JPWO2016174868A1 - 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 - Google Patents
熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016174868A1 JPWO2016174868A1 JP2017515392A JP2017515392A JPWO2016174868A1 JP WO2016174868 A1 JPWO2016174868 A1 JP WO2016174868A1 JP 2017515392 A JP2017515392 A JP 2017515392A JP 2017515392 A JP2017515392 A JP 2017515392A JP WO2016174868 A1 JPWO2016174868 A1 JP WO2016174868A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal polymer
- polymer film
- thermoplastic liquid
- conductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 240
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 title claims abstract description 239
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 title claims abstract description 219
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 title claims abstract description 218
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 130
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 48
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 48
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 155
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 63
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 45
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 36
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 33
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 6-Hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- -1 aliphatic dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 9
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 125000005274 4-hydroxybenzoic acid group Chemical group 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 6
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical compound NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N dihydroxybiphenyl Natural products OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Description
本発明では、熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、導体層が片面または両面に形成されユニット回路基板の絶縁性基材層として用いられるとともに、導体層に対して接着するための回路基板材料(以下、接着性材料と称する場合がある)としても用いられる。なお、回路基板材料は、ボンディングシートおよびカバーレイから選択される少なくとも一種であってもよく、好ましくはボンディングシートであってもよい。
導体層は、少なくとも導電性を有する金属から形成され、この導体層に公知の回路加工方法を用いて回路が形成される。熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる絶縁性基材上に導体層を形成する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、金属層を蒸着してもよく、無電解めっき、電解めっきにより、金属層を形成してもよい。また、金属箔(例えば銅箔)を熱圧着により、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの表面に圧着してもよい。
[回路基板]
回路基板(好ましくは多層回路基板)は、導体層が片面または両面に形成された熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる一以上のユニット回路基板と、このユニット回路基板の導体層に対して接着するための熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる一以上の回路基板材料とを有する回路基板であってもよく、回路基板材料と接着する側における導体層表面のISO4287−1997に準拠した方法による十点平均粗度(RzJIS)が3μm以下であってもよい。
(i)熱可塑性の液晶ポリマーフィルムからなる絶縁層(基材層)と、フィルムの片面または両面上に形成された導体層とを有するユニット回路基板と、ボンディングシートとを備え、ボンディングシートを介してユニット回路基板が二枚以上積層した回路基板(多層回路基板)、
(ii)熱可塑性の液晶ポリマーフィルムからなる絶縁層(基材層)と、フィルムの片面または両面上に形成された導体層とを有するユニット回路基板と、このユニット回路基板の導体層をカバーするためのカバーレイとを備える回路基板(単層または二層回路基板)、
(iii)上記(i)および(ii)を組み合わせた構成であり、ユニット回路基板と、ボンディングシートと、カバーレイとを備え、二枚以上のユニット回路基板がボンディングシートを介して積層され、回路基板の最外層が、ユニット回路基板の導体層をカバーするカバーレイで構成されている回路基板(多層回路基板)、
(iv)熱可塑性の液晶ポリマーフィルムからなる絶縁層(基材層)を備えるユニット回路基板を複数枚備え、二枚以上のユニット回路基板が、ボンディングシートを介することなく直接積層した回路基板(多層回路基板)、および
(v)上記(ii)および(iv)を組み合わせた構成であり、二枚以上のユニット回路基板と、カバーレイとを備え、二枚以上のユニット回路基板がボンディングシートを介することなく直接積層され、回路基板の最外層が、ユニット回路基板の導体層をカバーするカバーレイで構成されている回路基板(多層回路基板)。
