JPS6388080A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は走行する支持体に複数層を同時に塗布する装置
に関する。特に、多層の磁気記録媒体を同時に塗布する
装置において、該装置の先端部近傍の一部をト９クタエ
ツジ化して成シ、移動中の支持体表面に向けて連続的に
押出した怠布液を、前記ドクタエツジを介して前記支持
体表面に均一な厚さをもって塗布するエクストルーダの
改良に関するものである。

なお、本発明でいう支持体は、プラスチックフィルム、
紙、ポリオレフィン塗布紙、アルミニウム鋼等の金属シ
ート等の可撓性シート又はウェブを指し、下塗層等が設
けられていてもよい２このような支持体に、磁性塗布液
、写真感光性塗布液、その他種々の塗布液を塗布し、磁
気テープ、各種写真フィルム、印画紙等とする。

〔従来の技術〕

近年磁気記録媒体の高密度化、薄層化が進み、それに伴
って従来磁性層が単層であったものが多Ｉｔ４化に移行
しつつある口 これは、磁性層あるいはバック層と支持体の密着を向上
させるため、下塗層を設ける等が行われ、又、多重の磁
気記録層を有する媒体は、−重の磁気記録層を有する媒
体と比較すると磁気データ保存容量が非常に増加する等
の利点がある。従って、近年においては、層構成として
は、２層〜４層と、多層化が必要となってきている。

一方上記多層化を達成するためには、−層ずつ塗布・乾
燥を繰返えして行うのが現状である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、この方法では塗布、乾燥寺の工程を繰シ
返すため生産性が悪く、又、装置も大型化し設備費も漸
くなる。又塗布層の層間の内部界面において磁気記録要
素の不整が生じる場合もあり、好ましくない変調信号が
発生し易くなる。

従って一回の塗布・乾燥工程内で多層を同時に形成させ
る方法が望まれていた。しかしながら、磁気記録媒体の
塗布方式としては、ロールコート、グラビアコート、ロ
ールコートあるいはエクストルージョンコートプラスド
クタ一方式が用いられているが、これらの塗布方式では
塗布時の剪断力のため同時に多層形成できないことは自
明である。

一方多層の塗布方式として、スロットを有するスライド
コート方式が写真感光材料の塗布方式で示されており、
更に、特公昭５６−１２９３７においては、スライド・
ホツノ署−のスライド表面に沿って流出した塗布液を支
持体上に塗布するようにした。塗布装輩による磁気記録
材料の多層形成法が開示されている。しかし上記方法で
は、磁気記録媒体をｔ！Ｉ造する場合には塗布液が高粘
度であり又凝集しやすい、有機溶媒分散液でちり乾き易
い、更に高速塗布通性がない等の理由で、スライドコー
トは適さない。

更に、エクストルージョン方式の塗布方法が種々提案さ
れているが、これらはほとんど単層の塗布方式であろう 一方、特開昭５８−１０９１６２号公報においてはエク
ストルージョン塗布ヘッドを支持体に押しつける塗布方
法における多層形成法が開示されているが、この中に記
述された範囲の如き従来の塗布ヘッドの構造では、上記
種々の問題を解決したとはいえず、多重の磁気記録層を
形成する際に、塗布膜のスジむら、厚みむら等がはなは
だしく、まだ多くの問題を抱えているのが実情であった
。又、例えば特開昭６０−２３８１７９号公報に開示さ
れている塗布ヘッドにおいては、ドクターエツジがＲ形
状に構成されている。このＲ形状の構造によれば上記の
如きスジむら等の問題はある程度改善されることは知ら
れているが、該公報においては、−層塗布の方式につい
ての開示であシ、本発明が対象としている多層塗布方式
については何ら示されていない。又、多層同時塗布方式
の場合は一層塗布方式に比べて、塗布時におけるメカニ
ズムが複雑であるため、この方式における極めて有効な
手段が開示きれていないのが現状である。

更に、特公昭４９−２９９４４　、特開昭５０−１３８
０３６　　等には、エクストルージョン型塗布ヘットに
て多層塗布する方法が開示されている。

前者はドクターエツジ面が平面であり、前記したごとく
、スジ、厚みムラの間Ｍｋかかえておシ、製品として充
分耐える面質ｔ−得られなかった。又後者についてはド
クターエツジの形状は曲面で構成されており前者の改良
はなされているものの、多層が同時に塗布されるべき条
件について何ら示されていない。

