JPS63269347A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPS63269347A JPS63269347A JP10368387A JP10368387A JPS63269347A JP S63269347 A JPS63269347 A JP S63269347A JP 10368387 A JP10368387 A JP 10368387A JP 10368387 A JP10368387 A JP 10368387A JP S63269347 A JPS63269347 A JP S63269347A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光を用いて、情報の書き込み、読み
出しを行なう光記録媒体の製造方法に関する。
出しを行なう光記録媒体の製造方法に関する。
JOlJRNAL OF RADIATIONCU
RING JANUARY 1084で、A、J、
M、VAN DEN IIROEK等が従来の7オ
トボリマーを用いた基板成型方法(2P法)について述
べている。大気中で、スタンバ上にフォトポリマーを塗
布し、円形基μを径方向に均一に湾曲させた吠態で、紫
外線硬化#!#鮨に接触させ、気泡が入らないよう、ス
タンバと基板ノ間に樹脂を充1ハする方法である。又、
AUDIOENGINEERING 5oCIETY
1084 0CTOnER8−11NEW YO
Rl(で松下電器産業が発表している。大気中において
スタンバセンターホール近傍から、紫外線硬化樹脂を、
スタンバと基板の間に充填する方法である。
RING JANUARY 1084で、A、J、
M、VAN DEN IIROEK等が従来の7オ
トボリマーを用いた基板成型方法(2P法)について述
べている。大気中で、スタンバ上にフォトポリマーを塗
布し、円形基μを径方向に均一に湾曲させた吠態で、紫
外線硬化#!#鮨に接触させ、気泡が入らないよう、ス
タンバと基板ノ間に樹脂を充1ハする方法である。又、
AUDIOENGINEERING 5oCIETY
1084 0CTOnER8−11NEW YO
Rl(で松下電器産業が発表している。大気中において
スタンバセンターホール近傍から、紫外線硬化樹脂を、
スタンバと基板の間に充填する方法である。
(発明が解決しようとする問題点〕
従来の技術では大気中に於て、スタンバと基板の間に紫
外線硬化樹脂(2P液)を充填する為、充in した2
P液中への気泡の混入を完全に防止する事は不可能であ
った。しかも、2P液中への気泡混入は、硬化膜バース
トエラーの原因となったリ、スタンバへの2P硬化物の
固aにより、スタンパ信号の複製時劣化の原因となって
いた。又、2P液を充填した後、紫外線を照射させて硬
化させる際、大気中充填では、基板と2P液の界面、ス
タンバと2P液の界面、及び液中の酸素分子の除去が困
難であった。酸素分子の存在下では、2P液の硬化反応
不足の為、2P液中のモノマーが未反応の形で存在する
ことから、2P法を用いた2i板で、光磁気ディスク等
の光記録媒体を作製した場合、記録材料(TbFeCo
、TbGdFeCo、NdDyFeCo等)の酸化を進
行させていた。
外線硬化樹脂(2P液)を充填する為、充in した2
P液中への気泡の混入を完全に防止する事は不可能であ
った。しかも、2P液中への気泡混入は、硬化膜バース
トエラーの原因となったリ、スタンバへの2P硬化物の
固aにより、スタンパ信号の複製時劣化の原因となって
いた。又、2P液を充填した後、紫外線を照射させて硬
化させる際、大気中充填では、基板と2P液の界面、ス
タンバと2P液の界面、及び液中の酸素分子の除去が困
難であった。酸素分子の存在下では、2P液の硬化反応
不足の為、2P液中のモノマーが未反応の形で存在する
ことから、2P法を用いた2i板で、光磁気ディスク等
の光記録媒体を作製した場合、記録材料(TbFeCo
、TbGdFeCo、NdDyFeCo等)の酸化を進
行させていた。
そこで本発明は、このような問題点を解決するものでそ
の目的とするところは、2P硬化樹脂への気泡の混入を
防止し、且つ2P液硬化樹脂の反応性を高める事で、未
反応モノマーの存在を低減し、光記録媒体の耐酸化性を
向上することにある。
の目的とするところは、2P硬化樹脂への気泡の混入を
防止し、且つ2P液硬化樹脂の反応性を高める事で、未
反応モノマーの存在を低減し、光記録媒体の耐酸化性を
向上することにある。
本発明は、フォトポリマーを用いて、スタンバの凹凸、
即ち、プリフォーマット部、及びプリグルーブ部を写し
取る基板成型方法(2P法)に於て、スタンバと透明基
板間にフォトポリマーを充Jiする操作を、不活性ガス
雰囲気中で行なうことを特徴とする。
即ち、プリフォーマット部、及びプリグルーブ部を写し
取る基板成型方法(2P法)に於て、スタンバと透明基
板間にフォトポリマーを充Jiする操作を、不活性ガス
雰囲気中で行なうことを特徴とする。
〔実施例1〕
第1図に本発明に基づく光紀録媒体用レプリカの断面図
を示す。
を示す。
■はガラス基板、2はシランカフプリング剤層(ここで
はγ−メタクリロキシプロピルートリメトキシシランを
用いた)、3は2P法で形成されたプリグルーブ部(配
合内容はTIIFA:テトラヒドロフルフリルアクリレ
