JP2003307832A - ペリクル及びペリクル装着フォトマスク - Google Patents
ペリクル及びペリクル装着フォトマスクInfo
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- JP2003307832A JP2003307832A JP2002113380A JP2002113380A JP2003307832A JP 2003307832 A JP2003307832 A JP 2003307832A JP 2002113380 A JP2002113380 A JP 2002113380A JP 2002113380 A JP2002113380 A JP 2002113380A JP 2003307832 A JP2003307832 A JP 2003307832A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ペリクルの有する傾きを低減するペリクル及び
ペリクル装着フォトマスクを提供することを目的とす
る。 【解決手段】石英ガラス等のペリクルフレーム１２と合
成石英のペリクル板１１とを接着する接着剤２４、及び
ペリクルフレーム１２とフォトマスク１３とを粘着させ
る粘着剤２５にガラスビーズ等のスペーサ２６を混入さ
せた構成とする。
ペリクル装着フォトマスクを提供することを目的とす
る。 【解決手段】石英ガラス等のペリクルフレーム１２と合
成石英のペリクル板１１とを接着する接着剤２４、及び
ペリクルフレーム１２とフォトマスク１３とを粘着させ
る粘着剤２５にガラスビーズ等のスペーサ２６を混入さ
せた構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体プロセスの
フォトリソグラフィ工程に用いられ、とりわけ波長２２
０ｎｍ以下の光を用いる露光に好適なペリクル及びペリ
クル装着フォトマスクに関するものである。
フォトリソグラフィ工程に用いられ、とりわけ波長２２
０ｎｍ以下の光を用いる露光に好適なペリクル及びペリ
クル装着フォトマスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体プロセスのフォトリソグラフィ工
程では、フォトレジストを塗布した半導体ウェハを投影
露光することにより、パターン形成が行われる。この際
に用いるフォトマスクに傷もしくは異物が乗ると、露光
時にパターン欠陥（回路の短絡または断線等）の原因と
なる。このため、フォトマスクパターン面の異物付着防
止のために、フォトマスクの片面または両面にペリクル
を装着する方法が有効である。
程では、フォトレジストを塗布した半導体ウェハを投影
露光することにより、パターン形成が行われる。この際
に用いるフォトマスクに傷もしくは異物が乗ると、露光
時にパターン欠陥（回路の短絡または断線等）の原因と
なる。このため、フォトマスクパターン面の異物付着防
止のために、フォトマスクの片面または両面にペリクル
を装着する方法が有効である。
【０００３】従来のペリクルの断面図を図３に示す。従
来のペリクルは、アルミニウム等からなるペリクルフレ
ーム３２とニトロセルロースやフッ素樹脂などからなる
数ｎｍ〜数μｍの厚みの有機樹脂膜等のペリクル膜３１
とからなり、ペリクル膜３１は、枠状のペリクルフレー
ム３２の一方の開口面に接着剤３４で貼り付ける。前記
ペリクルは、ペリクルフレーム３２とフォトマスク３３
との間に粘着剤３５を介在させ、フォトマスク３３のパ
ターン面を覆うように固定して用いられていた。
来のペリクルは、アルミニウム等からなるペリクルフレ
ーム３２とニトロセルロースやフッ素樹脂などからなる
数ｎｍ〜数μｍの厚みの有機樹脂膜等のペリクル膜３１
とからなり、ペリクル膜３１は、枠状のペリクルフレー
ム３２の一方の開口面に接着剤３４で貼り付ける。前記
ペリクルは、ペリクルフレーム３２とフォトマスク３３
との間に粘着剤３５を介在させ、フォトマスク３３のパ
ターン面を覆うように固定して用いられていた。
