JPS63179863A - シクロヘキサン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、新規なシクロヘキサン誘導体、その製造法お
よびそれを有効成分とする除草剤に関する。

〈従来の技術〉 これ迄、特開昭６４−４６７４９号公報および特開昭１
１５８４９号公報等にシクロヘキサン誘導体が、除草剤
の有効成分として用いうろことが記載されている。

〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、これらの化合物は、除草活性が不充分で
あったり、作物・雑草間の選択性に劣ったりすることか
ら必ずしも満足すべきものとは言い難い。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明者等は、このような状況に鑑み、優れた除草活性
を有する化合物を開発すべく、種々検討した結果、低薬
量で優れた除草活性を有し、なおかつ、作物に薬害を示
さない化合物を見い出し、本発明に至った。

すなわち、本発明は、一般式（１） 〔式中　Ｒ１は水素原子、低級アルキル基または低級ア
ルコキシメチル基を表わし、Ｒ２は低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルケニ
ル基、シアノ低級アルキル基、低級アルキルチオメチル
基または低級アルコキシメチル基を表わし、Ｘは水素原
子またはハロゲン原子を表ワス。〕で示されるシクロヘ
キサン誘導体（以下、本発明化合物と記す。）とその塩
、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤を提供
するものである。

次に、その製造法について説明する。

本発明化合物は一般式（Ｉｆ） 〔式中　Ｒ１およびＸは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアシルシクロヘキサン誘導体と、一般式−〕 ＨＥ、　ＯＲ”　　　　　　　亘 〔式中、Ｒ２は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、ハロ低級アルケニル基、シアノ低級ア
ルキル基、低級アルキルチオメチル基または低級アルコ
キシメチル基を表わす。〕 で示されるヒドロキシルアミンまたはその無機酸塩とを
反応させることによって製造することができる。

この反応は、通常、無溶媒または溶媒中、必要に応じて
塩基の存在下で行い、反応温度の範囲は０〜１００℃、
反応時間の範囲は０．６〜２４時間であり、反応に供さ
れる試剤の量は、アシルシクロヘキサン誘導体〔■〕１
当量に対してヒドロキシルアミン（ロ）またはその無機
酸塩は１〜２当量、塩基は１〜２当量である。

溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、イソプロパツール、ｔ
−ブタノール、オクタツール、シクロヘキサノール、メ
チルセロソルブ、ジエチレングリコール、グリセリン等
のアルコール類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロ
ベンゼン等のニトロ化物、アセトニトリル、イソブチロ
ニトリル等のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミン
、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ−
メチルモルホリン等の第三級アミン、ホルムア【ド、Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムア主ド、アセドア史ド等の酸アミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物
、水などあるいは、それらの混合物があげられる。

塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、１１
１−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸塩基、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金
属アルコキシド等があげられる。

反応終了後の反応液は、水にあけ、中性〜酸性にしたの
ち、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、
目的の本発明化合物を得ることができる。また、必要に
よりクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作により
精製することができる。

一般式（Ｉ）で示される本発明化合物は、次に示す互変
異性構造が考えられる。

同様に、一般式〔Ｈ］で示されるアシルシクロヘキサン
誘導体も、次のような互変異性構造をとると考えられる
。

す。〕 次に、上記のようにして製造される本発明化合物の例を
第１表に示す。

第　　　１　　　表 本発明化合物は金属塩、アンモニウム塩等の塩を形成し
、該塩も除草効力を有する。

金属塩としては例えばカリウム塩、ナトリウム塩、リチ
ウム塩、カルシウム塩、銅塩、マグネシウム塩等が挙げ
られ、これらの塩は本発明化合物を水、アセトン、アル
コール等の溶媒中、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリ
ウムと必要により加熱して反応させ、カリウム塩または
ナトリウム塩に導き、さらに得られたカリウム塩または
ナトリウム塩を他の金属の塩化物、水酸化物、硫酸塩、
硝酸塩等と反応させる仁とにより得ることができる。

また、本発明化合物を第四級アンモニウム水酸化物と水
、アセトン、アルコール等の溶媒中で反応させろことに
よってアンモニウム塩に導くことができる。アンモニウ
ム塩の例としてはテトラプロピルアンモニウム塩、ベン
ジルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。

本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般式（
Ｕ）で示されるアシルシクロヘキサノン誘導体は、例え
ば次に示す一連の反応によって製造される。

〔式中　Ｒ１および又は前記と同じ意味を表わす。〕 一般式〔■で示される化合物は一般式（６）で示される
化合物とアクロレインとを触媒量のトリエチルアミンの
存在下にテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トル
エン、ベンゼン、クロロホルム等の溶媒中室温下に反応
させることにより製造できる。

