JPWO2011049087A1 - 位置決め構造体を有する光導波路基板の製造方法、及び光電気混載基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
そののち、所望の位置に貫通穴を有するマスク部材と、位置決め用パタンとを勘合によって位置決めした状態で、ミラーパタンの傾斜部と位置決め用パタンに金属膜を形成する。
さらに、位置決め用パタンとフォトマスクとを位置決めした状態で、ミラーパタンと隣接したクラッド層上に、配線コアパタンを形成する製造方法を用いた光導波路基板とする。
フォトマスク16の位置決めは、位置合せ用マーク14のパタンと、フォトマスク16のパタンとを重ねた状態で観察しながら行なう。本発明の製造方法のように、ミラーパタン13を作製した後にフォトリソグラフィによって配線コアパタンを形成することで、上記構造を容易且つ高位置精度にて作製可能である。
構成は図のように、基板10上に光導波路層25が形成され、光導波路層25上に載置された発光素子アレイ32から出射された光が、位置決め用パタン31a、ミラーパタン13a、配線コア20a、ミラーパタン13bを介して、光導波路層25上に載置されたコネクタを有する光ファイバアレイ51と光接続される。一方、受信側に関しても上述の構成と同様に、光導波路層25上に載置されたコネクタを有する光ファイバアレイ51から出射された光が、ミラーパタン13c、配線コア20b、ミラーパタン13d、位置決め用パタン31bを介して、光導波路層25上に載置された受光素子アレイ35と光接続される。
Claims (12)
- 基板上に形成された第1クラッド層と、該第1クラッド層上に形成された配線コアと、前記基板の上方から入出力される光の経路を前記基板に平行な方向に変換し前記配線コアと光接続するミラー部と、該ミラー部および該配線コアの周囲を覆うように形成された第2クラッド層を含んで成る光導波路層を有する光導波路基板の製造方法において、
前記第1クラッド層上に、前記ミラー部を形成するためのミラーパタンと、少なくとも2つの位置決め用パタンとを同時に形成する工程と、
前記ミラーパタンの一側面をテーパ状に加工しテーパ部を有するミラーパタンを形成する工程と、
前記位置決め用パタンと勘合するように設けられた第1開口部と、前記ミラーパタンの少なくともテーパ部が露出するように設けられた第2開口部とを具備してなるマスク部材を用いて、前記位置決め用パタンと前記第1開口部とを勘合によって位置決めした状態で、前記第2開口部により露出した前記テーパ部を含む前記ミラーパタンの表面に金属膜を形成する工程とを有することを特徴とする光導波路基板の製造方法。 - 基板を準備する工程と、
前記基板上に第1クラッド層を形成する工程と、
前記第1クラッド層上に、感光性ポリマ材料からなる第1コア部材を設ける工程と、
前記第1コア部材を加工して、前記第1クラッド層上に、前記基板の上方から入出力される光の経路を前記基板に平行な方向に変換するミラー部を形成するためのミラーパタンと、少なくとも2つの凸形状を有する位置決め用パタンとを同時に形成する工程と、
前記ミラーパタンの一側面をテーパ状に加工しテーパ部を有するミラーパタンを形成する工程と、
前記位置決め用パタンと勘合するように設けられた第1開口部と、前記ミラーパタンの少なくともテーパ部が露出するように設けられた第2開口部とを具備してなるマスク部材を用いて、前記位置決め用パタンと前記第1開口部とを勘合によって位置決めした状態で、前記第2開口部により露出した前記テーパ部を含む前記ミラーパタンの表面に金属膜を形成する工程と、
前記第1クラッド層、前記ミラーパタン及び前記位置決め用パタンを含む表面上に、前記第1クラッド層を構成する材料よりも屈折率が高く、感光性ポリマ材料からなる第2コア部材を設ける工程と、
コアパタン形成用マスク部材を用いて、前記位置決め用パタンと該コアパタン形成用マスク部材とを位置決めした状態で前記第2コア部材を加工して、前記第1クラッド層上に前記ミラーパタンの端部に隣接する配線コアを形成する工程と、
