JPS63300835A - ウエハ位置決め方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、一般に半導体集積回路の形成に必要とされる
各種の工程シーケンスにおいて、当該集積回路を構築す
る下地基板であるウェハを種々の処理装置で個別に処理
する際に要求されるウェハ位置決め方法に関し、特にス
トッパ面に対してウェハ周縁部を当接させることにより
当該ウェハを所定位置に付けるようにしたウェハ位置決
め方法の改良に関する。

〈従来の技術〉 一般に半導体回路作成技術においては、集積回路を構築
する出発部材ないし下地基板として、シリコン系とかガ
リウム砒素系等、その材質こそ［］的により異なるもの
の、周縁部の−・部を除き、大体において一定半径、円
形輪郭の半導体ウェハが使用される。

こうした半導体ウェハはまた、周知のように、その上に
多数のチップ分の集積回路をまとめて形成した後、個々
のチップに切り出されるため、そうした集積回路構築の
途中では、フォト・リソグラフィ装置やＣＶＤ装置、あ
るいはまた最終工程ないしその間近においてウェハ上の
各所に形成されている抵抗部分をトリミングするトリミ
ング装置や、さらにはウェハを種々の加工装置に挿入す
るに際してその装置の座標系に合致させるため、回転角
位置を整合させる装置等々に対し、まずもって移送して
きたウェハを所定の位置に載置しなければならないこと
が多い。

この際、最も簡単で比較的確実な位置決め手法は、ウェ
ハが運ばれてくる方向、すなわちウェハの進行方向に対
し、対面的にストッパ面を形成して置き、このストッパ
面にウェハの進行方向最先端の周縁部が当接したとき、
所定のウェハ載置位置が得られたとする手法である。

これを実現するため、従来において考えられた装置は、
第４，５図示のようなものである。

第４図示のものは、位置決めるべき所まで、個別にウェ
ハｌＯを搬送ないし移送するに際し、ベルト・コンベア
７０を利用するものである。

本図では簡単のため、ウェハｌＯの位置決めを要する装
置８０、すなわち先に述べたフォト・リソグラフィ装置
やＣＶＤ装置、あるいはまた抵抗値トリミング装置とか
ウェハの回転角位置整合装置等々、おおよそこの種の半
導体集積回路構築に必要とされ、ウェハを所定の位置に
付けた上でそれぞれ所定の処理をなす装置８０は、単に
Ｌ字型のブロック状に示しであるが、これにはウェハｌ
Ｏの先端周縁部１２を当接させたとき、当該ウェハが所
定位置に位置付いたとするストッパ面８１が形成されて
いる。

位置決められるウェハｌＯは、仮想線で示しであるよう
に、ベルト・コンベア７０上に一つ宛載せられた後、矢
印Ｆで示されるようにストッパ面８１に向けて搬送され
る。

したがって、ベルト・コンベア７０上のウェハ１０は、
やがてのことにその先端周縁部１２がこのウェハ進行方
向に対し直立的に立ちはだかっているストッパ面８１に
当接し、以降、ベルト・コンベア７０か駆動を続けても
、このウェハｌＯは当該ベルト・コンベアの表面との間
でａ！掠を起こしながらスリップし、ストッパ面８１に
先端周縁部１２を当接した状態を維持する。

この状態のまま、処理装置８０が何等かの処理をなす場
合もあるし、時期を見計らってベルトが止められ、所定
位置にウェハが載置された後、処理をなすこともある。

なお図中、実線で示されているように、移送されてきた
ウェハｌＯが上記のようにストッパ面８１に対しその先
端で当接し、所定位置に付いているときの当該ウェハの
中心軸位置を仮想線ｘｃで示して置く。換言すれば、こ
の軸線ｘｃ上に中心軸が整合したとき、装置８０内にお
いてウェハｌＯが所定位置に付いたことになる。

これに対し、第５図に示されている方法は、同様にウェ
ハを位置決めるべき装置８０にストッパ面８１を形成し
て置く点では同一であるが、ウェハの移送にｆ％空吸着
原理を利用した移送アーム３０を用いるようになってい
る。

すなわち、移送アームの先端には、その上面にウェハ１
０を載せることができるウェハ支持部３１があって、さ
らに、図示していないが当該ウェハ支持部３１の表面に
開口した真空吸着孔からアーム内部を通り、コンプレッ
サ等、適当なる真空吸着装置の吸引部に至る経路を介し
、ウェハ１０を真空吸着することができるようになって
いる。

