JPWO2013038962A1 - 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット - Google Patents
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- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 48
- HPDFFVBPXCTEDN-UHFFFAOYSA-N copper manganese Chemical compound [Mn].[Cu] HPDFFVBPXCTEDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 229910000914 Mn alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 38
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims abstract description 77
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 57
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 66
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 41
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 41
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 34
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 23
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 21
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 15
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract description 9
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017566 Cu-Mn Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017871 Cu—Mn Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- WYEMLYFITZORAB-UHFFFAOYSA-N boscalid Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1NC(=O)C1=CC=CN=C1Cl WYEMLYFITZORAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
- H01L21/283—Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current
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Abstract
【要約書】
Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均30個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
このように、銅に適切な量のMn元素を添加すると共に、カーボンの量を制限することにより、スパッタリングの際のパーティクル発生を効果的に抑制することができる。特に、自己拡散抑制機能を有した半導体用銅合金配線を形成するために有用な、高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットを提供する。
【選択図】なし
Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均30個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
このように、銅に適切な量のMn元素を添加すると共に、カーボンの量を制限することにより、スパッタリングの際のパーティクル発生を効果的に抑制することができる。特に、自己拡散抑制機能を有した半導体用銅合金配線を形成するために有用な、高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットを提供する。
【選択図】なし
Description
本発明は、半導体用銅合金配線を形成するために有用な、好適な自己拡散抑制機能を備えた、活性な銅の拡散による配線周囲の汚染を効果的に防止することができる高純度銅マンガン合金、特にパーティクル発生の少ない高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットに関する。
従来、半導体素子の配線材料としてAl合金(比抵抗3.0μΩ・cm程度)が使われてきたが、配線の微細化に伴い、より抵抗の低い銅配線(比抵抗:2.0μΩ・cm程度)が実用化されてきた。銅配線の形成プロセスとしては、配線又は配線溝にTaやTaNなどの拡散バリア層を形成した後、銅をスパッタ成膜することが一般に行われる。銅は通常、純度4N(ガス成分抜き)程度の電気銅を粗金属として湿式や乾式の高純度化プロセスによって、5N〜6Nの高純度のものを製造し、これをスパッタリングターゲットとして使用していた。
上記の通り、半導体用配線として、銅は非常に有効であるが、銅自体が非常に活性な金属で拡散し易く、半導体Si基板又はその上の絶縁膜を通してSi基板又はその周囲を汚染するという問題が発生している。特に配線の微細化に伴い、従来のTaやTaNの拡散バリア層を形成するだけでは十分でなく、銅配線材そのものの改良も要求されている。そこで、これまで銅配線材としては、銅(Cu)にマンガン(Mn)を添加して、Cu−Mn合金中のMnが絶縁膜の酸素と反応して自己形成的にバリア層を形成する、自己拡散抑制機能を備えた銅合金が、提案されている。
上記の半導体用銅合金配線は、銅マンガン合金スパッタリングターゲットを用いて形成されるが、半導体デバイスの微細化・高密度化・高集積化、配線層の微細化・多層化が進むに連れて、従来では問題とならなかった微細なパーティクルであっても、回路に影響を与えるようになるという問題が発生している。そのため、スパッタリング中に発生するパーティクル管理が厳しくなり、半導体ウエハ上のパーティクルを削減することが急務となっている。
Cu−Mn合金スパッタリングターゲットの例を、以下に挙げる。
