JPS6410592B2 - - Google Patents
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- JPS6410592B2 JPS6410592B2 JP59201423A JP20142384A JPS6410592B2 JP S6410592 B2 JPS6410592 B2 JP S6410592B2 JP 59201423 A JP59201423 A JP 59201423A JP 20142384 A JP20142384 A JP 20142384A JP S6410592 B2 JPS6410592 B2 JP S6410592B2
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-
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-
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- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は銅板に連続的にめつきを施す装置、よ
り詳細に言えば、溶融めつきと真空蒸着めつきの
何れをも実施することのできる兼用の連続めつき
装置に関する。
り詳細に言えば、溶融めつきと真空蒸着めつきの
何れをも実施することのできる兼用の連続めつき
装置に関する。
従来の技術
鋼板の表面に亜鉛、アルミニウムなどの金属を
めつきする方法には、溶融めつき法と電気めつき
法と真空蒸着めつき法がある。このうち、電気め
つき法は電気を使用するものであつて、本発明の
対象外である。一般に広く採用されている溶融め
つき法では、通常、鋼帯を約700℃の温度に加熱
し、鋼帯表面を水素含有ガス雰囲気（通常水素と
窒素の混合ガス）中で還元して活性化すると同時
に鋼帯を焼鈍した後に、鋼帯を溶融めつき浴中に
浸漬してめつきを施す。めつき量の制御は通常ガ
スワイピング法、すなわち、浸漬直後に鋼帯表面
に付着した溶融金属膜に複数のノズルから空気な
どの気体を吹きつけ、その際にガス流量、ガス圧
力、ノズルと鋼帯の距離などを調整して行なわれ
ている。しかし、溶融めつき法には次のような問
題がある。
めつきする方法には、溶融めつき法と電気めつき
法と真空蒸着めつき法がある。このうち、電気め
つき法は電気を使用するものであつて、本発明の
対象外である。一般に広く採用されている溶融め
つき法では、通常、鋼帯を約700℃の温度に加熱
し、鋼帯表面を水素含有ガス雰囲気（通常水素と
窒素の混合ガス）中で還元して活性化すると同時
に鋼帯を焼鈍した後に、鋼帯を溶融めつき浴中に
浸漬してめつきを施す。めつき量の制御は通常ガ
スワイピング法、すなわち、浸漬直後に鋼帯表面
に付着した溶融金属膜に複数のノズルから空気な
どの気体を吹きつけ、その際にガス流量、ガス圧
力、ノズルと鋼帯の距離などを調整して行なわれ
ている。しかし、溶融めつき法には次のような問
題がある。
(1) ガスワイピング法では付着量の制御は、現在
の技術では約30ｇ／m2以下の薄めつきは困難で
ある。このため、薄めつきの亜鉛めつき鋼板は
電気めつき法で製造されている。
の技術では約30ｇ／m2以下の薄めつきは困難で
ある。このため、薄めつきの亜鉛めつき鋼板は
電気めつき法で製造されている。
(2) めつき浴に鋼帯を浸漬してめつきを施すため
に、両面めつき鋼帯を製造することは容易であ
るが、片面めつき鋼帯と差厚めつき鋼帯の製造
は困難である。片面めつき鋼帯は両面めつきし
てから片面のめつき金属を研削して除去する方
法と、めつき前に鋼帯の片面にめつき阻止剤を
塗布し、これをめつき後に除去する方法などが
あるが、いずれの方法を複雑であり軟経済的に
も不利である。差厚めつきはガスワイピング法
で気体吹きつけ条件を変化させて付着量に差を
付けようとしても、鋼帯の振動もあり、鋼帯と
ノズルの間隔の調整が完全に制御できないため
に容易に実施し難い。
に、両面めつき鋼帯を製造することは容易であ
るが、片面めつき鋼帯と差厚めつき鋼帯の製造
は困難である。片面めつき鋼帯は両面めつきし
てから片面のめつき金属を研削して除去する方
法と、めつき前に鋼帯の片面にめつき阻止剤を
塗布し、これをめつき後に除去する方法などが
あるが、いずれの方法を複雑であり軟経済的に
も不利である。差厚めつきはガスワイピング法
で気体吹きつけ条件を変化させて付着量に差を
付けようとしても、鋼帯の振動もあり、鋼帯と
ノズルの間隔の調整が完全に制御できないため
に容易に実施し難い。
これに対して、真空蒸着めつき法には、
(1) 今日の連続真空蒸着めつき法では鋼帯の各面
に金属蒸気を別々に蒸着させることができるか
ら、両面めつき、片面めつきがいずれも容易に
行なえる。また、両面にめつきを施す場合に
