JPH0126762Y2 - - Google Patents
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- JPH0126762Y2 JPH0126762Y2 JP10174785U JP10174785U JPH0126762Y2 JP H0126762 Y2 JPH0126762 Y2 JP H0126762Y2 JP 10174785 U JP10174785 U JP 10174785U JP 10174785 U JP10174785 U JP 10174785U JP H0126762 Y2 JPH0126762 Y2 JP H0126762Y2
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- Japan
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- plating
- chamber
- seal
- connecting duct
- seal roll
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- Expired
Links
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Landscapes
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、溶融めつきと真空蒸着めつきの何れ
をも実施することのできる連続めつき装置におい
て、該溶融めつき装置のガス還元焼鈍炉と真空蒸
着めつき装置のシール室とを連結する連結ダクト
のシール装置に関する。
をも実施することのできる連続めつき装置におい
て、該溶融めつき装置のガス還元焼鈍炉と真空蒸
着めつき装置のシール室とを連結する連結ダクト
のシール装置に関する。
(従来の技術)
鋼板の表面に亜鉛等の金属をめつきする方法に
は溶融めつき法、電気めつき法あるいは真空蒸着
めつき法がある。このうち亜鉛鋼板の製造等に現
在広く採用されているのは溶融めつき法と電気め
つき法である。ところが溶融めつき法では一般に
亜鉛等の付着量が30g/m2以下の薄めつきが困難
であり、また電気めつき法では亜鉛の付着量の増
大に伴い製造コストが著しく上昇するという欠点
がある。一方、真空蒸着めつき法は鋼帯の両面め
つき、片面めつきのいずれも容易に実施でき、か
つ薄めつきを高速で行うことができる利点がある
反面、溶融めつき法で得られるような厚めつきは
困難である。そこで製品に応じて溶融めつき法と
真空蒸着めつき法とを適宜選択できる兼用の連続
めつき装置が開発されている。
は溶融めつき法、電気めつき法あるいは真空蒸着
めつき法がある。このうち亜鉛鋼板の製造等に現
在広く採用されているのは溶融めつき法と電気め
つき法である。ところが溶融めつき法では一般に
亜鉛等の付着量が30g/m2以下の薄めつきが困難
であり、また電気めつき法では亜鉛の付着量の増
大に伴い製造コストが著しく上昇するという欠点
がある。一方、真空蒸着めつき法は鋼帯の両面め
つき、片面めつきのいずれも容易に実施でき、か
つ薄めつきを高速で行うことができる利点がある
反面、溶融めつき法で得られるような厚めつきは
困難である。そこで製品に応じて溶融めつき法と
真空蒸着めつき法とを適宜選択できる兼用の連続
めつき装置が開発されている。
上記連続めつき装置の兼用ラインでは、溶融め
つきと真空めつきとを切替えることができるよう
に溶融めつき装置のガス還元焼鈍炉と真空蒸着め
つき装置のシールロール室との間に連結ダクトが
離脱自在に設けられている。該連結ダクトは離脱
自在に装着されるようにその両端に蛇腹部が設け
られており、該蛇腹部のフランジ面が焼鈍出口の
フランジ面ないしシールロール室のフランジ面に
パツキン等を介してボルト止め等により一体に接
合されている。又、シールロール室の入口に賦圧