一般にこうした場合、移送アーム３０は＠後方向Ｆ−Ｒ
のみならず、上下方向Ｕ−Ｄにも（場合によ）ては左右
方向にも）動くことが可能なよう、構成される。

こうした移送機構を利用する場合、移送時間を短縮する
ためには移送アーム３０を相当高速で動かすのが望まし
く、ウェハを一時的に保管しである装置からウェハを一
枚、真空吸着により取出してきた後は、できるだけ速や
かに位置決めを要求する装置８０の近くにまで持ってく
る必要がある。したがってこのときに、ウェハの慣性力
によりずれが生じないよう、真空吸着力は相当に高めら
れているのが普通である。

しかし、当該装置８０の近傍にまでウェハを移送してき
た後は、さすかに移送速度は低下され、そのゆっくりし
た速度でウェハをストッパ面８１に対し進行させ、やが
て当該ストッパ面８１にウェハｌＯの先端周縁部が当接
した所でアームの動きが止められる。

その後は真空吸着機構を停止させ、ウェハを自重により
対象となる載置部位に載置する。

〈発明が解決しようとする問題点〉 既述した従来例の中、まず第４図に示される従来例は種
々の点で問題がある。

第一に、ベルト機構は固定機構としなければならないた
め、ウェハを位置決めるべき装置８０の中に機構の一部
が侵入する形にならざるを得ぬことが多い。

したかって当然、この方式をそのことからだけでも採用
できない処理装置が生まれ、汎用性に欠ける。

第二に、ベルトのウェイピング（波打ち）の問題がある
。

ウェハｌＯの先端周縁部がスＩ・ツバ面８１に当接した
以降、この方式では既述のようにベルト表面に対するウ
ェハのずれを利用してその当接状態を維持させるか、ま
たはその後、適当なタイミングでベルトを止めるが、い
ずれにしろ“ずれ”があるということは、摩擦の存在を
意味する。

しかるにこうしたベルト機構では、ベルト自体を相対的
に柔らかい材質で構成しなければならないこともあって
、上記摩擦の発生形態は必ずしも一義的ではなく、その
結果ベルトが波を打ち、第４図中５仮想線ＶＤで示され
るように、ウェハ１０の水平が崩れ、これ自体が波打つ
ことがあり、したがって所定位置にウェハが付いたから
といってクエへの水平姿勢が常に保たれるとの保証がな
く、実際にも相当傾くことがある。

またウェハ先端周縁部１２がストッパ面８１に当接した
後、ウェハｌＯに見込まれる製作公差等の関係で、若干
戻しながら位置の微調整を図りたいというような場合、
このベルト方式では到底、高精度な戻しは期待し得ない
。

これに対し、第５図に示されている移送アームを用いる
方式は、こと移送精度に関してはかなり十分なものが得
られ、またストッパ面８１の近傍まで高速で運んでくる
際のウェハ支持力にも満足なものがある。

しかし、この支持力と、ウェハをストッパ面に押し付け
た状態でソフトに釈放するという要請とは矛盾を起こし
易い。

すわわち、第５図（Ａ）の状態から同図（Ｂ）の状態に
移って行き、ウェハｌＯの進行方向先端周縁部１２がス
トッパ面８１に当接した瞬間に移送アームを停止させる
等はほとんど不可能に近い。

そのため実際上、厳密な意味でピッタリとウェハ周縁部
１２をストッパ面８Ｉに接触させた状態を得ることか以
外に難しく、また逆に、ウェハ周縁部１２がストッパ面
８１に当接後、移送アームが図示方向Ｆに少しでも動き
過ぎると、なまじっかウェハの真空吸着力が強力な余り
、ウェハｌＯとウェハ支持部３１との間に機械的なずれ
が生まれず、したがってアーム移送機構が無理に抑え込
まれた格好になって機構系にストレスが掛かるか、ウェ
ハ１０の方に機械的な力が掛かって、最悪の場合にはウ
ェハ損傷に至ることさえあった。

なお、移送アーム機構としては真空吸着に代え、先端に
ウェハを機械的に支持するチャックを採用するものもあ
るが、これによっても上記欠点は同様に生ずる。という
よりもこの方式の場合、真空吸着方式よりも始末に悪い
。全くにして“ずれ”を見込めないからである。