は、各面のめつき条件を変えることにより容易
に差厚めつきを施すことができる。
に金属蒸気を別々に蒸着させることができるか
ら、両面めつき、片面めつきがいずれも容易に
行なえる。また、両面にめつきを施す場合に
は、各面のめつき条件を変えることにより容易
に差厚めつきを施すことができる。
(2) 薄めつきを高速で行なうことができる。
といつた利点があるが、溶融めつき法によつて得
られるような両面の厚めつきは困難である。これ
は蒸着金属が鋼帯に付着する時の凝固熱により、
鋼帯温度が上昇し、相互拡散によつて鋼とめつき
金属が合金化して、めつき鋼帯の加工性が損なわ
れるからである。例えば板厚0.3mm、基板温度250
℃の鋼帯の両面に亜鉛を100ｇ／m2（片面当り）
蒸着すると亜鉛蒸気の凝固熱によつて鋼帯温度は
約300℃上昇して約550℃にもなり、鋼と亜鉛の合
金化を生ずる。（薄めつきではこれほど温度は上
がらない。） 従つて、製品に応じて、溶融めつき法と真空蒸
着めつき法を適宜選択使用しなければならない。
今日のところ、その為の装置は全く別のものであ
つて、別の場所に設置されている。もしこれが一
つの装置にまとめられて適宜切り換え使用できる
ならば、生産性の大きな向上に連なる。
られるような両面の厚めつきは困難である。これ
は蒸着金属が鋼帯に付着する時の凝固熱により、
鋼帯温度が上昇し、相互拡散によつて鋼とめつき
金属が合金化して、めつき鋼帯の加工性が損なわ
れるからである。例えば板厚0.3mm、基板温度250
℃の鋼帯の両面に亜鉛を100ｇ／m2（片面当り）
蒸着すると亜鉛蒸気の凝固熱によつて鋼帯温度は
約300℃上昇して約550℃にもなり、鋼と亜鉛の合
金化を生ずる。（薄めつきではこれほど温度は上
がらない。） 従つて、製品に応じて、溶融めつき法と真空蒸
着めつき法を適宜選択使用しなければならない。
今日のところ、その為の装置は全く別のものであ
つて、別の場所に設置されている。もしこれが一
つの装置にまとめられて適宜切り換え使用できる
ならば、生産性の大きな向上に連なる。
発明が解決しようとする問題
連続溶融めつき装置と連続真空蒸着めつき装置
の統合はガス還元焼鈍型連続めつき装置のガス還
元焼鈍炉を連続真空めつき装置の真空蒸着室に結
合すれば達成される。しかし、ガス還元焼鈍型連
続溶融めつき装置の還元焼鈍炉と連続真空蒸着め
つき装置の真空室を直結すると、ガス還元焼鈍炉
よりの水素を含有するガスを真空ポンプで吸引す
ることになり、万一真空が破られて真空室内に空
気が侵入すると爆発を起す危険がある。本発明は
これを解決して連続溶融めつき装置と連続真空蒸
着めつき装置を統合するものである。
の統合はガス還元焼鈍型連続めつき装置のガス還
元焼鈍炉を連続真空めつき装置の真空蒸着室に結
合すれば達成される。しかし、ガス還元焼鈍型連
続溶融めつき装置の還元焼鈍炉と連続真空蒸着め
つき装置の真空室を直結すると、ガス還元焼鈍炉
よりの水素を含有するガスを真空ポンプで吸引す
ることになり、万一真空が破られて真空室内に空
気が侵入すると爆発を起す危険がある。本発明は
これを解決して連続溶融めつき装置と連続真空蒸
着めつき装置を統合するものである。
問題解決の手段
ガス還元型焼鈍連続溶融めつき装置の出口側に
ガス還元焼鈍炉のガス圧より高い圧力を維持でき
る賦圧室を設けることによつて上記の問題は解決
される。
ガス還元焼鈍炉のガス圧より高い圧力を維持でき
る賦圧室を設けることによつて上記の問題は解決
される。
発明の構成
本発明によれば、ガス還元焼鈍型連続溶融めつ
き装置のガス還元焼鈍炉の出口と連続真空蒸着め
つき装置のシールロール室の入口を賦圧室を介し
て結合したことを特徴とする溶融めつき真空蒸着
めつき兼用の連続めつき装置が提供される。
き装置のガス還元焼鈍炉の出口と連続真空蒸着め
つき装置のシールロール室の入口を賦圧室を介し
て結合したことを特徴とする溶融めつき真空蒸着
めつき兼用の連続めつき装置が提供される。
好ましくは、賦圧室は離脱可能に取り付けられ
る。また好ましくは、ガス還元焼鈍炉と賦圧室は
離脱可能のダクト手段によつて結合される。さら
に好ましくは、賦圧室は圧力調整用逃がし弁手段
を有する。
る。また好ましくは、ガス還元焼鈍炉と賦圧室は
離脱可能のダクト手段によつて結合される。さら
に好ましくは、賦圧室は圧力調整用逃がし弁手段
を有する。
発明の具体的記載
添付第１図において、連続溶融めつき装置Ｉ
は、例えばセンジミアー型の装置と同じものであ
る。ガス還元焼鈍炉２の出口側５近くの下側にス
ナウト３が設けられ、スナウトの先端は溶融めつ
き浴に浸漬されている。そのような装置は例え
ば、「金属表面技術便覧」（日刊工業新聞社刊昭和
51年刊）の499頁に図解されて当業者間に公知で
ある。
は、例えばセンジミアー型の装置と同じものであ
る。ガス還元焼鈍炉２の出口側５近くの下側にス
ナウト３が設けられ、スナウトの先端は溶融めつ
