原子%以上、Crが30原子%以上、Siが1原子%以上5原子%以下のAlとCrとSiの窒化物であり、金属(半金属を含む)元素と非金属元素の総量に対して、Arが0.02原子%以下であり、
金属(半金属を含む)元素、窒素、酸素、炭素およびArの合計を100原子%とした場合の前記硬質皮膜の金属(半金属を含む)元素の原子比率Aと窒素の原子比率Bとが1.02≦B/A≦1.10の関係を満たし、
X線回折または透過型電子顕微鏡を用いた制限視野回折パターンの強度プロファイルにおいて、面心立方格子構造の(111)面に起因する回折ピークが最大強度を示し、
前記硬質皮膜の断面観察において、円相当径が3μm以上のドロップレットが100μm当たり1個未満であり、
前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定される山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値が5000以下である被覆切削工具が提供される。
前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定される最大高さSzは2.0μm以下であることが好ましい。
前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定されるスキューネス(Ssk)の値が−1.5以上0以下であることが好ましい。
本発明によれば、被覆切削工具の耐久性を高めることができる。
実施例1の電子顕微鏡による断面観察写真(×30000倍)である。 実施例1の電子顕微鏡による工具付近の表面観察写真(×150倍)である。
本発明者は、スパッタリング法で成膜されるAlCrSiの窒化物について、窒素の含有比率を高め、かつ、アルゴンの含有比率を低くするとともに、硬質皮膜の表面の“尖り”をより小さくすることで、耐久性に優れる被覆切削工具になることを確認して本発明に到達した。
以下、本発明の実施形態の詳細について説明をする。
本実施形態の被覆切削工具は、工具の表面にAlCrSiの窒化物からなる硬質皮膜を有する被覆切削工具である。
本実施形態の被覆切削工具を構成する硬質皮膜の成分組成、組織、特性、および、その製造方法等の詳細について説明をする。
<成分組成 アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ケイ素(Si)>
本実施形態に係る硬質皮膜は、半金属を含む金属元素(以下、金属元素と記載する)の総量に対して、Alが50原子%以上、Crが30原子%以上、Siが1原子%以上5原子%以下のAlとCrとSiの窒化物である。
AlCrSiの窒化物は耐摩耗性と耐熱性のバランスに優れる膜種であり、基材との密着性にも優れ、特にAlの含有比率を大きくすることで硬質皮膜の耐熱性がより向上する。また、Alの含有比率を大きくすることで、工具表面に酸化保護皮膜が形成され易くなるとともに、皮膜組織が微細になるため、溶着による硬質皮膜の摩耗が抑制され易くなる。更に、Alの含有比率を大きくすることで、切削抵抗が低下する傾向にある。上述したAlの添加効果を十分に発揮するには、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Alの含有比率を50原子%以上とする。更には、Alの含有比率を55原子%以上とすることが好ましい。一方、Alの含有比率が大きくなり過ぎると硬質皮膜の結晶構造が六方最密充填構造(hcp構造)となり易く、脆弱となる。そのため、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Alの含有比率を65原子%以下とすることが好ましい。更には、Alの含有比率を60原子%以下とすることが好ましい。
本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Crの含有比率を30原子%以上とする。これにより、硬質皮膜に優れた耐摩耗性を付与することができる。更には、Crの含有比率を35原子%以上とすることが好ましい。一方、硬質皮膜に含有されるCrの含有比率が大きくなり過ぎると、上述したAlの含有比率を大きくする効果が得られ難い。そのため、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Crの含有比率を48原子%以下とすることが好ましい。更には、Crの含有比率を45原子%以下とすることが好ましい。
