JPS63295556A - 多環複素誘導体、その製法および人・動物医薬 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、多環複素環誘導体、その製造法、並びにひ
とおよび動物用医薬および化粧品におけに関係する皮ふ
疾患、並びに炎症性および／または免疫アレルギー性要
因にもとづく皮ふ科その他の疾患の局所および全身性処
置、並びに結合組織の変性疾患の処置上の用途を有し、
また抗腫瘍活性を示す。さらに、この誘導体は、皮ふま
たは呼吸器アトピーの処置、およびリューマチ様乾せん
の処置に用いることができる。

また、この化合物は眼科領域、すなわちコルネオパシー
の処置に有用である。

この発明の多環複素環誘導体は、下記一般式［式中、ｎ
は１または２、 Ｒ１は（ｉ）低級アルキル基、 （ｉｉ）ＣＨｙＯＨ−または （ｉｉｉ）−Ｃ−Ｒ１、 Ｒ，は（イ）水素原子、 （ロ）基 ｒｏ −Ｎ　　　　、または ｒ“ （ハ）基−ＯＲｓ、 Ｒ３は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、モ
ノもしくはポリヒドロキシアルキル基、所望により置換
されていてもよいアリールもしくはアラルキル基、また
は糖残基、または下式の基ｒ゛ ｐは１，２または３、 ｒｏおよびｒ”は水素原子、低級アルキル基、モノヒド
ロキシアルキルもしくはポリヒドロキシアルキル基、所
望により置換されていてもよいアリール基、アミノ酸も
しくはアミノ糖残基、または一緒になって複素環を形成
し、 Ｘは酸素原子、硫黄原子、５Ｏ１ＳＯ１または基−ＮＲ
い ＹはＣＲ，または窒素原子、 Ｒ４は水素原子または低級アルキル基を表わすコで示さ
れる化合物、または上記式（１）の多環複素環誘導体の
塩類である。

炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデ
シル、ヘキサデシルおよびオクタデシルが含まれる。

低級アルキル基としては、炭素原子数１〜４の基、とく
にメチル、エチル、イソプロピル、第３扱ブチルが含ま
れる。

モノヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数２〜４
の基、とくに２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプ
ロピルおよび２°−ヒドロキシ−２−エトキシエチルが
含まれる。

ポリヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数３〜６
でヒドロキシ基数２〜５の基、例えば２゜３−ジヒドロ
キシプロピル、２．．３．４−トリヒドロキシブチル、
２，３，４．５−テトラヒドロキシペンチルまたはペン
タエリスリトール基が含まれる。

糖残基としては、例えばグルコース、マンノース、エリ
スロースまたはガラクトースから誘導される基が含まれ
る。

アミノ糖残基としては、グルコサミン、ガラクトサミン
またはマンノサミンから誘導される基が含まれる。

アリール基としては、所望によりハロゲン原子、ヒドロ
キシ、ニトロ官能基または低級アルキルで置換されてい
てもよいフェニルが含まれる。

適当なアラルキル基としては、特にベンジルおよびフェ
ネチルが含まれる。

ｒｏとｒ”が一緒になって形成する複素環としては、ピ
ペリジへピペランノ、モルホリン、ピロリジノまたは４
−（２°−ヒドロキシエチル）ピペラジノが含まれろ。

この発明の化合物が塩の形で存在する場合、少なくとも
１個の遊離酸官能基をもつならばアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩、亜鉛塩、または有機アミン塩、または
少なくとも１個のアミン官能基をもつならば無機または
有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩またはくえん酸
塩であり得る。

式（１）の化合物には、特に下記のものが含まれる。

ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］フリル）安
息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］フリル）安
息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チェニル）
安息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チェニル）
安息香酸 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ＩＨ−ベンズ［ｆ］インドリル）
安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−Ｉ　Ｈ−ベンズ［ｒ］ゼインリル
）安息香酸メチルエステル、 ｐ−（１−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル−２−ベンズ［ｆ］インド
リル）安息香酸メチルエステル、 ｐ−（１−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル−２−ベンズ［ｒ］ゼイン
リル）安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）ベンジルアルコール、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）ペンズアルデビト、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄｌオキサシリ
ル）安息香酸エチルアミド、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸モルホリド、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸２−ヒドロキンエチルエステル、ｐ−（５
，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラ
メチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリル）安息
香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリ
ル）安ｅ、香酸、および ２−（４−メチル）フェニル−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフト［２゜３
−ｄ］イミダゾール。

式（１）の化合物の中で、この発明において特にＸは酸
素原子、硫黄原子または基ＮＲ，、ＹはＣＲ，または窒
素原子、 Ｒ４は水素原子またはメチル基を表わす］で示される化
合物である。

上記式［Ｉ［］の化合物の中では、特に下記のものが挙
げられる。

ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チェニル）
安息香酸およびそのメチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ＩＨ−ベンズ［ｒコインドリル）
安息香酸およびそのメチルエステル、ｐ−（５，６，７
，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−
２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾｐ−（５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリル）安息香酸および
そのメチルエステル、ｐ−（１−メチル−５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ベンズ［ｆコインドリル）安息香酸およびそのメチル
エステル。

この発明はまた、式（１）の化合物の製造法を提供する
ものである。

この化合物は、下記２つの合成法により得ることができ
る。

Ａ）第１法（反応式１） この方法は、式（１）においてＹが窒素原子を示す場合
に好ましい。

この方法は、式（１）で示される芳香族カルボン酸誘導
体を式（２）でされる芳香族ジアミノ、ヒドロキシアミ
ノ、またはチオアミノ誘導体と反応させることを含む （Ｖ ［但し、Ｒ５はＨでなく、 Ｑ＝ＣＩＨまたはＣ（２ Ｘ＝ＮＨ，０またはＳコ 酸クロリド（ＩＸＱ＝ＣＩ２）を芳香族アミノ化合物（
２）に反応させて中間体（３°）を得、これを単離する
。酸（Ｉ　ＸＱ　＝　ＯＨ）と化合物（２）をトリフェ
ニルホスフィンまたはジシクロへキシルカルボジイミド
、またはジエチルアゾジカルボキシラートとトリフェニ
ルホスフィンの存在下に既知の方法で反応させても中間
体（３°）が得られるＬついで、中間体（３°）を酸で
処理して閉環させ、式（３）の化合物とする。この閉環
反応には、ｐ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸
をトルエンまたはキシレンのような不活性溶媒中で用い
ることができる。閉環温度は、使用した溶媒の還流温度
付近が好ましい。

変法として、式（１）の酸（Ｑ＝ＯＨ）と芳香族アミン
（亀）をキシレンのような不活性溶媒中酸触媒例えばｐ
−トルエンスルホン酸等の存在下直接溶媒の沸点程度に
加熱して、式（３）の化合物を得ることができる。

Ｂ）第２法（反応式２） この方法は、式（１）においてＹが基ＣＲ４を示１、）
。

＜ｇン ［但し、Ｒ，１＝Ｈ１ Ｑ＝ＯＨまたはＣＣ１ Ｘ＝ＮＨＳＯまたはＳ Ａ＝　　Ｐ”　（Ｖ）ｓＢｒ−（Ｖはアルキルまたはア
リールまたは−Ｐ（＝ＯＸＷ）！、Ｗはアリール、アル
コキシまたはア リールオキシ）］ 第２法によると、閉環反応、すなわちホスホニウム基ま
たはホスフィニル基を有する誘導体（７）から化合物（
８）への反応は、ウイテインヒまたはウイテインヒ・ホ
ーナー反応の条件下、すなわち、塩基の存在下に行なわ
れ、塩基としては、アルカリ金属ヒドロキシドまたは炭
酸塩、例えばリシン（Ｌ　ｉｏ　Ｈ）または炭酸カリウ
ム、アルカリ金属水素化物、例えば水素化ナトリウム、
アルカリ金属アルコラード、例えばナトリウムメチラー
トまたはカリウム−ｔ−ブトキシド、第３級アミン、例
えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンま
たはジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）、またはアル
カリアミド、例えばナトリウムアミドまたはリチウムジ
イソプロピルアミドが用いられる。反応温度は一７８℃
〜＋１５０℃の間であり、溶媒としては、双極性非プロ
トン溶媒（ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルム
アミド）、アルコール、エーテル（ジオキサンまたはテ
トラヒドロフラン）を用いることができる。反応は、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）中０〜８０℃で塩基として
トリエチルアミンまたはＤＢＵを用いて行なうのが有利
である。