つまり、第１層がどのような形状で塗布されるのか、又
第２層がどのような形状で２Ｓ１層に悪影ｔ−与えず塗
布されうるのか、について極めて有効な手段が開示され
ていないのが現状であった。

（発明の目的〕 本発明ば、上記のような状況および近年における磁気記
録層の多層化の傾向に鑑み、塗布層のスジむらや厚みむ
ら等を抑え且つ高速塗布を可能にする塗布装置を提供す
ることを目的とするものであシ、本発明者らは鋭意研究
した結果、以下に述べる塗布装置によってこの目的を達
成できることを見い出した。

〔発明の構成〕

即ち、本発明のかかる目的は、少なくとも２つのスロッ
ト及び１つのバックェツジ及び少なくとも２つのドクタ
ーエツジを有するエクストルージョン型ヘッドから成る
塗布装置において、前記各ドクターエツジは塗布液を塗
設する支持体の走行方向に沿った断面形状が支持体側に
夫々膨む彎曲を有する形状に構成されたことを特徴とす
る塗布装置により達成される。

以下、添付した図面に基づき本発明の実施態様について
説明する。

第１図、第２図及び第３図に示した本発明の一実施態様
におけるエクストルーダ１の要部は、次に夫々詳述する
ような給液系、ポケット、スロット、ドクターエツジ、
及びバックェツジに区分することができる。

−１，給液系２： 該給液系２は、エクストルーダ１の躯体よりも外部にあ
って前記塗布液Ｃ１，Ｃ２を連続的にかつ一定の流量で
送液可能な定量送液ポンプ手段（図示せず）並びに前記
エクストルーダ１の躯体内部を前記支持体Ｗの輪方向に
透設した２つのポケット部３　ａ　＊　３　ｂと前記ポ
ンプ手段を連通せしめる配管部材を夫々具備して成って
いる。

−２，ポケット３ａ、３ｂ： 該ポケット部３ａ、３ｂは、第１図に示したように、そ
の断面が略円形を成し、かつ前記支持体Ｗの幅方向に略
同−の断面形状をもって延長された一種の液溜めである
。

又、その有効延長長さは、通常、塗布幅と同等もしくは
若干長く設定される。

なお、前記ポケット部３＆Ｉ３ｂの内径は、通常、３〜
１００ｆｉの範囲に設定され、その貫通した両端開口部
は、第１図に示し九ように、前記エクストルーダ１の両
端部に取付けられる各シールド板３としたとき、θ１、
９により閉止されている。

前記シールド板８に突設した短管１０ａ＊１０ｂに、前
記給液系２を接続することによシ、前記ポケット３ａ、
３ｂの内部に前記塗布液Ｃ１，Ｃ２が注入、充満して、
後述するスロット４　ａ　＋　４　ｂ　ｔ−経て外部に
前記塗布液Ｃ□、Ｃ２を均一な液圧分布をもって前記支
持体Ｗに押圧せしめるものである。

−３，スロット４ａ、４ｂ　： 該スロット４ａ、４ｂ　　は、前記ポケット３ａ＊３ｂ
から前記支持体Ｗに向け、通常、０．０１〜３ｍｍの開
口幅６．ｅをもって前記エクストルーダ１の躯体内部を
貫通しかつ前記ポケット３ａ、３ｂと同じように前記支
持体Ｗの幅方向に延長された比教的狭隘な流路であり、
前記支持体Ｗの幅方向の開口長さは塗布！陽と略同等に
設定される。

なお、前記スロツ）　４ａ、４ｂにおける前記支持体Ｗ
に向けた流路の長さは、前記塗布液Ｃ１＋　Ｃ２の゛液
組成、物性、供給渡世、供給液圧、等の諸条件を考慮し
て適宜設定し得るものであり、要は前記塗布液Ｃ，，Ｃ
２が前記支持体Ｗの幅方向に均一な流量と液圧分布管も
って層流状に前記ポケツ）３１！Ｌ１３ｂから流出可能
であれば良い。

