JPS6336659B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6336659B2
JPS6336659B2 JP20123881A JP20123881A JPS6336659B2 JP S6336659 B2 JPS6336659 B2 JP S6336659B2 JP 20123881 A JP20123881 A JP 20123881A JP 20123881 A JP20123881 A JP 20123881A JP S6336659 B2 JPS6336659 B2 JP S6336659B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
photomask
thin film
present
film pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP20123881A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58102233A (ja
Inventor
Akira Morishige
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56201238A priority Critical patent/JPS58102233A/ja
Publication of JPS58102233A publication Critical patent/JPS58102233A/ja
Publication of JPS6336659B2 publication Critical patent/JPS6336659B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/60—Substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置、集積回路装置などの製造
に用いられるフオトマスクに関する。
従来フオトマスクは１枚の薄いガラス基板上に
薄膜パターンが形成されているため、マスクのパ
ターン形状が微細化されるにしたがつてガラス基
板が有する熱膨張率によつてパターン形状が変化
し易すくなつたり、高密度パターンで貴重なフオ
トマスクの完成品が破損したりする欠点があつ
た。そのため熱膨張率の小さな石英ガラスが高品
質なマスクには用いられるが高価である欠点があ
つた。
本発明は上記欠点を除去し、高品質で耐久性の
あるフオトマスクを提供することを目的とする。
そしてその目的は光に対して透明な基板表面の一
部に光に対して不透明な薄膜パターンを有する第
１の基板の裏面に光に対して透明な第２の基板を
接着層を介して密着したことを特徴とするフオト
マスクを提供することによつて達成される。
以下本発明による実施例を図面により詳説す
る。第１図は従来のフオトマスクを示す断面図で
あり、基板１上に薄膜パターン２が形成されてい
る。第２図は本発明によるフオトマスクの断面図
であり、薄膜パターン２が形成され第１の基板３
と第２の基板４とが接着層５を介して密着してい
る。
通常フオトマスク基板１の厚さは約0.09インチ
のものが用いられるが本発明によるフオトマスク
は第１の基板３と第２の基板４とを例えばバルサ
ムなどを用い接着して従来のフオトマスク厚と同
じ0.09インチとすることができる。ここで例えば
第１の基板３には低コストなソーダライムガラス
を用い、第２の基板４には薄い石英ガラスを用い
ることにより、ソーダライムガラスの熱膨張率よ
り小さくすることができる。また複合ガラス化に
より機械的強度が向上する効果を有する。ここで
高価な石英ガラスは１枚で用いる場合の半分以下
の膜厚にすることが可能であり大幅なコストダウ
ン効果を有する。
また本発明の他の実施例として、例えば第２の
基板４をレジストの感光波長として用いられる露
光用の高圧水銀灯のＨラインおよびＩラインの波
長のみを透過させるようなバンドパスフイルタと
して構成することが可能である。この感光波長の
狭帯域化により、より微細なパターンの露光、現
像およびエツチングが可能となる。
本発明によれば、温度による変化がなく高精度
で耐久性の強いフオトマスクを低コストで製造す
ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のフオトマスクを示すマスク断面
図であり、第２図は本発明によるフオトマスクの
断面図を示している。 ここで、１は基板、２は薄膜パターン、３は第
１の基板、４は第２の基板、５は接着層を示して
いる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 光に対して透明な基板表面の一部に光に対し
    て不透明な薄膜パターンを有するフオトマスクに
    おいて、前記薄膜パターンを有する第１の基板の
    裏面に光に対して透明な第２の基板を接着層を介
    して密着したことを特徴とするフオトマスク。
JP56201238A 1981-12-14 1981-12-14 フオトマスク Granted JPS58102233A (ja)

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JP56201238A JPS58102233A (ja) 1981-12-14 1981-12-14 フオトマスク

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JP56201238A JPS58102233A (ja) 1981-12-14 1981-12-14 フオトマスク

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JPS58102233A JPS58102233A (ja) 1983-06-17
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ID=16437622

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0552253U (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 東洋ラジエーター株式会社 内燃機関の燃料冷却器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002090982A (ja) * 2000-09-13 2002-03-27 Kimoto & Co Ltd フォトマスクの作製方法およびフォトマスク
JP2002169264A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Kimoto & Co Ltd フォトマスクの作製方法およびフォトマスク

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JPS58102233A (ja) 1983-06-17

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