臭素化反応、すなわち化合物（６）を得る反応は、Ｎ−
ブロモスクシンイミドの存在下、好ましくは乾燥したベ
ンゼンまたは４塩化炭素中で行なわれ、温度は好ましく
は７０〜９０℃で、好ましいラジカル開始剤はベンゾイ
ルペルオキシドである。

アシル化反応、すなわち化合物（５）を得る反応は、既
知の方法により行なう。ＸがＮＨを示す場合、反応は式
（１）の化合物を酸クロリド（Ｑ＝ＣＱ）の形で用い、
第３級アミンの存在下に行なうのが有利である。

上記２つの方法で得た化合物は、既知の方法にしたがっ
て、Ｒ５が意味を示す化合物を得るために変換すること
ができる。

エステルをけん化して、対応する酸を得る。これは、酸
クロリドに変換し、これは容易にアミドに変えることが
できる。このアミドはまた、アミンに対して上で得たエ
ステルを直接反応させても得られる。エステル、アルデ
ヒドまたはアミドを適当な還元剤（例えば水素化アルミ
ニウムリチウムで還元すると、それぞれ対応するアルコ
ールおよびアミンを得ることができる。

この発明はまた、工業的生産物として、下記一般式 ［式中、ｎは１または２、 Ｘは酸素原子、硫黄原子または基ＮＲ，、Ｒ４は水素原
子または低級アルキル基を表わす］で示される合成中間
体を提供するものである。

上記式（ＩＩｐの中間体には、下記の化合物が含まれる
。

２．３−ジアミノ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチルナフタレン、３−アミノ−
５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８−テト
ラメチル−２−ナフトール。

本発明の化合物は「テープスリッピング」により処置し
た毛のないラットにおけるオルニチン　デカルボキシラ
ーゼの阻害実験で良好ないしは優れた効果を示した（エ
ム・ブクリエら、デルマトロジカ（ＤＥＲＭＡＴＯＬＯ
Ｇ　Ｉ　ＣＡ）１６９　　Ｎｏ。

４１９８４）。この実験は細胞増殖現象に対するビタミ
ンＡ誘導体活性の測定と同じように行う。

本化合物は特に角質化障害（分化、増殖）に関連する皮
膚病および炎症性および／又は、免疫アレルギー性皮膚
病、とりわけ下記の疾病の処置に適している。

−通常の、面飽又は多形性にきび、老人性、日光性にき
び、および薬物性又は職業性にきび。

−日光性角化症 −拡散型および／又は重症型乾癖状態および他の角質化
障害およびとりわけ、魚鱗癖および魚鱗癖様状態。

−ダリエ氏病 −掌上角化症 −白色角化症および白色角化様状態、平面苔癖−あらゆ
る良性又は悪性の、重症又は拡散性または増殖性皮膚病 本化合物はまた、腫瘍の治療、リウマチ性乾癖、皮膚科
あるいは呼吸器系アトピーおよび角膜疾患に関する種々
の眼科治療における種々のリウマチ性病に対しても同様
に有効である。

本化合物は又、皮膚の老化、特に日光による老化の防止
にも使用することができる。

本発明は従って、また少くとも下記に定義した式（１）
の化合物またはその塩の１種を含む医薬組成物を目的と
するものである。

本発明はまた、製薬的に許容される担体中に、少くとも
式（１）またはその塩の化合物を含むことを特徴とする
、前記の病気の治療に適用する新規な医薬組成物を目的
とする。

本発明による化合物を一般に１日あたりおよそ０、ｌｌ
１９／に９からＩｎ／に９（体重）の量で投与する。

組成物の担体としては、あらゆる慣用的な担体を使用す
ることができ、有効成分は賦形剤中に溶解してまたは分
散して存在する。投与は経口、非経口、直腸、局所およ
び眼科的方法によって行うことができる。

経口投与において、薬剤は、錠剤、カプセル、糖衣錠、
シロップ、懸濁液、溶液、粉末、顆粒、乳化液の形で提
供することができる。非経口投与において、組成物は点
滴又は注射用の溶液又は懸濁剤の形で提供することがで
きる。直腸投与については、組成物は座薬の形で投与さ
れる。局所投与において、本発明にもとづく医薬組成物
は軟膏、チンキ、クリーム、ポマード、粉末、貼薬、湿
性タンポン、溶液、ローション、ゲル剤、スプレーおよ
び懸濁液の形で提供される。局所投与の組成物は式（ｐ
の化合物を好ましくはおよそ０．００００１から０．０
１重量％を含む。局所投与の組成物は臨床指示に従って
無水でも、含水の形でも提供できる。眼科投与は主とし
て点眼薬である。

本発明による式（ｐの化合物は、特に化粧品の分野にお
ける使用が可能である。特に身体および毛髪の衛生およ
び特に、にきびの傾向にある皮膚の治療、育毛、抜毛防
止、皮膚及び頭髪の脂症対策あるいは生理学的乾燥肌の
治療に適用することができる。

本発明は従って、特に化粧品製造上許容される担体中に
、少くとも式（ｐの化合物又はそれらの塩の１つを含む
化粧品の組成物に適用される。その組成物は特にローシ
ョン、ゲル剤、石鹸、又はシャンプーの形で提供される
。

式（ｐの化合物の濃度は化粧品組成物においては、ｏ、
ｏｏｏｏｔから０．０１重量％の間である。

この発明による薬剤又は化粧品の組成物は、不活性な添
加物又はそれ自体薬効的に又は化粧品学的に活性なもの
、特に：チオアモルフォリノンおよびその塩又は尿素の
ような水和剤、Ｓ−カルボキシメチルシスティン、Ｓ−
ペンジルシステアミン、それらの塩およびそれらの誘導
体、チオキソロン又は過安息香酸のような抗皮脂剤又は
抗にきヒ剤、エリスロマイシンおよびそのエステル、ネ
オマイシン、テトラサイクリン又は４−ポリメチレン−
４−イソチアゾリン−３−オン類のような抗生物質、育
毛に効果のある「ミノキシジル」（２゜４−ジアミノ−
６−ビペリジノピリミジンー３−オキシド）およびその
誘導体、ジアゾオキシド（７−クロロ−３−メチル−１
，２，４−ベンゾチアシアノン−１，１−ジオキシド）
およびフェニトイン（５，５−ジフェニルイミダゾリジ
ン−２，４−ジオン）のような物質；ステロイド性又は
非ステロイド性抗炎症剤；カロチノイド特にβ−カロチ
ン：アンスラリンおよびその誘導体、５，８，１４．１
４エイコサテトライノイツク酸および５，８．１１エイ
コサトリイノイツク酸、それらのエステルおよびアミド
のような抗乾癖剤、を含むことができる。

本発明による組成物は特に風味改良剤、防腐剤、安定剤
、湿潤剤、ｐＨ１１整剤、浸透圧調整剤、乳化剤、α−
トコフェロール、ブチルヒドロキシ−アニソール又はブ
チルヒドロキシトルエンを含むことができる。

下記の実施例の項に、いかなる限定的な意味ももたない
本発明による式（１）を有する活性化合物とそれを含む
組成物の種々の例を示す。

実施例１ ａ）　　３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトール 丸底フラスコ中に１０．８９（１００ミリモル）のオル
ト　クレゾール、１００ｘ（！のジクロロメタン（ＣＨ
ｔＣＩ２２）および１８．３ｇ（１００ミリモル）の２
．４−ジクロロ−２，４−ジメチルヘキサンを入れる。