き浴に浸漬されている。そのような装置は例え
ば、「金属表面技術便覧」（日刊工業新聞社刊昭和
51年刊）の499頁に図解されて当業者間に公知で
ある。
鋼帯１は左方の入口から連続的にガス還元焼鈍
炉に導入されて表面の酸化物が除去されて清浄に
されるとともに焼鈍されてから溶融めつき浴４に
浸漬される。
炉に導入されて表面の酸化物が除去されて清浄に
されるとともに焼鈍されてから溶融めつき浴４に
浸漬される。
連続真空蒸着めつき装置は比較的最近に開発
されたもので幾つかの様式が提案されているが、
ここに例示するものは、２つの真空蒸着室１０お
よび１０′とその各々に付属するシールロール室
９および９′と両真空蒸着室の中間にあるシール
ロール室１１からなる。真空蒸着室は図示されな
い排気管によつて排気されて減圧に保たれるとと
もに、図示されない供給源からめつき金属蒸気を
供給され、適当な手段（電気抵抗加熱手段、電子
ビーム法等）によつて加熱されている。
されたもので幾つかの様式が提案されているが、
ここに例示するものは、２つの真空蒸着室１０お
よび１０′とその各々に付属するシールロール室
９および９′と両真空蒸着室の中間にあるシール
ロール室１１からなる。真空蒸着室は図示されな
い排気管によつて排気されて減圧に保たれるとと
もに、図示されない供給源からめつき金属蒸気を
供給され、適当な手段（電気抵抗加熱手段、電子
ビーム法等）によつて加熱されている。
図示の装置では２つの真空蒸着室は上下に配置
されている。しかし２つの真空蒸着室は第２蒸着
室が上方になるように配置してもよいし、水平に
配置することもできる。また両面めつきを考慮し
なくてよい場合、すなわち片面のみをめつきする
場合は真空蒸着室は１つでよい。
されている。しかし２つの真空蒸着室は第２蒸着
室が上方になるように配置してもよいし、水平に
配置することもできる。また両面めつきを考慮し
なくてよい場合、すなわち片面のみをめつきする
場合は真空蒸着室は１つでよい。
シールロール室は真空蒸着室の真空を保つたま
ま鋼帯を導入または導出するためのもので、例え
ば第２図および第３図に図解されているような形
式のものでよい。第２図はシールロール室の縦断
面図である。この場合、シールロール表９は長方
形断面の長い箱であつて、その側壁に支持された
１対のピンチロール９１と、シール隔壁９３と、
真空排気管９８を有する、複数個の単位ケーシン
グ９０からなる。
ま鋼帯を導入または導出するためのもので、例え
ば第２図および第３図に図解されているような形
式のものでよい。第２図はシールロール室の縦断
面図である。この場合、シールロール表９は長方
形断面の長い箱であつて、その側壁に支持された
１対のピンチロール９１と、シール隔壁９３と、
真空排気管９８を有する、複数個の単位ケーシン
グ９０からなる。
シール隔壁９３は、図示のものは樋型をしてお
り、その縁がピンチロール９１に可乃的に近接す
るように設けられている。その部分に蒸着金属の
析出（蒸着）を避けるために加熱手段９２を設け
てもよい。同様の目的でピンチロールにも加熱手
段を設けてもよい。
り、その縁がピンチロール９１に可乃的に近接す
るように設けられている。その部分に蒸着金属の
析出（蒸着）を避けるために加熱手段９２を設け
てもよい。同様の目的でピンチロールにも加熱手
段を設けてもよい。
シールロールの両端は例えば、第３図のように
構成されている。ロールに回転軸９１ａはケーシ
ングの側壁を貫通して外側に延び、軸シール９９
を有する軸受に支承されている。軸シールにはパ
ツキング材が使用されている。ロールの端面とケ
ーシングの間には、側板９４がケーシング壁に支
持されるスプリング９５によつてロールの端面に
弾接されており、可及的に気密を保つようになつ
ている。なお側板は金属でも良いが、温度が高く
なる場合には、カーボン或いはカーボン繊維等が
好ましい。
構成されている。ロールに回転軸９１ａはケーシ
ングの側壁を貫通して外側に延び、軸シール９９
を有する軸受に支承されている。軸シールにはパ
ツキング材が使用されている。ロールの端面とケ
ーシングの間には、側板９４がケーシング壁に支
持されるスプリング９５によつてロールの端面に
弾接されており、可及的に気密を保つようになつ
ている。なお側板は金属でも良いが、温度が高く
なる場合には、カーボン或いはカーボン繊維等が
好ましい。
このような単位ケーシング９０を複数個連ねる
ことにより、漏れを可及的に阻止することができ
る。
ことにより、漏れを可及的に阻止することができ
る。
真空蒸着室１０，１０′と中間シールロール室
１１の気密保持装置も同様に構成されている。
１１の気密保持装置も同様に構成されている。
鋼帯１はール室９を通つて第１の真空蒸着室１
０に入り、ここでその上面をめつきされ、次いで
第２の真空蒸着室１０′に入り、下面をめつきさ
れて、シールロール室９′を通つて外に出る。