−４，ドクターエツジ５，６及びバックェツジ７２つの
ドクターエツジ５，６のエツジ面は第２図に示すように
、支持体Ｗの走行方向に沿った断面形状が支持体側に膨
むような彎曲面にそれぞれ構成されている。そして、そ
れぞれのエツジ［酊の曲率半径Ｒ１及びＲ２は共に２咽
以上であって、且つ次式、−３鯛≦Ｒ２Ｒ１≦１５圏　
を満足するように構成されている。

又、前記各ドクターエツジ５．６の幅す、Ｑｃ支ｎ体走
行方向に沿った幅）は、共に０．１　ｒｒｍ〜１０１ｒ
ａＲ好ましくは０．５ｍ〜５１ｒ！Ｍに構成されている
が、この寸法は曲率半径Ｒ□、Ｒ２とは無関係ではなく
適宜設定するものである。さらに第２図において曲率半
径Ｒ□およびＲ２の曲率中心は第１のドクターエツジお
よび第２のドクターエツジの内に位置するように構成さ
れているが、本発明においては、これに限るものではな
く、下記する条件を満足すれば、曲率中心の位置を適宜
選定して、両エツジ面の相対位置を決めることができる
。

即ち、第４図に示すように、バックェツジ面の斜角度を
θ１　とし、バックェツジ面のスロット出口端部である
頂部Ｘから第１のドクターエツジ５のエツジ面に引いた
第１接線Ｍとバックェツジ面の延長線との成す角度を０
２とし、又、第１接線Ｍと第１のトリターエツジ５のエ
ツジ面後方ノスロット出口端部である頂部ｙから第２の
ドクターエツジ６のエツジ面に引いた第２接線りとの成
す角度を０３　としたときに、θ□が０４５°〈θ１≦
３５°の範囲で好ましくは５°≦０１≦２５°の範囲、
θ２が０°くθ２≦２０°の範囲で好ましくは２°≦０
２≦１５°の範囲、θ３がＯ’（θ３≦２０″の範囲で
好ましくは１°≦０３≦１５°の範囲である。

又、前記バックェツジ７のエツジ面の形状は第１図〜第
４図においては、平面形状としたが、必ずしもこれに限
るものではなく、例えば複数の平面の組み合せあるいは
一定の曲率を持った曲面であってもよい。

又、第３図に示すように各スロット出口端部の段差ｆ、
ｇは±３００μｍ以内で任意に設定することができる。

また、前記バックェツジ７及び前記ドクターエ　　　　
“ツジ５，６　の少なくとも先端部分は硬質の材料が良
く、例えばロックウェルＡスクールで約８５度程度の硬
さを有する超硬合金（非磁性であるか磁性であるかは問
わない）あるいはセラミックで構成することができる。

以上、記述したように構成される本発明装置は、ガイド
ローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもっ
てかつその厚さ方向に若干彎曲可能な状態に装架された
前記支持体Ｗが、前記ドクタエツシ５，６および前記バ
ックェツジ７のエツジ面全域と略平行して彎曲するよう
にエクストルーダ支持機構（図示せず、を介して近接せ
しめる一方、前記給液系２から前記塗布液Ｃ１，Ｃ２２
所望する流量をもって送液を始めると、前記塗布液Ｃ１
，Ｃ２は前記ポケット３ａ、３ｂ及びスロット４ａ、４
’ｂ７ｋＭ過し九後、前記支持体Ｗの幅方向に均一な流
量及び圧力分布をもって前記スロッ）　４ａ、４ｂの出
口先端部に押出される。

前記支持体Ｗの走行方向の上流側に位置した前記スロッ
ト４ａの出口先端部に押出された前記塗布ｇＣ□　（下
層）は、前記支持体Ｗに対向する前記バックェツジ７の
エツジ面上に若干はみ出して支持体Ｗとエツジ面との間
隙内に一種のビードを形成しながら、矢印Ａの方向に連
続的に移動する前記支持体Ｗの表面に沿って、前記第１
のドクターツジ５のエツジ面と支持体Ｗとの間を押し広
げるように通過して行く。一方、支持体走行方向の下流
側に位置した前記スロット４ｂの出口先端部に押出され
た前記塗布液Ｃ２（上層）は、前記塗布液Ｃ１と前記第
２のドクターエツジ６のエツジ面との間に押し広げられ
て、該塗布液Ｃ□　の上に重ね塗膜されて通過して行く
。