５℃に冷却し、６．６９の塩化アルミニウムを少量づつ
添加する。２０℃に再び上げる。２時間撹拌し、それか
ら２００村の水に反応液を注ぐ。

有機層を移し取り、硫酸マグネシウム（ＭｇＳ０４）で
乾燥する。溶媒を留去する。残渣を１００πｇのヘキサ
ンから再結晶させる。かくして、融点１２２〜１２３℃
の３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
，８，８−テトラメチル−２−ナフトールを２０．３ｇ
（９３％）得る。

ｂ）ｐ−（３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ
−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチルオキシ
カルボニル）安息香酸メチルエステル １００＋Ｃのテトラヒドロフラン（ＴＨＩ”）中に８゜
７９Ｃ４０ミリモル）のｌａ）で得たナフトールと６゜
２ｘＣ（４４ミリモル）のトリエチルアミンを溶解する
。ｐ−（メトキシカルボニル）ベンゾイルクロリドＣ８
，８９＝４４ミリモル）のＴＨＦ’（５ＯＮ）溶液を滴
下し、室温にて４時間撹拌する。反応液を２００ｘＱの
水に注ぎ、３００畦のＣＨ！　ＣＱ−で抽出する。有機
層を移し取り、Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏ４で乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をイソオクタンから再結晶させる。かくして
、融点１１１−１１２℃のｐ−（３−メチル−５，６，
７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８−テトラメチル
−２−ナフチルオキシ　カルボニル）安息香酸メチルエ
ステル１ｌｌｉ＋（７２％）を得る。

ｃ）　　ｐ−（３−ブロモメチル−５，６，７，８−テ
トラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフ
チルオキシ　カルボニル）安息香酸メチルエステル ｌｂ）で得たエステル（１０，６０９：　２７．８ミリ
モル）、ベンゾイルペルオキシド（５０ｍｇ）および四
塩化炭素（ＣＣ，、）、（１５０ｍ（２）ｆ）混合物ラ
ミｌ流させる。４．９６９（２７゜８ミリモル）のＮ−
ブロモ　スクシンイミド（ＮＢＳ）を少量づつ加える。

２４時間還流を続け、溶媒を留去する。残渣をシリカの
カラムを通して精製する（溶出液：ヘキサン／ＣＨｔＣ
（！＊：１／ｌの混合物）。かくして、目的とするエス
テル８０％と出発物質のエステル２０％の混合物１２ｇ
を得る。

ｄ）ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８
．８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］フラン
−２−イル）安息香酸メチルエステル 丸底フラスコ中にｌｃ）で得た混合物１１．８ｇ、ＴＨ
Ｆｌｏｏｘ（！および６．５０９のトリフェニルフ中ス
フィン（２４，６ミリモル）を入れる。４時間還流させ
て加熱し、１０℃に冷却し、３．７０ｍＱの！、８−ジ
アザビシクロ（５，４，０）ウンデカ−７−エン（ＤＢ
ＵＸ２４．６ミリモル）を滴下する。

室温に戻し、５時間撹拌する。反応液に水を加え、エー
テルで抽出し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を留去する。

残渣をシリカのカラムを通して、精製する（溶出液：ヘ
キサン／ＣＨ！ｌＪｆ：１／１）。かくして、融点１８
４〜夏８５℃のｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−
ｂ］マフラル）安息香酸メチルエステル４．２０９を得
る。

実施例２ ル）安息香酸 ３．８０ｇ（１０，４ミリモル）のｌｄ）で得たエステ
ルを２Ｎメタノール性ソーダ２００ＲＱと４時間還流さ
せて処理する。メタノールを留去し、再び水を加え、濃
塩酸（ＨＣｉ２）で酸性にする。エーテルで抽出し、有
機層を移し取りＭ　ｇ　Ｓ　Ｏ４で乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をジイソプロピルエーテルと酢酸エチル２／
１の混合物から再結晶させる。

かくして、３．５０９（９７％）のｐ−（５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフト［２，３−ｂ］マフラル）安息香酸を得る）。

融点は３０７〜３１２℃である。

実施例３ ａ）　　２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルチオカルバモイルオキ
シ）３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−ナフタレン 丸底フラスコ中に１．７ｇ（５７ミリモル）の水素化ナ
トリウム（油中８０％）と５０ｍ１２のジメチルホルム
アミドを入れる。１０．３ｇ（４７ミリモル）の３−メ
チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８
−テトラメチル−２−ナフトールのＤＭＦ１００ｘ１２
溶液を滴下すると、気体の発生が止むまで撹拌する。Ｄ
ＭＦ　１００ｍＱに溶解した８、１９（６６ミリモル）
のジメチルチオ−カルバモイルクロリドを加え、室温に
２４時間撹拌する。水を注入し、エチルエーテルで抽出
し、有機層を移し取り、水で洗浄し、Ｍｇ５Ｏ＋で乾燥
、溶媒を留去する。シリカカラムクロマトグラフィーに
より精製する（溶出液：ＣＨ＊ＣＱｔ／ヘキサン：２　
ｏ／ｇ　ｏ）、−０かくして、融点１０２〜１０３℃、
１３゜２９Ｃ９２％）の２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルチオカ
ルバモイルオキシ）−３−メチル−５，６，７，８−テ
トラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−ナフタレ
ンを得る。

ｂ）　　２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルチオ）−
３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，
８，８−テトラメチル−ナフタレン １３ｇ（４２，５ミリモル）の３ａ）で得た化合物を窒
素気流中２８０℃で加熱する。冷却後、残渣をシリカカ
ラムを通す（溶出液：ヘキサン／　ＣＨｔ　ＣＱ　＝７
０／３０）。

かくして、融点！４２〜１４３℃の２−（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルカルバモイルチオ）−３−メチル−５゜６．７．８
−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−ナフ
タレン１０．２ｇ（７９％）を得る。

ｃ）　　３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−チオナフトール ９．８ｇ（３０ミリモル）の３ｂ）で得た生成物を２Ｎ
メタノール性ソーダ２００３＋１２で２時間還流する。

溶媒を留去し、水を加え、ｐＨＯに酸性化しく濃ＨＣｉ
２）、エーテルで抽出し、有機層を移し取り、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。かくして、融点９
１〜９２℃の３−メチル−５，６，７゜８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−チオナフトー
ル６．９９（９８％）を得る。

ｄ）　　ｐ−（３−メチル−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチルチ
オ）カルボニル安息香酸メチルエステル 丸底フラスコに５．９９（３３ミリモル）のテレフタル
酸のモノメチルエステルと５０′ＲＱのＴＨＦを入れる
。５．３ｇ（３３ミリモル）の１．１−カルボニルジイ
ミダゾールを加え、気体の発生が止むまで撹拌する。次
に、７９（３０ミリモル）の３ｃ）で得た化合物をＴＨ
Ｆ５０ｚ（！に溶解したものを加え、４時間室温にて障
拌する。

水を注入し、エーテルで抽出、炭酸ナトリウムの飽和水
溶液で洗浄し、有機層を移し取り、ＭｇＳＯ４で乾燥し
、溶媒を留去する。残渣をイソオクタンから再結晶させ
、融点１０５〜１０６℃のｐ−（３−メチル−５，６，
７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル
−２−ナフチルチオ）カルボニル安息香酸のメチルエス
テル９．５９（８１％）を得る。

ｅ）　　ｐ−（３−ブロモメチル−５，６，７，８−テ
トラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフ
チルチオ）カルボニル安息香酸メチルエステル ９．２６９（２３ミリモル）の３ｄ）で合成した化合物
を５０幻のベンゾイルペルオキシドを含む１５ＯｘＱの
四塩化炭素の還流下加熱する。４．１６９（２３ミリモ
ル）のＮ−ブロム−スクシンイミドを少量づつ添加し、
添加終了後１２時間還流させる。