特許文献1には、Mnが0.1〜20.0at.%、拡散係数がCuの自己拡散係数より小さい不可避的不純物元素の濃度が0.05at.%以下、残部がCuからなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献2には、添加元素としてBを0.1〜1.0原子%、さらにMnおよび/またはNiを0.1〜2.0原子%含み、残部Cuおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献3には、添加元素としてBを0.1〜1.0原子%、Bと化合物を発現する元素(Mnを含む)を0.1〜2.0原子%含み、残部Cu及び不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献4には、V、Nb、Fe、Co、Ni、Zn、Mgの内のグループから選ばれた1種以上の成分とSc、Al、Y、Crの内のグループから選ばれた1種以上の成分との合計が0.005〜0.5質量%となるように含み、酸素:0.1〜5ppmを含み、残部がCu及び不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献5には、酸素:6越え〜20モル%を含有し、さらにMo、Mn、Ca、Zn、Ni、Ti、Al、MgおよびFeのうちの1種または2種以上を合計で0.2〜5モル%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献6には、Mn、B、BiまたはGeの金属粉と、X(Cuを含む)、Yを含む合金粉または焼結金属とから形成され、平均粒径0.1〜300μmの結晶粒を50%以上含み、含有ガス量が600ppm以下である焼結スパッタリングターゲット材が記載されている。
しかし、以上については、スパッタリング中におけるパーティクルの発生を防止するには、必ずしも十分でないという問題がある。
特許文献1には、Mnが0.1〜20.0at.%、拡散係数がCuの自己拡散係数より小さい不可避的不純物元素の濃度が0.05at.%以下、残部がCuからなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献2には、添加元素としてBを0.1〜1.0原子%、さらにMnおよび/またはNiを0.1〜2.0原子%含み、残部Cuおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献3には、添加元素としてBを0.1〜1.0原子%、Bと化合物を発現する元素(Mnを含む)を0.1〜2.0原子%含み、残部Cu及び不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献4には、V、Nb、Fe、Co、Ni、Zn、Mgの内のグループから選ばれた1種以上の成分とSc、Al、Y、Crの内のグループから選ばれた1種以上の成分との合計が0.005〜0.5質量%となるように含み、酸素:0.1〜5ppmを含み、残部がCu及び不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献5には、酸素:6越え〜20モル%を含有し、さらにMo、Mn、Ca、Zn、Ni、Ti、Al、MgおよびFeのうちの1種または2種以上を合計で0.2〜5モル%含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットが記載されている。
特許文献6には、Mn、B、BiまたはGeの金属粉と、X(Cuを含む)、Yを含む合金粉または焼結金属とから形成され、平均粒径0.1〜300μmの結晶粒を50%以上含み、含有ガス量が600ppm以下である焼結スパッタリングターゲット材が記載されている。
しかし、以上については、スパッタリング中におけるパーティクルの発生を防止するには、必ずしも十分でないという問題がある。
この他、本出願人により提案された半導体素子の配線材として、Mn0.05〜5wt%を含有しSb、Zr、Ti、Cr、Ag、Au、Cd、In、Asから選択した1又は2以上の元素の総量が10wtppm以下、残部Cuである半導体用銅合金配線を形成するためのスパッタリングターゲットが記載されている(特許文献7参照)。
これは自己拡散抑制機能を向上させるために有効であるが、パーティクル発生の抑制を目的とするものではない。
また、本出願人は、先にCu−Mn合金からなる半導体用銅合金配線材料を開示し(特許文献8参照)、特にMn0.05〜20wt%を含有し、Be、B、Mg、Al、Si、Ca、Ba、La、Ceの総計が500wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物であるスパッタリングターゲットを提案した。
これも自己拡散抑制機能を向上させるために有効であるが、パーティクル発生の抑制を目的とするものではない。
これは自己拡散抑制機能を向上させるために有効であるが、パーティクル発生の抑制を目的とするものではない。
また、本出願人は、先にCu−Mn合金からなる半導体用銅合金配線材料を開示し(特許文献8参照)、特にMn0.05〜20wt%を含有し、Be、B、Mg、Al、Si、Ca、Ba、La、Ceの総計が500wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物であるスパッタリングターゲットを提案した。
これも自己拡散抑制機能を向上させるために有効であるが、パーティクル発生の抑制を目的とするものではない。
パーティクル発生の抑制に関して、Mn:0.6〜30質量%を含み、金属系不純物:40ppm以下、酸素:10ppm以下、窒素:5ppm以下、水素:5ppm以下、炭素:10ppm以下、残部がCuであるスパッタリングターゲットについて記載がある(特許文献9参照)。
しかし、これはターゲットに含まれる不純物含有量を全体的に減らせば、パーティクルの発生を抑えることができるというもので、どの不純物がパーティクルの発生に具体的に寄与するかは不明である。
しかし、これはターゲットに含まれる不純物含有量を全体的に減らせば、パーティクルの発生を抑えることができるというもので、どの不純物がパーティクルの発生に具体的に寄与するかは不明である。
本発明は、銅に適切な量のMn元素を添加すると共に、カーボンの量を制限することにより、スパッタリングの際のパーティクル発生を抑制することを課題とする。これによって、微細な半導体素子の配線(溝)の良好な形成を可能とし、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性を向上することを可能とする。また、自己拡散抑制機能を有し、活性なCuの拡散による配線周囲の汚染を効果的に防止することができる、エレクトロマイグレーション(EM)耐性、耐食性等に優れた半導体用銅合金配線の形成に有用な高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットを提供する。
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、パーティクルの主要成分がカーボンであり、ターゲット中に含有するカーボンの量はパーティクルの数と相関関係があることを見出した。そして、銅に適切な量のMn元素を添加すると共に、前記カーボンの量を制限することにより、スパッタリング時に発生するパーティクルの量を著しく低減できる、半導体用銅合金配線を形成するために有用な高純度銅合金スパッタリングターゲットを得ることができるとの知見を得た。
本発明はこの知見に基づき、
1)Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均50個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
2)直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均20個以下であることを特徴とする上記1)記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
3)Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均30個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
