JPS6357607A - クロロスルホン化ポリエチレンの製造法 - Google Patents
クロロスルホン化ポリエチレンの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はクロロスルホン化ポリエチレンに関するもので
ある。
ある。
さらに詳しくは高度な耐油性と低温の圧縮永久ひずみが
小さいことを特徴とし、さらに押出加工性も良好なりロ
ロスルホン化ポリエチレンに関するものである。
小さいことを特徴とし、さらに押出加工性も良好なりロ
ロスルホン化ポリエチレンに関するものである。
クロロスルホン化ポリエチレンは二TCTj合を持たな
いハロゲン化エラストマーであり、耐候性。
いハロゲン化エラストマーであり、耐候性。
耐オゾン性、耐熱性、耐油性、明色配合性に優れた特色
を示すことから、自動車用ホース、ガスホース、電線、
引布等に用いられている。
を示すことから、自動車用ホース、ガスホース、電線、
引布等に用いられている。
しかしながら、クロロスルホン化ポリエチレンの欠点の
ひとつとして、耐寒性が劣ることが挙げられる。
ひとつとして、耐寒性が劣ることが挙げられる。
特に低温における圧縮永久ひずみが大きいことは、たと
えばホースとして製品化した際に1金具のかしめ部が低
温時に、時としてゆるみを生ずるという現象につながる
。
えばホースとして製品化した際に1金具のかしめ部が低
温時に、時としてゆるみを生ずるという現象につながる
。
このため、我々は低温の圧縮永久ひずみを改良すべく、
特開昭61−145204を提案している。
特開昭61−145204を提案している。
しかしながら、特開昭61−145204によるクロロ
スルホン化重合体は塩素量1[lLO〜3αOwt4の
低塩素化クロロスルホン化物であり、高度な耐油性を要
求する部分への適用はふされしくない。
スルホン化重合体は塩素量1[lLO〜3αOwt4の
低塩素化クロロスルホン化物であり、高度な耐油性を要
求する部分への適用はふされしくない。
一般に耐油性と耐寒性は相反する性質である。
このため市販のクロロスルホン化ポリエチレンの代表グ
レードであるTO8O−CEM T8−530やハイ
パロン40と同等の高度な耐油性を有し、さらに低温の
圧縮永久ひずみが小さく、押出加工性も良好なりロロス
ルホン化ポリエチレンが要望されていた。
レードであるTO8O−CEM T8−530やハイ
パロン40と同等の高度な耐油性を有し、さらに低温の
圧縮永久ひずみが小さく、押出加工性も良好なりロロス
ルホン化ポリエチレンが要望されていた。
即ち、本発明の目的とする所は、高度な耐油性と低温の
圧縮永久ひずみが小さいことを特徴としさらに押出加工
性も良好なりロロスルホン化ポリエチレンの製造法を提
供することである。
圧縮永久ひずみが小さいことを特徴としさらに押出加工
性も良好なりロロスルホン化ポリエチレンの製造法を提
供することである。
即ち、本発明は中低圧法ポリエチレンと高圧法ポリエチ
レンとから成る混合ポリエチレンを原料として塩素化お
よびクロロスルホン化することを特徴とするクロロスル
ホン化ポリエチレンの製造法にある。
レンとから成る混合ポリエチレンを原料として塩素化お
よびクロロスルホン化することを特徴とするクロロスル
ホン化ポリエチレンの製造法にある。
本明細書に言う中低圧法ポリエチレンとは、密度α94
8〜(L 9659 /cc、メルトインデックスα0
慣〜300 リエチレンである。
8〜(L 9659 /cc、メルトインデックスα0
慣〜300 リエチレンである。
本明細書に言う高圧法ポリエチレンとは密度1910〜
(L 9 3 0 9 /cc,メルトインデックスα
1〜3009/10分の低密度分岐ポリエチレンである
。
(L 9 3 0 9 /cc,メルトインデックスα
1〜3009/10分の低密度分岐ポリエチレンである
。
中低圧法ポリエチレンと高圧法ポリエチレンとから成る
混合ポリエチレンを原料ポリエチレンとするがこの混合
の重量比は98/2〜2/98であり、より好ましくは
80/20〜3 0/7 0である。
混合ポリエチレンを原料ポリエチレンとするがこの混合
の重量比は98/2〜2/98であり、より好ましくは
80/20〜3 0/7 0である。
中低圧法ポリエチレンの割合が9 8 wt%を超える