本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Siの含有比率を1原子%以上5原子%以下とする。AlとCrの窒化物がSiを含有することで、皮膜組織が微細になり耐摩耗性および耐熱性が向上する。上述したSiの添加効果を十分に発揮するには、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Siの含有比率を1原子%以上とする。一方、Siの含有比率が大きくなり過ぎると皮膜組織が微細になるため結晶粒界が多くなる。後述するArは硬質皮膜の結晶粒界に存在し易いため、結晶粒界が多くなると硬質皮膜に含まれるArが多くなり、被覆切削工具の耐久性が低下する。また、Siの含有比率が大きくなると皮膜構造が六方最密充填構造(hcp構造)や非晶質になり易くなり、被覆切削工具の耐久性が低下する。そのため、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素全体を100原子%とした場合、Siの含有比率を5原子%以下とする。更には、Siの含有比率を3原子%以下とすることが好ましい。
本実施形態に係る硬質皮膜の金属元素の含有比率は、鏡面加工した硬質皮膜について、電子プローブマイクロアナライザー装置(EPMA)を用いて測定することができる。この場合、例えば、硬質皮膜表面の鏡面加工後、直径が約1μmの分析範囲を5点分析し、最大値と最小値を除いた3点の平均から求めることができる。
<アルゴン(Ar)含有量>
本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素と非金属元素の総量に対して、アルゴン(Ar)が0.02原子%以下である。硬質皮膜の欠陥となる粗大なドロップレットは、スパッタリング法を適用することで発生頻度を低減させることができる。一方、スパッタリング法ではアルゴンイオンを用いてターゲット成分をスパッタリングするため、スパッタリング法で被覆した硬質皮膜はアルゴンを含有し得る。とりわけ、アルゴンは硬質皮膜の結晶粒界に濃化し易く、結晶粒径が微粒になるとアルゴンの含有比率が大きくなる傾向になる。但し、アルゴンの含有比率が大きくなると、結晶粒界において粒子同士の結合力が低下する。本実施形態に係る硬質皮膜のように、AlCrSiの窒化物についても、過多に含まれるアルゴンは欠陥となるため、その含有比率を一定以下にすることが有効である。具体的には、本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素と非金属元素の総量に対して、アルゴンが0.02原子%以下である。本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素と非金属元素の総量に対して、アルゴンが0.01原子%以下であることが好ましい。なお、硬質皮膜のアルゴンの含有比率が0.02原子%以下あるいは0.01原子%以下である範囲には、測定装置の検出限界により値を正確に評価することが難しい範囲が含まれる。このような微量な含有量は、アルゴンを用いていないアークイオンプレーティング法で被覆した硬質皮膜と同レベルである。本実施形態に係る硬質皮膜は、金属元素と非金属元素の総量に対して、アルゴンが0.003原子%以上となり得る。
本実施形態に係る硬質皮膜のアルゴンの含有比率は、上述した金属元素の含有比率の測定と同様に、鏡面加工した硬質皮膜について、電子プローブマイクロアナライザー装置(EPMA)を用いて測定することができる。上述した金属元素の含有比率の測定と同様に、鏡面加工後、直径が約1μmの分析範囲を5点分析し、最大値と最小値を除いた3点の平均から求めることができる。
本実施形態に係る硬質皮膜においては、非金属元素としては窒素以外に微量のアルゴン、酸素、炭素が含まれうる。硬質皮膜におけるアルゴンの含有比率は、金属(半金属を含む)元素と窒素、酸素、炭素、アルゴンの含有比率を100原子%として求めることができる。
<金属(半金属を含む)元素の原子比率Aと窒素の原子比率B>
本実施形態に係る硬質皮膜は、金属(半金属を含む)元素と窒素、酸素、炭素、アルゴンの含有比率を100原子%とした場合の前記硬質皮膜の金属(半金属を含む)元素の原子比率Aと窒素の原子比率Bとが1.02≦B/A≦1.10の関係を満たす。原子比率A,Bの値は、上記した測定方法によるEPMAの測定値を用いる。硬質皮膜に微量に含まれ得る酸素、炭素、アルゴンを考慮した上で、窒素の含有比率を高めることで、硬質皮膜の耐熱性がより向上して被覆切削工具の耐久性を高めることができる。
B/Aの値が1.02未満であると完全な窒化物が十分に形成され難いため、硬質皮膜のミクロ組織および組成が不均一になり易く、被覆切削工具の耐久性が低下する傾向になる。また、B/Aの値が1.10よりも大きくなると残留圧縮応力が高くなり硬質皮膜が自己破壊を起こし易くなる。
B/Aのより好ましい範囲は、1.03≦B/A≦1.08である。
<成分組成 酸素(O)、炭素(C)>
本実施形態に係る硬質皮膜は窒化物であるが、微量の酸素と炭素を含有しうる。これらの元素は窒化物の中に微量な酸化物や炭化物を形成するため、硬質皮膜の靭性を低下させうる。硬質皮膜に不可避的に含有される酸素と炭素を低減することができれば、AlとCrを主体とする窒化物の靭性を高めることができる。