本発明はこうした従来の実情を緩和すべく成されたもの
で、ストッパ面に対しウェハの周縁部を当接させること
により、ウェハを所定の位置に付けるウェハ位置決め方
法として、上記各種の欠点を伴わず、高精度でかつ安全
にクエへを所定位ｊηに付は得る方法を提供せんとした
ものである。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するため、次のような構成に
よるウェハ位置決め方法を提案する。

ストッパ面に対しウェハの周縁部を当接させることによ
り、ウェハを所定の位置に付けるウェハ位置決め方法で
あって： 先端にウェハを支えるウェハ支持部を有し、かつ真空吸
着により、該ウェハを該ウェハ支持部上に吸着支持でき
る移送アームを用い； ■記ストッパ面近傍までの上記移送アームによる上記ウ
ェハの移送過程においては、上記真空吸着力を相対的に
大にしてクエ六を強く吸着して置く一方； 少なくとも上記ストッパ面に上記ウェハの周縁部が当接
する直前またはそれより少し前までには、上記相対的に
大としてあった真空吸着力を意図的に弱めて進行方向と
は逆方向に加わる外力により、ウェハとウェハ支持部と
の間にずれを生じ得る状態とし： その状態で上記移送アームを一ヒ記ストッパ面に向けて
さらに進ませることにより、該ウェハ支持部とウェハと
の間に意図的なずれを生じさせながらウニ八周縁部をス
トッパ面に押し当てること； を特徴とするウェハ位置決め方法。

〈作用および効果〉 本発明においては、まず、ウェハを一枚づつ支持できる
移送アームとして、ウェハ支持部上に真空吸着原理でウ
ェハを支持するものを用いる。

したがって、先に従来例に即し述べたように、この種の
真空吸着原理による移送アームの持つ長所はそのままに
発揮することができる。

つまり、真空吸着力を十分に高めることにより、移送ア
ームを高速動作させる時にはウェハをしフかり保持し得
るという要請を満たすことができる。

また、ウェハの波打ち等も原理的に生じないし、同じ移
送アーム方式であっても機械的チャック方式のように、
ウェハを物理的に傷付けるおそれも少ない。

こうした真空吸着原理を利用した移送アームを用いた上
で、本発明においてはさらに、当該移送アームが少なく
とも今まさにウェハの進行方向先端周縁部をストッパ面
に押し当てようとする以前には、ウェハとウェハ支持部
との間にずれを生み得る程度の吸着力にまで、真空吸着
力を弱めるべくしている。

そして、その状態のまま、ウェハの先端周縁部がストッ
パ面に当接した後も、適当量だけ、移送アームをさらに
前方に進ませるべくしているため、上記のずれを極めて
効果的に利用して、ソフトにウェハをストッパ面に押し
付けることができ、またこの状態で適当に移送アームを
停止させ、真空吸着を止めれば、望ましくないウェイピ
ングやバック・ラッシュ等を最低限に抑えた高錆度の位
置決めが行なえる。

もちろん、相対的な真空吸着力の大小に関しては、そう
した差が生ずるということが本発明要旨上の条件であっ
て、それらの各絶対値のいかんは全くにして任意設計的
な問題である。

〈実　施　例〉 第１図には本発明のウェハ位置決め方法の原理ないし望
ましい一実施例が示されている。

ここでもウェハｌＯの位置決めを要する対象装置８０は
学にＬ字型のブロック上に簡単化して示してあり、本発
明の原理の理解のためにはむしろこの方が望ましいが、
実際の応用使途の一例を示すため、ここで前もって第２
．３図に即し、本発明が通用される装置系の実際につき
、−例を挙げて説明して置く。

第２図には、この種の半導体ウェハｌＯを複数枚、積層
状に一時保管可能な装置として、カセット２０が示され
ている。

カセット２０の内部には、高さ方向に適宜な間隔を置い
て複数の収納段２２．・・・・・・が設けられており、
実際にはこの収納段２２．・・・・・・はそれぞれカセ
ット側壁に切られた溝として構成されることが多く、適
当なる材質のウェハ１０．・・・・・・はその直径方向
で対向する縁部がこれら各段の溝２２．・・・・内に適
当深さ入り込むことにより、カセット内に支持、保管さ
れる。

第２図中にはまた、ウェハｌＯを一枚一枚、その先端の
ウェハ支持部３１で支持し、移送可能な移送アーム３０
も示されているが、すでに述べたように、この移送アー
ム３０は、本発明の適用を受ける場合、機械的なチャッ
ク方式ではなく、ウェハを物理的に傷付けるおそれが極
めて低く、またウェハの把持、釈放のために機械的に動
かねばならぬ部分がない点で優れている真空吸着方式と
される。