混合ポリエチレンを原料としてクロロスルホン化ポリエ
チレンを得ても低温における圧縮永久ひずみを小さくす
ることは出来ない。
混合ポリエチレンを原料としてクロロスルホン化ポリエ
チレンを得ても低温における圧縮永久ひずみを小さくす
ることは出来ない。
一方中低圧法ポリエチレンの割合が2 wt%未満のも
のでは、良好な加工性を得ることはむずかしい。特に押
出加工時の表面の肌がスムースにならず、デコボコした
ものとなる。このため中低圧法ポリエチレンは9 8
wtl以下2wt%以上含むことが望ましい。
のでは、良好な加工性を得ることはむずかしい。特に押
出加工時の表面の肌がスムースにならず、デコボコした
ものとなる。このため中低圧法ポリエチレンは9 8
wtl以下2wt%以上含むことが望ましい。
特に好ましくは、中低圧法ポリエチレンと高圧法ポリエ
チレンの重量比が8 0/2 0〜30/70の混合ポ
リエチレンを原料とすることであり、加工性が優れかつ
低温の圧縮永久ひずみが小さいクロロスルホン化ポリエ
チレンを与エル。
チレンの重量比が8 0/2 0〜30/70の混合ポ
リエチレンを原料とすることであり、加工性が優れかつ
低温の圧縮永久ひずみが小さいクロロスルホン化ポリエ
チレンを与エル。
クロロスルホン化ポリエチレンに含まれる塩素量は10
〜60wt%であるが、クロロスルホン化ポリエチレン
の耐油性は含まれる塩素量に大きく依存する。このため
、特に高度な耐油性を要求する場合には塩素量が32v
rt%以上であるものが望ましい。
〜60wt%であるが、クロロスルホン化ポリエチレン
の耐油性は含まれる塩素量に大きく依存する。このため
、特に高度な耐油性を要求する場合には塩素量が32v
rt%以上であるものが望ましい。
但し、塩素量の過度の増大は低温の圧縮永久ひずみを増
大させるため、塩素量32〜5 9 wt%のものが特
に好ましいクロロスルホン化ポリエチレンである。
大させるため、塩素量32〜5 9 wt%のものが特
に好ましいクロロスルホン化ポリエチレンである。
クロロスルホン化ポリエチレンに含まれるイオウ量はα
2〜五Owtチ、好ましくはα4〜1.6wtチである
。
2〜五Owtチ、好ましくはα4〜1.6wtチである
。
イオウ量はクロロスルホン化ポリエチレンに含まれるク
ロロスルホン基の量を示す尺度であり加硫速度,加硫密
度等の加硫挙動を支配する因子となる。
ロロスルホン基の量を示す尺度であり加硫速度,加硫密
度等の加硫挙動を支配する因子となる。
ポリエチレンを塩素化およびクロロスルホン化してクロ
ロスルホン化ポリエチレンとする方法は、たとえば溶媒
にポリエチレンを溶解させ、塩素と亜硫酸ガスおよび又
は塩化スルフリル、あるいは塩化スルフリルを単独でラ
ジカル発生剤を触媒として、必要に応じて助触媒を用い
て製造する方法が挙げられる。
ロスルホン化ポリエチレンとする方法は、たとえば溶媒
にポリエチレンを溶解させ、塩素と亜硫酸ガスおよび又
は塩化スルフリル、あるいは塩化スルフリルを単独でラ
ジカル発生剤を触媒として、必要に応じて助触媒を用い
て製造する方法が挙げられる。
この際溶媒としては、ハロゲン化反応に不活性な四塩化
炭素、クロロホルム、四塩化エタン、モノクロルベンゼ
ン、ベンゼンなどが用いられる。
炭素、クロロホルム、四塩化エタン、モノクロルベンゼ
ン、ベンゼンなどが用いられる。
ラジカル発生剤としてはα、d−アゾビスイソブチロニ
トリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルのよう
なアゾ系ラジカル開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化ア
セチルのような過酸化物あるいは紫外線が用いられる。
トリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルのよう
なアゾ系ラジカル開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化ア
セチルのような過酸化物あるいは紫外線が用いられる。
助触媒としては、ピリジン、キノリンのようなアミン化
合物が挙げられる。
合物が挙げられる。
反応の終了した溶液は、液中に残存する塩化水素ガス、