本実施形態に係る硬質皮膜では、硬質皮膜に含有される微細な酸化物を極力少なくするため、酸素の含有比率を1.5原子%以下とすることが好ましい。更には、酸素の含有比率を1.0原子%以下とすることが好ましい。また、硬質皮膜に含有される微細な炭化物を極力少なくするため、炭素の含有比率を1.5原子%以下とすることが好ましい。更には、炭素の含有比率を1.0原子%以下とすることが好ましい。
酸素と炭素の含有比率は、炭素、窒素、酸素、アルゴン、金属(半金属を含む)元素の合計の含有比率を100原子%として求めればよい。
<結晶構造>
本実施形態に係る硬質皮膜は、X線回折または透過型電子顕微鏡を用いた制限視野回折パターンの強度プロファイルにおいて、面心立方格子構造(fcc構造)の(111)面に起因する回折ピークが最大強度を示す。つまり、本実施形態に係る硬質皮膜は、fcc構造が主体の結晶構造である。(111)面に起因する回折ピークが最大強度を示すAlとCrを主体とする窒化物を適用することで、被覆切削工具の耐久性が優れる傾向にある。
本実施形態に係る硬質皮膜は、回折パターンの強度プロファイルにおいて、fcc構造の(111)面以外に、fcc構造の(200)面、fcc構造の(220)面のピーク強度を有する。なお、本実施形態に係る硬質皮膜は、X線回折においては六方最密充填構造(hcp構造)の回折ピークは確認されないが、透過型電子顕微鏡を用いた制限視野回折パターンの強度プロファイルにおいては、一部にhcp構造の回折ピークを有する場合がある。
<ドロップレット>
本実施形態に係る硬質皮膜は、断面観察において円相当径が3μm以上のドロップレットが100μm当たり1個未満である。本実施形態では、硬質皮膜に含まれるArの含有比率を低くした上で、硬質皮膜の内部に含まれるドロップレットを低減する。物理蒸着法で被覆する硬質皮膜では、ドロップレットが主な物理的な欠陥となりうる。とりわけ、工具径が3mm以下、更には1mm以下の小径工具になると、工具性能に及ぼすドロップレットの影響度が大きくなるため、粗大なドロップレットの発生頻度を低減することで、被覆切削工具の耐久性を高めることができる。特に、極めて大きなドロップレットは硬質皮膜の内部に僅かに存在しても大きな破壊の起点となりうる。そのため、本実施形態においては、硬質皮膜の断面観察において、円相当径が3μm以上のドロップレットが100μm当たり1個未満とする。更には、断面観察において、円相当径が5μm以上のドロップレットが無いことが好ましい。
本実施形態においては、硬質皮膜の断面観察において、円相当径が1μm以上のドロップレットを100μm当たり5個以下とすることが好ましい。更には、断面観察において、円相当径が1μm以上のドロップレットが100μm当たり3個以下であることが好ましい。
なお、円相当径とは、断面観察において、ドロップレットの面積と同じ面積を有する真円の直径である。
硬質皮膜の断面観察においてドロップレットを評価するには、硬質皮膜を鏡面加工した後、収束イオンビーム法で試料に加工し、電子顕微鏡を用いて、硬質皮膜の鏡面加工された面を観察する。評価に当たっては、5,000〜10,000倍で複数の視野を観察すればよい。
本実施形態に係る被覆切削工具の表面は、ISO25178で規定される算術平均高さSaを0.1μm以下、最大高さSzを3.0μm以下とした上で、山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値を5000以下とする。
本発明者は、一般的な線評価での表面粗さである算術平均粗さRaや、最大高さ粗さRzを平滑にするだけでは工具性能のばらつきが大きくなる場合があり、より広い面評価において表面粗さを制御することが重要であることを知見した。そして、本発明者は、面評価であるISO25178で規定される算術平均高さSaと最大高さSzに加えて、山頂点の算術平均曲率Spcを制御することが有効であることを見出した。ここで、山頂点の算術平均曲率Spcとは、山の頂点が尖っている度合いの指標である。山頂点の算術平均曲率Spcの値が小さいと、他の物体と接触する山の頂点が丸みを帯びている状態を示す。山頂点の算術平均曲率Spcの値が大きいと、他の物体と接触する山の頂点が尖っている状態を示す。被覆切削工具の表面において、山頂点の算術平均曲率Spcの値をより小さくすることで、逃げ面の表面の“尖り”がより小さくなり、摩耗がより抑制され易くなる。本実施形態に係る被覆切削工具の表面について、算術平均高さSaを0.1μm以下、最大高さSzを3.0μm以下とすることで、表面は平滑な表面状態となる。さらに、本実施形態に係る被覆切削工具の表面について、山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値を5000以下とすることで、逃げ面の表面の“尖り”がより少なくなり、摩耗が抑制され易くなる。更には、山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値を3000以下とすることが好ましい。最大高さSzは2.0μm以下であることが好ましい。
このような表面状態を達成するには、スパッタリング法により、工具に硬質皮膜を被覆した後に、さらに、ウエットブラスト処理や研磨剤等を噴射して刃先処理を行うことが好ましい。