溶媒を留去し、残渣をシリカカラムクロマトグラフィー
により精製する（溶出液：　ＣＨｘＣＱ２／ヘキサン　
１／ｌ）。かくして、目的物のモノブロム誘導体（８５
％）とブロムのないまたはジグロム誘導体（１５％）の
混合物１０．８ｇを得る（混合物中のメチル、ブロムメ
チル、ジブロムメチルグループのプロトンのＮＭＲのシ
グナルを全部加えたものと比較して処理した量）。この
混合物は次の合成にそのまま使用する。

ｆ）　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
゜８．８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チ
ェニル）安息香酸メチルエステル丸底フラスコに１０．
５９の上記混合物、６ｇ（２３ミリモル）のトリフェニ
ルフォスフインおよび１００ｍ１２のＴＨＦを入れる。

４時間還流下加熱し、再び１０℃に冷却し、再び３　、
５　ｙＱのＤＢＵを加える。４時間室温で撹拌し、水を
注入し、エーテルで抽出し、有機層を移し取り、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカカ
ラムクロマトグラフィーで精製する（溶出液：ヘキサン
／ジクロロメタン　８０／２０）。かくして、融点１８
６〜１８７℃のｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−
ｂ］チェニル）安息香酸メチルエステル６．６９を得る
。

実施例４ ル）安息香酸 ５９（１３ミリモル）の３ｆ’）で得たエステルを２Ｎ
メタノール性ソーダ２００１１２で処理し、２時間還流
下加熱し、乾燥後留去し、再び水を加え、濃ＨＣＱでｐ
Ｈ＝１に酸性化し、エーテルで抽出、有機層を移し取り
、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を留去する。残渣をイソプ
ロピルエーテル−酢酸エチルの混合物から再結晶させる
。かくして、融点２９１〜２９２℃のｐ−（５，６，７
，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−
２−ナフト［２゜３−ｂ］チェニル）安息香酸４．６ｇ
（９６％）を得る。

実施例５ リル）安息香酸 ａ）　　２−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチルナフタレン丸底フラスコ
中に６４ｘ＆（６００ミリモル）トルエンと３６．６９
（２００ミリモル）の２．５−ジクロロ−２，５−ジメ
チルヘキサンを入れる。０℃に冷却し、４．１ｇ（３０
ミリモル）の塩化アルミニウムを少量づつ加え、１時間
室温にて撹拌する。

反応液に水を注入し、ＣＨ＊Ｃ（Ｉｔで抽出し、有機層
を移し取り、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。得られた油層を蒸留して精製する。

かくして、蒸発点６８℃（ｔｉ＊Ｈｇ）の２−メチル−
５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−ナフタレン３９．４９（９８％）を得る。

ｂ）２−メチル−３−ニトロ−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフタレン ５０９（２５０ミリモル）の２−メチル−５，６゜７．
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフ
タレンを無水酢酸２００ｉ１２中に溶解する。

０℃に冷却し、０℃から５℃の温度に保ちつつ、１０ｘ
Ｑの硝酸、２０Ｊ！ｅの酢酸および２０酎の無水酢酸の
溶液を滴下する。続いて、室温にて１時間撹拌し、氷水
に注ぎ、得られた固体を濾取し、水で洗浄する。固体を
塩化メチレンに溶解し、水で洗浄し、次に、炭酸ナトリ
ウム飽和溶液、水で洗浄し、Ｍｇ５Ｏａで乾燥し溶媒を
留去する。かくして、融点！４３〜１４４℃の２−メチ
ル−３−ニトロ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチルナフタレン４５．８９（７４
％）を得る。

ｃ）　　３−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチルアミン ２４．７９（１００ｍｍｏｌ）の５ｂ）で得たニトロ誘
導体を４００１のエタノールに溶解する。鉄粉３３゜６
９（６００ミリモル）を加え、濃塩酸３８ｘＱを滴下す
る。１時間還流しつつ加熱し、乾燥後溶媒を留去し、残
渣を水に投入し、注意しつつ過剰量の炭酸ナトリウムを
加えた後、エーテルで抽出する。

濾過し、濾液を回収し、Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏ４で乾燥し溶媒
を留去する。かくして、融点９４〜９５℃の３−メチル
−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ
トラメチル−２−ナフチルアミン２１．２９Ｃ９８％）
を得る。

ｄ）　　ｐ−［（３−メチル−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル
）カルバモイルコ安息香酸メチルエステル ８．１ｇ（４５ミリモル）のテレフタル酸モノメチルを
ｌｏｇｉＱのＴＨＦに溶解する。８ｇ（４５ミリモル）
の１．１−カルボニルジイミダゾールを少量づつ添加す
る。気体の発生の終了するまで撹拌し、ＴＨＦ５０ｉＱ
の５ｃ）で得られたアミン９．８９（４５ミリモル）の
溶液を滴下する。室温にて２時間撹拌し、水中に注ぎ、
ＣＨ＊（Ｊ！ｔで抽出し、有機層を移し取り、Ｍｇ５Ｏ
＋で乾燥、溶媒を留去する。

残渣をイソプロピルエーテルから再結晶させると、融点
１６９〜１７０℃のｐ−［（３−メチル−５，６゜７．
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフチル）カルバモイルコ安息香酸メチルエステル１
４．６ｇ（８６％）を得る。

ｅ）ｐ−［（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３−メチル
−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８−テ
トラメチル−２−ナフチルカルバモイル）安息香酸メチ
ルエステル 丸底フラスコ中に１．２９（４０，５ミリモル）の水素
化ナトリウム（油中８０％）、２０峠のＤＭＩ”および
’ＡＯ＊ＱのＴＨＦを入れる。６０蛙の’ｒＨＦ中の５
ｄ）で得たエステル１３．９９（３７ミリモル）溶液を
滴下する。気体の発生が終了するまで撹拌する。続いて
、８．８９（４０，５ミリモル）のり−ｔ−プチルージ
カルボナートを１００ｘ（２のＴＨＦに溶解し、室温に
て４時間撹拌する。水に注ぎ、エチルエーテルで抽出し
、有機層を移し取り、水で洗浄し、Ｍｇ５Ｏ＋で乾燥し
、溶媒を留去する。残渣をシリカカラムクロマトグラフ
ィーで精製する（溶出液ニジクロロメタン／ヘキサン　
７／３）。

かくして、ｐ−［（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３−
メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．
８−テトラメチル−２−ナフチルカルバモイル）］安息
香酸のメチルエステル１４．１９（８２％）、融点１６
７〜１７７℃を得る。

ｆ）ｐ−（３−ブロモメチル−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフチルカルバモイル）安息香酸
メチルエステル １３．２５９Ｃ２７，６ミリモル）の５ｅ）で得られた
エステルを丸底フラスコに移す。１５０ｘＱの四塩化炭
素１５０ｍ１２と５０所のベンゾイルペルオキシドを加
える。還流下顎熱し、４．９９（２７，６ミリモル）の
Ｎ−ブロモスクシンイミドを少量づつ加える。１２時間
還流させる。溶媒を留去し、残渣をシリカカラムクロマ
トグラフィーにより精製する。溶出液はジクロロメタン
とヘキサン：ｌ／ｌの混合物である。かくして、目的物
のモノブロム誘導体的８５％とジブロム体および出発物
質の混合物１５％を含有する混合物を得る（その割合は
ＮＭＲにより推定した。実施例３と同様の方法による）
。混合物はそのまま次の合成に使用する。