室が設けられる装置構成においても、該賦圧室の
フランジ面と連結ダクトのフランジ面がパツキン
等を介して同様に接合されている。
つきと真空めつきとを切替えることができるよう
に溶融めつき装置のガス還元焼鈍炉と真空蒸着め
つき装置のシールロール室との間に連結ダクトが
離脱自在に設けられている。該連結ダクトは離脱
自在に装着されるようにその両端に蛇腹部が設け
られており、該蛇腹部のフランジ面が焼鈍出口の
フランジ面ないしシールロール室のフランジ面に
パツキン等を介してボルト止め等により一体に接
合されている。又、シールロール室の入口に賦圧
室が設けられる装置構成においても、該賦圧室の
フランジ面と連結ダクトのフランジ面がパツキン
等を介して同様に接合されている。
(考案が解決しようとする問題点)
上記連続めつき装置においては、上記ガス還元
炉は水素ガスを含む雰囲気に保たれており、連結
ダクトにシール漏れが生ずると、該ガス還元炉か
ら水素ガスが上部に漏れる危険があり、また逆に
外部の酸素が水素雰囲気中に侵入すると爆発を引
き起すなど重大な問題を生ずる。更にシールロー
ル室側にシール漏れを生ずると酸素の浸入により
めつき層の品質が低下しめつき層が鋼板から剥離
し易いなどの問題を招く。このように連結ダクト
蛇腹部との接合部分は確実なシールロール状態を
保つ必要がある。そこで従来は蛇腹部のフランジ
面とガス還元焼鈍炉の出口あるいはシールロール
室、賦圧室入口のフランジ面との間にパツキン等
を介して気密を保つているが、長期間の稼動等に
より蛇腹部のネジが弛み、あるいはパツキンの劣
化ダクトや蛇腹の損傷などによりシール漏れを生
ずるおそれがある。
炉は水素ガスを含む雰囲気に保たれており、連結
ダクトにシール漏れが生ずると、該ガス還元炉か
ら水素ガスが上部に漏れる危険があり、また逆に
外部の酸素が水素雰囲気中に侵入すると爆発を引
き起すなど重大な問題を生ずる。更にシールロー
ル室側にシール漏れを生ずると酸素の浸入により
めつき層の品質が低下しめつき層が鋼板から剥離
し易いなどの問題を招く。このように連結ダクト
蛇腹部との接合部分は確実なシールロール状態を
保つ必要がある。そこで従来は蛇腹部のフランジ
面とガス還元焼鈍炉の出口あるいはシールロール
室、賦圧室入口のフランジ面との間にパツキン等
を介して気密を保つているが、長期間の稼動等に
より蛇腹部のネジが弛み、あるいはパツキンの劣
化ダクトや蛇腹の損傷などによりシール漏れを生
ずるおそれがある。
(問題解決の手段)
本考案は連結ダクトの蛇腹部外周に該蛇腹部を
被包するシール室を設け、更に好適には該シール
室に不活性ガスを充填することにより上記問題を
解決した。
被包するシール室を設け、更に好適には該シール
室に不活性ガスを充填することにより上記問題を
解決した。
(考案の構成)
本考案によれば、溶融めつき装置のガス還元焼
鈍炉と真空蒸着めつき装置のシールロール室とを
離脱自在に連結する連結ダクトのシール装置であ
つて、該連結ダクト両端の蛇腹部を被包するシー
ル室を有し、該シール室に不活性ガスが充填され
ることを特徴とする溶融めつき真空蒸着めつき兼
用の連続めつき装置における連結ダクトシール装
置が提供される。
鈍炉と真空蒸着めつき装置のシールロール室とを
離脱自在に連結する連結ダクトのシール装置であ
つて、該連結ダクト両端の蛇腹部を被包するシー
ル室を有し、該シール室に不活性ガスが充填され
ることを特徴とする溶融めつき真空蒸着めつき兼
用の連続めつき装置における連結ダクトシール装
置が提供される。
更に好ましくは、上記連結ダクトは上記シール
ロール室入口に設けた賦圧室を介して該シールロ
ール室に連結し、上記シール室の一方は該賦圧室
に接合する蛇腹部を被包することを特徴とする。
ロール室入口に設けた賦圧室を介して該シールロ
ール室に連結し、上記シール室の一方は該賦圧室
に接合する蛇腹部を被包することを特徴とする。
(考案の具体的記載)
