JP4902505B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Claims (24)
- パターニングデバイスからのパターンを液体を通して基板上へ投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、
前記液体を前記基板に隣接する空間に少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込めシステムを備え、
前記液体閉じ込めシステムが、前記空間の周囲に互いにある距離だけ離間して配置された複数の出口を備え、
前記出口は、前記空間における液体と前記空間の外側の環境におけるガスとを吸引することによって前記空間の外側から当該出口へ向かうガス流を発生させ、当該出口に吸引されずに残留する前記液体を前記発生させたガス流によって前記空間に少なくとも部分的に閉じ込めるように配置されている、リソグラフィ投影装置。 - 前記出口がそれぞれ、別個の低圧源に接続される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口の少なくとも2つが、使用時に低圧に保持される共通チャンバーに接続される、請求項1に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、使用時に前記基板に面する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、前記基板に実質的に直角である縦軸を有する細長い通路の出口である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、使用時に前記基板に面し且つ前記基板の上面に実質的に平行である前記液体閉じ込めシステムの表面に形成される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムが、使用時に、前記出口の半径方向内側および/または外側への任意のメニスカスをくぎ付けにする形体を実質的に含まない、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、平面図で実質的に円形、正方形、長方形または三角形である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、その最大平面寸法の0.25から10倍だけ、平面図で相互から離間される、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口が、平面図で1から0.05の縦横比を有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
- 前記出口が、平面図で多角形を形成するように相互に対して配置される、請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- 前記多角形の主軸が、前記基板の主要移動方向に対して実質的に平行であるように規定される、請求項11に記載の装置。
- 前記主軸が、4/9から8/9の間の長さ比率を有する、請求項12に記載の装置。
- 長い方の主軸の長さと短い方の主軸の長さとの比率が1.2:1より大きい、請求項12に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口の半径方向外側に配置されたガスナイフを備える、請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ガスナイフが、平面図で前記出口から0.2mmから3.0mmの間の距離に配置される、請求項15に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口の半径方向外側に配置されたガス入口を備える、請求項1〜16のいずれか1項に記載の装置。
- 使用時に液体閉じ込めシステムの前記基板に面する底面が、前記出口の半径方向外側に前記基板からの距離の階段状変化を備える、請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置。
- 前記高さの階段状変化が、前記出口から0.2mmから10.0mmの間にて生じる、請求項18に記載の装置。
- 前記液体閉じ込めシステムがさらに、前記出口が配置された平面形状の隅部に隣接して配置された少なくとも1つのさらなる出口を備える、請求項1〜19のいずれか1項に記載の装置。
- パターニングデバイスからのパターンを基板に投影する投影システムを有するリソグラフィ投影装置であって、
液体を前記投影システムと前記基板の間の空間に少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込め構造を備え、
前記液体閉じ込め構造が、前記空間の周囲に互いにある距離だけ離間して配置された複数の出口を備え、
前記出口は、前記空間における液体と前記空間の外側の環境におけるガスとを吸引することにより、前記空間の外側から当該出口に向かうガス流を発生させ、当該出口に吸引されずに残留する前記液体のメニスカスを前記発生させたガス流によって前記空間内に実質的にくぎ付けするように配置されている、リソグラフィ投影装置。 - 前記出口がそれぞれ、別個の低圧源に取り付けられる、請求項21に記載の装置。
- 前記出口がそれぞれ、2相の実質的に環状の流れが前記出口を通って出るように成形される、請求項21又は22に記載の装置。
- パターニングされた放射ビームを、基板に隣接する空間に設けられた液体を通して基板に投影し、
前記空間の周囲に互いにある距離だけ離間して配置された複数の出口を通して前記空間における液体と前記空間の外側の環境におけるガスとを吸引することにより、前記空間の外側から当該出口へ向かうガス流を発生させ、当該発生させたガス流を使用して、隣接する前記出口の間で当該出口に吸引されずに残留する前記液体のメニスカスを実質的にくぎ付けすることによって、前記液体を前記空間に少なくとも部分的に閉じ込める、ことを含むデバイス製造方法。
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