０に入り、ここでその上面をめつきされ、次いで
第２の真空蒸着室１０′に入り、下面をめつきさ
れて、シールロール室９′を通つて外に出る。
本発明は上に述べたような連続溶融めつき装置
と連続真空蒸着めつき装置を賦圧室７を介して連
結することを特徴とする。賦圧室は、好ましくは
離脱可能で、さらに好ましくは、図示されている
ように、離脱可能の連結ダクト６によつてガス還
元焼鈍炉の出口に結合され、かつ図示されていな
い圧力調整弁を備えた気密の箱であつて、窒素あ
るいはアルゴンなどの不活性ガスを導入してガス
還元焼鈍炉内の圧力よりも高く賦圧されている。
このガスの一部はガス還元焼鈍炉側に流れ、他の
一部はシールロール室に流れ、余剰のガスは圧力
調整弁から大気中に放出される。
と連続真空蒸着めつき装置を賦圧室７を介して連
結することを特徴とする。賦圧室は、好ましくは
離脱可能で、さらに好ましくは、図示されている
ように、離脱可能の連結ダクト６によつてガス還
元焼鈍炉の出口に結合され、かつ図示されていな
い圧力調整弁を備えた気密の箱であつて、窒素あ
るいはアルゴンなどの不活性ガスを導入してガス
還元焼鈍炉内の圧力よりも高く賦圧されている。
このガスの一部はガス還元焼鈍炉側に流れ、他の
一部はシールロール室に流れ、余剰のガスは圧力
調整弁から大気中に放出される。
賦圧室はガス還元焼鈍炉（連結ダクト）及び真
空蒸着めつき装置（シールロール室）と適当なパ
ツキング材料を介してボルトないしクランプで固
定することによつて結合される。この装置が、例
えば、第２の真空蒸着室が第１真空蒸着室の上方
に設けられ、溶融めつきを終つた鋼帯が上方では
なく右方に引き出せるように設計されるならば、
賦圧室は必ずしも離脱可能である必要はない。
空蒸着めつき装置（シールロール室）と適当なパ
ツキング材料を介してボルトないしクランプで固
定することによつて結合される。この装置が、例
えば、第２の真空蒸着室が第１真空蒸着室の上方
に設けられ、溶融めつきを終つた鋼帯が上方では
なく右方に引き出せるように設計されるならば、
賦圧室は必ずしも離脱可能である必要はない。
本発明の装置は以上述べたように構成されてい
るので、ガス還元焼鈍炉から真空蒸着装置への水
素を含む気体の流入がなく、万一真空蒸着装置の
真空が破れて空気の流入が起つても、爆発の危険
は全くない。
るので、ガス還元焼鈍炉から真空蒸着装置への水
素を含む気体の流入がなく、万一真空蒸着装置の
真空が破れて空気の流入が起つても、爆発の危険
は全くない。
実施態様
本発明者らが試作した装置は、実質的に第１図
に示す形状のものであつて、ガス還元焼鈍炉の全
長約25ｍ、シールロール室は全長約11ｍで７個の
単位ケーシングよりなる。全体は炭素鋼板を溶接
して構成された。連結ダクトは長さ約9.5ｍあり、
ガス還元焼鈍炉の出口側および賦圧室とは、その
フランジ部をパツキングを介してボルト止めし
た。
に示す形状のものであつて、ガス還元焼鈍炉の全
長約25ｍ、シールロール室は全長約11ｍで７個の
単位ケーシングよりなる。全体は炭素鋼板を溶接
して構成された。連結ダクトは長さ約9.5ｍあり、
ガス還元焼鈍炉の出口側および賦圧室とは、その
フランジ部をパツキングを介してボルト止めし
た。
このような装置は当業者によつて容易に製作で
きるものであるから、さらに詳細に述べる必要は
ない。
きるものであるから、さらに詳細に述べる必要は
ない。
この装置を用いて鋼帯に亜鉛めつきを施した。
鋼帯：0.6mm厚さ×300mm幅の炭素鋼
通板速度：15ｍ／min
溶融めつき
還元ガス組成：75％H2−25％N2
ガス還元焼鈍炉温度：700℃（板温）
めつき浴組成：市販蒸留亜鉛＋0.18％Al
めつき浴温度：450〜550℃
蒸着めつき
蒸着亜鉛：市販電解亜鉛
蒸着温度：460〜470℃
賦圧ガス組成：N2
賦圧室圧力：大気圧＋３〜10mmH2O
蒸着室真空度：0.01〜0.1Torr
板温：190〜280℃
最初に連続ダクトを離脱して賦圧室とガス還元
焼鈍炉を分離し、溶融亜鉛めつきを実施した。連
結ダクトが外されているので、めつき済み鋼帯は
上方へ導いて処理した。通常の溶融亜鉛めつき装
置で得られるのと同様の結果が得られた。
焼鈍炉を分離し、溶融亜鉛めつきを実施した。連
結ダクトが外されているので、めつき済み鋼帯は
上方へ導いて処理した。通常の溶融亜鉛めつき装
置で得られるのと同様の結果が得られた。
次いで連結ダクトを結合して、ガス還元焼鈍炉
と賦圧室を連結して、真空蒸着めつきに切り換え
た。この場合も単独の真空蒸着めつき装置による
のと同様の結果が得られた。
と賦圧室を連結して、真空蒸着めつきに切り換え
た。この場合も単独の真空蒸着めつき装置による
のと同様の結果が得られた。
第１図は本発明の装置の概念を示す長手方向の
断面図である。第２，３図は本発明の装置に組合
わされる連続真空蒸着装置の１例の構造を示す断