以下、本発明にかかる回路基板の製造方法を説明する。
まず、熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる絶縁性基材層と、この基材層の片面または両面に導体層が形成されたユニット回路基板を一枚以上準備する。熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよび導体層については、上記に説明した構成のものを用いることができる。
導体層に対して接着するための回路基板材料(接着性材料)として、上記ユニット回路基板とは別に、ユニット回路基板の導体層と接着させるための回路基板材料を一以上準備してもよい。接着性材料は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムであればよく、例えば、具体的には、ボンディングシートおよびカバーレイから選択される少なくとも一種が挙げられる。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムと導体層とを熱圧着する手段としては特に限定されないが、例えば、バッチ式の真空熱プレス、ロールプレス、ダブルベルトプレスなどを用いることができる。ロールプレス、ダブルベルトプレスはロール・トゥ・ロールによるロールプレス、ダブルベルトプレスであってもよい。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムの靱性(MPa)は、ASTM D882に準拠した方法により測定した伸度と最大引張強度の測定値から、下記式(1)により計算で求めた。
靱性=伸度×最大引張強度×1/2 (1)
熱圧着前の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの靱性(MPa)と、被着体と熱圧着後の該フィルムの靱性(MPa)をそれぞれ測定し、熱圧着前後の靱性の低下率を求めた。
靱性の低下率(%)=100×(熱圧着前の靱性(MPa)−熱圧着後の靱性(MPa))/熱圧着前の靱性(MPa)
熱可塑性液晶ポリマーフィルムのヤング率(GPa)は、ASTM D882に準拠した方法により、フィルムに引張荷重を加え、その変位を求めることにより、下記式(2)より計算で求めた。
E=(σn+1−σn)/(εn+1−εn) (2)
(ここで、E:ヤング率(GPa)、σn+1−σn:引張荷重を変動させたときの引張応力の変化量、εn+1−εn:引張荷重を変動させたときの引張ひずみの変化量)
接触式表面粗さ計(ミツトヨ(株)製、型式 SJ−201)を用い、積層体で粗化処理された銅箔表面の十点平均粗さ(RzJIS)を測定した。測定はISO4287−1997に準拠した方法により行った。より詳細には、表面粗度(RzJIS)は、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さを抜き取り、最高から5番目までの山頂(凸の頂点)の標高の平均値と、最深から5番目までの谷底(凹の底点)の標高の平均値との差をμmで表わしたもので、十点平均粗さを示したものである。
JIS C5016−1994に準拠した方法により、毎分50mmの速度で、液晶ポリマーフィルムからなる接着性材料を、液晶ポリマーフィルムと導体層との積層体に対して90°の方向に引きはがしながら、引っ張り試験機[日本電産シンポ(株)製、デジタルフォースゲージFGP-2]により、引きはがし強さを測定し、得られた値を接着強度(ピール強度)(kN/m)とした。
マイクロ波ネットワークアナライザー[アジレント(Agilent)社製、型式:8722ES]とプローブ(カスケードマイクロテック社製、型式:ACP40−250)を用いて、マイクロストリップライン構造で測定周波数10GHzのS21パラメータを測定した。
融点335℃、靱性80MPa、ヤング率3.5GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが2.5μmの圧延銅箔(三井金属(株)製、SQ−VLP、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を300℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−35℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
融点325℃、靱性68MPa、ヤング率3.0GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが2.5μmの圧延銅箔(三井金属(株)製、SQ−VLP、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を295℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−30℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
融点280℃、靱性42MPa、ヤング率2.5GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが2.5μmの圧延銅箔(三井金属(株)製、SQ−VLP、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を250℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−30℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
融点335℃、靱性80MPa、ヤング率3.5GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが1.0μmの圧延銅箔(JX日鉱日石金属(株)製、BHY−X、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を300℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−35℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
融点335℃、靱性80MPa、ヤング率3.5GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが1.0μmの圧延銅箔(JX日鉱日石金属(株)製、BHY−X、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を325℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−10℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
融点320℃、靱性16MPa、ヤング率4.0GPaの熱可塑性液晶ポリマーフィルムを準備した。この熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して導体層として表面粗度RzJISが2.5μmの圧延銅箔(三井金属(株)製、SQ−VLP、厚さ12μm)を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を290℃(熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−30℃)に設定し、4MPaの圧力下、10分間、熱圧着し積層体を作製した。
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸単位27モル%、p−ヒドロキシ安息香酸単位73モル%からなるサーモトロピック液晶ポリエステルを、単軸押出機を用いて280〜300℃で加熱混練し、直径40mm、スリット間隔0.6mmのインフレーションダイより押出し、厚さ50μmのフィルムを得た。このフィルムの融点Tmは280℃であり、靱性は20MPaであった。
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸単位27モル%、p−ヒドロキシ安息香酸単位73モル%からなるサーモトロピック液晶ポリエステルを、単軸押出機を用いて280〜300℃で加熱混練し、直径40mm、スリット間隔0.6mmのインフレーションダイより押出し、厚さ50μmのフィルムを得た。このフィルムの融点Tmは280℃であった。
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸単位27モル%、p−ヒドロキシ安息香酸単位73モル%からなるサーモトロピック液晶ポリエステルを、単軸押出機を用いて280〜300℃で加熱混練し、直径40mm、スリット間隔0.6mmのインフレーションダイより押出し、厚さ50μmのフィルムを得た。このフィルムの融点Tm は280℃であった。
2…熱可塑性液晶ポリマーフィルム
3…ボンディングシート
4…導体層(銅箔)
10…第一のユニット回路基板
20…第二のユニット回路基板
30…積層体(回路基板)
Claims (7)
- 熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムを導体層と熱圧着した後の、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムのASTM D882に準拠した方法により測定される靱性が30MPa以上100MPa以下である熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムのASTM D882に準拠した方法により測定されるヤング率が2.0GPa以上4.0GPa以下である熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1又は請求項2記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点Tm−30℃以下の温度において、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムを導体層と熱圧着した後の、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムの靱性低下率が30%以内である熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムと、導体層とを積層してなる回路基板。
- 請求項4記載の回路基板において、前記導体層表面のISO4287−1997に準拠した方法により測定された十点平均粗度(RzJIS)が3μm以下である回路基板。
- 請求項4又は請求項5記載の回路基板において、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムと、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムと接着した導体層との間におけるJIS C5016−1994に準拠した方法により測定された接着強度が0.6kN/m以上である回路基板。
- 熱可塑性液晶ポリマーフィルムと、該熱可塑性液晶ポリマーフィルムに積層された導体層とを含む回路基板であって、
前記導体層を前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムから剥離した後の該熱可塑性液晶ポリマーフィルムのASTM D882に準拠した方法により測定される靱性が30MPa以上100MPa以下である回路基板。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015090470 | 2015-04-27 | ||
JP2015090470 | 2015-04-27 | ||
PCT/JP2016/002205 WO2016174868A1 (ja) | 2015-04-27 | 2016-04-26 | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016174868A1 true JPWO2016174868A1 (ja) | 2018-02-15 |
Family
ID=57198358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017515392A Pending JPWO2016174868A1 (ja) | 2015-04-27 | 2016-04-26 | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2016174868A1 (ja) |
CN (1) | CN107531921A (ja) |
TW (2) | TWI760302B (ja) |
WO (1) | WO2016174868A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI635952B (zh) * | 2017-05-10 | 2018-09-21 | 亞洲電材股份有限公司 | 複合式金屬基板結構 |
US20210400810A1 (en) * | 2018-10-29 | 2021-12-23 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Metal clad laminated plate and method for manufacturing metal clad laminated plate |
US20210070927A1 (en) * | 2019-09-10 | 2021-03-11 | Ticona Llc | Polymer Composition and Film for Use in 5G Applications |
US11917753B2 (en) | 2019-09-23 | 2024-02-27 | Ticona Llc | Circuit board for use at 5G frequencies |
TWI740515B (zh) | 2019-12-23 | 2021-09-21 | 長春人造樹脂廠股份有限公司 | 液晶高分子膜及包含其之積層板 |
CN115087692B (zh) * | 2020-03-06 | 2024-02-13 | 株式会社村田制作所 | 液晶聚合物膜及其制造方法 |
WO2021193385A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 株式会社クラレ | 多層回路基板の製造方法 |
CN112566364B (zh) * | 2020-11-24 | 2022-12-30 | 中国科学技术大学 | 无胶粘层热塑性液晶聚合物高频基板及其制备方法和应用 |
CN112433405B (zh) * | 2020-11-24 | 2022-04-19 | 中国科学技术大学 | 一种液晶高分子基板及其加工方法 |
JP2023020093A (ja) * | 2021-07-30 | 2023-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 積層体 |