すなわち、馬蹄形をしたウェハ支持部３１の表面には真
空吸着用の開口３３が開けられていて、この開口３３は
、図示していないがアーム主体内を通る通路からさらに
は外付けのチューブを介し、適当なるコンプレッサ等の
真空吸着機の吸引部に接続され、したがってウェハ支持
部３１の上にウェハｌＯを載持した状態下で当該真空吸
着機を稼動させると、アーム３０に対し相対的なずれを
生むことなく、安定かつ強力にウェハ１０を支持、固定
することができる。

さらに、移送アーム３０は、図示しない駆動機構により
、矢印Ｕ−Ｄで示される上下方向や、矢印Ｆ−Ｒで示さ
れる萌後方向に駆動される。場合によっては前後Ｆ−Ｒ
方向および上下Ｕ−Ｄ方向に加え、これらに共に直交す
る左右方向にも駆動可能とされる。なお便宜上、本書で
は方向指示に関し、上ド、前後等は上記した方向に従う
ものとする。

また、ウェハ支持部３１が馬蹄形をしているのは、ウェ
ハ位置決め対象装置８０の一例として選ばれた第３図に
示される回転角位置整合装置４０における回転軸４２を
必要に応じ進行方向と直角に通１−ためであるが、これ
については後述する。もちろん、本発明の適用対象とな
る装置８０のいかんによフては、ウェハ支持部３１は適
当なる任意の形態を取ることが可能である。

カセット２０はまた、ウェハ存否検出装置５０により、
その内部の各段ごとにクエへを収納しているか否かが監
視される。このウェハ存否検出装置５０は、全体として
の各種機構や部品類を支持する支持台とかハウジング５
１を有し、このハウジングの中には反射型のフォト・イ
ンタラプタ５２（仮想線）が収められている。

フォト・インタラプタ５２は、周知のように、光学的な
非接触物体検出装置として各種のモジュールが市販され
ている外、ディスクリートに構成される等しても極めて
良く用いられており、原理的には投光器から輻射したレ
ーザ光等の光ビームの光路中に物体ＩＯが存在すると、
この物体への入射点に関する所定の入射角に対し、同じ
反射角の経路に沿って反射された反射光が受光器に入る
ことにより、当該物体の存在を非接触検出するものであ
る。

もちろん逆に物体ｌＯが存在しなければ、上記反射メカ
ニズムは生起せず、受光器の出力に変換電気出力は生じ
ないから、このことをして物体の非存在を検出すること
ができる。

ここでは当然、上記物体１０はウェハであり、当該ウェ
ハに対する図示しない投光器、受光器の幾何的な相対位
置は、ある程度の許容誤差を除き、かなり正確に初期設
定される。

またここに例示されている機構系においては、移送アー
ム機構共々、このウェハ存否検出装置５０は先に述べた
矢印Ｕ−Ｄで示される上下方向に走査可能となっている
。

こうした走査の結果、図示されているウェハ１０が検出
された場合、このウェハｌＯをカセット外に取り出して
次の工程のための所定個所にまで移送するには、図示さ
れていない駆動機構系により、アーム３０の高さが矢印
Ｕ−Ｄ方向に沿ってまず調整された後、すでに説明した
メカニズムにより、アーム３０がカセット内に侵入して
クエへを真空吸着し、逆にウェハを所定段に収めるとき
には、当該段が空いているか否かがまず検出された後、
最終的に真空吸着の停止を含む収納動作が生起する。

しかるに、この第２図に良く示されているように、通常
、用いられるウェハ１０の外径輪郭は、全周にわたって
円形のままではなく、その周縁の一部が直線状に切り落
とされたり、ノツチ状の刻みか入れられたりして、非円
形輪郭部分１１となっている。こうした直線状の切り落
としとかノツチは、各処理装置内にウェハをここで示す
ような移送アーム機構等により自動挿入するに際し、そ
の処理装置に設定されている処理のための座標系に対し
、ウェハ上の被処理対象部分を正しく合致させるための
回転角位置表示用である。

というのも、もしこうした回転角位置表示用の非円形輪
郭部分１１がなく、ウェハがその全周にわたりほぼ一定
の径の円形輪郭を保っていると、どの向きに処理装置内
に挿入したときに正しい方向となるのか、例えば移送ア
ーム等の自動挿入装置はこれを知る術がないからである
。