【０００４】近年、パターン微細化、高密度化の要求に
応じて波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光が検討され
ている。しかし、前述の有機樹脂膜等を使用したペリク
ルは、露光解像力を向上させるために短波長の露光光を
使用すると、有機樹脂膜の有機分が分解されるため耐久
性が低い。そこで、短波長の露光系では、ペリクル膜と
して石英ガラスからなるペリクル板を用いることが検討
されている。この石英ガラスは、例えば、珪素源と酸素
源とを気相で反応させスートと呼ばれる酸化珪素からな
る多孔質体を成長させ、この多孔質体を焼結して得られ
る実質的に酸化珪素のみからなる合成石英ガラスであ
る。
応じて波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光が検討され
ている。しかし、前述の有機樹脂膜等を使用したペリク
ルは、露光解像力を向上させるために短波長の露光光を
使用すると、有機樹脂膜の有機分が分解されるため耐久
性が低い。そこで、短波長の露光系では、ペリクル膜と
して石英ガラスからなるペリクル板を用いることが検討
されている。この石英ガラスは、例えば、珪素源と酸素
源とを気相で反応させスートと呼ばれる酸化珪素からな
る多孔質体を成長させ、この多孔質体を焼結して得られ
る実質的に酸化珪素のみからなる合成石英ガラスであ
る。
【０００５】ところが、従来のペリクルフレームの上端
面に石英ガラスからなるペリクル板を接着してペリクル
を作製する場合には、ペリクル板の平行度やペリクル板
及びペリクルフレームの上下面の平坦度を確保すること
に留意しなくてはならない。
面に石英ガラスからなるペリクル板を接着してペリクル
を作製する場合には、ペリクル板の平行度やペリクル板
及びペリクルフレームの上下面の平坦度を確保すること
に留意しなくてはならない。
【０００６】すなわち、ペリクル板は実用上の強度を確
保するために０．０１〜２ｍｍ程度の板厚が必要である
が、ペリクル板内に厚みのばらつきがあると屈折光の光
路が変わるため転写パターンの位置がずれ、良好なリソ
グラフィが行えない。このために、ペリクル板に許容さ
れる上下面の平行度は０．１μｍ／５０ｍｍ程度であ
る。
保するために０．０１〜２ｍｍ程度の板厚が必要である
が、ペリクル板内に厚みのばらつきがあると屈折光の光
路が変わるため転写パターンの位置がずれ、良好なリソ
グラフィが行えない。このために、ペリクル板に許容さ
れる上下面の平行度は０．１μｍ／５０ｍｍ程度であ
る。
【０００７】また、フレームの上下面で固定されたペリ
クル板とマスク面からなる２面の平行度が悪いと転写パ
ターンの位置がずれるおそれがある。また、ペリクル板
は、ペリクルフレームに接着することでペリクルとして
使用されるため、この接着面の平坦度が精度よくでてい
ないと、接着後のペリクル板がペリクルフレーム上面の
形状に矯正されることによりたわむ、あるいは、矯正力
により複屈折を大きくする等の光学上の不具合を発生さ
せるおそれがある。さらには、ペリクルフレーム下面に
ついても、この平坦度が悪いとフォトマスク面との接着
において、フレーム自体にゆがみやたわみを発生し、ひ
いてはペリクル板までたわむ可能性がある。このため、
ペリクルフレームの互いに接着している面のそれぞれの
平坦度は１μｍ以下とされ、同時に上下面の平行度は２
μｍ以下が求められている。ペリクルフレームの上限面
の平坦度を確保するためには、ペリクルフレームの材料
として石英ガラスを用いることが好ましい。
クル板とマスク面からなる２面の平行度が悪いと転写パ
ターンの位置がずれるおそれがある。また、ペリクル板
は、ペリクルフレームに接着することでペリクルとして
使用されるため、この接着面の平坦度が精度よくでてい
ないと、接着後のペリクル板がペリクルフレーム上面の
形状に矯正されることによりたわむ、あるいは、矯正力
により複屈折を大きくする等の光学上の不具合を発生さ
せるおそれがある。さらには、ペリクルフレーム下面に
ついても、この平坦度が悪いとフォトマスク面との接着
