JPWO2005041276A1 - 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
近年、デバイスパターンのより一層の高集積化に対応するために投影光学系の更なる高解像度化が望まれている。投影光学系の解像度は、使用する露光波長が短くなるほど、また投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。そのため、露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大している。そして、現在主流の露光波長は、KrFエキシマレーザの248nmであるが、更に短波長のArFエキシマレーザの193nmも実用化されつつある。また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。式(1),(2)より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令で許される限りにおいて、下記パンフレットの開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
しかしながら、液体の流量を増加させると、液体の移動に伴う振動や気泡が発生して、回路パターンの形成に支障を来してしまうという問題がある。
第1の態様は、基板(W)上の一部に液体(L)を供給して液浸領域(AR2)を形成し、前記液体を介して前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置(EX)において、前記液浸領域の外周に、前記基坂上に液体の一部を保持可能な予備檀浸領域(AR3)が形成されるようにした。
また、投影光学系(PL)を有し、該影光学系と前記基板(W)との間に位置する液体(L)及び前記投影光学系を介して前記基板の露光を行うことで前記所定のパターンを形成し、前記液浸領域(AR2)及び前記予備液浸領域(AR3)の液体は、前記投影光学系と前記基板とが相対移動した際に、相対移動の方向に応じて、それぞれの領域(AR2、AR3)の液体の一部が他方の領域(AR2、AR3)に移動できるようにした。
また、液体保持部(80,90)が、投影光学系(PL)の下面(PLa)に形成された略円環形の溝部(70)の外周に設けられるようにした。
液体保持部(80,90)としては、例えば、略円環形の壁部(80)で構成することができる。
また、液体保持部(80,90)を略円環形に配置された複数の突起部(90)で構成することもできる。
また、液体保持部(80,90)が、弾性材料により形成されるようにした。
また、液体保持部(80,90)が複数設けられるようにした。
また、液体保持部(80,90)に親液性領域が形成されるようにした。
また、溝部(70)の底面(70b)に液体(L)を回収する液体回収部(23)が設けられるようにした。
本発明は更に、基板(W)上の一部に液体(L)を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介してパターン像を前記基板上に投影して該基板を露光する露光装置(EX)であって、前記液浸領域を形成するための液体保持部材(60)を備え、 前記液浸領域は、露光時に常に液体が保持される第1領域(AR2)と、露光時に前記液浸保持部材との間で相対移動可能な第2領域(AR3)と、を含む露光装置を提供する。
また、液浸領域(AR2)及び予備液浸領域(AR3)に液体(L)を供給及び回収する工程を含み、液浸領域(AR2)及び予備液浸領域(AR3)に供給される液体量が回収される液体量よりも多くなるようにした。
第1の態様は、基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介して前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置において、前記液浸領域の外周に、前記基板上に液体の一部を保持可能な予備液浸領域が形成されるようにした。これにより、液浸領域の外周に更に液体を保持する予備液浸領域が形成されるので、例えば、液浸領域の液体の量が不足した場合には、予備液浸領域の液体が液浸領域に供給されるので、液量不足による露光不良を回避することができる。
また、投影光学系を有し、該投影光学系と前記基板との間に位置する液体及び前記投影光学系を介して前記基板の露光を行うことで前記所定のパターンを形成し、前記液浸領域及び前記予備液浸領域の液体は、前記投影光学系と前記基板とが相対移動した際に、相対移動の方向に応じて、それぞれの領域の液体の一部が他方の領域に移動するようにしたので、投影光学系と基板との相対移動に伴い液浸領域の液体が投影光学系の下面から移動し始めても、予備液浸領域の液体が投影光学系の下面に供給されるので、特別な処理を行うことなく、常に投影光学系の下面を液体で満たすことができる。
また、液体保持部が、投影光学系の下面に形成された略円環形の溝部の外周に設けられるようにしたので、簡単な構造により、液体を保持する2つの部位、すなわち投影光学系の下面と液体保持部とを物理的に離間させることができ、容易に液浸領域と予備液浸領域を形成することができる。
また、液体保持部が、略円環形の壁部で構成されるようにしたので、簡単な構造で液浸領域の外周で液体を保持することができる。