亜硫酸ガス等の酸分を取り除く。
亜硫酸ガス等の酸分を取り除く。
この後エポキシ系の安定剤が添加される。
2.27−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロ
パンが望ましい。
パンが望ましい。
得られた溶液からクロロスルホン化ポリエチレンを分離
、乾燥する手段としては 1)水蒸気蒸留法 熱水中にポリマー溶液をフィードし溶媒を水蒸気蒸留法
より分離した後、乾燥する方法。(たとえば米国特許2
592814を参照) 2) ドラム乾燥法 加熱した回転ドラム表面にポリマー溶液をフィードして
、ポリマーをフィルムとして取り出す方法。(たとえば
米国特許 2925g/9を参照) 3)押出乾燥法 ポリマー溶液を予備濃縮し、あるいは直接に押出乾燥機
を用いて乾燥する方法。
、乾燥する手段としては 1)水蒸気蒸留法 熱水中にポリマー溶液をフィードし溶媒を水蒸気蒸留法
より分離した後、乾燥する方法。(たとえば米国特許2
592814を参照) 2) ドラム乾燥法 加熱した回転ドラム表面にポリマー溶液をフィードして
、ポリマーをフィルムとして取り出す方法。(たとえば
米国特許 2925g/9を参照) 3)押出乾燥法 ポリマー溶液を予備濃縮し、あるいは直接に押出乾燥機
を用いて乾燥する方法。
(たとえば特開昭57−47305を参照。)等の公知
の方法が挙げられる。
の方法が挙げられる。
ただ本発明を実施するに当り、製造プロセスはこのよう
な溶液法が望ましいが上記の方法に限定するものではな
い。
な溶液法が望ましいが上記の方法に限定するものではな
い。
溶剤に懸濁させて反応す、る方法、気相中で反応する方
法等で反応を行うことも可能である。
法等で反応を行うことも可能である。
得られたクロロスルホン化ポリエチレンは加硫剤、加硫
促進剤、補強剤、充填剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤
等の配合物を加え、加硫することによって加硫物としで
あるいは未加硫物として使用される。
促進剤、補強剤、充填剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤
等の配合物を加え、加硫することによって加硫物としで
あるいは未加硫物として使用される。
一般にクロロスルホン化ポリエチレンは、加硫剤として
、マグネシア、リサージ、三塩基性マレイン酸鉛、水酸
化カルシウム、酸化カルシウム等の金属酸化物、エポキ
シ樹脂、多価アルコール。
、マグネシア、リサージ、三塩基性マレイン酸鉛、水酸
化カルシウム、酸化カルシウム等の金属酸化物、エポキ
シ樹脂、多価アルコール。
多価アミンなどが用いられる。
加硫促進剤としては、TRA(ジペンタメチレンチウラ
ムテトラスルフィド)、TT(テトラメチルチウラムジ
スルフィド)、エチレンチオ尿素などのイオウ系加硫促
進剤、DCP(ジクミルノく一オキサイド)等の過酸化
物、PM(N、N’−m −7エニレンジ!レイミド)
等のマレイミド類が挙げられる。
ムテトラスルフィド)、TT(テトラメチルチウラムジ
スルフィド)、エチレンチオ尿素などのイオウ系加硫促
進剤、DCP(ジクミルノく一オキサイド)等の過酸化
物、PM(N、N’−m −7エニレンジ!レイミド)
等のマレイミド類が挙げられる。
補強剤、充填剤としては、カーボンブラック。
クレー、タルク、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン
等が挙げられる。
等が挙げられる。
可塑剤、軟化剤としては、フタル酸エステル、セバシン
酸エステル、各種オイルが挙げられる。
酸エステル、各種オイルが挙げられる。
又、NBC!(ジブチルジチオカルバミン酸、ニッケル
)、アミン系、フェノール系の老化防止剤が用いられる
が、これら配合剤は上記に限定されるものではない。
)、アミン系、フェノール系の老化防止剤が用いられる
が、これら配合剤は上記に限定されるものではない。
これら配合剤とのゴムコンパウンドは未加硫物としであ
るいはプレス加硫、蒸気加硫、UHF加硫あるいは電子
線加硫などにより加硫されて各種製品となる。
るいはプレス加硫、蒸気加硫、UHF加硫あるいは電子
線加硫などにより加硫されて各種製品となる。