前述したよう彦塗布液Ｃ□、Ｃ２の移動が連続的に保た
れると、前記第１．第２のドク力ケツジ５，６のエツジ
面全域と支持体Ｗの表面は、その幅方向全域にわたシ薄
１−化されて通過する前記塗布液Ｃ１，Ｃ２により、一
定した間隙をもって完全に分離されることは勿論である
。

前記分離間隔は、前記支持体Ｗの張力、エクストルーダ
１の近接度合、両塗布液Ｃ，，Ｃ２の供給量（液圧）、
支持体走行速度等の設定条件により定まるものであり、
特に、前記塗布液Ｃ工、Ｃ２の各供給量のみの設定変更
により、正確に所望する分離間隔即ち塗膜の厚さが得ら
れる。

このように前記塗布液Ｃ□、Ｃ２が層状に同時に塗布さ
れる際に、上記した本発明におけるエクストルーダ１の
如く、前記両ドクターエツジＳ６が上記各条件を満足す
る範囲内釦構成されていることにより、塗布時の剪断力
の増加を抑えることができると共に、塗布膜のスジむら
、厚みむら等を抑えることができ、高速かつ円滑な塗布
が可能になる。

前記塗布液Ｃ１と０２の塗布量の関係を考慮して曲率半
径Ｒ１とＲ２ヲ比較すると、例えば、塗布液Ｃ□の塗布
量に対して塗布液Ｃ２が非常に多い場合には、第２のド
クターエツジ６によって相当量の塗布液Ｃ２ヲ塗付ける
作用を持たせる必然性があるために、Ｒ□（Ｒ，の関係
にする必要があり、これに伴って第２のドクターエツジ
６の幅Ｃも適宜対応させる仁とが好ましい。

又、上記場合とは逆に塗布液Ｃ□の塗布膜に対して、塗
布液Ｃ２の塗布量が非常に少ない場合には曲率半径Ｒ□
とＲ２との関係はＲ１＝−Ｒ２でもよいが、Ｒ２＜Ｒ□
あるいはＲ□〉Ｒ２でその差が小さい方が好ましい。

第１図に示したエクストルーダ１への塗布液Ｃ１，Ｃ２
（７）供給方式は、短管１０ａｌ１０１）　ｔ−介して
片側供給である。

第５図は短管１０　ａ　）　Ｉ　Ｑ　ｂ及び１１ａ＋１
１ｂ以外に前記ポケット３ａ、３ｂの略中央部に位置す
る別の短管１２ａ、１２ｂ　を取付け、該短管１２ａ、
１２ｂ　から前記塗布液Ｃ工＋０２ｔ”供給する中央供
給方式を示したものである。

なお、本発明装置における塗布液供給方式は、前述した
ような各方式に限らず、それらを適宜組合せて行っても
良い。又、前記ポヶッ）　３ａ、３ｂも、前述し次よう
な円筒状のものに限らず、角形、舟底形、等に変更可能
であり、要Ｆｉｌ隔方向に液圧分布を均一化可能な形状
であれば良い。又、前記スロツ）　４ａ、４ｂは互に平
行で、がっ支持体Ｗに　　　対して略垂直に設けられた
か、本発明装置においては、このような態様に限るもの
ではなく、例えば第６図に示す如く「ハ」の字状や、そ
の他適宜傾斜するスロットの組合せであってもよい。

〔発明の効果〕

以上述べた本発明装置は、下記するような新規な効果な
奏するものである。

本発明におけるエクストルーダ１は、少なくとも２種以
上の塗布液全支持体上に同時に重ね塗りする構造であっ
て、各塗布液ｔ−塗付ける各ドクターエツジの各エツジ
面が支持体側に膨む彎曲面に構成され、かつ各曲率半径
の関係およびエツジ面の位置関係が上記一定範囲内の条
件全満足するように設定されていることにより、塗布時
の剪断力の増加を抑えることができ、各塗布液間相互の
円滑な塗布が可能になり、塗布膜のスジむら、厚みむら
を抑えることができ、塗布膜の層形成時における層間の
内部界面の不整を回避して、高品質な多層膜の形成を高
速で行うことが出来る。