換言すれば、この非円形輪郭部分１１は座標系整合ない
し方向付けのための目印であり、一般にフラット・ファ
インダーとかノツチ・ファインダー等と呼ばれる自動回
転角整合装置において当該非円形輪郭部分１１を検出す
ることにより、これが所定の回転角位置にまで来るよう
クエへを回転して所定の座標系整合をなし、その後にこ
こで述べている移送アーム機構等の自動挿入装置でこの
座標整合されたウェハを処理装置内に挿入するべく使わ
れる。

例えばフラット・ファインダーの場合、第３図示のよう
な構成が採用されるが、まさしく、こうしたフラット・
ファインダー等の装置４０が、本発明で適用の対象とな
る、ウェハの位置決め対象装置８０の好適な一例となる
。

図示のフラット・ファインダー４０は、上面に対象とす
るウェハ１０の周縁を載せる環状の支持縁部４１があり
、中心には上端でウェハを真空吸着できる回転軸４２が
設けられ、この回転軸４２はモータ４４により回転可能
である上に、後述のようにモータ４６により上下方向に
も動き得るし、また先端の吸着開口４５を介し、上方に
位置付けられたウェハｌ。

を選択的に真空吸着することもできる。

ウェハｌＯを支持したアーム３０が、例えば図示矢印り
方向に駆動された後、Ｆ方向に駆動されて図示のフラッ
ト・ファインダー４０の上記支持縁部４１上にウェハ１
０を臨ませ、さらに進んで当該ウェハの先端周縁部を対
応するファインダー側の支持縁部分の立ち上がり旧に押
し付けると、ウェハのこのフラット・ファインダー４０
に対する位置決め完了となって、移送アームのウェハ支
持部におけるウェハ吸着支持は解かれ、これに代わって
、下がっていた回転軸４２が上昇し、その先端をウニへ
下面に当接させると共に、吸着開口４５を介してウェハ
を吸着する。

後述の所からすれば明らかなように、本発明は上記移送
アームのＤ方向からＦ方向への動き、およびウェハ先端
の周縁部が対応するストッパ面８１としてのフラット・
ファインダー側支持縁部立ち上がり面８１に当接した以
降の動きにその特徴を表すことができるが、まだここで
は便宜上、さらに以降のメカニズムに関し、説明を続け
て置く。

フラット・ファインダー４０の回転軸が所定位置に位置
付けられたウェハ１０を吸着支持すると、次いで回転軸
４２はウェハの周縁部の一部に形成されている非円形輪
郭部分１１の検出のため、回転する。

もっとも電気的な実際上の検出は、これと同時に稼動す
る投光器と受光器からなる透過型のフォト・インタラプ
タ４３による。

このフォト・インタラプタ４３は、支持縁部４１の一部
を切欠き、この切欠き部分に投光器側から受光器側へ光
ビームを通すようになっており、したがって支持縁部４
１の上方でウェハが回転されると、このフォト・インタ
ラプタの下を非円形輪郭部分Ｕが通過しているときだけ
、受光器側にて光ビームを捕えることができ、これによ
り、ウェハの回転角位置を知ることができる。

一般にこの光ビームは、周波数が既知のパルス・ビーム
とされ、したがってウニへの一回転あたりに受光器によ
り検出されるパルス数を勘定することにより、ウェハの
回転角位置を相当な分解能で検出することができる。

したがって、仮に第２図に示されるようなカセット２０
内にその当初、人手により複数枚のウェハを収納したと
き、収納されたウェハが勝手に適当な回転角方向を向い
ていても、このフラット・ファインダー４０を通すこと
により、処理装置に挿入する而には全て、所定の回転角
方向に一致させることができる。

このようにしてウェハを所定の回転角位置に付けた後は
、再び移送アームを呼び戻し、そのウェハ支持部３１上
にウェハを吸着支持させて、図示しない何等かの処理装
置に送り込めば、当該装置に設定されている座標系にあ
らかじめ整合を取ったウェハに対しての当該所定処理な
いし加工を加えることができる。

なお、ノツチ・ファインダーの場合も、非円形輪郭部分
１１の形状が三角形の刻゛み状になっているだけで、原
理的にはほぼ同様の検出系で検出可能である。

以上のようなシステムにおいて、本発明は、既述したよ
うに、第３図中に示されている移送アームの動きやウェ
ハｌＯのフラット・ファインダー４０（ウェハ位置決め
対象装置８０）上へのウェハ釈放のための所定の位置付
けに関し、有効にその効果を発揮することができる。