4)直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均10個以下であることを特徴とする上記3)記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、を提供する。
1)Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均50個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
2)直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均20個以下であることを特徴とする上記1)記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
3)Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均30個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、
4)直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均10個以下であることを特徴とする上記3)記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット、を提供する。
本発明の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットは、カーボンの量を制限することにより、スパッタリングの際のパーティクル発生を抑制し、微細な半導体素子の配線(溝)を良好に形成することが可能となる。また、本発明の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットを用いて形成した銅合金配線膜は、活性なCuの拡散による配線周囲の汚染を効果的に防止することができ、エレクトロマイグレーション(EM)耐性、耐食性等を向上させることができるという優れた効果を有する。
本発明の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットは、上記の通り、Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物であって、当該ターゲットをスパッタリングして成膜した際、C又はC及びMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素からなる直径0.08μm以上のパーティクルの数がウエハ上に平均50個以下である。
本発明において、Cu合金に含まれるMnは0.05wt%以上、20wt%以下とするのが望ましい。Mn0.05wt%未満では、自己拡散抑制機能が小さくなり、Mn20wt%を超えると抵抗が増大し、半導体用銅合金配線としての機能は低下するため好ましくない。さらに好ましくは、Mn0.5〜10wt%を含有する銅合金である。
なお、カーボンは溶解工程における溶解原料および装置部材から混入するため、Mn含有量がパーティクルの発生原因となるカーボンの量に直接的に影響を与える場合がある。したがって、Mn含有量は前記の範囲に正確に制御する必要がある。
なお、カーボンは溶解工程における溶解原料および装置部材から混入するため、Mn含有量がパーティクルの発生原因となるカーボンの量に直接的に影響を与える場合がある。したがって、Mn含有量は前記の範囲に正確に制御する必要がある。
また、本発明において、高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットに含まれるC(カーボン)含有量は2wtppm以下、さらに好ましくは1wtppm以下とするのがよい。ターゲットに含まれる不純物はパーティクル発生の原因となるので、できるだけ低減することが望ましい。特に、C(カーボン)は、高純度銅マンガン合金ターゲットのスパッタリング時に発生するパーティクルに直接影響するので、十分な管理が必要である。
また、本発明において、直径0.20μm以上のパーティクルは、300mmウエハ上に平均30個以下であり、好ましくは、平均10個以下である。また、直径0.08μm以上のパーティクルにあっては、300mmウエハ上に平均50個以下であり、好ましくは、平均20個以下である。パーティクルを抑制することにより、微細な半導体素子の配線(溝)を良好に形成することを可能とし、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性の改善を図ることができる。
また、本発明において、高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットを用いてスパッタリングした際に発生するパーティクル個々の成分は、C(カーボン)であるか、または、Mn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素であるか、または、C(カーボン)とMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物である。本発明では、これら成分の異なるパーティクルが、1種で存在する場合もあり、また、2種以上で存在する場合もある。なお、Mnは添加に由来するものであり、Si、Mgはターゲット製造時に用いられる坩堝に由来するものである。
また、本発明において、高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットの製造は、カーボンルツボ(坩堝)内に純度が6N以上である高純度銅と純度が5N以上である添加元素のマンガンを入れて溶解する。または、予め純度が6N以上である高純度銅をカーボンルツボ(坩堝)内で溶解し、これに4Nの純度を有するマンガンを、目的とする成分組成となるように添加することもできる。
ここで重要なことは、溶解条件である。溶解温度は1000〜1400℃とするのが好ましい。1000℃未満では溶解反応が十分に行われず、一方、1400℃を超えるとカーボン坩堝からカーボンが混入するため好ましくない。また、溶解時間は10〜30分とするのが好ましい。10分未満では溶解反応が十分に行われず、一方で、30分を超えるとカーボン坩堝からのカーボンが混入するため好ましくない。
ここで重要なことは、溶解条件である。溶解温度は1000〜1400℃とするのが好ましい。1000℃未満では溶解反応が十分に行われず、一方、1400℃を超えるとカーボン坩堝からカーボンが混入するため好ましくない。また、溶解時間は10〜30分とするのが好ましい。10分未満では溶解反応が十分に行われず、一方で、30分を超えるとカーボン坩堝からのカーボンが混入するため好ましくない。
このようにして得た合金を鋳造して、所定の成分組成の高純度の銅マンガン合金インゴットを得ることができる。その後、この銅マンガン合金のインゴットを、約500〜900℃で熱間鍛造し、冷間圧延又は必要に応じて500〜900℃で熱間圧延して圧延板を得る。熱間圧延は、マンガンの量が増加するに従って硬くなり、冷間圧延の際に割れが入り、圧延が困難になった際に行う。この限界量はおよそMn5%程度であるが、この圧延の限界値については、圧延量にもよるので、任意に選択可能であり、状況に応じて変更できるので、特に制限はない。
これをさらに、300〜600℃(熱間圧延時は500〜800℃)で熱処理する。この後、バッキングプレートにボンディングし、仕上げ加工して、前記高純度銅マンガン合金から作製されたスパッタリングターゲット組立体に製造する。
なお、これらの製造工程は、ターゲットの成分組成、厚み、大きさによって適宜選択できるものであり、特に上記の数値に制限されるものでないことは、当業者ならば容易に理解可能である。