次に、実施例によって本発明装置の新規な効果を一層明
確にする。

〔実施例−１〕 第１表に示す組成成分の塗布液を第１層である下層（第
１図に示す塗布液Ｃ１）とし、第２表に示す組成成分の
塗布液を第２層である上層（第１図に示す塗布液Ｃ２）
として使用した。

第　　１　　表 第１層の塗布液処方 カーボンブラック　　　　　　　　　２００重竜部（セ
バルコＭ工ＣＴ、平均粒子サイズ２５０μｍ）ニラボラ
ン−７３０４８０’ｉ竜部 （日本ポリウレタン裂） フェノキシ樹脂（ＰＫＨ−１）　　　　　　　３５重量
部二ニオンカーバイド社製 オレインｅＲ銅　　　　　　　　　　　　　　１重量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　５００重量
部＠２　　表 第２層の塗布液処方（磁性体分散液） Ｃｏ含有磁性酸（ＩＪ（ｆｆｅａｖ　３５ＦＦ？／９　
）　　　１００重量部ニトロセルローズ　　　　　　　
　　　１０重量部ポリウレタン樹脂（商品名「ニラポラ
ン２３０４Ｊ）　８重量部（日本ポリウレタン社製） ポリイソシアネート　　　　　　　　　　８重量部Ｃｒ
２Ｏ５’　　　　　　　　　　　　　　　２重量部カー
ボンブラック（平均粒径２０μｍ）　　　　　　２重量
部ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　１重量部
ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　１重量部メチ
ルエチルケトン　　　　　　　　３００重量部４１表及
び第２表に示した塗布液の粘度を測定した結果、下層途
布液Ｃ１は剪断速度が１×１０ｓｅＣにおいて０．２　
ｐｏｉｓｅを示した。又、上層塗布液Ｃ２は剪断速度が
ｌＸｌ０　　ｓｅｃ　　において０、３　ｐｏｉｓｅを
示した。

−１，支持体： 材質・・・・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム
１嶋　・・・・・・４００フ餅 厚さ・・・・・・７５μ圏 塗布部における張力・・・・・・２０に９／　５００ｔ
ｒａｎ支持体の走行速度は１００ｍ／Ｍ 磁性塗布液の塗布量は下Ｊｍの塗布量が１５ＣＣ／ｒｒ
ｌ、上層の塗布量がＩＱＣＣ／−とした。

−２，エクストルーダは本発明記載のものライ・ト用し
、第１のドクターエツジ面の曲率Ｒ１を６門とし第２の
ドクターエツジ面の曲率半径Ｒ２を変えて塗布状態を調
べた。その結果を第３表に示す。なお、表中における○
印は正常に第２層が塗布できたことを示し、Ｘ−１印は
バックェツジ側に塗布７夜のはみ出しが発生して正常塗
布不可な状態を示し、Ｘ−２印は上層内に空気が混入し
てしまい正常塗布不可であったことを示す。

第　３　表 〔実施例−２〕 塗布液の組成成分は、下層および上層ともに実施例−１
と同じ塗布液を使用し、又、支持体の条件も同様とし、
下層の塗布ｔを５ＣＣ／イ、上層の塗布層を１０ＣＣ／
ｄ、第１のドクターエツジのエツジ面の曲率Ｒ１ｉ４ｍ
として第２のドクターエツジのエツジ面の曲率Ｒ２を種
々変えて調べた。

七の結果を第４表に示した。なお、表中のＯ印、ｘ−１
印、Ｘ−２印については第３表と同様の評価を示すもの
である。

〔実施例−３〕 塗布液の組成成分は下層および上層ともに実施例−１と
同じ塗布液を使用し、又、支持体の条件も実施例−１と
同様とし、下層の塗布量を３０ｃＣ／７７Ｌ′、上層の
塗布量を５　ｃｃ　／　ｙｉ′、第１のドクターエツジ
のエツジ面の曲率Ｒ１を１０１１１１１とし、第２のド
クターエツジのエツジ面の曲率Ｒ２を変えて塗布状態を
調べた。その結果を第５表に示す。なお１表中における
○印、Ｘ−１印、ｘ−２印については第３表と同様の評
価を示すものである。