ｇ）ｐ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−５，６゜７．
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ＩＨ−ベンズ［ｆ］コインドリル安息香酸メチルエス
テル 丸底フラスコに１３．９９の５ｆ）で得た混合物６゜７
ｇ（２５，５ミリモル）のトリフェニルフォスフインお
よび１００ｘｆｆのＴＨＦを入れる。８時間還流下で加
熱し、０℃に冷却し、３．８３１１２（２５，５ミリモ
ル）のＤＢＵを滴下する。室温にて２時間撹拌し、反応
液を水に投入し、エーテルで抽出、有機層を移し取り、
Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏ４で乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシ
リカカラムクロマトグラフィーで精製する（溶出液：Ｃ
Ｈ，Ｃ１２，−ヘキサン　２０：８０の混合物）。かく
して、ｐ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−５，６，７
，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８−テトラメチル−
２−ＩＨ−ベンズ［ｆ］コインドリル安息香酸メチルエ
ステル６．７ｇ（６９％）、融点１４５〜１４６℃を得
る。

ｈ）　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
゜８．８−テトラメチル−２−ＩＨ−ベンズ［ｆコイン
ドリル）安息香酸 ６．４ｇ（１４ミリモル）の５ｇ）で得たエステルを２
Ｎメタノール性ソーダ１００３１１２で４時間還流する
。溶媒を留去し、再び水を加え、塩酸でｐＨ５に水層を
酸性化し、エチルエーテルで抽出し、有機層を移し取り
、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。１００
ｘＱヘキサン中ですりつぶす。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５゜
５．８．８−テトラメチル−２−ＩＨ−ベンズ［「コイ
ンドリル）安息香酸４．３９（９０％）、融点２９４〜
２９６℃を得る。

実施例６ ２．３ｇ（６，６ミリモル）のｐ−（５゜６，７．８−
テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−Ｉ
Ｈ−ベンズ［ｆ］コインドリル安息香酸をエタノール１
５０＊ｆ２を含む丸底フラスコ中に入れる。濃硫酸２村
を滴下し、４時間還流しつつ加熱する。乾燥後溶媒を留
去し、再び水を加え、炭酸ナトリウムでアルカリ性にす
る。塩化メチレンで抽出し、有機層を移し取り、Ｍ　ｇ
　Ｓ　０４で乾燥し、溶媒を留去する。かくして、ｐ−
（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ
トラメチル−２−ＩＨ−ベンズ［ｆ］コインドリル安息
香酸２．３９（９６％）、融点２１２〜２１３℃を得る
。

実施例７ １８０ｍｇ（５，１ミリモル）の水素化ナトリウム（油
中８０％）を２０１のＤＭＦに懸濁させる。実施例６で
合成したエステル１．８９Ｃ５ミリモル）をＴ　ＨＦに
溶解し、滴下する。気体の発生が終了するまで撹拌する
。続いて、’０．４ｍＱＣ６，４ミリモル）のヨードメ
チルを加え、室温にて２時間撹拌する。水に投入し、Ｃ
Ｈｔ　Ｃ１２ｔで抽出、有機層を移し取り、Ｍ　ｇ　Ｓ
　Ｏ４で乾燥し、溶媒を留去する。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
する。ジクロロメタンとヘキサン（４／　ｌ　）の混合
物で溶出する。溶媒を留去した後、融点１４７〜１４８
℃のｐ−（１−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ
−５，５，８，８−テトラメチル−２−ベンズ［ｆ］イ
ンドリル）安息香酸メチルエステル１．４９（７８％）
を得る。

実施例７で得たエステル１．２９Ｃ３，２ミリモル）を
２Ｎメタノ一ル性ソーダ１００ｍ（で還流する。

２時間還流しつつ加熱し、乾燥した状態で、溶媒を留去
し、再び水を加え、水層を塩酸でｐＨ５に酸性化し、エ
ーテルで抽出、有機層と移し取り、Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏ４で
乾燥し、溶媒を留去する。残渣を１００村ヘキサン中で
すりつぶし、濾過後、ｐ−（１−メチル−５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８゜８−テトラメチル−２
−ベンズ［ｆ］インドリル）安息香酸、１．１３ｇ（９
７％）、融点２８８〜２８９℃を得る。

実施例９ ａ）　　５，６，７．８−テトラヒドロ−５，５，８，
８−テトラメチル−２−ナフトール ５４．９９（３００ミリモル）の２，５−ジクロロ−２
，５−ジメチルヘキサンをジクロロメタン（５００酎）
に溶解する。フェノール（２８，２９：３００ミリモル
）を加え、次に、塩化アルミニウム（８゜０ｇ：６０ミ
リモル）を加える。１６時間激しく撹拌する。水を加え
（２００１１２）、ジクロロメタン（３Ｘ２００１（２
）で抽出する。続いて、有機層を飽和炭酸水溶液で洗浄
した後、飽和食塩水で洗浄する。

硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を留去する。

得られた固体をヘキサン（８０％）とジクロロメタン（
２０％）の混合物３００Ｍ（ｌで洗浄する。かくして、
５，６，７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−２−ナフトール：４３．５９（７１％）、融
点１４２℃を得る。

ｂ）　　３−ニトロ−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトール ５．６，７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−２−ナフトール（４２，８６ｇ：２１０ミリ
モル）を無水酢酸（４２０ｆｆ＆）に溶解する。１０℃
に冷却後、酢酸（４０峠）を加える。発煙硝酸（８，７
酎；２１Ｏミリモル）を無水酢酸（４ＯＮ！１２）と酢
酸４０１１ｇの混合溶液に加える。室温で１時間撹拌す
る。

反応溶液を水（１１２）十氷中に投入する。生成した沈
澱物を濾取し、水で洗浄し、ジクロロメタン（３ｘ　２
００ｘＱ）に移し、有機層を飽和炭酸ナトリウム溶液、
次に水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し
、溶媒を留去する。

得られた固体をシリカクロマトグラフィーで精製し、ジ
クロロメタン（５０％）とヘキサン（５０％）の混合物
により溶出する。かくして、３−ニトロ−５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフトール１９．６ｙ（３７％）、融点１．３９℃を
得る。

ｃ）　　３−アミノ−５，６，７，８−テトラヒドロ−
５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトール ３−ニトロ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５゜５．
８．８−テトラメチル−２−ナフトール３５゜３９；（
１４ミリモル）をメタノール（ＩＱ）と混合する。メタ
ノールで洗浄したラネーニッケルおよそ２さじを加え、
吸収が終了するまで、水素添加する。生成した沈澱物は
ジクロロメタン（１１２）を加えて溶解する。

触媒は濾過し、溶媒を留去する。得られた結晶をヘキサ
ン（２Ｑ）で洗浄し、濾過する。かくして、３−アミノ
−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８−テ
トラメチル−２−ナフトール３０．９ｇ（９９％）、融
点２２５℃を得る。

ｄ）ｐ−［（３−ヒドロキシ−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル
）カルバモイル］安息香酸メチルエステル １７．５９（８０ミリモル）の３−アミノ−５，６゜７
．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−
２−ナフトールをエチルエーテル（４００ｘＱ）と混合
する。トリエチルアミン（１１，１ｘｌに８０ミリモル
）を加えた後、１５．８１ｇ；（８０ミリモル）のｐ−
メトキシカルボニルベンゾイルクロリドエーテル溶液（
２０Ｏｆｆ□を滴下する。

２時間室温にて撹拌した浸水（５００Ｉｆ２）とジクロ
ロメタン（３００１Ｃ）の混合物中に反応液を投入する
。

水層をジクロロメタン（３００ｘ１２２回）で抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過、溶媒を留去する。

得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、ジ
クロロメタンで溶出する。

かくして、ｐ−（３−ヒドロキシ−５，６，７，８−テ
トラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフ
チル）カルバモイル］安息香酸メチルエステル２４．３
８９（８０％）、融点２００〜２１０°Ｃを得る。

ｅ）　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
゜８．８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オ
キサシリル）安息香酸メチルエステル ｐ−［（３−ヒドロキシ−５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）カ
ルバモイル］安息香酸メチルエステル：２３゜２５ｇ（
６１ミリモル）をキシレン（６００肩Ｑ）と混合する。