末完明罠よるクロロスルホン化ポリエチレンは、高度な
耐油性と低温の圧縮永久ひずみが小さいことを特徴とし
、さらに押出加工性も良好である。
耐油性と低温の圧縮永久ひずみが小さいことを特徴とし
、さらに押出加工性も良好である。
このため、耐寒性ホース、耐寒性電線等の押出製品分野
には特に好適である。
には特に好適である。
たとえば、燃料油ホース、クーラーホース等の自動車用
ホースあるいはLPガスホース、都市ガスホース等のガ
スホースあるいは電線、ケーブルが挙げられる。
ホースあるいはLPガスホース、都市ガスホース等のガ
スホースあるいは電線、ケーブルが挙げられる。
むろん、従来のクロロスルホン化ポリエチレンが使用さ
れる他の製品、たとえば雨合羽、カバン。
れる他の製品、たとえば雨合羽、カバン。
ウィンドブレーカ−、ベルト、パツキン、ガスケット、
エスカレータ−手摺、スポンジ、ウェットスーツに用い
ることも可能である。
エスカレータ−手摺、スポンジ、ウェットスーツに用い
ることも可能である。
次に実施例にもとづき、本発明をさらに詳しく説明する
が、これらは本発明の理解を助けるための例であって、
本発明はこれらの実施例から何らの制限を受けるもので
はない。
が、これらは本発明の理解を助けるための例であって、
本発明はこれらの実施例から何らの制限を受けるもので
はない。
なお、これらの実施例で用いた値は以下の測定法に準拠
して得られたものである。
して得られたものである。
〈ポリエチレンについて〉
メルトインデックス:JIS K 7210密度
:JIS K 7112 〈クロロスルホン化ポリエチレンについて〉塩素、イオ
ウ量の分析二燃焼フラスコ法ムーニー粘度 :J
IS K 6300加硫ゴム物性 :JIS
K 6301押出加工条件 :今中機械■
製50flIφL/D−10の押出機、シリンダ一部5
0℃ヘッド50℃、軸の回転数30 rpm実施例−1 30tの攪拌機付きグラスライニング製オートクレーブ
にメルトインデックス6.59/10分。
:JIS K 7112 〈クロロスルホン化ポリエチレンについて〉塩素、イオ
ウ量の分析二燃焼フラスコ法ムーニー粘度 :J
IS K 6300加硫ゴム物性 :JIS
K 6301押出加工条件 :今中機械■
製50flIφL/D−10の押出機、シリンダ一部5
0℃ヘッド50℃、軸の回転数30 rpm実施例−1 30tの攪拌機付きグラスライニング製オートクレーブ
にメルトインデックス6.59/10分。
密度(L 9599 / ccの中低圧法ポリエチレン
1400gとメルトインデックス1.6g710分。
1400gとメルトインデックス1.6g710分。
密度α9209/ccの高圧法ポリエチレン1400り
をチャージした。
をチャージした。
溶媒の四塩化炭素28J19と助触媒のピリジン0.2
89を仕込んだ後、加圧下に110℃まで昇温しポリエ
チレンを溶解した。
89を仕込んだ後、加圧下に110℃まで昇温しポリエ
チレンを溶解した。
続いて100℃まで温度を降下させ、ラジカル発生剤と
してのα、d−アゾビスイソブチロニトリル&5gを溶
解した四塩化炭素溶!2.5に9を添加しつつ、塩化ス
ル7リルS、g/09を添加することにより反応を行っ
た。
してのα、d−アゾビスイソブチロニトリル&5gを溶
解した四塩化炭素溶!2.5に9を添加しつつ、塩化ス
ル7リルS、g/09を添加することにより反応を行っ
た。
塩化スルフリルを添加するには120分を要したが、こ
の間反応温度を100℃に反応圧力を五3に9/c!i
に保った。
の間反応温度を100℃に反応圧力を五3に9/c!i
に保った。
反応の終了後、ポリマーの内温を70℃に降下させ、溶
媒の還流下窒素を吹き込むことから溶液中忙残存する残
分を除いた。
媒の還流下窒素を吹き込むことから溶液中忙残存する残
分を除いた。
安定剤として2.2′−ビス(4−グリシジルオキシフ
ェニル)プロパン55gを添加した後、ドラム乾燥機に
フィードして生成物を溶媒と分離した。
ェニル)プロパン55gを添加した後、ドラム乾燥機に
フィードして生成物を溶媒と分離した。
分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは3
a 7 wt%の塩素と1. Owt%のイオウな含む