図は、本考案に係る連結ダクトシール装置を具
えた連続めつき装置の一実施例を示し、第1図は
その概略断面図である。図示するように、該連続
めつき装置は連続溶融めつき装置と連続真空蒸
着めつき装置とが連結ダクト6を介して離脱自
在に連結されて形成されている。連続溶融めつき
装置は、例えばセンジミアー型の装置と同じも
のである。ガス還元焼鈍炉2の出口側5近くの下
側にスナウト3が設けられ、スナウト3の先端は
溶融めつき浴4に浸漬されている。
えた連続めつき装置の一実施例を示し、第1図は
その概略断面図である。図示するように、該連続
めつき装置は連続溶融めつき装置と連続真空蒸
着めつき装置とが連結ダクト6を介して離脱自
在に連結されて形成されている。連続溶融めつき
装置は、例えばセンジミアー型の装置と同じも
のである。ガス還元焼鈍炉2の出口側5近くの下
側にスナウト3が設けられ、スナウト3の先端は
溶融めつき浴4に浸漬されている。
鋼帯1は図上左方の入口から連続的にガス還元
焼鈍炉に導入され、該炉中で表面の酸化物が除去
されて清浄にされるとともに焼鈍されてから溶融
めつき浴4に浸漬される。
焼鈍炉に導入され、該炉中で表面の酸化物が除去
されて清浄にされるとともに焼鈍されてから溶融
めつき浴4に浸漬される。
連続真空蒸着めつき装置は比較的最近に開発
されたもので幾つかの様式が提案されているが、
ここに例示するものは、2つの真空蒸着室10a
および10bとその各々に付属するシールロール
室9aおよび9bと両真空蒸着室の中間にあるシ
ールロール室11からなる。真空蒸着室10a,
10bは図示されない排気管によつて排気されて
減圧に保たれるとともにその内部に蒸発槽12
a,12bが設けられ適当な手段(電気抵抗加熱
手段、電子ビーム法等)によつてめつき金属蒸気
が鋼帯1の表面に蒸着される。なお、真空蒸着室
は必要に応じ1つでよい。
されたもので幾つかの様式が提案されているが、
ここに例示するものは、2つの真空蒸着室10a
および10bとその各々に付属するシールロール
室9aおよび9bと両真空蒸着室の中間にあるシ
ールロール室11からなる。真空蒸着室10a,
10bは図示されない排気管によつて排気されて
減圧に保たれるとともにその内部に蒸発槽12
a,12bが設けられ適当な手段(電気抵抗加熱
手段、電子ビーム法等)によつてめつき金属蒸気
が鋼帯1の表面に蒸着される。なお、真空蒸着室
は必要に応じ1つでよい。
シールロール室は鋼帯1の導入または導出の
際、真空蒸着室の真空を保つためのものであり、
例えば内部にシール隔壁、ピンチロール等が配設
される。更に好ましくは上記シールロール室9a
の入口には賦圧室7が設けられる。該賦圧室7は
図示されていない圧力調整弁を具えた気密性のあ
る箱状の部材であり、窒素あるいはアルゴンなど
の不活性ガスを導入し、ガス還元焼鈍炉2の内部
圧力より高く賦圧されている。
際、真空蒸着室の真空を保つためのものであり、
例えば内部にシール隔壁、ピンチロール等が配設
される。更に好ましくは上記シールロール室9a
の入口には賦圧室7が設けられる。該賦圧室7は
図示されていない圧力調整弁を具えた気密性のあ
る箱状の部材であり、窒素あるいはアルゴンなど
の不活性ガスを導入し、ガス還元焼鈍炉2の内部
圧力より高く賦圧されている。
上記賦圧室7とガス還元焼鈍炉2とを連結する
連結ダクト6の両端には第2図に示すように蛇腹
部6aが設けられ、該蛇腹部6aの先端外周には
接合用のフランジ6bが設けられている。該フラ
ンジ6bには適当数のボルト孔が穿設されてお
り、パツキン15を介してガス還元焼鈍炉2のフ
ランジ面2aと賦圧室7のフランジ面7aとが一
体にボルト止めされる。上記連結ダクト両端の蛇
腹部6aの外側にはシール室13を形成するカバ
ー13aが設けられる。該カバー13aはガス還
元焼鈍炉側と賦圧室側との両方に夫々配設されて
おり、該カバー13aにより蛇腹部6aを被包す
るシール室13が連結ダクト6の両端外周に形成