さらに、本実施形態に係る被覆切削工具では、ISO25178で規定されるスキューネス(Ssk)の値が−1.5以上0以下であることが好ましい。スキューネス(Ssk)とは、高さ分布の相対性を表す指標である。硬質皮膜にドロップレットが多いと凸部が多くなり、スキューネス(Ssk)の値が0よりも大きくなる。一方、硬質皮膜に凹部が多いと、スキューネス(Ssk)の値が0よりも小さくなる。ドロップレットを多く有する硬質皮膜を研磨すると凸部が研磨されて、スキューネス(Ssk)の値は0よりも小さくなるが、ドロップレットが除去されることにより大きな凹部が形成されて、スキューネス(Ssk)の値がマイナス側に大きくなる。スキューネス(Ssk)の値を−1.5以上0以下とすることで、表面が凹凸のより少ないより平滑な表面状態になり好ましい。また、スキューネス(Ssk)の値を−1.0以上0以下とすることがより好ましい。このような表面状態を達成するには、スパッタリング法により、工具に硬質皮膜を被覆した後に、さらに、ウエットブラスト処理や研磨剤等を噴射して刃先処理を行うことが好ましい。
なお、これらの被覆切削工具の逃げ面の粗さは、逃げ面に形成された硬質皮膜の表面に関するものである。
本実施形態に係る被覆切削工具の表面粗さは、株式会社キーエンス製の形状解析レーザ顕微鏡(VK−X250)を用いて、カットオフ値0.25mm、倍率50倍で観察して、60μm×100μmの領域を3カ所測定し、得られた測定値の平均から求めることができる。
<中間皮膜>
本実施形態の被覆切削工具は、硬質皮膜の密着性をより向上させるため、必要に応じて、工具の基材と硬質皮膜との間に中間皮膜を設けてもよい。例えば、金属、窒化物、炭窒化物、炭化物のいずれかからなる層を工具の基材と硬質皮膜との間に設けてもよい。また、中間皮膜を設けずに基材の直上に硬質皮膜を設けてもよい。
本実施形態に係る硬質皮膜の被覆では、3個以上のAlCrSi合金ターゲットを用いて、ターゲットに順次電力を印加して、電力が印加されるターゲットが切り替わる際に、電力の印加が終了するターゲットと電力の印加を開始するターゲットの両方のターゲットに同時に電力が印加されている時間を設けるスパッタリング法を適用する。このようなスパッタリング法はターゲットのイオン化率が高い状態が被覆中に維持されて、ミクロレベルで緻密な硬質皮膜が得られるとともに、不可避的に含有されるアルゴン、酸素および炭素が少なく、窒素の含有比率が高まる傾向にある。そして、スパッタリング装置の炉内温度を400℃以上500℃以下として予備放電を実施し、炉内に導入する窒素ガスの流量を60sccm以上、アルゴンガスの流量を70sccm以上200sccm以下とすることが好ましい。また、炉内圧力を0.5Pa〜0.8Paとすることが好ましい。AlCrSi合金ターゲットは、印加する電力の1周期当りの放電時間が長くなると、アーキングのリスクが高くなり成膜が安定し難い傾向にある。そのため、AlCrSi合金ターゲットに印加する電力の1周期当りの放電時間は1.0ミリ秒以下とすることが好ましい。
電力パルスの最大電力密度は、0.5kW/cm以上とすることが好ましい。但し、ターゲットに印加する電力密度が大きくなり過ぎると成膜が安定し難い。また、電力密度が大きくなり過ぎると、スパッタリング法であってもドロップレットの発生頻度が高くなる傾向にある。そのため、電力パルスの最大電力密度は、3.0kW/cm以下とすることが好ましく、更には、電力パルスの最大電力密度は、2.0kW/cm以下とすることが好ましい。また、電力の印加が終了する合金ターゲットと電力の印加を開始する合金ターゲットの両方の合金ターゲットに同時に電力が印加されている時間は5マイクロ秒以上20マイクロ秒以下とすることが、硬質皮膜の基本的な特性を高めてドロップレットを低減させるのに好ましい。
<工具>
工具として、組成がWC(bal.)−Co(8質量%)−V(0.3質量%)−Cr(0.4質量%)、硬度94.0HRA(ロックウェル硬さ、JIS G 0202に準じて測定した値)からなる超硬合金製の刃先交換式工具(三菱日立ツール株式会社製)を準備した。
本実施例1〜3、比較例1〜3では、スパッタ蒸発源を6機搭載できるスパッタリング装置を使用した。これらの蒸着源のうち、AlCrSi合金ターゲット3個を蒸着源として装置内に設置した。なお、寸法がΦ16cm、厚み12mmのターゲットを用いた。
工具をスパッタリング装置内のサンプルホルダーに固定し、工具にバイアス電源を接続した。なお、バイアス電源は、ターゲットとは独立して工具に負のバイアス電圧を印加する構造となっている。工具は、毎分2回転で自転しかつ、固定治具とサンプルホルダーを介して公転する。工具とターゲット表面との間の距離は100mmとした。
導入ガスは、Ar、およびNを用い、スパッタリング装置に設けられたガス供給ポートから導入した。
<ボンバード処理>