において、フレーム自体にゆがみやたわみを発生し、ひ
いてはペリクル板までたわむ可能性がある。このため、
ペリクルフレームの互いに接着している面のそれぞれの
平坦度は１μｍ以下とされ、同時に上下面の平行度は２
μｍ以下が求められている。ペリクルフレームの上限面
の平坦度を確保するためには、ペリクルフレームの材料
として石英ガラスを用いることが好ましい。
【０００８】しかしながら、ペリクル板の平行度、ペリ
クル板及びペリクルフレームの平坦度を上記範囲として
も、転写パターンの位置ずれのないペリクルが得られな
い場合があった。
クル板及びペリクルフレームの平坦度を上記範囲として
も、転写パターンの位置ずれのないペリクルが得られな
い場合があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑みてなされたものであり、転写パターンの位置ず
れの少ないペリクル及びペリクル装着フォトマスクを提
供することを目的とする。
況に鑑みてなされたものであり、転写パターンの位置ず
れの少ないペリクル及びペリクル装着フォトマスクを提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、検討の結
果、ペリクル板とペリクルフレームとの接着後の接着剤
の厚みばらつきや、ペリクルフレームとフォトマスクと
の接着後の接着剤の厚みばらつきによっても、ペリクル
板とマスクの平行度が影響を受けていることを知見し、
本発明に至った。
果、ペリクル板とペリクルフレームとの接着後の接着剤
の厚みばらつきや、ペリクルフレームとフォトマスクと
の接着後の接着剤の厚みばらつきによっても、ペリクル
板とマスクの平行度が影響を受けていることを知見し、
本発明に至った。
【００１１】すなわち、本発明は、第一に、枠体形状の
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に
接着したペリクル板とを備えたペリクルであって、ペリ
クルフレーム及びペリクル板は石英ガラスからなり、ペ
リクル板とペリクルフレームとの間にスペーサを含む接
着層が介在することを特徴とするペリクルを提供する。
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に
接着したペリクル板とを備えたペリクルであって、ペリ
クルフレーム及びペリクル板は石英ガラスからなり、ペ
リクル板とペリクルフレームとの間にスペーサを含む接
着層が介在することを特徴とするペリクルを提供する。
【００１２】第二に、枠体形状のペリクルフレームとペ
リクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板と
を備え、ペリクルフレーム及びペリクル板は石英ガラス
からなり、前記ペリクルフレームのペリクル板が装着さ
れているのと反対側の開口部に装着されたフォトマスク
とを備えたペリクル装着フォトマスクであって、ペリク
ルフレームとフォトマスクとの間にスペーサを含む接着
層が介在することを特徴とするペリクル装着フォトマス
クを提供する。
リクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板と
を備え、ペリクルフレーム及びペリクル板は石英ガラス
からなり、前記ペリクルフレームのペリクル板が装着さ
れているのと反対側の開口部に装着されたフォトマスク
とを備えたペリクル装着フォトマスクであって、ペリク
ルフレームとフォトマスクとの間にスペーサを含む接着
層が介在することを特徴とするペリクル装着フォトマス
クを提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して図面を参照
して説明する。図１は本発明の実施形態であるペリクル
及びペリクル装着フォトマスクの一例を示すペリクル装
着フォトマスクの断面図及び平面図である。ペリクルフ
レーム１２の上面の開口部に、板厚０．０１〜２ｍｍ程
度に加工した石英ガラスのペリクル板１１が、接着剤１
４で接着されており、ペリクルフレーム１２とペリクル