される。該カバー13aは第3図に示すように略
コ字形の断面形状をなし、各蛇腹部を囲むように
環状に形成されている。尚この場合、該カバー1
3aの連結ダクト6への着脱が容易であるように
該カバー13aの全体を径方向に2分割するなど
適宜の個数に分割できるように形成するとよい。
更に、該シール室13に窒素、アルゴンガスなど
の不活性ガスを充填する供給管14が上記カバー
13aに接続される。該不活性ガスの供給源は上
記賦圧室7と共通にしてもよく、又、独立に設け
てもよい。該カバー13aの幅は蛇腹部6aより
幅広に形成され、該カバー13aの両端13bは
ガス焼鈍炉2および賦圧室7のダクト外周面にほ
ぼ当接し、シール室13の内部が気密に保たれ
る。尚、該シール室13の気密は厳密に保持され
なくても、内部の不活性ガスの賦圧によりシール
室外部の空気が浸入しなければよい。
連結ダクト6の両端には第2図に示すように蛇腹
部6aが設けられ、該蛇腹部6aの先端外周には
接合用のフランジ6bが設けられている。該フラ
ンジ6bには適当数のボルト孔が穿設されてお
り、パツキン15を介してガス還元焼鈍炉2のフ
ランジ面2aと賦圧室7のフランジ面7aとが一
体にボルト止めされる。上記連結ダクト両端の蛇
腹部6aの外側にはシール室13を形成するカバ
ー13aが設けられる。該カバー13aはガス還
元焼鈍炉側と賦圧室側との両方に夫々配設されて
おり、該カバー13aにより蛇腹部6aを被包す
るシール室13が連結ダクト6の両端外周に形成
される。該カバー13aは第3図に示すように略
コ字形の断面形状をなし、各蛇腹部を囲むように
環状に形成されている。尚この場合、該カバー1
3aの連結ダクト6への着脱が容易であるように
該カバー13aの全体を径方向に2分割するなど
適宜の個数に分割できるように形成するとよい。
更に、該シール室13に窒素、アルゴンガスなど
の不活性ガスを充填する供給管14が上記カバー
13aに接続される。該不活性ガスの供給源は上
記賦圧室7と共通にしてもよく、又、独立に設け
てもよい。該カバー13aの幅は蛇腹部6aより
幅広に形成され、該カバー13aの両端13bは
ガス焼鈍炉2および賦圧室7のダクト外周面にほ
ぼ当接し、シール室13の内部が気密に保たれ
る。尚、該シール室13の気密は厳密に保持され
なくても、内部の不活性ガスの賦圧によりシール
室外部の空気が浸入しなければよい。
(考案の効果)
以上説明したように、本考案によれば連結ダク
トの蛇腹部を被包するシール室が形成されてお
り、該シール室に不活性ガスが充填されているの
で、万一、該蛇腹部が損傷し、あるいは接合用ボ
ルトが弛み、連結ダクトの蛇腹部による接合箇所
にシール漏れを生じても、外部の空気はシール室
により侵入を妨げられ、装置内部に侵入しないの
で、該空気の侵入に起因する種種の問題を未然に
防止することができる。従つて、溶融めつきと真
空蒸着めつきとを兼用できる連続めつき装置にお
いて、信頼性の高い操業を行なうことができる。
トの蛇腹部を被包するシール室が形成されてお
り、該シール室に不活性ガスが充填されているの
で、万一、該蛇腹部が損傷し、あるいは接合用ボ
ルトが弛み、連結ダクトの蛇腹部による接合箇所
にシール漏れを生じても、外部の空気はシール室
により侵入を妨げられ、装置内部に侵入しないの
で、該空気の侵入に起因する種種の問題を未然に
防止することができる。従つて、溶融めつきと真
空蒸着めつきとを兼用できる連続めつき装置にお
いて、信頼性の高い操業を行なうことができる。
又、賦圧室のガス漏れも確実に補償されるの
で、シールロール室の真空圧力を早期に低下させ
ることができ、迅速安全なめつき操業が達成でき
る。
で、シールロール室の真空圧力を早期に低下させ
ることができ、迅速安全なめつき操業が達成でき
る。
(実施例)
全長約25mのガス還元焼鈍炉、全長約11mで7
個の単位ケーシングよりなるシールロール室、長
さ約9.5mの連結ダクトよりなる装置を用いて鋼
帯に亜鉛めつきを施した。操業条件は次の通りで