まず工具に硬質皮膜を被覆する前に、以下の手順で工具にボンバード処理を行った。スパッタリング装置内のヒーターにより炉内温度が450℃になった状態で30分間の加熱を行った。その後、スパッタリング装置の炉内を真空排気し、炉内圧力を5.0×10−3Pa以下とした。そして、Arガスをスパッタリング装置の炉内に導入し、炉内圧力を0.8Paに調整した。そして、工具に−200Vの直流バイアス電圧を印加して、Arイオンによる工具のクリーニング(ボンバード処理)を実施した。
<硬質皮膜の被覆>
次いで、以下の手順でAlCrSiの窒化物を工具上に被覆した。
炉内温度を450℃に保持したまま、そして、スパッタリング装置の炉内にArガスを160sccmで導入し、その後、Nガスを190sccmで導入して炉内圧力を0.7Paとした。工具に−40Vの直流バイアス電圧を印加して、そして、AlCrSi合金ターゲットに印加される電力の1周期当りの放電時間を0.5ミリ秒、電力が印加される合金ターゲットが切り替わる際に、電力の印加が終了する合金ターゲットと電力の印加を開始する合金ターゲットの両方の合金ターゲットに同時に電力が印加されている時間を10マイクロ秒として、3個のAlCrSi合金ターゲットに連続的に電力を印加して、工具の表面に約3.0μmの硬質皮膜を被覆した。このとき、電力パルスの最大電力密度は、1.0kW/cm、平均電力密度は0.2kW/cmとした。
本実施例1〜3は硬質皮膜を被覆後に研磨剤を約60秒間噴射して刃先処理を行った。
比較例1〜3は硬質皮膜を被覆後に刃先処理を行わなかった。
比較例4〜6はアークイオンプレーティング装置を使用した。AlCrSi合金ターゲットを蒸着源として装置内に設置した。なお、寸法がΦ105mm、厚み16mmのターゲットを用いた。本実施例1と同様に、Arイオンによる工具のクリーニング(ボンバード処理)を実施した。次いで、アークイオンプレーティング装置の炉内圧力を5.0×10−3Pa以下に真空排気して、炉内温度を500℃とし、炉内圧力が5.0PaになるようにNガスを導入した。次いで、工具に−150Vの直流バイアス電圧を印加して、AlCrSi合金ターゲットに150Aの電流を印加して、工具の表面に約3.0μmの硬質皮膜を被覆した。
比較例4〜6は硬質皮膜を被覆後に研磨剤を約60秒間噴射して刃先処理を行った。
<皮膜組成>
硬質皮膜の皮膜組成は、電子プローブマイクロアナライザー装置(株式会社日本電子製 JXA−8500F)を用いて、付属の波長分散型電子プローブ微小分析(WDS−EPMA)で硬質皮膜の皮膜組成を測定した。物性評価用のボールエンドミルを鏡面加工して、加速電圧10kV、照射電流5×10−8A、取り込み時間10秒とし、分析領域が直径1μmの範囲を5点測定し、最大値と最小値を除いた3点の平均値から硬質皮膜の組成を求めた。
<結晶構造・結晶粒径>
硬質皮膜の結晶構造は、X線回折装置(株式会社PaNalytical製 EMPYREA)を用い、管電圧45kV、管電流40mA、X線源Cukα(λ=0.15405nm)、2θが20度〜80度の測定条件で確認を行った。また、硬質皮膜の最大の回折ピーク強度の半価幅から、硬質皮膜の平均結晶粒径を測定した。また、硬質皮膜の(200)面の回折ピーク強度をI(200)、硬質皮膜の(111)面の回折ピーク強度をI(111)とした場合、I(111)/I(200)を算出した。
<表面粗さ>
逃げ面を被覆する硬質皮膜における算術平均高さSa、最大高さSz、スキューネス(Ssk)および山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)は、ISO25178に規定に準拠して、株式会社キーエンス製の形状解析レーザ顕微鏡(VK−X250)を用いて、カットオフ値0.25mm、倍率50倍で観察して、60μm×100μmの領域を3カ所測定し、得られた測定値の平均から求めた。
<切削試験>
作製した被覆切削工具を用いて切削試験を行った。表1に分析結果および切削試験結果を示す。切削条件は以下の通りである。
<切削試験>
(条件)乾式加工
・工具:2枚刃超硬ボールエンドミル
・型番:EPDBE2010−6、工具半径0.5mm
・切削方法:底面切削
・被削材:STAVAX(52HRC)(Bohler Uddeholm株式会社製)・切り込み:軸方向0.04mm、径方向0.04mm
・切削速度:75.4m/min
・一刃送り量:0.018mm/刃
・切削距離:15m
・評価方法:切削加工後、走査電子顕微鏡を用いて観察倍率1000倍で観察し、工具と被削材が擦過した幅を測定し、そのうちの擦過幅が最も大きかった部分を最大摩耗幅とした。各試料について、皮膜特性および皮膜組織を観察した。皮膜特性および切削評価の結果を表1に示す。
<表面粗さ>
逃げ面を被覆する硬質皮膜における算術平均高さSa、最大高さSz、スキューネス(Ssk)および山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)は、ISO25178に規定に準拠して、株式会社キーエンス製の形状解析レーザ顕微鏡(VK−X250)を用いて、カットオフ値0.25mm、倍率50倍で観察して、60μm×100μmの領域を3カ所測定し、得られた測定値の平均から求めた。