板１１とでペリクルを形成している。ペリクルは図１に
示したように、フォトマスク１３に粘着剤１５で装着さ
れて使用される。
して説明する。図１は本発明の実施形態であるペリクル
及びペリクル装着フォトマスクの一例を示すペリクル装
着フォトマスクの断面図及び平面図である。ペリクルフ
レーム１２の上面の開口部に、板厚０．０１〜２ｍｍ程
度に加工した石英ガラスのペリクル板１１が、接着剤１
４で接着されており、ペリクルフレーム１２とペリクル
板１１とでペリクルを形成している。ペリクルは図１に
示したように、フォトマスク１３に粘着剤１５で装着さ
れて使用される。
【００１４】図２は図１の拡大概念図である。ペリクル
フレーム１２とペリクル板１１との間に介在する接着層
１４は、接着剤２４とスペーサ２６とを含む。また、ペ
リクルフレーム１２とフォトマスク１３との間に介在す
る粘着層１５においても、同様に粘着剤２５とスペーサ
２６とを含む。
フレーム１２とペリクル板１１との間に介在する接着層
１４は、接着剤２４とスペーサ２６とを含む。また、ペ
リクルフレーム１２とフォトマスク１３との間に介在す
る粘着層１５においても、同様に粘着剤２５とスペーサ
２６とを含む。
【００１５】本発明のペリクル板１１は、材質として石
英ガラスが用いられ、特にＦ２レーザなどの真空紫外線
用として用いる場合は、ペリクル板１１は真空紫外線耐
久性の高い合成石英ガラスを用いることが好ましい。ま
た、光透過率を良くするため、ペリクル板１１の片面ま
たは両面に反射防止膜を施すことが好ましい。
英ガラスが用いられ、特にＦ２レーザなどの真空紫外線
用として用いる場合は、ペリクル板１１は真空紫外線耐
久性の高い合成石英ガラスを用いることが好ましい。ま
た、光透過率を良くするため、ペリクル板１１の片面ま
たは両面に反射防止膜を施すことが好ましい。
【００１６】ペリクルフレーム１２は、材質として石英
ガラスを用いる。石英ガラスは溶融石英ガラスでも合成
石英ガラスでもよい。こうすると、ペリクルフレーム１
２の加工による残留応力を極力減らすことができ、ペリ
クルをフォトマスク１３に装着した後の、フォトマスク
１３の歪の発生を軽減できる。また、従来のアルミニウ
ムに比べて石英ガラスは剛性が高く、膨張係数が低い利
点もある。ペリクル自体がもつ傾きを低減させるには、
ペリクルフレーム１２とペリクル板１１の平行度、平坦
度を向上するとともに、両者の接着によって生じる応力
やひずみを低減させることが好ましい。
ガラスを用いる。石英ガラスは溶融石英ガラスでも合成
石英ガラスでもよい。こうすると、ペリクルフレーム１
２の加工による残留応力を極力減らすことができ、ペリ
クルをフォトマスク１３に装着した後の、フォトマスク
１３の歪の発生を軽減できる。また、従来のアルミニウ
ムに比べて石英ガラスは剛性が高く、膨張係数が低い利
点もある。ペリクル自体がもつ傾きを低減させるには、
ペリクルフレーム１２とペリクル板１１の平行度、平坦
度を向上するとともに、両者の接着によって生じる応力
やひずみを低減させることが好ましい。
【００１７】本発明のペリクル付きフォトマスクに使用
する基板は、ソーダライムシリケートガラス、低膨張ガ
ラス及び合成石英ガラス等のガラス基板が使用できる
が、高い平行度が要求されるため、膨張係数の低い合成
石英ガラスが一般的に使用される。
する基板は、ソーダライムシリケートガラス、低膨張ガ
ラス及び合成石英ガラス等のガラス基板が使用できる
が、高い平行度が要求されるため、膨張係数の低い合成
石英ガラスが一般的に使用される。
【００１８】ペリクル板１１をペリクルフレーム１２に
接着するのに用いる接着剤は、エポキシ系、アクリル
系、シリコーン系、フッ素樹脂系等の熱硬化性接着剤、
または紫外線硬化性接着剤等が使用できる。ペリクルを
フォトマスク１３に装着するのに用いる接着剤として
は、後の取り外しの便を考慮するとエポキシ系、アクリ
ル系、シリコーン系、フッ素樹脂系等の粘着剤が使用す
ることが好ましいが、ペリクル板とペリクルフレームと
を接着する接着剤を用いることもできる。