−)80ff[n%、TMPTA:)リメチロールプロ
バ/トリアクリレートIEiffKffi%、イルガキ
ュア651:チバガイギー社製光重合開始剤dffl量
%)である。
はγ−メタクリロキシプロピルートリメトキシシランを
用いた)、3は2P法で形成されたプリグルーブ部(配
合内容はTIIFA:テトラヒドロフルフリルアクリレ
−)80ff[n%、TMPTA:)リメチロールプロ
バ/トリアクリレートIEiffKffi%、イルガキ
ュア651:チバガイギー社製光重合開始剤dffl量
%)である。
第2図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図である。
成図である。
4はニッケルスタンバで、例えばピッチl、6μm1溝
中0.8μm、溝深さ600人、厚み0・3mmの化様
である。
中0.8μm、溝深さ600人、厚み0・3mmの化様
である。
5はフラット基板で、前述の如く表面処理を施したガラ
ス基板である。
ス基板である。
6はディスペンスノズルで、2P液をニッケルスタンバ
上に滴下する。
上に滴下する。
7は基板支持アームで、2P液が滴下された後フラ2)
基板の支持をはずす。
基板の支持をはずす。
8は支持台で、下部のモーターと接続しており全体が回
転する。
転する。
装置内はガスフローが可能な構造となっており、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気を形成できる
。
ン、窒素、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気を形成できる
。
該2P液は、波長365nm、強度50mw/cm”の
紫外線を10秒照射し、硬化させる。
紫外線を10秒照射し、硬化させる。
第3図に作製したvi竹貼り合せディスクの断面図を示
す。ここで、11はガラス基板、12はシランカップリ
ング剤層、13は2Pレプリ力層、14は、保護層(!
!化ラうミ二ウつ窒化シリコン複合層)、15は、Tb
FeCo層、16は、2P接む層、17は、フラットガ
ラス基板である。
す。ここで、11はガラス基板、12はシランカップリ
ング剤層、13は2Pレプリ力層、14は、保護層(!
!化ラうミ二ウつ窒化シリコン複合層)、15は、Tb
FeCo層、16は、2P接む層、17は、フラットガ
ラス基板である。
不活性ガスはいずれの場合も気泡は兄られなかった。
従来法により、大気中で製作した前記光磁気記録媒体で
、本発明により、不活性ガス雰囲気中で製作した光磁気
記録媒体とを60°C×90%Rtlの恒温恒湿槽に入
れて、耐候性の試験を行なった結果、本発明による光磁
気記録媒体は従来法に比較し、約2倍の耐久性が得られ
た。
、本発明により、不活性ガス雰囲気中で製作した光磁気
記録媒体とを60°C×90%Rtlの恒温恒湿槽に入
れて、耐候性の試験を行なった結果、本発明による光磁
気記録媒体は従来法に比較し、約2倍の耐久性が得られ
た。
〔実施例2〕
第4図に別の密廿貼り合せディスクの断面図を示す。こ
こで21はポリカーボネート基板、22は2Pレプリ力
層、23は保護層(窒化シリコン層)、24はNdDy
FeCo層、25は2P接着層、26はフラットポリカ
ーボネート基板である。
こで21はポリカーボネート基板、22は2Pレプリ力
層、23は保護層(窒化シリコン層)、24はNdDy
FeCo層、25は2P接着層、26はフラットポリカ
ーボネート基板である。
ポリカーボネート基板21を実施例1と同様の貼り合せ
装置にセットし、ニラクルスタンバの溝形状を、2N)
液で転写硬化させる。
装置にセットし、ニラクルスタンバの溝形状を、2N)
液で転写硬化させる。
使用不活性ガスとしてアルゴン、窒素、フ1/オフ (
CF、)を使用したが、いずれの場合も気泡の発生は皆
無であった。
CF、)を使用したが、いずれの場合も気泡の発生は皆
無であった。
かかる光記録媒体と、従来法による光記録媒体を60°
C×90%R11の恒温恒湿槽に入れ、耐候性試験を行
なった。その結果を第5図に示す。
C×90%R11の恒温恒湿槽に入れ、耐候性試験を行
なった。その結果を第5図に示す。
ここで31.32は従来法の場合、33.34は本発明
に1λづく場合である。
に1λづく場合である。
耐候性はn、E、R,<ビットエラーレート)の時間変
化をチェックしたが、従来法に比較し本発明の場合は約
2倍の耐久性が得られた。
化をチェックしたが、従来法に比較し本発明の場合は約
2倍の耐久性が得られた。
なお実施例では、2Pレプリ力層として、Tl11?Δ
/ T M I’ T Aを使用した場合を例にあげた
がLI D I) A (ヘキザンジオールジアクリレ
ート)、NPGDA(ネオベクチルグリコールジアクリ
レート)の場合にも同様の結果が得られており、又光重
合CI始剤についてもイルガキュラ65!の他イルガキ
ュア907の場合にも同様の結果が得られた。又、サブ
ストレートについても、ガラス、ポリカーボネート以外
に、エポキシ、PMMAlAPO等、光透過性を有する
基板は同発明と同様の効果が得られた。
/ T M I’ T Aを使用した場合を例にあげた
がLI D I) A (ヘキザンジオールジアクリレ
ート)、NPGDA(ネオベクチルグリコールジアクリ
レート)の場合にも同様の結果が得られており、又光重
合CI始剤についてもイルガキュラ65!の他イルガキ