<切削試験>
作製した被覆切削工具を用いて切削試験を行った。表1に分析結果および切削試験結果を示す。切削条件は以下の通りである。測定例として、図1に、本実施例1の硬質皮膜の断面観察写真を示し、図2に、本実施例1の被覆切削工具の切削試験前の表面観察写真を示す。図1は、硬質皮膜中のドロップレットを確認する際に撮影された写真である。図2は、切削後の擦過幅の測定において撮影された低倍率写真である。
<切削条件>
(条件)乾式加工
・工具:2枚刃超硬ボールエンドミル
・型番:EPDBE2010−6、工具半径0.5mm
・切削方法:底面切削
・被削材:STAVAX(52HRC)(Bohler Uddeholm株式会社製)・切り込み:軸方向0.04mm、径方向0.04mm
・切削速度:75.4m/min
・一刃送り量:0.018mm/刃
・切削距離:15m
・評価方法:切削加工後、走査電子顕微鏡を用いて観察倍率1000倍で観察し、工具と被削材が擦過した幅を測定し、そのうちの擦過幅が最も大きかった部分を最大摩耗幅とした。各試料について、皮膜特性および皮膜組織を観察した。皮膜特性および切削評価の結果を表1に示す。
Figure 2020194899
本実施例1〜3、比較例1〜3はスパッタリング法で被覆しているが、アークイオンプレーティング法で被覆した比較例4〜6と同様に、硬質皮膜はアルゴンを殆ど含有していなかった。また、本実施例1〜3、比較例1〜3は硬質皮膜に含まれる円相当径が1μm以上の粗大なドロップレットは殆どなかった。比較例4〜6は、現在、市場で適用されているアークイオンプレーティング法で被覆したAlCrSiの窒化物を設けた被覆切削工具である。
本実施例1〜3は比較例1〜6に比べて最大摩耗幅が小さくなり、かつ、工具摩耗の偏りもより少ない安定した工具損傷状態であった。本実施例1〜3はドロップレットが発生しにくいスパッタリング法で被覆した後に、研磨剤を噴霧して平滑化したことで、算術平均曲率Spc(1/mm)の値が小さく、これにより工具損傷状態が安定したと推定される。比較例4〜6は、アークイオンプレーティング法で被覆したため、硬質皮膜の表面に粗大なドロップレットが多くあったた。そのため、本実施例1〜3と同様に研磨剤を噴霧して平滑化しても、本実施例1〜3に比べて算術平均曲率Spc(1/mm)の値が大きくなった。これにより本実施例1〜3に比べて最大摩耗幅が大きくなったと推定される。

Claims (3)

  1. 基材の表面に硬質皮膜を有する被覆切削工具であって、
    前記硬質皮膜は、金属(半金属を含む)元素の総量に対して、Alが50原子%以上、Crが30原子%以上、Siが1原子%以上5原子%以下のAlとCrとSiの窒化物であり、金属(半金属を含む)元素と非金属元素の総量に対して、Arが0.02原子%以下であり、
    金属(半金属を含む)元素、窒素、酸素、炭素およびArの合計を100原子%とした場合の前記硬質皮膜の金属(半金属を含む)元素の原子比率Aと窒素の原子比率Bとが1.02≦B/A≦1.10の関係を満たし、
    X線回折または透過型電子顕微鏡を用いた制限視野回折パターンの強度プロファイルにおいて、面心立方格子構造の(111)面に起因する回折ピークが最大強度を示し、
    前記硬質皮膜の断面観察において、円相当径が3μm以上のドロップレットが100μm当たり1個未満であり、
    前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定される山頂点の算術平均曲率Spc(1/mm)の値が5000以下である、被覆切削工具。
  2. 前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定される最大高さSzは2.0μm以下である、請求項1に記載の被覆切削工具。
  3. 前記硬質皮膜の表面は、ISO25178で規定されるスキューネス(Ssk)の値が−1.5以上0以下である、請求項1または2に記載の被覆切削工具。
JP2021508734A 2019-03-22 2019-12-10 被覆切削工具 Active JP6969703B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019055368 2019-03-22
JP2019055368 2019-03-22
PCT/JP2019/048247 WO2020194899A1 (ja) 2019-03-22 2019-12-10 被覆切削工具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2020194899A1 true JPWO2020194899A1 (ja) 2021-11-18
JP6969703B2 JP6969703B2 (ja) 2021-11-24

Family