また、液体保持部が、略円環形に配置された複数の突起部で構成されるようにしたので、簡単な構造で液浸領域の外周で液体を保持することができる。
また、液体保持部が、弾性材料により形成されるようにしたので、液体保持部と基板等との干渉が発生した際の基板等の損傷を最小限に抑えることができる。
また、液体保持部が複数設けられようにしたので、より確実に液体を保持することができ、予備液浸領域の外側への液体の漏れを防止して、露光装置の不具合を防止することができる。
また、液体保持部に親液性領域が形成されるようにしたので、液体の分子と結合しやすくなり、液体との密着性が増して、液体保持力が増加する。これにより、予備液浸領域の外側への液体の漏れを防止して、露光装置の不具合を防止することができる。
また、溝部の底面に液体を回収する液体回収部が設けられるようにしたので、液浸領域及び予備液浸領域の液体をより回収しやすくなり、予備液浸領域の外側への液体の漏れが防止でき、露光装置の不具合を防止することができる。
また、液浸領域及び予備液浸領域に液体を供給及び回収する工程を含み、液浸領域及び予備液浸領域に供給される液体量を回収される液体量よりも多くしたので、液体の一部が液浸領域から溢れだすが、予備液浸領域により保持されるので、液体の漏れによる露光装置の不具合が回避できる。したがって、液浸領域の液量を厳密に一定に制御する必要がなくなり、流量制御が容易になる。
図1は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。図1において、露光装置EXは、デバイスパターンが形成されたレチクル(マスク)Rを支持するレチクルステージRSTと、感光性材料であるフォトレジストが塗布されたウエハ(基板)Wを支持するウエハステージWSTと、レチクルステージRSTに支持されているレチクルRを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたレチクルRのパターンARの像をウエハステージWSTに支持されているウエハWに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備える。
ここで、本実施形態では、露光装置EXとしてレチクルRとウエハWとを走査方向における互いに異なる向き(逆方向)に同期移動しつつレチクルRに形成されたパターンARをウエハWに露光する走査型露光装置(所謂スキャニングステッパ)を使用する場合を例にして説明する。また、以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でレチクルRとウエハWとの同期移動方向(走査方向)をX軸方向、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向(非走査方向)をY軸方向とする。
更に、X軸、Y軸、及びZ軸まわり方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。
そして、露光装置EXは、少なくともレチクルRのパターンARの像をウエハW上に転写している間は、液体供給機構10から供給した液体Lにより投影光学系PLの投影領域AR1を含むウエハW上の一部に液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3を形成する。具体的には、露光装置EXは、投影光学系PLの先端(下端)部の光学素子2とウエハWの表面との間に液体Lを満たして液浸領域AR2を形成する。また、投影光学系PLの先端部における光学素子2の外周にも液体Lを満たして予備液浸領域AR3を形成する。そして、投影光学系PL及び液浸領域AR2の液体Lを介してレチクルRのパターンARの像をウエハW上に投影し、ウエハWを露光する。
なお、液体供給機構10から液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3に液体Lを供給するとともに、液体回収機構20により液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3の液体Lを回収することにより、液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3の液体Lは常に循環されて、液体Lの汚染防止や温度管理等が厳密に行われる。
また、本実施形態において、液体Lには純水が用いられる。純水は、例えば、水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の真空紫外光(VUV光)を透過可能である。
照明光学系ILから射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。本実施形態においてはArFエキシマレーザ光が用いられる。
レチクルステージRST上には移動鏡50が設けられ。また、移動鏡50に対向する位置にはレーザ干渉計51が設けられる。そして、レチクルステージRST上のレチクルRの2次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計51によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。
そして、制御装置CONTはレーザ干渉計51の計測結果に基づいてレチクルステージ駆動部RSTDを駆動することでレチクルステージRSTに支持されているレチクルRの位置決めを行う。