ュア907の場合にも同様の結果が得られた。又、サブ
ストレートについても、ガラス、ポリカーボネート以外
に、エポキシ、PMMAlAPO等、光透過性を有する
基板は同発明と同様の効果が得られた。
更に、記録媒体として光磁気配L1層を使用する場合を
例にあげて説明したが、相変化型、打機色素記録層を使
用する他の光記録媒体にも適用可能である。
例にあげて説明したが、相変化型、打機色素記録層を使
用する他の光記録媒体にも適用可能である。
以上詳述した如く、本発明によれば、フォトポリマーを
用いて、スタンバの凹凸部、即ちプリフォーマット部、
及びプリグルーブ部を写し取る基板成型方法(2P法)
に於て、スタンバと透明基板間にフォトポリマーを充填
する操作を、不活性ガス雰囲気中で行なうことにより、
2P硬化樹脂への気泡の混入を防止でき、気泡混入に帰
因するバーストエラーをなくす事が可11ヒとなった。
用いて、スタンバの凹凸部、即ちプリフォーマット部、
及びプリグルーブ部を写し取る基板成型方法(2P法)
に於て、スタンバと透明基板間にフォトポリマーを充填
する操作を、不活性ガス雰囲気中で行なうことにより、
2P硬化樹脂への気泡の混入を防止でき、気泡混入に帰
因するバーストエラーをなくす事が可11ヒとなった。
しかも2P硬化樹脂の反応性を高める事ができ、未反応
モノマーの存在を低減する事が可11ヒとな、た結果、
光記録媒体の耐候性を大幅に改良することができた。
モノマーの存在を低減する事が可11ヒとな、た結果、
光記録媒体の耐候性を大幅に改良することができた。
第1図は本発明に基づく光紀録媒体用レプリカの断面図
。 第2図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図。 第3図は本発明で作製した密行貼り合せディスクの断面
図。 第4図は本発明で作製した別の密行貼り合せディスクの
断面図。 第5図は従来法と本発明に基づく光記録媒体の耐候性試
験の結果を示す図である。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 ろ 2Pノ脩 第2 図 第 S 図
。 第2図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図。 第3図は本発明で作製した密行貼り合せディスクの断面
図。 第4図は本発明で作製した別の密行貼り合せディスクの
断面図。 第5図は従来法と本発明に基づく光記録媒体の耐候性試
験の結果を示す図である。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 ろ 2Pノ脩 第2 図 第 S 図
Claims (1)
- フォトポリマーを用いて、スタンパの凹凸、即ちプリ
フォーマット部、及びプリグルーブ部を写し取る基板成
型方法(2P法)に於て、スタンパと透明基板間にフォ
トポリマーを充填する操作を、不活性ガス雰囲気中で行
なうことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10368387A JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10368387A JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63269347A true JPS63269347A (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=14360582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10368387A Pending JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63269347A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7018674B2 (en) * | 2001-03-02 | 2006-03-28 | Omron, Corporation | Manufacturing methods and apparatuses of an optical device and a reflection plate provided with a resin thin film having a micro-asperity pattern |
-
1987
- 1987-04-27 JP JP10368387A patent/JPS63269347A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7018674B2 (en) * | 2001-03-02 | 2006-03-28 | Omron, Corporation | Manufacturing methods and apparatuses of an optical device and a reflection plate provided with a resin thin film having a micro-asperity pattern |
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