ｌｔ、ｅ９（ａｌミリモル）のｐ−トルエンスルホン酸
を加え、撹拌しつつ３時間還流加熱する。キシレンを留
去し、水（５００１１Ｑ）とジクロロメタンを加える。

水層に約３００ｘＱの飽和炭酸ナトリウム溶液を加え、
ジクロロメタン（３００１１１１２３回）で抽出する。

続いて、有機層を飽和炭酸ナトリウム液、水で洗浄する
。

有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を留去
する。

得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、ジ
クロロメタン８０％とヘキサン２０％の混合物で留去す
る。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］
オキサシリル）安息香酸メチルエステル；１２゜２５９
（５４％）、融点１７４°Ｃを得る。

実施例１０ ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸メチルエステル（７，２７９：２０　ミリ
モル）をメタノール（４００ｘＣ）と混合する。５Ｎ炭
酸ナトリウム液（４０次ｆ２）を加え、１時間還流加熱
する。

メタノールを留去し、エチルエーテル（３００肩Ｑ）と
４Ｎ塩酸（２００ｔｚ（りを加える。水層をエーテルで
（２ｘ３００ｍ１２）で抽出し、有機層を水で２回洗浄
し、飽和食塩水で１回洗浄する。

有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を留去
する。

得られた固体をヘキサン（３００！＆）に移し、濾過、
乾燥する。かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２
，３−ｄ］オキサシリル）安息香酸７００ｇ（１００％
）、融点２９０℃を得る。

実施例１１ ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ
ル）安息香酸メチルエステル（２，６４ｇ；７．２６ミ
リモル）乾燥テトラヒドロフラン（５０ｊＩｇ）に溶解
し、乾燥テトラヒドロフラン（５０ｊ！１２）に懸濁さ
せた水素化リチウムアルミニウム（４７４ｘｇ：１１゜
９ミリモル）に滴下する。

反応液を５時間還流加熱し、０℃に冷却、酒石酸のナト
リウムとカリウムの二塩基酸塩の溶液を滴下して加水分
解する。

溶媒を留去し、３００ｊ！！２の水を加え、エーテルで
生成物を抽出する（６Ｘ２００ｉの。有機層を飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去した後、生成物をアセトニトリルから再結晶
させる。かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，
３−ｄ］オキサシリル）ベンジルアルコール２．１６９
（８９％）、融点２００℃を得る。

実施例１２ Ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナツト［２，３−ｄ］オキサｐ−
（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ
トラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリル）
ベンジルアルコール（１，２４ＳＦ；３，７ミリモル）
をジクロロメタン（３０ｉＣ）中に溶解する。ピリジン
　塩化クロム（１，２０９；５．５４ミリモル）を８ｍ
Ｑジクロロメタンに溶解した溶液を加える。

反応液を２時間室温にて撹拌し、溶媒を留去する。

生成物をカラムクロマトグラフィーで精製し、エーテル
（８０％）とヘキサン（２０％）の混合物で溶出する。

溶媒を留去し、得られた固体をヘキサンに再び移し、濾
過、乾燥する。かくして、得られたｐ−（５，６，７，
８−テトラヒドロ−５，５，８゜８−テトラメチル−２
−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリル）ベンズアルデヒ
ド９２０ｏ（７５％）、融点１７９℃を得る。

実施例１３ −テトラメチルー２−ナフト［２，３−ｄ］オキサａ）
ｐ　＝（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．
８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシ
リル）安息香酸クロリドｐ−（５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナツト［
２，３−ｄ］オキサシリル）安息香酸（４，５７ｍ９：
１３．１ミリモル）をジクロロメタン（２００ａ＊０に
懸濁させる。ジシクロヘキシルアミン（２，３７ｇ；１
３．１ミリモル）を滴下した後、ジクロロメタンを留去
する。

得られた固体をエーテル（５００３！１２）に移し、濾
過、乾燥する。かくして、ｐ−（５，６，７，８−テト
ラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト
［２，３−ｄ］オキサシリル）安息香酸のジシクロヘキ
シルアミンの塩（６，９４ｇ；１００％）を得る。

上記の塩をジクロロメタン（ｌｏｏｘｃ）に溶解する。

得られた溶液を０℃に冷却し、塩化チオニル（１，５５
９；ｌ　３．１ミリモル）を滴下する。

反応液を２時間室温にて撹拌する。生成したジシクロヘ
キシルアミンの塩酸塩を濾取し、ジクロロメタンを留去
する。

かくして、得られた粗製酸塩化物はそのまま次の合成に
使用する。

ｂ）　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
゜８．８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オ
キサシリル）安息香酸エチルアミドジエチルアミン（２
１６肩９：４．８ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラン
（２５１１２）に溶解する。続いて、トリエチルアミン
（４８５ｇｇ；４，８ミリモル）を加え、１３ａ）で得
た酸塩化物を乾燥テトラヒドロフラン（２５ｉｉ２）中
に溶解した溶液を滴下する。

反応液を室温で１時間撹拌し、２Ｎ塩酸中に投入する。

生成物をエーテル（３ｘ　１００ｘＱ）で抽出し、有機
層を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。

溶液を濾過し、溶媒を留去する。

得られた固体をヘキサンに移し、濾過、乾燥する。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］
オキサシリル）安息香酸のエチルアミド：ｌ。

０７９（６５％）、融点１７４℃を得る。

実施例１４ モルホリン（４１７Ｈ：４．８ミリモル）乾燥テトラヒ
ドロフラン（２５＋０に溶解する。続いて、トリエチル
アミン（４８５ｘｙ；４．８ミリモル）を加え、ｐ−（
５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリル）安
息香酸塩化物（１，６９；４．４　ミリモル）を乾燥テ
トラヒドロフラン（２５ｆｆ１２）に溶解した溶液で滴
下する。

反応液を２時間室温にて撹拌し、４Ｎ塩酸（２００ｉ１
２）に投入する。

生成物をエーテルで抽出しくａ　ｘ　２００ｍ（Ｄ、有
機層を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。

溶液で濾過し、溶媒を留去し、生成物をシリカクロマト
グラフィーで精製し、ジクロロメタン（５０％）、エー
テル（２０％）、ヘキサン（３０％）の混合液で溶出す
る。

溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン（３００次のに
ｆ多す。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄｌ
オキサシリル）安息香酸モルホリド１．１３９（６２％
）、融点１９３℃を得る。

実施例１５ 二に エチレングリコール（２９８ｘｙ；４．８ミリモル）を
乾燥ジクロロメタン（２５ｉ（り中に溶解する。続いて
、ピリジン：３８０ｍ９（４，８ミリモル）を加え、ｐ
−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−
テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリル
）安息香酸塩化物（１，６９；４．４ミリモル）を乾燥
ジクロロメタン（２Ｅｌりに溶解した溶液を滴下する。

反応液を２時間室温にて撹拌し、４Ｎ塩酸２００ｍＱ中
に投入する。

生成物をエーテルで抽出（３ｘ　２００ａ＋ｆ）Ｌ、有
機層を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。

溶液を濾過し、溶媒を留去する。

生成物をシリカクロマトグラフィーで精製し、ジクロロ
メタン（７０％）とエーテル（３０％）の混合物で溶出
する。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄｌ
オキサシリル）安息香酸　２−ヒドロキシエチルエステ
ル８フ５尺ｇ（５１％）、融点１４４℃を得ろ。

実施例１６ ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダａ）２
．３−ジニトロ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチルナフタレン ９１．５９（４９０ｘＱモル）の５．６，７．８−テト
ラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフタレンを
濃硫酸（３６５ｕ□中に溶解する。反応液を０℃に冷却
し、撹拌しつつ、発煙硝酸（３６５ｘＱ）を加えろ。

反応液を２時間室温にて撹拌した後、水中に投入する。

生成物をエチルエーテルで抽出（３ｘｌ□する。

有機層を粉末炭酸ナトリウムを加えて中和（＋水３００
ｚＣ）Ｌ、上澄みを移し取り、硫酸マグネシウムで乾燥
する。

有機層を濾過し、溶媒を留去し、得られた固体をシクロ
ヘキサンから再結晶させる。

かくして、２．３−ジニトロ−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフタレン８０
．１９９（５０％）、融点２００℃を得る。