面図である。 これらの図面において、：ガス還元焼鈍型連
続溶融めつき装置、：連続真空蒸着めつき装
置、７：賦圧室、６：ダクト手段。
断面図である。第２，３図は本発明の装置に組合
わされる連続真空蒸着装置の１例の構造を示す断
面図である。 これらの図面において、：ガス還元焼鈍型連
続溶融めつき装置、：連続真空蒸着めつき装
置、７：賦圧室、６：ダクト手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガス還元焼鈍型連続溶融めつき装置のガス還
元焼鈍炉の出口と連続真空蒸着めつき装置のシー
ルロール室の入口を、上記還元炉の炉内圧力以上
で不活性ガスを導入される賦圧室を介して結合し
たことを特徴とする溶融めつき真空蒸着めつき兼
用の連続めつき装置。 ２ 特許請求の範囲第１項の装置であつて、賦圧
室が離脱可能である装置。 ３ 特許請求の範囲第２項の装置であつて、ガス
還元炉の出口と賦圧室とが離脱可能なダクト手段
により結合されている装置。 ４ 特許請求の範囲第１項または第２項の装置で
あつて、賦圧室が圧力調整用逃し弁手段を備えて
いる装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201423A JPS6179755A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 溶融めつき真空蒸着めつき兼用の連続めつき装置 |
| US06/778,386 US4643131A (en) | 1984-09-28 | 1985-09-20 | Combined continuous plating apparatus for hot-dip plating and vacuum deposition plating |
| CA000491387A CA1242316A (en) | 1984-09-28 | 1985-09-24 | Combined continuous plating apparatus for hot-dip plating and vacuum deposition plating |
| KR1019850006990A KR890002742B1 (ko) | 1984-09-28 | 1985-09-24 | 용융 도금 및 진공 증착 도금 겸용의 연속 도금장치 |
| DE8585112341T DE3564824D1 (en) | 1984-09-28 | 1985-09-27 | A combined continuous plating apparatus for hot-dip plating and vacuum deposition plating |
| EP85112341A EP0176109B1 (en) | 1984-09-28 | 1985-09-27 | A combined continuous plating apparatus for hot-dip plating and vacuum deposition plating |
| CN198585107485A CN85107485A (zh) | 1984-09-28 | 1985-10-10 | 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201423A JPS6179755A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 溶融めつき真空蒸着めつき兼用の連続めつき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179755A JPS6179755A (ja) | 1986-04-23 |
| JPS6410592B2 true JPS6410592B2 (ja) | 1989-02-22 |
Family
ID=16440832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59201423A Granted JPS6179755A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 溶融めつき真空蒸着めつき兼用の連続めつき装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4643131A (ja) |
| EP (1) | EP0176109B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6179755A (ja) |
| KR (1) | KR890002742B1 (ja) |
| CN (1) | CN85107485A (ja) |
| CA (1) | CA1242316A (ja) |
