JP2011216598A - 高周波回路基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記の課題は、表面に凹凸を有する金属箔であって、表面粗度(Rz)が1〜5μmの範囲内にあり、かつ表面粗度(Rz)と表面の凹凸間の間隔(Sm)との比(Rz/Sm)が、1.5〜3.5の範囲内にある表面を有する金属箔(好ましくは、銅箔)に、熱可塑性液晶ポリマーフィルムを積層した積層体からなる高周波回路基板により解決される。
【選択図】なし
Description
本発明において用いられる金属箔として導電性を有するものであれば特に限定されないが、金、銀、銅、ステンレス、ニッケル、アルミニウムなどが例示される。好ましく用いられる金属箔としては、銅箔が挙げられる。銅箔としては、圧延法や電解法によって製造されるいずれのものでも使用することができる。金属箔の好ましい厚さ範囲は、5〜150μmであり、より好ましくは6〜70μm、特に好ましくは9〜35μmの範囲である。
本発明において用いられる金属箔としては、表面粗度(Rz)が0.5〜5μmの範囲内にあることが必要であり、1〜4μmの範囲内にあることが好ましい。表面粗度が0.5μm未満であると、金属箔と熱可塑性液晶ポリマー層との接着性が不十分となる。また、表面粗度が5μmを超えると伝送損失が大きくなり、実用性能を満足しないことがある。
また、本発明において用いられる金属箔としては、表面粗度(Rz)と表面の凹凸間の間隔(Sm)との比(Rz/Sm)が、1.5〜3.5の範囲内にあることが必要であり、1.5〜2.5の範囲内にあることが好ましい。この比が1.5未満の場合には、伝送損失の点では実用性があっても、接着性に乏しくなるので実用的な回路基板を形成することができなくなり、一方、この比が3.5を超えると、接着強度の点では実用性があっても伝送損失が大きくなり、実用的な回路基板を得ることができない。
本発明において用いられる、表面粗度(Rz)が0.5〜5μmの範囲内にあり、かつ、表面粗度(Rz)と表面の凹凸間の間隔(Sm)との比(Rz/Sm)が1.5〜3.5の範囲内にある金属箔は、金属箔形成過程において表面を細かい凹凸が形成されるように製造されてもよいが、金属箔形成後、金属箔表面を粗化処理することにより得ることも出来る。粗化処理は、金属箔の元箔に金属粒子をめっきで付着させたり、または酸洗浄等により凹凸形成したりすることにより、粒子の大きさ、粒子間の間隔の調節を行って、表面粗度(Rz)、および表面粗度(Rz)と表面の凹凸間(Sm)の間隔との比(Rz/Sm)を充足する金属箔表面を得ることができる。めっきで付着させる粒子としては、Cuからなる粒子だけでなく、CuとMoの合金粒子、またはCuとNi、Co、Fe、C、V、Wの群から選ばれる少なくとも1種の元素からなる合金粒子によって形成されていてもよい。本発明で用いられる銅箔としては、三井金属鉱業(株)製のSQ−VLP、日鉱金属(株)製のBHY、STCS、古河電工(株)製のFWJ-WS、F3−WSなどの市販品を用いることもできる。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、溶融成形できる液晶性ポリマー(または溶融時における光学的異方性を有する液晶性ポリマー)から形成され、この熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形できる液晶性ポリマーであればその化学的構成については特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性液晶ポリエステル、又はこれにアミド結合が導入された熱可塑性液晶ポリエステルアミドなどを挙げることができる。
本発明の高周波回路基板は、電気絶縁層である熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に銅などの金属を電気導電層として形成した積層体からなるものである。熱可塑性液晶ポリマーフィルム面への金属層の形成は、金属箔を真空熱プレス装置や加熱ロール積層設備等を用いて熱圧着することにより行うことができる。熱可塑性液晶ポリマーフィルム層と金属箔との積層体を複数層積層して多層化した回路基板を形成することもできる。熱圧着後、エッチングなどの方法により、金属箔に回路パターンを形成して、配線回路基板を得ることができる。