なお、これらの製造工程は、ターゲットの成分組成、厚み、大きさによって適宜選択できるものであり、特に上記の数値に制限されるものでないことは、当業者ならば容易に理解可能である。
次に、実施例に基づいて本発明を説明する。以下に示す実施例は、理解を容易にするためのものであり、これらの実施例によって本発明を制限するものではない。すなわち、本発明の技術思想に基づく変形及び他の実施例は、当然本発明に含まれる。
(実施例1)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、800℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、800℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、800℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、800℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(実施例2)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(実施例3)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(実施例4)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1200℃で20分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(比較例1)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、800℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、800℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は1wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、800℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、800℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(比較例2)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×60tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ380×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径430mm、厚さ7mmのターゲットに加工し、これをさらにCu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(比較例3)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
(比較例4)
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
純度6Nの高純度銅(Cu)を、カーボンルツボ(坩堝)を用いて高真空雰囲気中で溶解した。また、純度5Nの高純度マンガン(Mn)を、銅の溶湯に投入した。Mn量は10wt%に調整した。
前記Mnを投入して、1500℃で40分間溶解した後、この銅マンガン合金の溶湯を、高真空雰囲気中で水冷銅鋳型に鋳込んでインゴットを得た。次に、製造したインゴットの表面層を除去してφ160×190tとした後、900℃で熱間鍛造してφ200とした。その後、冷間圧延、900℃で熱間圧延してφ700×10tとした。
次に、600℃で1時間熱処理後、ターゲット全体を急冷してターゲット素材とした。これを機械加工で直径650mm、厚さ7mmのターゲットに加工した。さらに、これを直径430mm、厚さ7mmに再加工した上で、Cu合金製バッキングプレートと拡散接合により接合してスパッタリングターゲット組立体とした。
高純度銅合金スパッタリングターゲットの評価として、300mmの単結晶シリコンウエハ上に酸化シリコンを被覆させた後、下記スパッタリング条件で、厚さ600nmの薄膜を成膜し、その際に発生したパーティクルを調べた。パーティクルは、KLA−Tencor社のパーティクルカウンターを用いてウエハ面を計測し、ウエハ20枚の平均値とした。スパッタリングを実施したパーティクル(0.20μm以上、0.08μm以上のパーティクル)の発生率を比較した結果を、表1に示す。
(スパッタリング条件)
装置:Applied Materials社製 Endura
電源:直流方式
電力:40kW
到達真空度:5×10-6Pa
雰囲気ガス組成:Ar
スパッタガス圧:55Pa
スパッタ時間:6秒
(スパッタリング条件)
装置:Applied Materials社製 Endura
電源:直流方式
電力:40kW
到達真空度:5×10-6Pa
雰囲気ガス組成:Ar
スパッタガス圧:55Pa
スパッタ時間:6秒
表1に示すように、カーボンの量が1wtppmの場合(実施例1、3)、実施例1と実施例3では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均2.2個、2.3個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均9.9個、10.2個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
また、カーボンの量が2wtppmの場合(実施例2、4)、実施例2と実施例4では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均5.4個、5.3個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均12.1個、11.9個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
また、カーボンの量が2wtppmの場合(実施例2、4)、実施例2と実施例4では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均5.4個、5.3個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均12.1個、11.9個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
これに対して、カーボンの量が5wtppmの場合(比較例1、3)、比較例1と比比較例3では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均37.3個、39.8個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均98.6個、109.2個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
また、カーボンの量が10wtppmの場合(比較例2、4)、比較例2と比較例4では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均42.7個、52.3個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均129.3個、139.2個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