ことが判った。
a 7 wt%の塩素と1. Owt%のイオウな含む
ことが判った。
ムーニー粘度は59であった。
10インチオープンロールにより表−1に示す配合を行
った。
った。
配合物の一部は50鱈φの押出機により丸棒の状態で押
出した。
出した。
押出し物の表面肌はスムースであり良好な表面肌が得ら
れた。
れた。
残りの配合物は150’Cにて40分間プレス加硫した
。
。
加硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて、
表−2に示す。
表−2に示す。
表−1
クロロスルホン化ポリエチレン 10
0(重量部)マグネシア
5SRFカーボンブラツク
50ジオクチルセバシン酸エステル
20ACポリエチレン617h
5サンタイト
2スプレンダー R−3002 ペンタエリスリトー、ル
3促進剤TRA 2 ジブチルジチオカルバミ4訣ニッケル
3N、NLm−7工ニレンジマレイミト3合 計
193実施例−2 原料となる混合ポリエチレン鎖おいて、中低圧法ポリエ
チレンの仕込みを16809と高圧法ポリエチレンの仕
込みを11209に変えた以外は実施例−1と同様に反
応を行ないクロロスルホン化ポリエチレンを得た。
0(重量部)マグネシア
5SRFカーボンブラツク
50ジオクチルセバシン酸エステル
20ACポリエチレン617h
5サンタイト
2スプレンダー R−3002 ペンタエリスリトー、ル
3促進剤TRA 2 ジブチルジチオカルバミ4訣ニッケル
3N、NLm−7工ニレンジマレイミト3合 計
193実施例−2 原料となる混合ポリエチレン鎖おいて、中低圧法ポリエ
チレンの仕込みを16809と高圧法ポリエチレンの仕
込みを11209に変えた以外は実施例−1と同様に反
応を行ないクロロスルホン化ポリエチレンを得た。
分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは5
a 5 Wtesの塩素と1. Owt%のイオウを含
むことが判った。
a 5 Wtesの塩素と1. Owt%のイオウを含
むことが判った。
ムーニー粘度は58であった。
実施例−1と同様の配合で、ロールによる混線を行った
。
。
配合物の一部を実施例−1と同一の条件で押出した。押
出物の表面肌は良好であった。
出物の表面肌は良好であった。
一方、残りの配合物は実施例−1と同様に加硫され、加
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
実施例−3
原料として用いる混合ポリエチレンをメルトインデック
スQ、99/10分、密度(L958g/ccの中低圧
法ポリエチレン14009とメルトインデックス55M
710分、密度(L9219/ccの高圧法ポリエチレ
ン1400gと変えた以外は実施例−1と同一の条件で
反応を行った。
スQ、99/10分、密度(L958g/ccの中低圧
法ポリエチレン14009とメルトインデックス55M
710分、密度(L9219/ccの高圧法ポリエチレ
ン1400gと変えた以外は実施例−1と同一の条件で
反応を行った。
分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは35
.3wt%の塩素と1.1 wt%のイオウを含むこと
が判った。
.3wt%の塩素と1.1 wt%のイオウを含むこと
が判った。
ムーニー粘度は77であった。
実施例−1と同様の配合で、ロールによる混線を行った
。
。
配合物の一部を実施例−1と同一の条件で押出した。押
出物の表面肌は良好であった。
出物の表面肌は良好であった。
一方、残りの配合物は実施例−1と同様に加硫され、加
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
実施例−4
原料として用いる混合ポリエチレンをメルトインデック
ス11り/10分、密度Q、960り/ ccの中低圧
法ポリエチレン16809とメルトインデックス五2
g/l 0分、密度α9249 /ccの高圧法ポリエ
チレン1120Fと変えた以外は実施例−1と同一の条
件で反応を行った。
ス11り/10分、密度Q、960り/ ccの中低圧
法ポリエチレン16809とメルトインデックス五2