ｂ）　　２．３−ジアミノ−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフタレン ２．３−ジニトロ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチルナフタレン（３６゜１２９
．１３Ｑミリモル）をメタノール（ｌＱ）に溶解する。

約２さじのメタノールで洗浄したラネーニッケルを加え
、吸収が終わるまで水素化する。触媒を濾取し、溶媒を
留去し、得られた固体を約３００ｙｔＱのヘキサンで洗
浄する。

かくして、１４．４９ｇ（５１％）の２．３−ジアミノ
−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ
トラメチルナフタレン、融点１８５℃を得る。

ｃ）　　ｐ−［（３−アミノ−（５，６，７，８−テト
ラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチ
ル）カルバモイル］安息香酸メチルエステル ２．３−ジアミノ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル　ナフタレン（６゜５５９
；３０ミリモル）をエチルエーテル（１７０！Ａのと混
合する。トリエチルアミン（４，２ｉ１２，３０ミリモ
ル）を加え、それから、ｐ−クロロフォルミル安息香酸
メチル（５，９６９：３０　ミリモル）のエーテル（７
０ｉＩ２）溶液を滴下する。

室温にて２時間撹拌し、反応液を水（４００酎）とジク
ロロメタン（４００ｉ０の混液に投入する。

有機層を飽和炭酸ナトリウム溶液と飽和食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を留去する。

得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、エ
チルエーテル（１０％）；ジクロロメタン（９０％）系
で溶出する。

かくして、３．７３９（３３％）のｐ−［３−アミノ−
（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ
トラメチル−２−ナフチル）カルバモイル］安息香酸メ
チルエステル、白色粉末を得る。

ｄ）ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８
．８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダ
ゾリル）安息香酸メチルエステル ｐ−［（３−アミノ−（５，６，７，８−テトラヒドロ
−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）カル
バモイル］安息香酸メチルエステル３．６５ｇ（９，６
ミリモル）をキシレン（２００１１２）中に溶解する。

ｐ−トルエンスルホン酸・−水和物（１，８２ｇ；９．
６ミリモル）を加え、撹拌しつつ還流下１時間加熱する
。キシレンを留去し、水（３００ｘＱ）と３００ｚＱの
飽和炭酸ナトリウム溶液を加える。水層をジクロロメタ
ン（３ｘ　３００ｍ＋２）で抽出する。

硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、溶媒を留去し、得られ
た固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、ジクロロ
メタン（９５％）とエチルエーテル（５％）からなる混
合物で溶出する。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］
イミダゾリル）安息香酸メチルエステル２．７９（７８
％）、融点２７０〜２７５℃（分解）を得る。

実施例１７ １．５２９＜４．２ミリモル）のｐ−（５，６，７，８
−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−
ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリル）安息香酸メチルエ
ステルをメタノール（３００好）と混合する。

５Ｎの炭酸ナトリウム溶液（８，４ｍ１２）を加え、２
４時時間法下加熱する。

メタノールを留去し、ＩＮ塩酸を加えてｐＨを５に調整
する。

生成物をエーテルで抽出（５ｘ　４０　Ｑ！１Ｃ）ｔ、
、有機層を水（２Ｘ　５００ｍＱ）、飽和食塩水（２ｘ
３００　ｍＱ）で洗浄する。

有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を留去
する。

得られた固体を再びヘキサン（３００ｍ９）に移し、濾
取、乾燥器で乾燥する。

かくして、ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，
５，８，８−テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］
イミダゾリル）安息香酸９２０ｍｇ（６３％）、融点２
５０℃（分解）を得る。

実施例１８ ａ）Ｎ−（３−アミノ−５，６，７，８−テトラヒドロ
−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−４
−メチルベンズアミド ４ｙ（１８ミリモル）の２，３−ジアミノ−５，６゜７
．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナ
フタレンをエーテル（１００ｉ０に懸濁させる。

トリエチルアミン（２，５５次ｆ２．１８．３ミリモル
）を加え、２．８３９Ｃ１８，３ミリモル）の４−メチ
ル安息香酸クロリドのエーテル（５０ｘＱ）溶液を加え
る。

１時間撹拌し、水（３００ｉＣ）とジクロロメタン（３
００ｘｆ２）を加える。水層をジクロロメタンで抽出（
２Ｘ３００ｘρ）し、有機層を飽和食塩水で洗浄する。

有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を留去
する。

生成物をカラムクロマトグラフィーで精製し、エーテル
（１０％）とジクロロメタン（９０％）の混合物で溶出
する。

かくして、Ｎ−（３−アミノ−５，６，７，８−テトラ
ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル
）−４−メチルベンズアミド（２，７５９；４５％）、
融点１８０℃を得る。

ｂ）　　２−（４−メチル）フェニル−５，６，７，８
−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−
ナフト［２，３−ｄ］イミダゾールＮ−（３−アミノ−
５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−２−ナフチル）−４−メチルベンズアミド（
２，７２９；８．１ミリモル）をキシレン（１５０ｘｆ
２）と混合する。ｐ−）ルエンスルホン酸（１，５４ｇ
；８．１　ミリモル）を加え、２時間還流しつつ加熱す
る。キシレンを留去し、水（３００ｕ１２）、ジクロロ
タン（３００ｍ９）を加える。

水留をジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水溶
液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、溶媒を
留去する。

生成物をカラムクロマトグラフィーで精製し、エーテル
（１０％）とヘキサン（９０％）の混液で溶出する。

かくして、２−（４−メチル）フェニル−５，６゜７．
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフト［２，３〜ｄ］イミダゾール（１，７８９；６
９％）を得る。

処方例 Ａ−経口投与 ｌ）錠剤　０．２９ ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ −５，５，８，８−テトラメチル− ２−ナツト［２，３−ｂ］チェニル） 安息香酸　　　　　　　　　　　０．０００１９燐酸２
カルシウム　　　　　　　０．０２０９二酸化ケイ素　
　　　　　　　　０．０２０９乳糖　　　　　　　　　
　　　　０．０３０９タルク　　　　　　　　　　　　
　０．０１０ｇステアリン酸マグネンウム　　　０．０
０５ｇ澱粉適量 ０．２００ｇ 本実施例において、メチルエステルに代えて活性体を使
用できる。

２）カプセル　０．４ｇ含有 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ −５，５，８，８−テトラメチル− ２−ナフト［２，３−ｂ］フラン− ２−イル）安息香酸　　　　　　　０．０００２９グリ
セリン　　　　　　　　　０．２００９ショ糖　　　　
　　　　　　　　ｏ、ｏｓｏ９ポリエチレングリコール
４００　０．０５０９精製水適量 ０．４００９ カプセルはゼラチン、グリセリン、二酸化チタンと水か
らなる。

３）カプセル　０，５ｇ含有 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ −５，５，８，８−テトラメチル− ２−ナフト［２，３−ｄ］オキサシリ ル）安息香酸モルホリド　　　　　０．０００５９トウ
モロコシ澱粉　　　　　　　０．１５０ｇステアリン酸
マグネシウム　　　０．２５０ｙシヨ糖適量 ０．５００９ 粉末はゼラチンと酸化チタンからなるカプセルに詰める
。