この点につき、詳しく第１図に即して説明すると、まず
同図（Ａ）中に矢印りで示すように、フラット・ファイ
ンダー４０（第３図）等の対象装置８０に対し、適当な
る高さまで（例えばＤ方向に）移送アーム３０を動かし
てくるときには、すでに説明したウェハ支持部３１上の
ウェハｌＯの真空吸着力は十分強くして置いて良く、こ
れにより、移送アーム３０を相当程度、高速動作させて
も、ウニ八自体の有する慣性質量等に起因する非意図的
な“ずれ”は効果的に防ぐことができる。

換言すれば、相対的に大なる真空吸着力とは、例えば意
図的に動いている移送アーム上のウェハｌＯを無理に抑
える等して止めを掛けても（そのようなことは通常、あ
り得ないが）、ウェハ１０とウェハ支持部３１との間に
“ずれ”が生まれず、むしろ移送アーム３０が停止して
しまう程度の力であって良い。ただし、これは定性的な
力の説明の一例であって、その絶対値は設計的に定める
ことができる。

次に、第１図（Ｂ）に示されているように、移送アーム
３０を前方Ｆに動かし、支持しているウェハ１０を対象
装置８０上に移行させるが、これに先立ち、ないしこの
時点で、移送アーム３０によるウェハ真空吸着力を第二
の相対的に弱い力に切換えて良い。

こうした相対的に弱い力でウェハ支持部３１上にウェハ
１０を支持している移送アーム３０を、望ましくはさら
に移動速度をも低下させながら、比較的ゆっくり、Ｆ方
向に動かすと、やがてのことに、第１図（Ｂ）に示され
ているように、ウェハｌＯの先端周縁部１２がストッパ
面８１に当接する状態が生ずる。

従来においては、このようになるとそこで速やかに移送
アームを停止させなければならなかフたが、本発明にお
いてはこの状態に至ってもなお、さらに適当量、移送ア
ーム３０に前方Ｆへの駆動力を与え続ける。この力は第
１図（Ｃ）においてビとして示しである。

こうした力が印加されたとき、本発明においては、すで
にウェハ支持部３１によるウェハ１０の真空吸着支持力
が弱められているので、それらの間に望ましい“ずれ”
を生むことができ、ウェハ１０の先端周縁部１２がスト
ッパ面８１に当接した状態のまま、移送アーム３０だけ
が前進ピを続ける状態を具現することができる。

これは結局、ウェハｌＯに物理的に問題となる程の力を
与えない範囲において、ウェハ１０をストッパ面旧に確
実に押し当てる効果を生む。

逆に言えば、上記相対的に弱い力とは、このような操作
をしたときにも、臨ましい“ずれ”を生じてウェハｌＯ
を損傷することのない程度の力であり、もちろん、その
実際の絶対値は各現場での設計に任される問題である。

また、本発明の場合、最終的に確実にストッパ面８１に
対してウェハ！０を位置付けられるということは、例え
ばウェハｌＯに製作公差が見込まれ、径の変動幅がある
ために、これを補償すべく、ストッパ面８Ｉに当接後、
若干、ウェハ１０を挿入してきた方向に逆に戻すような
場合にも、元の位置がしっかりしているので高精度でこ
の戻し作業が行なえ、しかも移送アームによるウェハ吸
着力は弱めて置けるので、この補償操作後の移送アーム
からのウェハ解除も平滑に行なうことができる。

このようにしてウェハ１０の位置決めがなされた後は、
先に第３図に即して少し述べたように、この′ｆＳ１図
示の装置８０がフラット・ファインダー４０である場合
には、同図（Ｄ）に示されているように、その回転軸４
２が矢印Ｕ方向に持ち上げられ、上記のように相対的に
吸着力が弱められているか、または上記完全な位置決め
の後に真空吸着機の稼動が停止された結果、吸着支持力
を失った移送アームのウェハ支持部３１上か′らウェハ
ｌＯを当該回転軸４２の先端上に取り上げ、真空吸着す
る。