また、カーボンの量が10wtppmの場合(比較例2、4)、比較例2と比較例4では、パーティクルの発生率がそれぞれ平均42.7個、52.3個(直径0.20μm以上のパーティクル)と、それぞれ平均129.3個、139.2個(直径0.08μm以上のパーティクル)であった。
このように、パーティクルの発生において明らかな差異が見られ、カーボンの量が2wtppm以下の場合、パーティクルの著しく減少するという良好な結果を示していた。
また、パーティクルの発生は、カーボン量に依存し、ターゲットの大きさに依存しないことが分かった。
また、パーティクルの発生は、カーボン量に依存し、ターゲットの大きさに依存しないことが分かった。
本発明は、銅マンガン合金スパッタリングターゲットを提供するものであり、銅に適切な量のMn元素を添加すると共に、カーボンの量を制限することにより、スパッタリングの際のパーティクル発生を効果的に抑制するものである。特に、微細な半導体素子の配線(溝)を良好に形成することができるので、微細化・高集積化が進む半導体製品の歩留まりや信頼性を向上することができるという優れた効果を有する。そして、自己拡散抑制機能を有し、活性なCuの拡散による配線周囲の汚染を効果的に防止することができる、エレクトロマイグレーション(EM)耐性、耐食性等に優れた、半導体用銅マンガン合金配線の形成に有用である。
Claims (4)
- Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均50個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
- 直径0.08μm以上のパーティクルの数が平均20個以下であることを特徴とする請求項1記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
- Mn0.05〜20wt%を含有し、C2wtppm以下、残部がCu及び不可避的不純物である高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲットであって、当該ターゲットをスパッタリングしてウエハ上に成膜した際、CまたはMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素またはCとMn、Si、Mgから選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均30個以下であることを特徴とする高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
- 直径0.20μm以上のパーティクルの数が平均10個以下であることを特徴とする請求項3記載の高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013533626A JPWO2013038962A1 (ja) | 2011-09-14 | 2012-09-05 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011200228 | 2011-09-14 | ||
JP2011200228 | 2011-09-14 | ||
JP2013533626A JPWO2013038962A1 (ja) | 2011-09-14 | 2012-09-05 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014192675A Division JP2015061943A (ja) | 2011-09-14 | 2014-09-22 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013038962A1 true JPWO2013038962A1 (ja) | 2015-03-26 |
Family
ID=47883193
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013533626A Pending JPWO2013038962A1 (ja) | 2011-09-14 | 2012-09-05 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
JP2014192675A Pending JP2015061943A (ja) | 2011-09-14 | 2014-09-22 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014192675A Pending JP2015061943A (ja) | 2011-09-14 | 2014-09-22 | 高純度銅マンガン合金スパッタリングターゲット |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140158532A1 (ja) |
EP (1) | EP2837710B1 (ja) |
JP (2) | JPWO2013038962A1 (ja) |
KR (3) | KR20160040725A (ja) |
CN (1) | CN103797152A (ja) |
IL (1) | IL230014A (ja) |
SG (1) | SG10201607223SA (ja) |
TW (1) | TWI539019B (ja) |
WO (1) | WO2013038962A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4620185B2 (ja) | 2008-09-30 | 2011-01-26 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度銅及び電解による高純度銅の製造方法 |
CN102165093B (zh) * | 2008-09-30 | 2013-09-25 | Jx日矿日石金属株式会社 | 高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶、该溅射靶的制造方法及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜 |
KR20130121199A (ko) | 2011-09-14 | 2013-11-05 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 고순도 구리망간 합금 스퍼터링 타깃 |
SG2014009989A (en) | 2011-09-30 | 2014-04-28 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | Sputtering target and manufacturing method therefor |
CN104066868B (zh) | 2012-01-23 | 2016-09-28 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 高纯度铜锰合金溅射靶 |
JP2014043643A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-03-13 | Kobelco Kaken:Kk | Cu合金薄膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