ある。
個の単位ケーシングよりなるシールロール室、長
さ約9.5mの連結ダクトよりなる装置を用いて鋼
帯に亜鉛めつきを施した。操業条件は次の通りで
ある。
イ 鋼帯:0.6mm厚さ×300mm幅の炭素鋼
ロ 通板速度:15m/min
ハ 溶融めつき
還元ガス組成:75%H2−25%N2
ガス還元焼鈍炉温度:700℃(板温)
めつき浴組成:市販蒸留亜鉛+0.18%Al
めつき浴温度:450〜550℃
ニ 蒸着めつき
蒸着亜鉛:市販電解亜鉛
蒸着温度:460〜470℃
賦圧ガス組成:N2
ホ 賦圧室圧力:大気圧+3〜10mmH2O
ヘ 蒸気真空度:0.01〜0.1Torr
ト 板温:190〜280℃
チ シール室:N2ガス 大気圧+5mmH2O
この結果、長期間の操業においても連結ダクト
でのシール漏れがなく、良好なめつき鋼帯を得る
ことが出来た。
でのシール漏れがなく、良好なめつき鋼帯を得る
ことが出来た。
第1図は本考案のシール装置を具えた連続めつ
き装置の概念を示す長手方向断面図である。第
2,3図は本考案に係るシール装置を示し、第2
図はその断面図、第3図はその部分斜視図であ
る。 図中、……ガス還元焼鈍型連続溶融めつき装
置、……連続真空蒸着めつき装置、6……連結
ダクト、6a……蛇腹部、13……シール室、1
3a……カバー、である。
き装置の概念を示す長手方向断面図である。第
2,3図は本考案に係るシール装置を示し、第2
図はその断面図、第3図はその部分斜視図であ
る。 図中、……ガス還元焼鈍型連続溶融めつき装
置、……連続真空蒸着めつき装置、6……連結
ダクト、6a……蛇腹部、13……シール室、1
3a……カバー、である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 溶融めつき装置のガス還元焼鈍炉と真空蒸着
めつき装置のシールロール室とを離脱自在に連
結する連結ダクトのシール装置であつて、該連
結ダクト両端の蛇腹部を被包するシール室を有
し、該シール室に不活性ガスが充填されること
を特徴とする溶融めつき真空蒸着めつき兼用の
連続めつき装置における連結ダクトシール装
置。 2 実用新案登録請求の範囲第1項の連結ダクト
シール装置であつて、上記連結ダクトは上記シ
ールロール室入口に設けた賦圧室を介して該シ
ールロール室に連結し、上記シール室の一方は
該賦圧室に接合する蛇腹部を被包することを特
徴とする装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10174785U JPH0126762Y2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10174785U JPH0126762Y2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6211167U JPS6211167U (ja) | 1987-01-23 |
JPH0126762Y2 true JPH0126762Y2 (ja) | 1989-08-10 |
Family
ID=30972759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10174785U Expired JPH0126762Y2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0126762Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP10174785U patent/JPH0126762Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6211167U (ja) | 1987-01-23 |
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