こうなれば、最早移送アーム３０はそこに存在する意味
がないので、第１図（Ｅ）に示されているように後方Ｒ
に引き戻すことにより、すでに説明した通り、フラット
・ファインダー４０（８０）での回転軸４２０回転とフ
ォト・インタラプタ４３の稼動に基づくウェハ１０の回
転角位置整合動作を許すことができる。

なお図面中における煩雑化を避けるため、第３図中に示
されているフォト・インタラプタ４３は第１図（＾）に
のみ、概略的に図示して置く。

また上記においては、本発明に従う真空吸着力の変更は
、第１図（Ａ）と第１図（Ｂ）との間でなされるように
記した。しかし、明らかなように、少なくとも真空吸着
力を弱めるのは、ストッパ面８１にウェハ１０が当接し
たとき、さらなる送りによる“ずれ″を利用し、所定位
置を確保するためであるから、少なくとも当該ストッパ
面８１に対するウェハ先端周縁部１２の当接が生ずる直
前までに行なわれていれば良い。言い換えれば、第１図
（Ｂ）中の矢印Ｆ方向への進行過程中においてなされる
ようにしても良いし、逆に、クエへが一時的に保管され
ているカセット２０（第２図）等の場所がらウェハを位
置決めるための装置８ｏに移送する経路中、その大略的
な長さ部分でウェハをしっかりと保持できれば良い場合
には、当該長さ部分を経過した後、例えばまだ第１図（
Ａ）中の矢印りで示されるような経路中に移送アーム３
ｏがあるときに、すでに真空吸着力を相対的に弱めるべ
くしても良い。それでもなお、本発明の思想に従い、少
なくとも二段階に真空吸着力を操作し、かつストッパ面
にウェハ先端周縁部が当接するときには“すわ”が可能
なようにするという機構は満足し得るからである。

もちろん、すでに何度も述べているように、本発明の適
用対象は、上述のフラット・ファインダーには限らない
。ストッパ面に対しウニ八周縁部を当接させることによ
り、所定の位置決めをなす装置にはなべて適用すること
ができる。

また、ウェハ存否検出装置５０における誤検出要因の除
去のための改良や、一対の移送アームを用いることによ
るスルー・プツト向上のための改良等も本出願人は別途
図っているが、こうしたこと自体は本発明に直接の関係
がなく、このような改良された製造システムはもとより
、上記周辺機構には従来用いられていたものをそのまま
援用する半導体回路製造系にも、本発明は全く同様に有
効に適用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１同各図は本発明によるウェハ位置決め方法の望まし
い一実施例の工程図、第２図は本発明方法を適用可能な
装置系に用いられるウェハ保管装置としてのカセットの
一例の概略構成図、第３図は本発明方法の適用される装
置の一例として、フラット・ファインダーを示す概略構
成図、第４図および第５図は従来におけるウェハ位置決
め方法の説明図、である。 図中、１０はウェハ、２０は保管装置としてのカセット
、３０はウェハを真空吸着可能な移送アーム、３１はウ
ェハ支持部、３３は真空吸着用開口、４０はウェハを位
置決めるべき装置の一例としてのフラット・ファインダ
ー、４１はウェハ支持縁部、４２は回転軸、４３は非円
形輪郭部分検出用フォト・インタラプタ、５０はウェハ
存否検出装置、８０はウェハを位置決めるべき対象装置
、８１は該装置に形成され、ウェハ進行方向に対して立
ちはだかるストッパ面、である。 第３図 最＼３１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ストッパ面に対しウェハの周縁部を当接させることによ
   り、ウェハを所定の位置に付けるウェハ位置決め方法で
   あって； 先端にウェハを支えるウェハ支持部を有し、かつ真空吸
   着により、該ウェハを該ウェハ支持部上に吸着支持でき
   る移送アームを用い； 上記ストッパ面近傍までの上記移送アームによる上記ウ
   ェハの移送過程においては、上記真空吸着力を相対的に
   大にしてウェハを強く吸着して置く一方； 少なくとも上記ストッパ面に上記ウェハの周縁部が当接
   する直前またはそれより少し前までには、上記相対的に
   大としてあった真空吸着力を意図的に弱めて進行方向と
   は逆方向に加わる外力により、ウェハとウェハ支持部と
   の間にずれを生じ得る状態とし； その状態で上記移送アームを上記ストッパ面に向けてさ
   らに進ませることにより、該ウェハ支持部とウェハとの
   間に意図的なずれを生じさせながらウェハ周縁部をスト
   ッパ面に押し当てること； を特徴とするウェハ位置決め方法。