KR20150053805A (ko) | 2013-03-07 | 2015-05-18 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 구리 합금 스퍼터링 타깃 |
JPWO2015099119A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-03-23 | Jx金属株式会社 | 高純度銅又は銅合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
MY180072A (en) * | 2015-02-12 | 2020-11-20 | Hitachi Metals Ltd | Cr-ti alloy sputtering target material and method for producing same |
KR20170088418A (ko) | 2015-05-21 | 2017-08-01 | 제이엑스금속주식회사 | 구리 합금 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법 |
TWI663274B (zh) | 2017-03-30 | 2019-06-21 | 日商Jx金屬股份有限公司 | Sputtering target and manufacturing method thereof |
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US11035036B2 (en) | 2018-02-01 | 2021-06-15 | Honeywell International Inc. | Method of forming copper alloy sputtering targets with refined shape and microstructure |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3769761B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2006-04-26 | 住友化学株式会社 | アルミニウム合金単結晶ターゲットおよびその製造方法 |
US7718117B2 (en) * | 2000-09-07 | 2010-05-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Tungsten sputtering target and method of manufacturing the target |
JP2002294437A (ja) | 2001-04-02 | 2002-10-09 | Mitsubishi Materials Corp | 銅合金スパッタリングターゲット |
JP4065959B2 (ja) | 2004-08-31 | 2008-03-26 | 国立大学法人東北大学 | 液晶表示装置、スパッタリングターゲット材および銅合金 |
JP5234483B2 (ja) | 2007-06-12 | 2013-07-10 | 三菱マテリアル株式会社 | 密着性に優れた配線下地膜およびこの配線下地膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
JP2009074127A (ja) | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Kojundo Chem Lab Co Ltd | 焼結スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
JP5263665B2 (ja) | 2007-09-25 | 2013-08-14 | 日立金属株式会社 | 配線膜用Cu合金膜および配線膜形成用スパッタリングターゲット材 |
JP2010248619A (ja) | 2009-03-26 | 2010-11-04 | Hitachi Metals Ltd | 酸素含有Cu合金膜の製造方法 |
-
2012
- 2012-09-05 WO PCT/JP2012/072541 patent/WO2013038962A1/ja active Application Filing
- 2012-09-05 CN CN201280044705.2A patent/CN103797152A/zh active Pending
- 2012-09-05 JP JP2013533626A patent/JPWO2013038962A1/ja active Pending
- 2012-09-05 KR KR1020167008017A patent/KR20160040725A/ko active Search and Examination
- 2012-09-05 KR KR1020137034722A patent/KR20140016996A/ko active Application Filing
- 2012-09-05 SG SG10201607223SA patent/SG10201607223SA/en unknown
- 2012-09-05 KR KR1020167005713A patent/KR20160030588A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-09-05 US US14/235,865 patent/US20140158532A1/en not_active Abandoned
- 2012-09-05 EP EP12831198.2A patent/EP2837710B1/en active Active
- 2012-09-10 TW TW101132969A patent/TWI539019B/zh active
-
2013
- 2013-12-18 IL IL230014A patent/IL230014A/en active IP Right Grant
-
2014
- 2014-09-22 JP JP2014192675A patent/JP2015061943A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2837710B1 (en) | 2019-05-15 |
JP2015061943A (ja) | 2015-04-02 |
EP2837710A1 (en) | 2015-02-18 |
KR20140016996A (ko) | 2014-02-10 |
CN103797152A (zh) | 2014-05-14 |
KR20160040725A (ko) | 2016-04-14 |
EP2837710A4 (en) | 2015-06-03 |
WO2013038962A1 (ja) | 2013-03-21 |
TW201326430A (zh) | 2013-07-01 |
US20140158532A1 (en) | 2014-06-12 |
TWI539019B (zh) | 2016-06-21 |
SG10201607223SA (en) | 2016-10-28 |
KR20160030588A (ko) | 2016-03-18 |
IL230014A (en) | 2017-06-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150217 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20150225 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20150320 |