敬阪叩 ｌ）軟膏 ａ＞　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
，８，８−テトラメチル−２ −ナフト［２，３〜ｄ］オキサシリル）安息香酸　　　
　　　　　　　　０．０００１９ステアリルアルコール
　　　　　３．０００９ラノリン　　　　　　　　　　
　　５．０００ｇワセリン　　　　　　　　　　　１５
．０００Ｓ＋蒸留水適量 １００．０００９ ｂ）　　ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
，８，８−テトラメチル−２ −Ｉ　Ｈ−ベンズ［ｆ］インドリル）安息香酸　　　　
　　　　　　　　０．０００５ｇステアリルアルコール
　　　　　３．０００９ラノリン　　　　　　　　　　
　５．０００ｇワセリ：／　　　　　　　　　　　　１
５．０００９蒸留水適虫 １００．０００９ ２）ゲル剤 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２− ナフト［２，３−ｂコツラン−２−イ ル）安息香酸メチルエステル　　０．０００５９ヒドロ
キシプロピルセルローズ、 アルキュル社製「クルセルＨＦＪ　　２．０００ｙ水／
エタノール（５０：５　ｏ）適量 １００．０ＱＯ９ 特許出願人　　サンドル・アンチルナショナル・ド・ル
シェルシトデルマトロジック ・セ、イ、エール、デ。

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｎは１または２、 Ｒ＿１は（ｉ）低級アルキル基、 （ｉｉ）−ＣＨ＿２ＯＨ、または （ｉｉｉ）−Ｃ−Ｒ＿２、 Ｒ＿２は（イ）水素原子、 （ロ）基 ▲数式、化学式、表等があります▼、または （ハ）基−ＯＲ＿３、 Ｒ＿３は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、
   モノもしくはポリヒドロキシアルキル基、所望により置
   換されていてもよいアリールもしくはアラルキル基、ま
   たは糖残基、または下式の基▲数式、化学式、表等があ
   ります▼ ｐは１、２または３、 ｒ′およびｒ″は水素原子、低級アルキル基、モノヒド
   ロキシアルキルもしくはポリヒドロキシアルキル基、所
   望により置換されていてもよいアリール基、アミノ酸も
   しくはアミノ糖残基、または一緒になって複素環を形成
   し、 Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＳＯ、ＳＯ＿２または基−Ｎ
   Ｒ＿４、 ＹはＣＲ＿４または窒素原子、 Ｒ＿４は水素原子または低級アルキル基を表わす］で示
   される多環複素環化合物、または上記式（ I ）の多環
   複素環誘導体の塩類。
2. （２）低級アルキル基が、メチル、エチル、イソプロピ
   ル、ブチルおよび第３級ブチルのような炭素原子数１〜
   ４の低級アルキル基である、請求項１記載の化合物。
3. （３）モノヒドロキシアルキル基が、２−ヒドロキシエ
   チル、２−ヒドロキシプロピルおよび２′−ヒドロキシ
   −２−エトキシエチルのような炭素原子数２〜４の基で
   ある。請求項１記載の化合物。
4. （４）ポリヒドロキシアルキル基が、２，３−ジヒドロ
   キシプロピル、２，３，４−トリヒドロキシブチル、２
   ，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルまたはペンタ
   エリスリトールのような炭素原子数３〜６、ヒドロキシ
   基数２〜５の基である、請求項１記載の化合物。
5. （５）アリール基が、所望によりハロゲン、ヒドロキシ
   、ニトロ官能または低級アルキルで置換されていてもよ
   いフエニルである、請求項１記載の化合物。
6. （６）ｒ′およびｒ″が一緒になって、ヒペリジノ、ピ
   ペラジノ、モルホリノ、ピロリジノまたは４−（２′−
   ヒドロキシエチル）ピペラジノのような複素環を形成す
   る、請求項１記載の化合物。
7. （７）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＿３は水素原子または低級アルキル基、Ｙは
   酸素原子、硫黄原子または基ＮＲ＿４、ＹはＣＲ＿４ま
   たは窒素原子、 Ｒ＿４は水素原子またはメチル基を表わす］で示される
   化合物である、請求項１〜６の何れか１項記載の化合物
   。
8. （８）下記化合物群 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］フリル）安
   息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］フリル）安
   息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チエニル）
   安息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｂ］チエニル）
   安息香酸 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インドリル）
   安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インドリル）
   安息香酸メチルエステル、 ｐ−（１−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
   ，５，８，８−テトラメチル−２−ベンズ［ｆ］インド
   リル）安息香酸メチルエステル、 ｐ−（１−メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
   ，５，８，８−テトラメチル−２−ベンズ［ｆ］インド
   リル）安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）安息香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）安息香酸、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）ベンジルアルコール、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）ベンズアルデビト、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）安息香酸エチルアミド、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）安息香酸モルホリド、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリ
   ル）安息香酸２−ヒドロキシエチルエステル、ｐ−（５
   ，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラ
   メチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリル）安息
   香酸メチルエステル、 ｐ−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
   −テトラメチル−２−ナフト［２，３−ｄ］イミダゾリ
   ル）安息香酸、および ２−（４−メチル）フエニル−５，６，７，８−テトラ
   ヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルナフト［２，３
   −ｄ］イミダゾール から選ばれたものである、請求項１〜７の何れか１項記
   載の化合物。
9. （９）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ＱはＯＨまたはＣｌ、 Ｒ＿３は請求項１で定義した基（水素原子を除く）を表
   わす］ で示される芳香族カルボン酸誘導体を、 （イ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｎは１または２、 ＸはＮＨ、ＯまたはＳを表わす］ で示される芳香族ジアミノ、ヒドロキシアミノまたはチ
   オアミノ誘導体と反応させ、酸触媒の存在下脱水閉環反
   応に付すか、または （ロ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｎは１または２、 Ｒ＿４は請求項１で定義した基、 ＸはＮＨ、ＯまたはＳを表わす］ で示される誘導体と反応させ、得られた化合物を臭素化
   に付し、ついでホスホニウムまたはホスフィニル基を有
   する中間体をウイテイッヒまたはウイテイッヒ・ホーナ
   ー反応の条件下に閉環させ、所望により得られた化合物
   を既知方法にしたがって基Ｒ＿１が他の意味をもつ化合
   物に変換することからなる、請求項１〜８の何れか１項
   記載の多環複素環化合物の製造法。
10. （１０）脱水閉環反応を、ｐ−トルエンスルホン酸のよ
    うなスルホン酸の存在下、トルエンまたはキシレンのよ
    うな不活性溶媒中で行なう、請求項９記載の製造法。
11. （１１）臭素化反応を、Ｎ−ブロモスクシンイミドの存
    在下ベンゼンまたは４塩化炭素で行なう、請求項９記載
    の製造法。
12. （１２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｎは１または２、 Ｘは酸素原子、硫黄原子または基ＮＲ＿４、Ｒ＿４は水
    素原子または低級アルキル基を表わす］で示される、合
    成中間体。
13. （１３）下記化合物 ２，３−ジアミノ−５，６，７，８−テトラヒドロ−５
    ，５，８，８−テトラメチルナフタレン、３−アミノ−
    ５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
    ラメチル−２−ナフトール から選ばれたものである、請求項１２記載の化合物。
14. （１４）請求項１〜８の何れか１項記載の式（ I ）の
    化合物を含有する医薬。
15. （１５）請求項１〜８の何れか１項記載の式（ I ）の
    化合物少なくとも１種を、経腸、非経腸、直腸、局所ま
    たは眼投与に適した賦形剤と共に含有してなる、医薬組
    成物。
16. （１６）日用量０．０１μｇ／体重Ｋｇ〜１ｍｇ／体重
    Ｋｇで投与するものである。請求項１５記載の組成物。
17. （１７）局所適用に適した形態であり、式（ I ）の有
    効成分を０．００００１〜０．０１重量％の濃度で含有
    する、請求項１６記載の組成物。
18. （１８）皮ふ科、リューマチ、呼吸器科および眼科疾患
    の処置用医薬組成物の製造における請求項１〜８の何れ
    か１項記載の化合物の使用。
19. （１９）請求項１〜８の何れか１項記載の式（ I ）の
    化合物少なくとも１種を、化粧用に適した賦形剤と共に
    含有してなる、体および毛髪の衛生用化粧組成物。
20. （２０）式（ I ）の化合物を０．００００１〜０．０
    １重量％の濃度で含有する、請求項２０記載の組成物。