光学素子2は螢石で形成される。螢石は水との親和性が高いので、光学素子2の液体接触面2aのほぼ全面に液体Lを密着させることができる。すなわち、光学素子2の液体接触面2aとの親和性が高い液体(水)Lを供給するようにしているので、光学素子2の液体接触面2aと液体Lとの密着性が高く、光学素子2とウエハWとの間の光路を液体Lで確実に満たすことができる。なお、光学素子2は水との親和性が高い石英であってもよい。また光学素子2の液体接触面2aに親水化(親液化)処理を施して、液体Lとの親和性をより高めるようにしてもよい。
また、光学素子2を取り囲んで保持する鏡筒PKの下面(以下、液体接触面PKaという)は、親液性の高い材料、例えば、アルマイト処理を施したアルミニウム等で形成され、液体Lとの親和性が高められる。これにより、光学素子2及び鏡筒PKの液体接触面2a,PKaとからなる投影光学系PLの下面PLaとウエハWとの間を液体Lで確実に満たすことができる。
なお、予備液浸領域形成部材60には、後述する液体供給機構10の供給口13と、液体回収機構20の回収口23が形成され、供給口13及び回収口23を介して、液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3の液体Lが供給及び回収される。
なお、予備液浸領域形成部材60は、本実施形態に示すように、鏡筒PKと異なる部材により形成して、投影光学系PLの下端部に固定してもよいし、或いは鏡筒PKに一体に形成してもよい。
また、XYステージ53を駆動することにより、ウエハWのXY方向における位置(投影光学系PLの像面と実質的に平行な方向の位置)が制御される。すなわち、Zステージ52は、ウエハWのフォーカス位置及び傾斜角を制御してウエハWの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系PLの像面に合わせ込み、XYステージ53はウエハWのX軸方向及びY軸方向における位置決めを行う。なお、ZステージとXYステージとを一体的に設けてもよい。
ウエハステージWST(Zステージ52)上には移動鏡55が設けられ、また、移動鏡55に対向する位置にはレーザ干渉計56が設けられる。そして、ウエハステージWST上のウエハWの2次元方向の位置、及び回転角はレーザ干渉計56によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。
そして、制御装置CONTはレーザ干渉計56の計測結果に基づいてウエハステージ駆動部WSTDを駆動することでウエハステージWSTに支持されているウエハWの位置決めを行う。
なお、液体供給機構10を構成する各部材のうち少なくとも液体Lが流通する部材は、例えばポリ四フッ化エチレン等の合成樹脂により形成される。これにより、液体Lに不純物が含まれることを抑制できる。
そして、液体製造部11の液体供給動作は制御装置CONTにより制御され、制御装置CONTは液体製造部11によるウエハW上に対する単位時間あたりの液体供給量の制御が可能である。
なお、液体供給機構10と同様に、液体Lに不純物が含まれることを抑制するために、液体回収機構20を構成する各部材のうち少なくとも液体Lが流通する部材は、例えばポリ四フッ化エチレン等の合成樹脂により形成される。
そして、液体吸引部21の液体回収動作は制御装置CONTにより制御され、制御装置CONTは液体吸引部21による単位時間あたりの液体回収量を制御可能である。
図2A及び2B,図3Aに示すように、投影光学系PLの下端部には、液浸領域AR2を形成する光学素子2と鏡筒PKの一部が配置される。
また、投影光学系PLの下端部の外周には、予備液浸領域AR3を形成する予備液浸領域形成部材60が配置される。予備液浸領域形成部材60の下面60aの内周側には、円環形の溝部70と、溝部70の外側に配置された円環形の壁部80(円環状の凸部)が形成される。
溝部70は、鏡筒PKを取り囲み、投影光学系PLの下面PLaからZ方向に所定の間隔だけ窪むように形成される。
壁部(液体保持部)80は、液浸領域AR2を形成する投影光学系PLの下面PLaから半径方向に所定の間隔を空けて、且つ投影光学系PLの下面PLaを取り囲むように、溝部70の底面70bからウエハWに向けて立設される。なお、壁部80の下面80aとウエハWとの距離が、投影光学系PLの下面PLaとウエハWとの距離と略同一となるように形成される。ただし、両者は距離は異なっていてもよい。例えば、壁部80の下面80aとウエハWとの距離を、投影光学系PLの下面PLaとウエハWとの距離よりも小さくなるようにしてもよいし、その逆の関係にしてもよい。なお、壁部80の下面80aとウエハWとの距離は、できるだけ近い(狭い)方が好ましい。距離が近いほど液体Lの表面張力により液体Lを確実に保持でき、外側への液漏れを防止できるからである。しかしながら、壁部80の下面80aとウエハWとの距離が近いほど、ウエハW等との干渉の可能性があるので、本実施形態に示すように、壁部80の下面80aが投影光学系PLの下面PLaと略同一の位置(Z方向)となるように形成したり、或いは壁部80をゴム等の弾性材料で形成したりしてもよい。
また、壁部80の下面80aの面積は、液体Lの保持量などの条件に応じて設定される。例えば、下面80aの面積が大きい程、液体Lとの接触面積が増えて保持できる液体Lの液量が増す。なお、下面80aは、必ずしも平坦である必要はない。例えば、半球形等であってもよい。表面張力により液体Lが保持できればよいからである。