接着するのに用いる接着剤は、エポキシ系、アクリル
系、シリコーン系、フッ素樹脂系等の熱硬化性接着剤、
または紫外線硬化性接着剤等が使用できる。ペリクルを
フォトマスク１３に装着するのに用いる接着剤として
は、後の取り外しの便を考慮するとエポキシ系、アクリ
ル系、シリコーン系、フッ素樹脂系等の粘着剤が使用す
ることが好ましいが、ペリクル板とペリクルフレームと
を接着する接着剤を用いることもできる。
【００１９】本発明においては接着層の中にスペーサ２
６を混入させることにより、接着後の接着層１４の厚み
バラツキを小さくし、ペリクル板の応力やひずみを低減
させる。また、ペリクルを装着したフォトマスク１３が
もつ傾きを低減させるには、同様に、粘着層の中にスペ
ーサ２６を混入させることにより、粘着層１５の厚みバ
ラツキを小さくし、ペリクル板の、応力やひずみを低減
させる。
６を混入させることにより、接着後の接着層１４の厚み
バラツキを小さくし、ペリクル板の応力やひずみを低減
させる。また、ペリクルを装着したフォトマスク１３が
もつ傾きを低減させるには、同様に、粘着層の中にスペ
ーサ２６を混入させることにより、粘着層１５の厚みバ
ラツキを小さくし、ペリクル板の、応力やひずみを低減
させる。
【００２０】接着層１４及び粘着層１５に混入するスペ
ーサ２６は、例えば、ガラスビーズを使用する。ガラス
ビーズの平均粒径は０．５〜１０μｍ、ガラスビーズの
粒径分布の標準偏差は０．２μｍ以下とすることが好ま
しく、特に真球状微粒子を使用することが望ましい。ス
ペーサ２６は、ペクリル板１１とフォトマスク１３とほ
ぼ同一の熱膨張係数の材料が好ましく、合成石英ガラス
製とすることが好ましい。
ーサ２６は、例えば、ガラスビーズを使用する。ガラス
ビーズの平均粒径は０．５〜１０μｍ、ガラスビーズの
粒径分布の標準偏差は０．２μｍ以下とすることが好ま
しく、特に真球状微粒子を使用することが望ましい。ス
ペーサ２６は、ペクリル板１１とフォトマスク１３とほ
ぼ同一の熱膨張係数の材料が好ましく、合成石英ガラス
製とすることが好ましい。
【００２１】本発明のペリクルの製造方法は、合成石英
ガラスのブロックをスライスし、面取り加工した後、両
面研磨装置にて、ラッピング、ポリシングを行い、ペリ
クル板１１の上面と下面の各平坦度が１μｍ以下、ペリ
クル板１１の上下面の許容平行度が２μｍ以下となるよ
うにする。またペリクルフレーム１２の上面と下面の平
坦度が各１μｍ以下、ペリクルフレーム１２の上下面の
平行度が２μｍ以下となるように加工する。次にスペー
サ２６を接着剤２５と混ぜる。そのときの接着層１４の
中のスペーサ２６の含有量は、スペーサとして有効に働
き接着強度の妨げとならない、質量１００分率表示にて
０．１〜５０％の範囲とすることが好ましい。ペリクル
板１１またはペリクルフレーム１２の接着面に、前述の
接着剤２４を塗布した後、両者を重ね合せて押し付け、
熱圧着または紫外線硬化により接着剤２４を硬化させ、
本発明のペリクルを製造する。
ガラスのブロックをスライスし、面取り加工した後、両
面研磨装置にて、ラッピング、ポリシングを行い、ペリ
クル板１１の上面と下面の各平坦度が１μｍ以下、ペリ
クル板１１の上下面の許容平行度が２μｍ以下となるよ
うにする。またペリクルフレーム１２の上面と下面の平
坦度が各１μｍ以下、ペリクルフレーム１２の上下面の
平行度が２μｍ以下となるように加工する。次にスペー
サ２６を接着剤２５と混ぜる。そのときの接着層１４の
中のスペーサ２６の含有量は、スペーサとして有効に働
き接着強度の妨げとならない、質量１００分率表示にて
０．１〜５０％の範囲とすることが好ましい。ペリクル
板１１またはペリクルフレーム１２の接着面に、前述の
接着剤２４を塗布した後、両者を重ね合せて押し付け、
熱圧着または紫外線硬化により接着剤２４を硬化させ、
本発明のペリクルを製造する。
【００２２】前述の方法で作製したペリクルは、前述の
接着剤２４と同様にスペーサ２６を混ぜた粘着剤２５を
ペリクルフレーム１２とフォトマスク１３の粘着面に塗
布した後、フォトマスク１３のパターン面を覆うように