| DE (1) | DE3564824D1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0621348B2 (ja) * | 1986-07-22 | 1994-03-23 | 日新製鋼株式会社 | 合金化亜鉛メツキ鋼板とその製造法 |
| JPH0762239B2 (ja) * | 1990-09-28 | 1995-07-05 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
| US20070137653A1 (en) * | 2000-03-13 | 2007-06-21 | Wood Thomas J | Ventilation interface for sleep apnea therapy |
| TW500827B (en) | 1999-08-06 | 2002-09-01 | Sms Demag Ag | Process and installation for hot galvanizing of hot rolled steel strip |
| DE10343648A1 (de) * | 2003-06-27 | 2005-01-13 | Sms Demag Ag | Vorrichtung zur Schmelztauchbeschichtung eines Metallstranges und Verfahren zur Schmelztauchbeschichtung |
| US7518880B1 (en) | 2006-02-08 | 2009-04-14 | Bi-Link | Shielding arrangement for electronic device |
| US20100257732A1 (en) * | 2009-04-14 | 2010-10-14 | Ziberna Frank J | Shielding Arrangement for Electronic Device |
| RU2488644C2 (ru) * | 2011-10-25 | 2013-07-27 | Александр Александрович Кулаковский | Устройство для нанесения покрытия на протяженное изделие |
| CN105441656A (zh) * | 2015-12-08 | 2016-03-30 | 重庆美炽科技有限公司 | 一种热处理网带炉 |
| CN105506257A (zh) * | 2015-12-08 | 2016-04-20 | 重庆美炽科技有限公司 | 一种热处理网带炉 |
| US11384419B2 (en) * | 2019-08-30 | 2022-07-12 | Micromaierials Llc | Apparatus and methods for depositing molten metal onto a foil substrate |
| CN114015994A (zh) * | 2021-11-03 | 2022-02-08 | 合肥国轩高科动力能源有限公司 | 一种超薄复合集流体的制备方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2797476A (en) * | 1952-06-17 | 1957-07-02 | Sendzimir Tadeusz | Process and apparatus for treating metallic strips |
| NL141933B (nl) * | 1970-04-24 | 1974-04-16 | Bekaert Sa Nv | Werkwijze voor het bekleden van een langgerekt metalen voorwerp met metaal, alsmede voorwerpen bekleed volgens deze werkwijze. |
| BE792701A (ja) * | 1971-12-14 | 1973-03-30 | Arbed | |
| BE795116A (fr) * | 1972-02-08 | 1973-05-29 | Cockerill | Procede d'alimentation de bain d'evaporation |
| US4091138A (en) * | 1975-02-12 | 1978-05-23 | Sumitomo Bakelite Company Limited | Insulating film, sheet, or plate material with metallic coating and method for manufacturing same |