また、壁部80と液浸領域AR2との間隔、すなわち溝部70の幅を調整することによっても保持できる液体Lの液量を増減させることができる。
例えば、保持する液体Lの量にもよるが、壁部80の下面80aとウエハWとの距離に対して下面80aの幅を5倍以上に設定してもよい。また、壁部80の下面80aとウエハWとの距離に対して溝部70の幅を5倍以上に設定してもよい。この場合、壁部80の下面80aとウエハWとの距離を1〜2mmに設定したとすると、下面80aの幅は5〜10mmまたはそれ以上に設定すればよく、溝部70の幅についても5〜10mmまたはそれ以上に設定すればよい。
供給口13は、図2B及び図3Aに示すように、溝部70の底面70bであって、ウエハWの走査方向の両側(+X方向、−X方向)に、投影光学系PLの鏡筒PKの外周に沿った2つのアーチ形のスリット孔として形成される。
また、回収口23は、図2B及び図3Aに示すように、溝部70の底面70bであって供給口(液体回収部)13の外周に、略円環形のスリット孔として形成される。回収口23を略円環形に形成するのは、ウエハW上の液体Lを漏れなく回収するためである。なお、回収口23が形成される溝部70の底面70bは、図3Bに示すように、多孔体25で形成してもよい。多孔体25を介して液体Lを回収することにより、回収管22に気体(空気)を吸い込みづらくなり、気泡混入に伴う振動発生を防止できるからである。
また、溝70の底面70bを全周にわたって多孔体25としておき、この多孔体25に接続された回収口23から液体Lを回収するようにしてもよい。その際、例えば、回収口23に接続された液体排出機構20(図9A、図9Bでは図示略、図1参照)によって一定の圧力で液体Lを吸い込むようにしておくと、予備液浸領域AR3内の液体Lが増減して多孔体25と液体Lとの接触面積が変化しても、多孔体25と接触した部分では常に液体Lの回収が行われるので、液体Lの所定領域外への流出を防止できる。そして、液体Lの回収は常に多孔体25を介して行われるので回収管22に気体が吸い込まれ難くなり、気泡混入に伴う振動発生も防止できる。
更に、壁部80の外周にも、液体Lを回収する複数の回収ノズル(液体回収部)24が配置される。壁部80の外周側に漏れ出した液体Lを回収し、露光装置EXの不具合発生を防止するためである。回収ノズル24の形状、配置、数量等は、液漏れの量等に応じて適宜、変更可能である。
更に、供給口13からウエハW上に供給した液体Lは、予備液浸領域形成部材60の下面60aとウエハWとの間であって、壁部80に取り囲まれた領域の一部にも流れ込み、この領域が液体Lで満たされて、予備液浸領域AR3が形成される。なお、液浸領域AR2の外周領域は、全領域が常に液体で満たされるわけではなく、その一部が液体Lで満たされて、予備液浸領域AR3が形成される(図4参照)。
このように、液浸領域AR2の外周に溝部70と、更にその外側に所定の隙間を空けて壁部80を設けたので、液浸領域AR2の外周に更に液体Lを保持する予備液浸領域AR3が形成される。
なお、液浸領域AR2の液体Lと予備液浸領域AR3の液体Lとは、密接しており、液体Lは液浸領域AR2と予備液浸領域AR3の間を行き来(流通)可能である。なぜならば、光学素子2等と同様に、壁部80及び溝部70は、液体Lとの親和性(親液性)が高い材料で形成されるので、液浸領域AR2の液体Lと予備液浸領域AR3の液体Lとが離間することなく、連続的に連通した状態となるからである。
また、予備液浸領域AR3の周囲(液浸領域AR2に接しない側)は、ウエハステージWSTや投影光学系PLが設置される空間内の気体(例えば、空気や窒素ガス等の不活性ガス)と接した状態になる。
図4は、露光開始時に液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3に配置される液体Lの形状例を示す図である。図5は、液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3の液体Lの移動の様子を示す図である。
まず、レチクルRがレチクルステージRSTにロードされるとともに、ウエハWがウエハステージWSTにロードされると、走査露光処理を行うに際し、制御装置CONTは液体供給機構10を動作させて、ウエハW上に対する液体供給動作を開始する。
液体供給機構10を動作させると、液体製造部11から供給された液体Lは、供給管12を流通した後、予備液浸領域形成部材60の溝部70の底面70bにおける走査方向の両側に形成した供給口13から同時にウエハW上に供給される。ウエハW上に供給された液体Lは、鏡筒PKの表面に沿って流れ、投影光学系PLの下面PLaの領域を液体Lで満たし、液浸領域AR2を形成する。
更に、液浸領域AR2を形成した後も、液体Lを供給し続け、図4に示すように、液浸領域AR2の外周領域の一部も液体Lで満たし、予備液浸領域AR3を形成する。
そして、液浸領域AR2及び予備液浸領域AR3を形成した後は、液体回収機構20も動作させて、液体Lの供給量と回収量とが略同一或いは供給量が回収量をやや上回る程度に設定して、その状態を維持する。
このようにして、露光開始時には、例えは、液浸領域AR2の液体Lの約10〜20%程度以上と同量の液体Lが予備液浸領域AR3に配置される。