押し付けて固定して、本発明のペリクル装着フォトマス
クを製造する。
接着剤２４と同様にスペーサ２６を混ぜた粘着剤２５を
ペリクルフレーム１２とフォトマスク１３の粘着面に塗
布した後、フォトマスク１３のパターン面を覆うように
押し付けて固定して、本発明のペリクル装着フォトマス
クを製造する。
【００２３】
【実施例】まず、公知の方法で得られた合成石英ガラス
のブロックをスライスして直径２００ｍｍ×厚み１．２
０ｍｍのペリクル板用の素板を得た。この素板に面取り
加工を施した後、両面研磨装置により、ラッピング、ポ
リシングを行い、直径２００ｍｍ×厚み０．８０ｍｍの
合成石英ガラスの基板を得た。前記基板の光学的な平坦
度と平行度を測定したところ、平坦度は２μｍ以下、平
行度は０．５μｍ以下であった。前記基板に真空蒸着機
を用いて両面に反射防止膜を成膜し、ペリクル板を作製
した。
のブロックをスライスして直径２００ｍｍ×厚み１．２
０ｍｍのペリクル板用の素板を得た。この素板に面取り
加工を施した後、両面研磨装置により、ラッピング、ポ
リシングを行い、直径２００ｍｍ×厚み０．８０ｍｍの
合成石英ガラスの基板を得た。前記基板の光学的な平坦
度と平行度を測定したところ、平坦度は２μｍ以下、平
行度は０．５μｍ以下であった。前記基板に真空蒸着機
を用いて両面に反射防止膜を成膜し、ペリクル板を作製
した。
【００２４】一方、ペリクルフレームも同様に、公知の
方法で得られた合成石英ガラスのブロックをスライスし
て縦１５２ｍｍ×横１５２ｍｍ×厚み５．２ｍｍの素板
を得た。この素板に面取り加工をし、両面研磨装置によ
り、ラッピング、ポリシングを行い、厚み５．０ｍｍの
合成石英ガラスの基板を得た。前記基板の光学的な平坦
度と平行度を測定したところ、平坦度は０．５μｍ以
下、平行度は１μｍ以下であった。
方法で得られた合成石英ガラスのブロックをスライスし
て縦１５２ｍｍ×横１５２ｍｍ×厚み５．２ｍｍの素板
を得た。この素板に面取り加工をし、両面研磨装置によ
り、ラッピング、ポリシングを行い、厚み５．０ｍｍの
合成石英ガラスの基板を得た。前記基板の光学的な平坦
度と平行度を測定したところ、平坦度は０．５μｍ以
下、平行度は１μｍ以下であった。
【００２５】前記基板をエンドミルを用いて削り出し、
外寸縦１４９ｍｍ×横１２２ｍｍ、内寸縦１４５ｍｍ×
横１１８ｍｍの長方型の枠体で、各角部に半径５ｍｍの
丸みをつけたペリクルフレームを作製した。このとき、
厚み方向の加工は行わないので、厚みは５．０ｍｍであ
る。
外寸縦１４９ｍｍ×横１２２ｍｍ、内寸縦１４５ｍｍ×
横１１８ｍｍの長方型の枠体で、各角部に半径５ｍｍの
丸みをつけたペリクルフレームを作製した。このとき、
厚み方向の加工は行わないので、厚みは５．０ｍｍであ
る。
【００２６】次に、紫外線硬化性接着剤（スリーボンド
製、商品名３０５２Ｂ）５０ｇに対してガラスビーズ
（触媒化成工業株式会社製、商品名：真絲球−ＳＷ−
２．０）１ｇを添加したものを用意し、前述の既にペリ
クル板を接着済みのペリクルフレームを接着した。しか
る後、ペリクルフレームの外形形状にあわせてペリクル
板をレーザー切断機で溶断した。
製、商品名３０５２Ｂ）５０ｇに対してガラスビーズ
（触媒化成工業株式会社製、商品名：真絲球−ＳＷ−
２．０）１ｇを添加したものを用意し、前述の既にペリ
クル板を接着済みのペリクルフレームを接着した。しか
る後、ペリクルフレームの外形形状にあわせてペリクル
板をレーザー切断機で溶断した。
【００２７】さらに、公知の方法で得られた合成石英を
基材としたフォトマスク用ブランクスを準備した。この
ブランクスの光学的平坦度を計測したところ、０．４５
μｍであった。
基材としたフォトマスク用ブランクスを準備した。この
ブランクスの光学的平坦度を計測したところ、０．４５
μｍであった。
【００２８】このブランクス上に、前述のペリクルを前
述の接着剤を用いて接着し、ペリクル装着フォトマスク
を作製した。
述の接着剤を用いて接着し、ペリクル装着フォトマスク
を作製した。
【００２９】前述のペリクル装着フォトマスクのフォト