ID=72608415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021508734A Active JP6969703B2 (ja) 2019-03-22 2019-12-10 被覆切削工具

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20220040769A1 (ja)
EP (1) EP3943222A4 (ja)
JP (1) JP6969703B2 (ja)
KR (1) KR102600218B1 (ja)
CN (1) CN113226604B (ja)
WO (1) WO2020194899A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240011806A (ko) * 2021-06-30 2024-01-26 스미또모 덴꼬오 하드메탈 가부시끼가이샤 절삭 공구

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005344148A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 耐摩耗性被膜およびこれを用いた表面被覆切削工具
JP2012045650A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Hitachi Tool Engineering Ltd 硬質皮膜被覆切削工具
WO2015141743A1 (ja) * 2014-03-18 2015-09-24 日立金属株式会社 被覆切削工具及びその製造方法
JP2016032861A (ja) * 2014-07-29 2016-03-10 日立金属株式会社 被覆工具
JP2016078131A (ja) * 2014-10-10 2016-05-16 日立金属株式会社 被覆切削工具
WO2019054289A1 (ja) * 2017-09-14 2019-03-21 三菱日立ツール株式会社 小径ドリルおよび小径ドリルの製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5700551A (en) * 1994-09-16 1997-12-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Layered film made of ultrafine particles and a hard composite material for tools possessing the film
EP1614655B2 (en) * 2004-06-18 2018-08-08 Hitachi Tool Engineering Ltd. Hard coating and its production method
JP5765627B2 (ja) 2010-09-27 2015-08-19 日立金属株式会社 耐久性に優れる被覆工具およびその製造方法
EP2636764B1 (en) * 2012-03-07 2014-07-09 Seco Tools Ab Nanolaminated coated cutting tool
CA2950701A1 (en) * 2014-06-02 2015-12-10 Mitsubishi Hitachi Tool Engineering, Ltd. Hard coating, hard-coated member, their production methods, and target used for producing hard coating
JP6593776B2 (ja) * 2015-01-22 2019-10-23 三菱マテリアル株式会社 表面被覆切削工具
MY186397A (en) * 2015-07-29 2021-07-22 Namics Corp Roughened copper foil, copper-clad laminate, and printed wiring board
KR102345375B1 (ko) * 2016-03-30 2021-12-29 가부시키가이샤 몰디노 피복 절삭 공구
KR102125197B1 (ko) * 2016-04-15 2020-06-22 미츠비시 히타치 쓰루 가부시키가이샤 소경 드릴
JP7061603B2 (ja) * 2016-08-01 2022-04-28 三菱マテリアル株式会社 多層硬質皮膜被覆切削工具
CN108430678B (zh) * 2016-11-29 2021-11-12 住友电工硬质合金株式会社 表面涂布的切削工具
US10101149B1 (en) * 2017-04-12 2018-10-16 Ford Global Technologies, Llc Methods to control adhesiveness using topography