| US4081575A (en) * | 1976-04-30 | 1978-03-28 | Ernst Spirig | Method of flux coating metal wick |
| JPS54155128A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-06 | Nippon Steel Corp | Hot dipping apparatus |
| EP0072874B1 (en) * | 1981-08-25 | 1985-05-29 | Nippon Steel Corporation | Dual-purpose plant for producing cold rolled steel sheet and hot-dip galvanized steel sheet |
| US4438723A (en) * | 1981-09-28 | 1984-03-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multiple chamber deposition and isolation system and method |
| JPS5871366A (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-28 | Nippon Steel Corp | 冷延鋼板と溶融亜鉛メツキ鋼板の兼用製造設備 |
| US4485125A (en) * | 1982-03-19 | 1984-11-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method for continuously producing tandem amorphous photovoltaic cells |
| US4462332A (en) * | 1982-04-29 | 1984-07-31 | Energy Conversion Devices, Inc. | Magnetic gas gate |
| FR2534277A1 (fr) * | 1982-10-06 | 1984-04-13 | Maubeuge Fer | Procede de production en continu d'une bande metallique revetue et eventuellement formee |
| JPS5969142A (ja) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Toshiba Corp | 膜形成方法及び膜形成装置 |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP59201423A patent/JPS6179755A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-20 US US06/778,386 patent/US4643131A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-24 CA CA000491387A patent/CA1242316A/en not_active Expired
- 1985-09-24 KR KR1019850006990A patent/KR890002742B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-09-27 DE DE8585112341T patent/DE3564824D1/de not_active Expired
- 1985-09-27 EP EP85112341A patent/EP0176109B1/en not_active Expired
- 1985-10-10 CN CN198585107485A patent/CN85107485A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN85107485A (zh) | 1987-04-15 |
| US4643131A (en) | 1987-02-17 |
| KR890002742B1 (ko) | 1989-07-26 |
| KR860002591A (ko) | 1986-04-28 |
| EP0176109A1 (en) | 1986-04-02 |
| JPS6179755A (ja) | 1986-04-23 |
| EP0176109B1 (en) | 1988-09-07 |
| CA1242316A (en) | 1988-09-27 |
| DE3564824D1 (en) | 1988-10-13 |
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