第５表 以上、上記各実施例は、上層と下層の塗布量について代
表的な場合におけるエツジ面の曲率Ｒ１とＲ２の大きさ
を種々変えた例を示した。この結果、下層と上層の種々
の塗布量に対し、Ｒ１とＲ２との関係はある一定の関係
、すなわち、−３ｗ≦Ｒ２−Ｒ□≦１５の範囲内にあっ
た場倚に、良好な塗布が可能であることがわかる。

又、上記各実施例における塗布液とは異った組成成分の
ものを使用した実施例について以下述べる。

〔実施例−４〕 塗布液は下層に第６表に示すものを使用し、上Ｉ−には
第２表に示す塗布液を使用した。支持体は厚さ１５μ扉
であって、その他の条件は実施例−１と同じである。又
、下層の塗布量は８０Ｃ／ｒｒ？、上層の塗布量は２０
α／−とし、Ｒ１は６間としてＲ２の太ささを種々変え
た。その結！Ｐ、′ｆｔ第７表に示した。

第６表 なお、第６衣に示した塗布液の粘度は、ビスメトロンで
測定し之結果１．３０ｐを示した。

第７表 第７表にし・ける○印、Ｘ−１印、Ｘ−２印は実施例−
１における評価内容と同じ意味を表す。

〔実施例−５〕 塗布液は、上層には第８表に示した組成成分のものを使
用し、下層には第８表中におけるＣＯ−γ−ｂ゛θＯｘ
　（磁性材料）のＨａ　　（抗磁力又は保磁力）が６０
００８に震えた４布ｆＦ１．を使用した。

支持体の厚さはｌＯμ謂、塗布部における張力は１０ｋ
ｌｉ’１５００ｍ　とし、下層の塗布量は２０ＣＣ／ｒ
ｎ″、上層の塗布量を１５ＣＧ／’ｍ″とし、他の条件
は実施例−１と同一とした。

なか、再塗布液の粘度を測定した結果、下層塗布液は剪
断速度がｌＸ１０’ｓｅｃ″″ｌにおいて、０．３ｐｏ
ｉｓｅを示し、上層塗布液は剪断速度がｌＸｌ０’８ｅ
Ｃ−１に１？いて０．３　ｐｏｉｓθ’ｋ　示１．ｆｃ
。

このような条件において、Ｒｌｆ　１２　ｍｍとしてＲ
２の大きさを種々変えて調べた。その結果を第９表に示
す。なお、第９表における○印、Ｘ−１印、Ｘ−２印の
意味は実姻例−１の場合と同様である。

第８表 Ｃｏ−ｒ−１ｉ’ｅｏｘ　（Ｈｃ　−７００Ｃｏ　＋　
　　　　　１０　ＯＮｍ部塩酢と、ビニルアルコール共
重合体　　　　　２０＠量部（９２：３：５　　重合度
４００） ポリエステルポリウレタン（分子量５万）　　　５定量
部オレイン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
重量部ジメチルポリシロキサン（重合度６０）　　　　
　０．２重量部カーボン（粒子サイズＩｏｎμ）１．０
重量部α−Ａ１２０３（粒子サイズｏ、ｓ　μ）　　　
　　　　ｔ、ｏ重を部メチルエチルケトン　　　　　　
　　　　　２００重量部シクロヘキサン　　　　　　　
　　　　　　　５０重量部以上、実施例−４及び５から
明らかなように、下層及び上層の塗布液の組成成分を変
えた場合においても、上記したＲ１とＲ２の関係は、−
３，≦Ｒ２−Ｒ１≦１５型を調定するものであった。

上記各実施例においてはＲ１およびＲ２の大きさについ
て述べ、第１のドクターエツジ５と第２のドクターエツ
ジ６の相対位置関係については述べていないが、この相
対位置関係についても当然ある程度の範囲があることは
推定される。以下、Ｒ□とＲ２の相対位置関係を調べた
。