g/l 0分、密度α9249 /ccの高圧法ポリエ
チレン1120Fと変えた以外は実施例−1と同一の条
件で反応を行った。
分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは5a
7wt%の塩素とα9wt%のイオウを含むことが判っ
た。
7wt%の塩素とα9wt%のイオウを含むことが判っ
た。
ムーニー粘度は48であった。
実施例−1と同様の配合で、ロールによる混練を行った
。
。
配合物の一部を実施例−1と同一の条件で押出した。押
出物の表面肌は良好であった。
出物の表面肌は良好であった。
一方、残りの配合物は実施例1と同様に加硫され、加硫
物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−2
に示す。
物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−2
に示す。
比較例−1
原料として用いるポリエチレンを実施例−1で用いた中
低圧法ポリエチレン280051の単体とした以外は実
施例−1と同一の条件で反応を行った。
低圧法ポリエチレン280051の単体とした以外は実
施例−1と同一の条件で反応を行った。
分析の結果、このクロロスルホン化ポリエチレンは35
.8wt%の塩素とt o wt%のイオウを含むこと
が判った。
.8wt%の塩素とt o wt%のイオウを含むこと
が判った。
ムーニー粘度は57であった。
実施例−1と同様の配合で、ロールによる混線を行った
。
。
配合物の一部を実施例−1と同一の条件で押出した。押
出物の表面肌は良好であった。
出物の表面肌は良好であった。
一方、残りの配合物は実施例−1と同様に加硫され、加
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
比較例−2
原料として用いるポリエチレ/を実施例−1で用いた高
圧法ポリエチレン28009の単体とした以外は実施例
−1と同一の条件で反応を行った。
圧法ポリエチレン28009の単体とした以外は実施例
−1と同一の条件で反応を行った。
分析の結末、′このクロロスルホン化ポリエチレンは3
5.4 vrt9Jの塩素とα9 wt4のイオウを含
むことが判った。
5.4 vrt9Jの塩素とα9 wt4のイオウを含
むことが判った。
ムーニー粘度は61であった。
実施例−1と同様の配合で、ロールによる混線を行った
。
。
配合物の一部を実施例−1と同一の条件で押出した。
押出物は表面がでこぼことした状態となり、押出表面肌
が悪かった。
が悪かった。
一方、残りの配合物は実施例−1と同様に加硫され、加
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
硫物の物性を測定したが、これらの結果をまとめて表−
2に示す。
比較例−3
東洋曹達工業■製のクロロスルホン化ポリエチレンの代
表グレードであるTO8O−O8MTS−530を実施
例−1と同様に配合し、押出試験および加硫物の物性測
定を行った。
表グレードであるTO8O−O8MTS−530を実施
例−1と同様に配合し、押出試験および加硫物の物性測
定を行った。
分析値、ムーニー粘度とともにこれらの結果を表−2に
示す。
示す。
比較例−4
米国テュポン社のクロロスルホン化ポリエチレンの代表
グレードであるハイパロン40を実施例−1と同様に配
合し、押出試験および加硫物の物性測定を行った。
グレードであるハイパロン40を実施例−1と同様に配
合し、押出試験および加硫物の物性測定を行った。
分析値、ムーニー粘度とともKこれらの結果を表−2に
示す。
示す。
実施例−1〜4で得られたクロロスルホン化ポリエチレ
ンは押出表面肌が良好でしかも低温の圧縮永久ひずみが
小さく、耐油性も市販のクロロスルホン化ポリエチレン
と較べて遜色のない値を示している。
ンは押出表面肌が良好でしかも低温の圧縮永久ひずみが
小さく、耐油性も市販のクロロスルホン化ポリエチレン
と較べて遜色のない値を示している。
以上の実施例、比較例により、本発明が高度な耐油性を
備え、かつ低温の圧縮永久ひずみの小さいクロロスルホ
ン化ポリエチレンを提供する優れた製造法であることは
明らかである。
備え、かつ低温の圧縮永久ひずみの小さいクロロスルホ