なお、フィルム層は、フィルム1枚からなる単層だけでなく、数枚のフィルムを積層した
フィルム積層体であってもよい。
I) 銅箔/フィルム/銅箔
II) フィルム/銅箔/フィルム
III) 銅箔/フィルム/銅箔/フィルム/銅箔
本発明において高周波回路とは、単に高周波信号のみを伝送する回路からなるものだけでなく、高周波信号を低周波信号に変換して、生成された低周波信号を外部へ出力する伝送路や、高周波対応部品の駆動のために供給される電源を供給するための伝送路等、高周波信号ではない信号を伝送する伝送路も同一平面上に併設された回路も含まれる。
形状測定顕微鏡(キーエンス(株)製、型式:VK−810) を用い、測定倍率1000倍で銅箔の表面粗度(Rz)および凹凸間の間隔(Sm)を測定した。測定はJIS B0601―1994に準拠した方法により行った。表面粗度(Rz)は、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さを抜き取り、最高から5番目までの山頂(凸の頂点)の標高の平均値と、最深から5番目までの谷底(凹の底点)の標高の平均値との差をμmで表わしたもので、十点平均粗さを示している。また、凹凸間の間隔(Sm)は、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さを抜き取り、一つの凸部及びそれに隣り合う一つの凹部に対応する平均線の長さの和(凹凸の間隔)を求め、この多数の凹凸間隔の算術平均値をμmで表わしたものである。
JIS C5016−1994に準拠して、毎分50mmの速度で銅箔を銅箔除去面に対して90°の方向に引きはがしながら、引っ張り試験機[日本電産シンポ(株)製、デジタルフォースゲージFGP-2] により、銅箔の引きはがし強さを測定し、得られた値を接着強度とした。
マイクロ波ネットワークアナライザー[アジレント(Agilent)社製、型式:8722ES]とプローブ(カスケードマイクロテック社製、型式:ACP40−250)を用いて、測定周波数40GHzで測定した。
表7に示す銅箔について、上記の測定方法に従って、各銅箔の表面粗度(Rz)および凹凸間の間隔(S)を測定し、表8および表9に示した。
p−ヒドロキシ安息香酸と6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の共重合物で、融点が280℃である熱可塑性液晶ポリマーを溶融押出し、インフレーション成形することにより得られた、膜厚が50μmの熱可塑性液晶ポリマーフィルム(分子配向度:1.05)を用いた。
上記の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの上下に、表7に示す銅箔を重ね合わせ、真空熱プレス装置を用いて、加熱盤を295℃に設定し、4MPaの圧力下、10分間、圧着して、電解銅箔/熱可塑性液晶ポリマーフィルム/電解銅箔の構成の積層体(A)を作製した。得られた積層体の銅箔面に回路パターンを化学エッチング法により作製し、回路パターンを有する積層体(B)を得た。
一方、比較例1,2,5では、伝送損失が−0.35よりも損失が低くても接着強度が0.5kgfより低く実用的に受け入れられない値を示し、また、比較例3,4では、接着強度が0.5kgf以上の高い値を示していても、伝送損失が−0.35よりも損失が大きく、実用的でない結果を示した。
Claims (3)
- 表面に凹凸を有する金属箔であって、表面粗度(Rz)が0.5〜5μmの範囲内にあり、表面粗度(Rz)と表面の凹凸間の間隔(Sm)との比(Rz/Sm)が、1.5〜3.5の範囲内にある表面を有する金属箔に、熱可塑性液晶ポリマーフィルムを積層した積層体からなる高周波回路基板。
- 請求項1において、表面粗度(Rz)と表面の凹凸間の間隔(Sm)との比(Rz/Sm)が、1.5〜2.5の範囲内にある高周波回路基板。
- 請求項1において、金属箔が銅箔である高周波回路基板。
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