〔実施例−６〕 塗布液は、下層に第１表に示すものを用い、上層に第２
衣に示すものを用いて、塗布量は下層がｌ５ＣＣ／ｍ”
、上層がｌ０ＣＣ／−とした。支持体は幅４００ｍｍ、
厚さ７５μ鰭のポリエチレンテレフタレートを使用し、
塗布部における張力は２０に９１５００閣、支持体の走
行速度は１００７Ｈ／ｍｍとした。又、Ｒは６−１Ｒ２
は８酵として、前述工 した第４図に示すθ１．θ２．θ３の角度を棟々変えて
調べた。その結果を＠１０表に示す。

なお、第１０表に示す塗布状態の評価については、◎印
は極めて良好な塗布状態を示し、○印は実用的には問題
のない塗布状態を示し、※−１は下層の塗布不可を示し
、※−２は上層の塗布不可を示す。

第　　１０　表 第１０表から明らかなように、第１のドクターエツジと
第２のドクターエツジとの両エツジ面の相対位置関係を
示すθ□、θ２．θ３　は、ｏ、ｓ’＜θ１≦３５°、
ｏＱ＜θ＜２５°、ｏ’＜０３≦２０゜一 の範囲内にあれば実用的な塗布が可能であり、特に５°
≦θ≦２０°、２″≦０２≦１５″。

１°≦θ３≦１５°　の範囲内で、ろるときは、極めて
良好な塗布が出来た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置におけるエクストルーダの一実′Ｍ
ｔ？＋様の一部全切断して示した斜視図、第２図、第３
図及び第４図は第１図におけるＢ−Ｂ線に沿って垂直に
切断した断面図、嘱５図は第１図におけるエクストルー
ダへの塗布液供給方式の変更例を示した斜視図、第６図
はスロットの変更例を示した断面図である。 １はエクストルーダ、２は給欣系、　３ａ、３’ｂは液
溜、４ａ、４ｂはスロット、５は第１のドクターエツジ
、６は第２のドクターエツジ、７はバックェツジ、８及
び９はシールド板、１０ａ。 １０ｂ、　ｌｌａ、　ｌｌｂ、　１２ａ、　１２ｂは給
液系の短管である。 第　　２　　図 第　　３　　図 第　　４　　図 手続補正書

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）少なくとも２つのスロット及び１つのバックエッジ
   及び少なくとも第１、第２の２つのドクターエッジを有
   するエクストルージョン型ヘッドから成る塗布装置にお
   いて、前記各ドクターエッジは、塗布液を塗設する支持
   体の走行方向に沿った断面形状が支持体側に夫々膨む彎
   曲を有する形状に構成されたことを特徴とする塗布装置
   。 ２）前記バックエッジ寄りの前記ドクターエッジを第１
   のドクターエッジとし、その曲率半径をＲ＿１、他方の
   第２のドクターエッジの曲率半径をＲ＿２としたとき、
   Ｒ＿１とＲ＿２との関係が−３ｍｍ≦Ｒ＿２−Ｒ＿１≦
   １５ｍｍであり、且つＲ＿１及びＲ＿２が共に２ｍｍ以
   上であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の塗布装置。 ３）前記各ドクターエッジは前記支持体の走行方向の幅
   が共に０．１ｍｍ〜１０ｍｍであることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項又は第２項に記載の塗布装置。 ４）前記エクストルージョン型ヘッドの横断面における
   バックエッジ面のスロット出口端部である頂部をｘとす
   ると共に、前記第１のドクターエッジのエッジ面のスロ
   ット出口端部である頂部をｙとし、バックエッジ面の実
   質傾斜角度をθ＿１、頂部ｘから前記第１のドクターエ
   ッジのエッジ面に引いた第１接線と前記バックエッジ面
   の延長線との成す角度をθ＿２、前記第１接線の延長線
   と、頂部ｙから前記第２のドクターエッジのエッジ面に
   引いた接線との成す角度をθ＿３としたとき、θ＿１、
   θ＿２、θ＿３が ０．５°＜θ＿１≦３５° ０°＜θ＿２≦２５° ０°＜θ＿３≦２０° の範囲内であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   乃至第３項のいずれか１項に記載の塗布装置。