前記第1クラッド層および前記配線コアを覆うように第2クラッド層を形成し、前記第1および第2クラッド層とそれらに囲まれて成る前記配線コアからなる光導波路層を形成する工程とを有することを特徴とする光導波路基板の製造方法。 - 前記ミラーパタンのテーパ部は、前記配線コアに対向する側の一側面に形成されることを特徴とする請求項1記載の光導波路基板の製造方法。
- 前記位置決め用パタンは、前記ミラーパタンと前記基板の端部との間の領域内に形成されることを特徴とする請求項1記載の光導波路基板の製造方法。
- 前記第1および第2クラッド層、ミラーパタンを構成する部材、配線コアを構成する部材のそれぞれは、紫外光波長帯に吸収ピークを有するポリマ材料であり、前記第1および第2クラッド層、ミラーパタンを構成する部材、配線コアを構成する部材は、それぞれ前記紫外光波長帯の波長光を用いたフォトリソグラフィによってパタン形成されることを特徴とする請求項1記載の光導波路基板の製造方法。
- 前記第1および第2開口部を有するマスク部材は、厚さ0.3mm以下の薄膜金属加工基板で作製されることを特徴とする請求項1記載の光導波路基板の製造方法。
- 前記位置決め用パタンの上部に位置する前記第2クラッド層上に、凸形状を有する第2の位置決め用パタンと、前記ミラーパタンの上部に位置する前記第2クラッド層上に第2のミラーパタンとをそれぞれ同時に形成し、
前記第2の位置決め用パタンと勘合するように形成された開口部を有する第2のマスク部材とを位置決めした状態で、前記第2のミラーパタンにテーパ部が形成された第2のミラーパタンの表面に金属膜を形成し、さらに、前記第2のミラーパタンと隣接したクラッド層上に、第2の配線コアを多層積層することを特徴とする請求項1記載の光導波路基板の製造方法。 - 請求項2記載の光導波路基板の製造方法を用いた光電気混載基板の製造方法であって、
前記位置決め用パタンの上部に位置する第2クラッド層上に、凸形状を有する第2の位置決め用パタンと、前記ミラーパタンの上部に位置する前記第2クラッド層上に第3の位置決め用パタンをそれぞれ形成し、
前記第3の位置決め用パタン上に、該第3の位置決め用パタンと勘合されるための凹形状を有する発光素子および受光素子、または該発光素子および受光素子がそれぞれ搭載された光モジュール基板を該第3の位置決め用パタンに勘合させて載置することを特徴とする光電気混載基板の製造方法。 - 基板上に設けられた第1クラッド層と、該第1クラッド層上に設けられた配線コアと、
該配線コアの周囲を覆うように設けられた第2クラッド層を含んで成る光導波路層を少なくとも一層有する光導波路基板において、
前記基板主面に対しテーパ形状を成す傾斜部と該傾斜部表面に金属膜が設けられたミラーパタンと、前記ミラーパタンと前記基板の端部とで挟まれる前記第1クラッド層上の領域に、前記ミラーパタンを構成する材料を用い、前記金属膜が表面に被膜され、凸形状を有する少なくとも2つ以上の位置決め用パタンとが配設されていることを特徴とする光導波路基板。 - 前記位置決め用パタンの外郭が四角形であり、該四角形の内部にパタン中心部で交差した十字パタンを設けたことを特徴とする請求項9記載の光導波路基板。
- 前記光導波路層内に設けられた配線コアは、該配線コア内部を多モード光信号が伝播するマルチモード型光導波路であることを特徴とする請求項9記載の光導波路基板。
- 前記位置決め用パタンの上部に位置する前記第2クラッド層上に、凸形状を有する第2の位置決め用パタンが配設され、前記ミラーパタンの上部に位置する前記第2クラッド層上に第2のミラーパタンがそれぞれ配設され、前記第2のミラーパタンと隣接したクラッド層上に、第2の配線コアが多層積層された構造を有することを特徴とする請求項9記載の光導波路基板。
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