ン化ポリエチレンを提供する優れた製造法であることは
明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)中低圧法ポリエチレンと高圧法ポリエチレンとから
成る混合ポリエチレンを原料として塩素化およびクロロ
スルホン化することを特徴とするクロロスルホン化ポリ
エチレンの製造法。 2)中低圧法ポリエチレンが密度0.948〜0.96
5g/cc、メルトインデックス0.01〜300g/
10分のものである特許請求の範囲第1項に記載の製造
法。 3)高圧法ポリエチレンが密度0.910〜0.930
g/cc、メルトインデックス0.1〜300g/10
分のものである特許請求の範囲第1項あるいは第2項に
記載の製造法。 4)混合ポリエチレンの中低圧法ポリエチレンと高圧法
ポリエチレンの重量比が80/20〜30/70である
特許請求の範囲第1項、第2項あるいは第3項に記載の
製造法。 5)クロロスルホン化ポリエチレンの塩素量が32〜3
9wt%、イオウ量が0.4〜1.6wt%である特許
請求の範囲第1項、第2項、第3項あるいは第4項に記
載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20176086A JPH0686488B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | クロロスルホン化ポリエチレンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20176086A JPH0686488B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | クロロスルホン化ポリエチレンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6357607A true JPS6357607A (ja) | 1988-03-12 |
JPH0686488B2 JPH0686488B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=16446482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20176086A Expired - Fee Related JPH0686488B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | クロロスルホン化ポリエチレンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0686488B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994012543A1 (en) * | 1992-11-20 | 1994-06-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for isolation of low molecular weight chlorinated and chlorosulfonated resins |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP20176086A patent/JPH0686488B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994012543A1 (en) * | 1992-11-20 | 1994-06-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for isolation of low molecular weight chlorinated and chlorosulfonated resins |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0686488B2 (ja) | 1994-11-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |