JPS63269347A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63269347A JPS63269347A JP10368387A JP10368387A JPS63269347A JP S63269347 A JPS63269347 A JP S63269347A JP 10368387 A JP10368387 A JP 10368387A JP 10368387 A JP10368387 A JP 10368387A JP S63269347 A JPS63269347 A JP S63269347A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical recording
- photopolymer
- recording medium
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000343203 Lidia Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光を用いて、情報の書き込み、読み
出しを行なう光記録媒体の製造方法に関する。
出しを行なう光記録媒体の製造方法に関する。
ＪＯｌＪＲＮＡＬ ＯＦ ＲＡＤＩＡＴＩＯＮＣＵ
ＲＩＮＧ ＪＡＮＵＡＲＹ １０８４で、Ａ、Ｊ、
Ｍ、ＶＡＮ ＤＥＮ ＩＩＲＯＥＫ等が従来の７オ
トボリマーを用いた基板成型方法（２Ｐ法）について述
べている。大気中で、スタンバ上にフォトポリマーを塗
布し、円形基μを径方向に均一に湾曲させた吠態で、紫
外線硬化＃！＃鮨に接触させ、気泡が入らないよう、ス
タンバと基板ノ間に樹脂を充１ハする方法である。又、
ＡＵＤＩＯＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ５ｏＣＩＥＴＹ
１０８４ ０ＣＴＯｎＥＲ８−１１ＮＥＷ ＹＯ
Ｒｌ（で松下電器産業が発表している。大気中において
スタンバセンターホール近傍から、紫外線硬化樹脂を、
スタンバと基板の間に充填する方法である。
ＲＩＮＧ ＪＡＮＵＡＲＹ １０８４で、Ａ、Ｊ、
Ｍ、ＶＡＮ ＤＥＮ ＩＩＲＯＥＫ等が従来の７オ
トボリマーを用いた基板成型方法（２Ｐ法）について述
べている。大気中で、スタンバ上にフォトポリマーを塗
布し、円形基μを径方向に均一に湾曲させた吠態で、紫
外線硬化＃！＃鮨に接触させ、気泡が入らないよう、ス
タンバと基板ノ間に樹脂を充１ハする方法である。又、
ＡＵＤＩＯＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ５ｏＣＩＥＴＹ
１０８４ ０ＣＴＯｎＥＲ８−１１ＮＥＷ ＹＯ
Ｒｌ（で松下電器産業が発表している。大気中において
スタンバセンターホール近傍から、紫外線硬化樹脂を、
スタンバと基板の間に充填する方法である。
（発明が解決しようとする問題点〕
従来の技術では大気中に於て、スタンバと基板の間に紫
外線硬化樹脂（２Ｐ液）を充填する為、充ｉｎ した２
Ｐ液中への気泡の混入を完全に防止する事は不可能であ
った。しかも、２Ｐ液中への気泡混入は、硬化膜バース
トエラーの原因となったリ、スタンバへの２Ｐ硬化物の
固ａにより、スタンパ信号の複製時劣化の原因となって
いた。又、２Ｐ液を充填した後、紫外線を照射させて硬
化させる際、大気中充填では、基板と２Ｐ液の界面、ス
タンバと２Ｐ液の界面、及び液中の酸素分子の除去が困
難であった。酸素分子の存在下では、２Ｐ液の硬化反応
不足の為、２Ｐ液中のモノマーが未反応の形で存在する
ことから、２Ｐ法を用いた２ｉ板で、光磁気ディスク等
の光記録媒体を作製した場合、記録材料（ＴｂＦｅＣｏ
、ＴｂＧｄＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等）の酸化を進
行させていた。
外線硬化樹脂（２Ｐ液）を充填する為、充ｉｎ した２
Ｐ液中への気泡の混入を完全に防止する事は不可能であ
った。しかも、２Ｐ液中への気泡混入は、硬化膜バース
トエラーの原因となったリ、スタンバへの２Ｐ硬化物の
固ａにより、スタンパ信号の複製時劣化の原因となって
いた。又、２Ｐ液を充填した後、紫外線を照射させて硬
化させる際、大気中充填では、基板と２Ｐ液の界面、ス
タンバと２Ｐ液の界面、及び液中の酸素分子の除去が困
難であった。酸素分子の存在下では、２Ｐ液の硬化反応
不足の為、２Ｐ液中のモノマーが未反応の形で存在する
ことから、２Ｐ法を用いた２ｉ板で、光磁気ディスク等
の光記録媒体を作製した場合、記録材料（ＴｂＦｅＣｏ
、ＴｂＧｄＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等）の酸化を進
行させていた。
そこで本発明は、このような問題点を解決するものでそ
の目的とするところは、２Ｐ硬化樹脂への気泡の混入を
防止し、且つ２Ｐ液硬化樹脂の反応性を高める事で、未
反応モノマーの存在を低減し、光記録媒体の耐酸化性を
向上することにある。
の目的とするところは、２Ｐ硬化樹脂への気泡の混入を
防止し、且つ２Ｐ液硬化樹脂の反応性を高める事で、未
反応モノマーの存在を低減し、光記録媒体の耐酸化性を
向上することにある。
本発明は、フォトポリマーを用いて、スタンバの凹凸、
即ち、プリフォーマット部、及びプリグルーブ部を写し
取る基板成型方法（２Ｐ法）に於て、スタンバと透明基
板間にフォトポリマーを充Ｊｉする操作を、不活性ガス
雰囲気中で行なうことを特徴とする。
即ち、プリフォーマット部、及びプリグルーブ部を写し
取る基板成型方法（２Ｐ法）に於て、スタンバと透明基
板間にフォトポリマーを充Ｊｉする操作を、不活性ガス
雰囲気中で行なうことを特徴とする。
〔実施例１〕
第１図に本発明に基づく光紀録媒体用レプリカの断面図
を示す。
を示す。
■はガラス基板、２はシランカフプリング剤層（ここで
はγ−メタクリロキシプロピルートリメトキシシランを
用いた）、３は２Ｐ法で形成されたプリグルーブ部（配
合内容はＴＩＩＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレ
−）８０ｆｆ［ｎ％、ＴＭＰＴＡ：）リメチロールプロ
バ／トリアクリレートＩＥｉｆｆＫｆｆｉ％、イルガキ
ュア６５１：チバガイギー社製光重合開始剤ｄｆｆｌ量
％）である。
はγ−メタクリロキシプロピルートリメトキシシランを
用いた）、３は２Ｐ法で形成されたプリグルーブ部（配
合内容はＴＩＩＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレ
−）８０ｆｆ［ｎ％、ＴＭＰＴＡ：）リメチロールプロ
バ／トリアクリレートＩＥｉｆｆＫｆｆｉ％、イルガキ
ュア６５１：チバガイギー社製光重合開始剤ｄｆｆｌ量
％）である。
第２図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図である。
成図である。
４はニッケルスタンバで、例えばピッチｌ、６μｍ１溝
中０．８μｍ、溝深さ６００人、厚み０・３ｍｍの化様
である。
中０．８μｍ、溝深さ６００人、厚み０・３ｍｍの化様
である。
５はフラット基板で、前述の如く表面処理を施したガラ
ス基板である。
ス基板である。
６はディスペンスノズルで、２Ｐ液をニッケルスタンバ
上に滴下する。
上に滴下する。
７は基板支持アームで、２Ｐ液が滴下された後フラ２）
基板の支持をはずす。
基板の支持をはずす。
８は支持台で、下部のモーターと接続しており全体が回
転する。
転する。
装置内はガスフローが可能な構造となっており、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気を形成できる
。
ン、窒素、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気を形成できる
。
該２Ｐ液は、波長３６５ｎｍ、強度５０ｍｗ／ｃｍ”の
紫外線を１０秒照射し、硬化させる。
紫外線を１０秒照射し、硬化させる。
第３図に作製したｖｉ竹貼り合せディスクの断面図を示
す。ここで、１１はガラス基板、１２はシランカップリ
ング剤層、１３は２Ｐレプリ力層、１４は、保護層（！
！化ラうミ二ウつ窒化シリコン複合層）、１５は、Ｔｂ
ＦｅＣｏ層、１６は、２Ｐ接む層、１７は、フラットガ
ラス基板である。
す。ここで、１１はガラス基板、１２はシランカップリ
ング剤層、１３は２Ｐレプリ力層、１４は、保護層（！
！化ラうミ二ウつ窒化シリコン複合層）、１５は、Ｔｂ
ＦｅＣｏ層、１６は、２Ｐ接む層、１７は、フラットガ
ラス基板である。
不活性ガスはいずれの場合も気泡は兄られなかった。
従来法により、大気中で製作した前記光磁気記録媒体で
、本発明により、不活性ガス雰囲気中で製作した光磁気
記録媒体とを６０°Ｃ×９０％Ｒｔｌの恒温恒湿槽に入
れて、耐候性の試験を行なった結果、本発明による光磁
気記録媒体は従来法に比較し、約２倍の耐久性が得られ
た。
、本発明により、不活性ガス雰囲気中で製作した光磁気
記録媒体とを６０°Ｃ×９０％Ｒｔｌの恒温恒湿槽に入
れて、耐候性の試験を行なった結果、本発明による光磁
気記録媒体は従来法に比較し、約２倍の耐久性が得られ
た。
〔実施例２〕
第４図に別の密廿貼り合せディスクの断面図を示す。こ
こで２１はポリカーボネート基板、２２は２Ｐレプリ力
層、２３は保護層（窒化シリコン層）、２４はＮｄＤｙ
ＦｅＣｏ層、２５は２Ｐ接着層、２６はフラットポリカ
ーボネート基板である。
こで２１はポリカーボネート基板、２２は２Ｐレプリ力
層、２３は保護層（窒化シリコン層）、２４はＮｄＤｙ
ＦｅＣｏ層、２５は２Ｐ接着層、２６はフラットポリカ
ーボネート基板である。
ポリカーボネート基板２１を実施例１と同様の貼り合せ
装置にセットし、ニラクルスタンバの溝形状を、２Ｎ）
液で転写硬化させる。
装置にセットし、ニラクルスタンバの溝形状を、２Ｎ）
液で転写硬化させる。
使用不活性ガスとしてアルゴン、窒素、フ１／オフ （
ＣＦ、）を使用したが、いずれの場合も気泡の発生は皆
無であった。
ＣＦ、）を使用したが、いずれの場合も気泡の発生は皆
無であった。
かかる光記録媒体と、従来法による光記録媒体を６０°
Ｃ×９０％Ｒ１１の恒温恒湿槽に入れ、耐候性試験を行
なった。その結果を第５図に示す。
Ｃ×９０％Ｒ１１の恒温恒湿槽に入れ、耐候性試験を行
なった。その結果を第５図に示す。
ここで３１．３２は従来法の場合、３３．３４は本発明
に１λづく場合である。
に１λづく場合である。
耐候性はｎ、Ｅ、Ｒ，＜ビットエラーレート）の時間変
化をチェックしたが、従来法に比較し本発明の場合は約
２倍の耐久性が得られた。
化をチェックしたが、従来法に比較し本発明の場合は約
２倍の耐久性が得られた。
なお実施例では、２Ｐレプリ力層として、Ｔｌ１１？Δ
／ Ｔ Ｍ Ｉ’ Ｔ Ａを使用した場合を例にあげた
がＬＩ Ｄ Ｉ） Ａ （ヘキザンジオールジアクリレ
ート）、ＮＰＧＤＡ（ネオベクチルグリコールジアクリ
レート）の場合にも同様の結果が得られており、又光重
合ＣＩ始剤についてもイルガキュラ６５！の他イルガキ
ュア９０７の場合にも同様の結果が得られた。又、サブ
ストレートについても、ガラス、ポリカーボネート以外
に、エポキシ、ＰＭＭＡｌＡＰＯ等、光透過性を有する
基板は同発明と同様の効果が得られた。
／ Ｔ Ｍ Ｉ’ Ｔ Ａを使用した場合を例にあげた
がＬＩ Ｄ Ｉ） Ａ （ヘキザンジオールジアクリレ
ート）、ＮＰＧＤＡ（ネオベクチルグリコールジアクリ
レート）の場合にも同様の結果が得られており、又光重
合ＣＩ始剤についてもイルガキュラ６５！の他イルガキ
ュア９０７の場合にも同様の結果が得られた。又、サブ
ストレートについても、ガラス、ポリカーボネート以外
に、エポキシ、ＰＭＭＡｌＡＰＯ等、光透過性を有する
基板は同発明と同様の効果が得られた。
更に、記録媒体として光磁気配Ｌ１層を使用する場合を
例にあげて説明したが、相変化型、打機色素記録層を使
用する他の光記録媒体にも適用可能である。
例にあげて説明したが、相変化型、打機色素記録層を使
用する他の光記録媒体にも適用可能である。
以上詳述した如く、本発明によれば、フォトポリマーを
用いて、スタンバの凹凸部、即ちプリフォーマット部、
及びプリグルーブ部を写し取る基板成型方法（２Ｐ法）
に於て、スタンバと透明基板間にフォトポリマーを充填
する操作を、不活性ガス雰囲気中で行なうことにより、
２Ｐ硬化樹脂への気泡の混入を防止でき、気泡混入に帰
因するバーストエラーをなくす事が可１１ヒとなった。
用いて、スタンバの凹凸部、即ちプリフォーマット部、
及びプリグルーブ部を写し取る基板成型方法（２Ｐ法）
に於て、スタンバと透明基板間にフォトポリマーを充填
する操作を、不活性ガス雰囲気中で行なうことにより、
２Ｐ硬化樹脂への気泡の混入を防止でき、気泡混入に帰
因するバーストエラーをなくす事が可１１ヒとなった。
しかも２Ｐ硬化樹脂の反応性を高める事ができ、未反応
モノマーの存在を低減する事が可１１ヒとな、た結果、
光記録媒体の耐候性を大幅に改良することができた。
モノマーの存在を低減する事が可１１ヒとな、た結果、
光記録媒体の耐候性を大幅に改良することができた。
第１図は本発明に基づく光紀録媒体用レプリカの断面図
。 第２図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図。 第３図は本発明で作製した密行貼り合せディスクの断面
図。 第４図は本発明で作製した別の密行貼り合せディスクの
断面図。 第５図は従来法と本発明に基づく光記録媒体の耐候性試
験の結果を示す図である。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 ろ ２Ｐノ脩 第２ 図 第 Ｓ 図
。 第２図は本発明で使用する貼り合せ装置の概略を示す構
成図。 第３図は本発明で作製した密行貼り合せディスクの断面
図。 第４図は本発明で作製した別の密行貼り合せディスクの
断面図。 第５図は従来法と本発明に基づく光記録媒体の耐候性試
験の結果を示す図である。 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 ろ ２Ｐノ脩 第２ 図 第 Ｓ 図
Claims (1)
- フォトポリマーを用いて、スタンパの凹凸、即ちプリ
フォーマット部、及びプリグルーブ部を写し取る基板成
型方法（２Ｐ法）に於て、スタンパと透明基板間にフォ
トポリマーを充填する操作を、不活性ガス雰囲気中で行
なうことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10368387A JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10368387A JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63269347A true JPS63269347A (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=14360582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10368387A Pending JPS63269347A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63269347A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7018674B2 (en) * | 2001-03-02 | 2006-03-28 | Omron, Corporation | Manufacturing methods and apparatuses of an optical device and a reflection plate provided with a resin thin film having a micro-asperity pattern |
-
1987
- 1987-04-27 JP JP10368387A patent/JPS63269347A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7018674B2 (en) * | 2001-03-02 | 2006-03-28 | Omron, Corporation | Manufacturing methods and apparatuses of an optical device and a reflection plate provided with a resin thin film having a micro-asperity pattern |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0840926B1 (en) | Method and apparatus for making an optical information record | |
| JP2661884B2 (ja) | 貼り合わせディスクの製造方法およびその装置 | |
| JPH0295813A (ja) | 光学式情報記録媒体成型装置 | |
| JPH0224848A (ja) | 光記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPS61104346A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| WO1998002875A1 (fr) | Disque optique et procede de production de ce dernier, et procede de production d'un materiau formant feuille | |
| JPS63269347A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPS63306552A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH01291926A (ja) | ディスク成形装置 | |
| JPS59232826A (ja) | 光デイスク用基板の製造方法 | |
| JPH0963130A (ja) | 光学的記録担体作製用スタンパ及びその製造方法 | |
| JPS60151851A (ja) | 光デイスク基板の複製法 | |
| JPS63281239A (ja) | 情報記録原盤 | |
| JPH024042B2 (ja) | ||
| JPH0636355A (ja) | 情報記録担体の製造方法 | |
| JPS63160035A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JPS6218635A (ja) | 光記録媒体の複製方法 | |
| JPH02128337A (ja) | 光学情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPH09259472A (ja) | 光学式貼り合わせディスク、その製造方法及び製造装置 | |
| JPH05193290A (ja) | Ｃｄ付きテレフォンカードおよびその製造方法 | |
| JPH0237543A (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JP2000082239A (ja) | 光ディスクおよびその製造方法 | |
| JPH01282206A (ja) | 耐熱性樹脂組成物 | |
| JP2004158116A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法およびその製造装置 | |
| JPH01236439A (ja) | 光学的記録媒体用基板の製造方法 |