マスク面とペリクル板との平行度をオムロン社製Ｚ３０
０測定器で測定したところ、０．８μｍの結果を得た。
マスク面とペリクル板との平行度をオムロン社製Ｚ３０
０測定器で測定したところ、０．８μｍの結果を得た。
【００３０】なお、上記の実施例で用いた装置、材料に
限らず、同等の性能、目的を果たすものであれば種類は
問わない。
限らず、同等の性能、目的を果たすものであれば種類は
問わない。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、転写パターンの位置ず
れの少ないペリクル及びペリクル装着フォトマスクが得
られる。
れの少ないペリクル及びペリクル装着フォトマスクが得
られる。
【図１】本発明の一実施例を示す平面図及び断面図
【図２】図１の断面図の部分拡大図
【図３】従来のペリクルの断面図
１１：ペリクル板
１２：ペリクルフレーム
１３：フォトマスク
１４：接着層
１５：粘着層
２４：接着層
２５：粘着層
２６：スペーサ
３１：ペリクル膜
３２：ペリクルフレーム
３３：フォトマスク
３４：接着層
３５：粘着層
Claims (6)
- 【請求項１】枠体形状のペリクルフレームとペリクルフ
レームの一方の開口部に接着したペリクル板とを備えた
ペリクルであって、 ペリクルフレーム及びペリクル板は石英ガラスからな
り、ペリクル板とペリクルフレームとの間にスペーサを
含む接着層が介在することを特徴とするペリクル。 - 【請求項２】枠体形状のペリクルフレームとペリクルフ
レームの一方の開口部に接着したペリクル板とを備え、
ペリクルフレーム及びペリクル板は石英ガラスからな
り、前記ペリクルフレームのペリクル板が装着されてい
るのと反対側の開口部に装着されたフォトマスクとを備
えたペリクル装着フォトマスクであって、 ペリクルフレームとフォトマスクとの間にスペーサを含
む接着層が介在することを特徴とするペリクル装着フォ
トマスク。 - 【請求項３】接着層中に含まれるスペーサが、ガラスビ
ーズである請求項１記載のペリクル。 - 【請求項４】接着層中に含まれるスペーサが、ガラスビ
ーズである請求項２に記載のペリクル装着フォトマス
ク。 - 【請求項５】ペリクル板及びペリクルフレームの互いに
接着している面のそれぞれの平坦度が１μｍ以下である
請求項１または３に記載のペリクル。 - 【請求項６】ペリクル板とフォトマスク面との平行度が
２μｍ以下である請求項２または４に記載のペリクル装
着フォトマスク。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002113380A JP2003307832A (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | ペリクル及びペリクル装着フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002113380A JP2003307832A (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | ペリクル及びペリクル装着フォトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003307832A true JP2003307832A (ja) | 2003-10-31 |
Family
ID=29395582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002113380A Pending JP2003307832A (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | ペリクル及びペリクル装着フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003307832A (ja) |
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