ウエハWの露光のための準備作業が終了すると、制御装置CONTがアライメント結果に基づいてウエハW側のレーザ干渉計56の計測値をモニタしつつ、ウエハWのファーストショット(第1番目のショット領域)の露光のための加速開始位置(走査開始位置)に、ウエハステージ駆動部WSTDに指令してウエハステージWSTを移動させる。
次いで、制御装置CONTがレチクルステージ駆動部RSTD及びウエハステージ駆動部WSTDに指令して、レチクルステージRST及びウエハステージWSTとのX軸方向の走査を開始し、レチクルステージRST、ウエハステージWSTがそれぞれの目標走査速度に達すると、露光光ELによってレチクルRのパターン領域が照射され、走査露光が開始される。
そして、レチクルRのパターン領域の異なる領域が露光光ELで逐次照明され、パターン領域全面に対する照明が完了することにより、ウエハW上のファーストショット領域に対する走査露光が終了する。これにより、レチクルRのパターンARが投影光学系PL及び液体Lを介してウエハW上のファーストショット領域のレジスト層に縮小転写される。
このファーストショット領域に対する走査露光が終了すると、制御装置CONTにより、ウエハステージWSTがX,Y軸方向にステップ移動し、セカンドショット領域の露光のための加速開始位置に移動する。すなわち、ショット間ステッピング動作が行われる。
そして、セカンドショット領域に対して上述したような走査露光を行う。
このようにして、ウエハWのショット領域の走査露光と次ショット領域の露光のためのステッピング動作とが繰り返し行われ、ウエハW上の全ての露光対象ショット領域にレチクルRのパターンARが順次転写される。
そして、液体Lの回収後に、ウエハWの交換が行われ、新たなウエハWの露光処理が再開される。
このような処理を繰り返すことにより、複数のウエハWの露光が行われる。
このように、投影光学系PLに対して、ウエハWがXY方向に移動すると、投影光学系PLの下面PLa、すなわち液浸領域AR2に配置された液体Lは、ウエハWの移動に引きずられて、ウエハWの移動方向に移動し始める。特に、露光走査時には、ウエハWが高速移動(例えば、300mm/s程度)するので、液体Lの移動量が大きくなる。
従来の露光装置では、液体LがウエハWとともに移動すると、投影光学系PLの下面PLaの一部(ウエハWの移動方向の反対側)において、液体Lの剥離が発生し、これにより露光光ELの波長が変化して、露光不良が発生するおそれがあった。
しかしながら、本実施形態の露光装置EXにおいては、液浸領域AR2の外周に更に予備液浸領域AR3を設けたため、図5に示すように、ウエハWが移動すると、液浸領域AR2の液体LがウエハWの移動方向の予備液浸領域AR3に流れ込む。それと同時に、ウエハWの移動方向の反対側の予備液浸領域AR3の液体Lが液浸領域AR2に流れ込む。
すなわち、予備液浸領域AR3が液浸領域AR2の予備タンクのように機能して、ウエハWの移動に伴って、液浸領域AR2から溢れた液体Lを回収し、一方では液浸領域AR2に向けて液体Lを供給する。これにより、液浸領域AR2の液体Lの不足を補い、常に液浸領域AR2を液体Lで満たすことができる。なお、予備液浸領域AR3が形成される領域、すなわち壁部80に囲まれた領域は、全領域が完全に液体Lで満たされていないので、液浸領域AR2から予備液浸領域AR3に回収された液体Lが壁部80の外側に漏れだすことなく、壁部80に囲まれた領域内に留まることができる。
そして、更に、ウエハWの移動方向が反転した場合等には、予備液浸領域AR3に回収された液体Lが液浸領域AR2に戻され、一方、液浸領域AR2の液体Lが予備液浸領域AR3に戻されるように移動する。また、ウエハWが非走査方向に往復移動する場合や、走査方向の移動と非走査方向の移動を繰り返すような場合であっても、同様に液体Lは、液浸領域AR2と予備液浸領域AR3との間で行き来して、常に液浸領域AR2を液体Lで満たすことができる。
このように、液浸領域AR2の外周に更に予備液浸領域AR3を設けることにより、ウエハWの移動に伴う液浸領域AR2の液体Lの不足を容易かつ確実に回避して、液浸領域AR2を常に液体Lで満たすことができる。また、ウエハWの移動方向が変化しても、液浸領域AR2と予備液浸領域AR3に配置された液体Lが互いに液浸領域AR2と予備液浸領域AR3との間を行き来して、常に投影光学系PLの下面PLaを液体Lで満たし、露光光ELの波長を一定に維持することができる。これにより、露光不良の発生を防止できる。
したがって、従来の露光装置のように、ウエハWの移動方向や速度に応じて、複数の供給口から供給する液体Lの流量を供給口毎に個別に制御する等の特別な処理を行う必要がなくなり、制御装置CONTへの負担を少なくすることができ、露光装置EXの設備コストを抑えることができる。
このように、液体Lの供給量を回収量よりも多くすることができると、従来の露光装置の場合のように、液浸領域AR2からの液漏れ及び液体不足を防止するために供給量と回収量とを厳密に略一定に制御する必要がなくなり、制御装置CONTへの負担が少なくなる。
したがって、露光装置EXにおいては、液体Lの供給量が回収量を下回らないことに注意しつつ、露光処理に伴う液体Lの温度上昇が所定範囲内となるように最低限の流量制御を行えばよく、露光装置EXの制御(運転)が容易化できる。
また、ウエハWに傷等があると、このウエハW上に液体Lが供給された際に、液体L内に気泡が発生する場合がある。そして、ウエハWの移動に伴って、この気泡が液浸領域AR2に達すると、露光に影響を与える可能性がある。しかしながら、本実施形態によると、気泡が予備液浸領域AR3の外側に位置する場合では、ウエハWの移動に伴ってウエハWに生じた気泡が液浸領域AR2に向かってきても、その手前に位置する予備液浸領域AR3で気泡を補足することができる。そのため、気泡の液浸領域AR2への侵入を阻止でき、露光への影響を回避することができる。
そして、波長が193nm程度の露光光ELに対する純水(水)の屈折率nはほぼ1.47であるため、露光光ELの光源としてArFエキシマレーザ光(波長193nm)を用いた場合には、ウエハW上では1/n、すなわち約131nmに短波長化されて高い解像度が得られる。更に、焦点深度は空気中に比べて約n倍、すなわち約1.47倍に拡大されるため、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できればよい場合には、投影光学系PLの開口数をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。
なお、図6は溝部70の変形例を示す図、図7A及び7Bは壁部80の変形例を示す図、図8A及び8Bは供給ノズル14を壁部80の外周に配置した例を示す図、図9A及び9Bは予備液浸領域AR3を形成する壁部80等を複数設けた例を示す図である。
例えば、非走査方向のウエハWの移動速度が走査方向の移動速度に比べて高速の場合には、図6に示すように、走査方向の溝部70の幅を非走査方向の幅よりも大きくしてもよい。
また、略円環形の壁部80に替えて、図7Bに示すように、略円環形に配置された複数の突起部(液体保持部)90を形成してもよい。各突起部90の間隔が十分に狭ければ、液体Lの表面張力により液体Lを保持することができるからである。
また、図示しないが、供給口13及び回収口23を壁部80の下面80aに設けてもよい。
この場合、隣り合う溝部70同士の間にある壁部80の下面80aの幅を広く(面積を大きく)すると、液浸領域AR2での液体Lの保持に有用である。
その際、複数の壁部80における各下面80aの幅は全て等しくする必要はなく、例えば、内側の壁の下面の幅を広くしてもよいし、その逆の関係にしてもよい。
さらに、各壁部80は、その壁面がウエハWの表面と垂直になるように形成される必要はなく、ウエハWの表面と交差するような傾きをもった面であってもよい。
なお、図9A及び9Bに示すように、液体Lを供給する供給口13を最も内側の溝部70の底面70bに設け、一方、液体Lを回収する回収口23を2つめの溝部70の底面70bに設けるようにしてもよい。このように、供給口13及び回収口23の配置、数等は、適宜、変更可能である。
光学素子2を平行平面板とすることにより、露光装置EXの運搬、組立、調整時等において投影光学系PLの透過率、ウエハW上での露光光ELの照度、及び照度分布の均一性を低下させる物質(例えばシリコン系有機物等)がその平行平面板に付着しても、液体Lを供給する直前にその平行平面板を交換するだけでよく、液体Lと接触する光学素子をレンズとする場合に比べてその交換コストが低くなるという利点がある。すなわち、露光光ELの照射によりレジストから発生する飛散粒子、または液体L中の不純物の付着などに起因して液体Lに接触する光学素子の表面が汚れるため、その光学素子を定期的に交換する必要があるが、この光学素子を安価な平行平面板とすることにより、レンズに比べて交換部品のコストが低く、且つ交換に要する時間を短くすることができ、メンテナンスコスト(ランニングコスト)の上昇やスループットの低下を抑えることができる。
また、液体Lとしては、その他にも、露光光ELに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系PLやウエハW表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの(例えばセダー油)を用いることも可能である。この場合も表面処理は用いる液体Lの極性に応じて行われる。
さらに、上述の実施形態では、投影光学系PLと基板Pとの開に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置や、ステージ上に所定深さの液体槽を形成しその中に基板を保持する液浸露光装置にも本発明を適用可能である。露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置の構造及び露光動作については、例えば、特開平6−124873号公報に、ステージ上に所定深さの液体槽を形成してその中に基板を保持する液浸露光装置については、例えば特開平10−303114号公報や米国特許第5,825,043号にそれぞれ開示されている。本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令で許される限りにおいて、上記公報または米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
また、本発明は、特開平11−135400号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種の計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令で許される限りにおいて、上記公報における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
また、上述の液浸法を適用した露光装置は、投影光学系PLの終端光学部材の射出側の光路空間を液体(純水)で満たしてウエハW(基板P)を露光する構成になっているが、国際公開第2004/019128号パンフレットに開示されているように、投影光学系の終端光学部材の入射側の光路空間も液体(純水)で満たすようにしてもよい。本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令で許される限りにおいて、上記パンフレットにおける開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
また、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、微細なライン・アンド・スペースパターン(例えば25〜50nm程度のL/S)を基板P上に露光するような場合、マスクMの構造(例えばパターンの微細度やクロムの厚み)によっては、Wave guide 効果によりマスクMが偏光板として作用し、コントラストを低下させるP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりS偏光成分(TE偏光成分)の回折光が多くマスクから射出されるようになる。この場合も、上述したような直線偏光照明を用いるのが望ましいが、ランダム偏光光でマスクMを照明しても、開口数NAが0.9〜1.3のように大きい投影光学系を使って高い解像性能を得ることができる。
また、マスクM上の極微細なライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合には、Wire Grid効果によりP偏光成分(TM偏光成分)がS偏光成分(TE偏光成分)よりも大きくなる可能性もあるが、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系を使って、25nmより大きいライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような条件であれば、S偏光成分(TE偏光成分)の回折光がP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりも多くマスクから射出されるので、投影光学系の開口数NAが0.9〜1,3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。
さらに、マスク(レチクル)のラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明(S偏光照明)だけでなく、光軸を中心とした円の接線(周)方向に直線偏光する偏光照明法と斜入射照明法との組み合わせも効果的である。特に、マスク(レチクル)のパターンが所定の一方向に延びるラインパターンだけでなく、複数の異なる方向に延びるラインパターンが混在する場合には、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法とを併用することによって、投影光学系の開口数NAが大きい場合でも高い結像性能を得ることができる。
Claims (28)
- 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介して前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置において、
前記液浸領域の外周に、前記基板上に液体の一部を保持可能な予備液浸領域が形成されることを特徴とする露光装置。 - 投影光学系を有し、該投影光学系と前記基板との間に位置する液体及び前記投影光学系を介して前記基板の露光を行うことで前記所定のパターンを形成し、
前記液浸領域及び前記予備液浸領域の液体は、前記投影光学系と前記基板とが相対移動した際に、相対移動の方向に応じて、それぞれの領域の液体の一部が他方の領域に移動することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記予備液浸領域の液体は、前記液浸領域の外周に所定の間隔を空けて設けられた液体保持部により保持されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記液体保持部は、前記投影光学系の下面に形成された略円環形の溝部の外周に設けられることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部は、略円環形の壁部からなることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部は、略円環形に配置された複数の突起部からなることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部は、弾性材料により形成されることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部が複数設けられることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部には、親液性領域が形成されることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記液体保持部の外周に前記液体を回収する液体回収部が設けられることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記溝部の底面に前記液体を回収する液体回収部が設けられることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 基板と投影光学系との間を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板上にパターン像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の投影領域を含み、露光動作中は常に前記液体で満たされる液浸領域と、前記液浸領域の外周に設けられた予備液浸領域と、を備え、
前記予備液浸領域は、前記露光中、前記液体が存在する第1領域と前記液体が存在しない第2領域が形成されるとともに、前記露光動作に伴って前記予備液浸領域内における前記第1領域と前記第2領域の位置が変化することを特徴とする露光装置。 - 投影光学系の投影領域を含む基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記基板との間に位置する液体及び前記投影光学系を介してパターン像を前記基板上に投影して、前記基板を露光する露光方法において、
前記液浸領域の外周に形成された予備液浸領域に、前記基板上に供給された液体の一部を配置する工程を有することを特徴とする露光方法。 - 前記予備液浸領域に前記液体の一部を配置する工程は、前記基板の露光に先立って行われることを特徴とする請求項13に記載の露光方法。
- 前記液浸領域及び前記予備液浸領域に前記液体を供給及び回収する工程を含み、
前記液浸領域及び前記予備液浸領域に供給される液体量は、回収される液体量よりも多いことを特徴とする請求項13に記載の露光方法。 - 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介してパターン像を前記基板上に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記液浸領域は、前記パターン像が投影される領域を含む第1領域と、該第1領域に隣接し、該第1領域との間で前記液体が相互に移動可能な第2領域と、を含むことを特徴とする露光装置。 - 前記第2領域が前記第1領域の周囲に形成されるとともに、露光の際に前記基板が移動する方向に応じて前記第2領域で保持する液体の量が変化することを特徴とする請求項16記載の露光装置。
- 前記第1領域と前記第2領域との境界を規定する第1の液体保持部と、前記第1領域とは接しない側で前記第2領域を規定する第2の液体保持部と、を備えることを特徴とする請求項16記載の露光装置。
- 前記第1の液体保持部と前記第2の液体保持部の少なくともー方は、前記基板の表面と交差する方向に延びた第1の面と、該第1の面と接し、前記基板と対向する第2の面とを含むことを特徴とする請求項18記載の露光装置。
- 前記第1の液体保持部と前記第2の液体保持部は、前記第2領域が前記第1領域の周囲に形成されるとともに、露光の際に前記基板が移動する方向に応じて前記第2領域で保持される液体の量が規定されるように配置されていることを特徴とする請求項18記載の露光装置。
- 前記液体は、前記第2の液体保持部で気体と接していることを特徴とする請求項18記載の露光装置。
- 前記基板と対向するように配置される液体保持部材を備え、
前記液体保持部材は、前記第1の液体保持部と前記第2の液体保持部とを含むとともに、前記第1の液体保持部と前記第2の液体保持部との間で前記基板と対向する面に形成された溝部を有することを特徴とする請求項18記載の露光装置。 - 前記第1の液体保持部と前記第2の液体保持部との距離は、前記基板と前記液体保持部材との間の距離の5倍以上に設定されていることを特徴とする請求項22記載の露光装置。
- 前記液体保持部材には、前記液浸領域に液体を供給する液体供給口または前記液浸領域から前記液体を回収する液体回収部の少なくとも一方が設けられていることを特徴とする請求項22記載の露光装置。
- 前記液体供給口と前記液体回収部の少なくとも一方は、前記溝部に設けられていることを特徴とする請求項24記載の露光装置。
- 基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介してパターン像を前記基板上に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記液浸領域を形成するための液体保持部材を備え、
前記液浸領域は、露光時に常に液体が保持される第1領域と、露光時に前記液浸保持部材との間で相対移動可能な第2領域とを含むことを特徴とする露光装置。 - 前記液浸領域は、前記液体保持部材と前記液体との接触部によって規定され、前記第2領域の液体は前記接触部の周囲で気体と接していることを特徴とする請求項26記載の露光装置。
- リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程に請求項1から請求項12並びに請求項16から請求項27のうちいずれか一項に記載の露光装置、或いは請求項13から請求項15のうちいずれか一項に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
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