JP2023034673A (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-13 | 富士フイルム株式会社 | 液晶ポリマーフィルム、積層体 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044797A (ja) * | 1998-04-06 | 2000-02-15 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 |
WO2003102277A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Feuille de cuivre traitee en surface pour substrat dielectrique faible, stratifie cuivre comportant cette feuille et carte a cablage imprime |
JP2005001376A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-01-06 | Kuraray Co Ltd | フィルムの製造方法 |
WO2007013330A1 (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Kuraray Co., Ltd. | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムで被覆した配線板の製造方法 |
JP2012077117A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Kuraray Co Ltd | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた伝送線路 |
-
2016
- 2016-04-26 JP JP2017515392A patent/JPWO2016174868A1/ja active Pending
- 2016-04-26 CN CN201680024465.8A patent/CN107531921A/zh active Pending
- 2016-04-26 WO PCT/JP2016/002205 patent/WO2016174868A1/ja active Application Filing
- 2016-04-27 TW TW105113024A patent/TWI760302B/zh active
- 2016-04-27 TW TW110106897A patent/TW202126480A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044797A (ja) * | 1998-04-06 | 2000-02-15 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 |
WO2003102277A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Feuille de cuivre traitee en surface pour substrat dielectrique faible, stratifie cuivre comportant cette feuille et carte a cablage imprime |
JP2005001376A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-01-06 | Kuraray Co Ltd | フィルムの製造方法 |
WO2007013330A1 (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-01 | Kuraray Co., Ltd. | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムで被覆した配線板の製造方法 |
JP2012077117A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Kuraray Co Ltd | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた伝送線路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202126480A (zh) | 2021-07-16 |
TWI760302B (zh) | 2022-04-11 |
TW201702067A (zh) | 2017-01-16 |
CN107531921A (zh) | 2018-01-02 |
WO2016174868A1 (ja) | 2016-11-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2016174868A1 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 | |
JP6632541B2 (ja) | 回路基板およびその製造方法 | |
TWI616328B (zh) | 熱塑性液晶聚合物薄膜及使用其之積層體及電路基板、積層體之製造方法、以及熱塑性液晶聚合物薄膜之製造方法 | |
JP6499584B2 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム、回路基板、およびそれらの製造方法 | |
JP6656231B2 (ja) | 金属張積層板の製造方法およびこれを用いた金属張積層板 | |
JP4866853B2 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムで被覆した配線基板の製造方法 | |
JP5661051B2 (ja) | 片面金属張積層体の製造方法 | |
JP4216433B2 (ja) | 回路基板用金属張積層板の製造方法 | |
TWI644951B (zh) | 熱塑性液晶聚合物薄膜之製造方法、以及電路基板及其製造方法 | |
JP6019012B2 (ja) | 高周波回路基板 | |
JP6031352B2 (ja) | 両面金属張積層体の製造方法 | |
JP2016107507A (ja) | 金属張積層板およびその製造方法 | |
JP2011216598A (ja) | 高周波回路基板 | |
WO2021256491A1 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマー成形体、金属張積層体および回路基板 | |
JP6202905B2 (ja) | 回路基板およびその製造方法 | |
KR102324897B1 (ko) | 금속 피복 적층체의 제조 방법 | |
WO2021193385A1 (ja) | 多層回路基板の製造方法 | |
WO2020255871A1 (ja) | 金属張積層体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171023 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191016 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200331 |