WO2019035220A1 (ja) * 2017-08-15 2019-02-21 三菱日立ツール株式会社 被覆切削工具
WO2019035219A1 (ja) * 2017-08-15 2019-02-21 三菱日立ツール株式会社 被覆切削工具
US11313028B2 (en) * 2017-08-31 2022-04-26 Walter Ag Wear resistant PVD tool coating containing TiAlN nanolayer films
JP6913579B2 (ja) 2017-09-21 2021-08-04 水澤化学工業株式会社 機能性成分吸着剤
US11224921B2 (en) * 2017-09-27 2022-01-18 Moldino Tool Engineering, Ltd. Coated cutting tool
KR20210118217A (ko) * 2019-03-18 2021-09-29 가부시키가이샤 몰디노 피복 절삭 공구

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005344148A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Sumitomo Electric Ind Ltd 耐摩耗性被膜およびこれを用いた表面被覆切削工具
JP2012045650A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Hitachi Tool Engineering Ltd 硬質皮膜被覆切削工具
WO2015141743A1 (ja) * 2014-03-18 2015-09-24 日立金属株式会社 被覆切削工具及びその製造方法
JP2016032861A (ja) * 2014-07-29 2016-03-10 日立金属株式会社 被覆工具
JP2016078131A (ja) * 2014-10-10 2016-05-16 日立金属株式会社 被覆切削工具
WO2019054289A1 (ja) * 2017-09-14 2019-03-21 三菱日立ツール株式会社 小径ドリルおよび小径ドリルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR102600218B1 (ko) 2023-11-08
CN113226604A (zh) 2021-08-06
KR20210092264A (ko) 2021-07-23
EP3943222A1 (en) 2022-01-26
EP3943222A4 (en) 2022-08-03
JP6969703B2 (ja) 2021-11-24
CN113226604B (zh) 2024-03-15
WO2020194899A1 (ja) 2020-10-01
US20220040769A1 (en) 2022-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6410797B2 (ja) 被覆切削工具及びその製造方法
JP6658983B2 (ja) 被覆切削工具
JP6362003B2 (ja) 被覆切削工具
JP6525310B2 (ja) 被覆工具
JP6844705B2 (ja) 被覆切削工具
EP4292735A1 (en) Coated tool
JP2023179643A (ja) 被覆工具
JP5098657B2 (ja) 硬質皮膜被覆部材
JP2012228735A (ja) 耐摩耗性に優れる被覆工具およびその製造方法
JP6969703B2 (ja) 被覆切削工具
JPWO2019035219A1 (ja) 被覆切削工具
JP7410385B2 (ja) 被覆切削工具
WO2024048304A1 (ja) 被覆工具
WO2023181927A1 (ja) 被覆部材
US11033969B2 (en) Cutting tool
JP2024027836A (ja) 被覆工具
JP2024075109A (ja) 被覆切削工具
KR20240028537A (ko) 피복 공구

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210708

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20210708

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210928

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211011

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6969703

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150