一般式（ロ）で示される化合物は、一般式（２）で示さ
れる化合物と１−トリフェニルホスホラニリデン−２−
プロパノンとをクロロホルム等の溶媒中、０°Ｃ〜室温
下に反応させることにより得ることができる。

一般式〔■〕で示される化合物は、一般式（ロ）で示さ
れる化合物とマロン酸ジアルキルとを金属アルコキシド
の存在下に溶媒中で加熱することによ塾製造される。溶
媒としてはアルコールまたはアルコールとテトラヒドロ
フラン、ジオキサン、トルエン、ベンゼン等との混合溶
媒が用いられる。

一般式（財）で示される化合物は、一般式〔■〕で示さ
れる化合物を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水中、加水分解
し、次いで脱炭酸することにより得ることができる。

一般式（Ｘ）で示される化合物は一般式□□□で示され
る化合物をテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタン等の
不活性溶媒中、トリエチルアミン等の塩基の存在下に、
０℃〜室温で酸ハロゲン化物と反応させることにより得
ることができる。

一般式（ＩＩ）で示される化合物は一般式（３）で示さ
れる化合物をアセトニトリル等の溶媒中、４−ジメチル
アミノピリジン等の触媒の存在下に加熱することにより
製造される。

本発明化合物は優れた除草効力を有し、かつ、作物・雑
草間に優れた選択性を示す。即ち、本発明化合物は畑地
の茎葉処理および土壌処理において、問題となる種々の
雑草、例えば、スベリヒエ、ハコベ、シロザ、アオゲイ
トウ、ダイコン、イチビ、アメリカキンゴジカ、イヌホ
オズキ、オオイヌノフグリ等の広葉雑草、ヒエ、イヌビ
エ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビラ、ノス
ズメノテッポウ、エンバク、カラスムギ、セイバンモロ
コシ、ウマノチャヒキ等のイネ科雑草等に対して除草効
力を有し、しかも本発明化合物は、トウモロコシ、コム
ギ、イネ、ダイズ、ワタ、テンサイ等の主要作物に対し
て問題となるような薬害を示さない。

また、本発明化合物は、水田の潜水処理において、問題
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草
、アゼナ、ミゾハコベ等の広葉雑草等に対して除草効力
を有し、しかもイネに対しては問題となるような薬害を
示さない。

さらに、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地
、芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草剤として用い
る仁とができ、また、他の除草剤と混合して用いること
により、除草効力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤
、殺ダニ剤、殺線虫剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合して用いることもできる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
して用いる。

これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で０．１〜９０％、好ましくは０．２〜８０９６含有
する。

固体担体としては、カオリンクレー、アッタパルジャイ
トクレー、ペントナ身ト、酸性白土、パイロフィライト
、タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アン
モニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物
があげられ、液体担体としては、キシレン、メチルナフ
タレン等の芳香族炭化水累類、イソプロパツール、ｌチ
レングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆
油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、水等があげ
られる。

乳化、分散、湿層等のために用いられる界面活性剤とし
ては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩
、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコ
ハク酸塩、ポリオキシエチレンフルキルアリールエーテ
ルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシ
ブロビレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エス
テル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等
の非イオン界面活性剤等があげられる。

その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩
、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム
、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ＰＡＰ（酸
性リン酸イソプロピル）等があげられる。

本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出
芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処
理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉処
理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着し
ないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場
所、対象雑草、対象作物等によっても異なるが、通常１
アールあたり０．０５Ｐ〜２００Ｆ、好ましくは、ｏ、
　Ｉ　Ｐ〜１００Ｆであ抄、乳剤、水和剤、懸濁剤等は
、通常その所定量を１アールあたり１リツトル〜１０リ
ツトルの（必要ならば、展着剤等の補助剤を添加した）
水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら希釈するこ
となくそのまま処理する。

展着剤としては、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシ
エチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、
アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パ
ラフィン等があげられる。

ぐ実施例〉 以下、本発明を製造例、製剤例および試験例により、さ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。

まず、本発明化合物の製造例を示す。

製造例１　（本発明化合物（ロ）の製造）２−ブチリル
−５−（２−（５−）リフルオロメチル−２−ピリジル
チオ）エチルコシクロヘキサン−１，８−ジオン０．６
Ｆをエタノール１０ｄと水１１１１１の混合溶液に溶か
し、エトキシアミン塩酸塩０．２　Ｆ　、水酸化ナトリ
ウム０．０７　Ｆを加え、室温で２．５時間攪拌した。

反応液は水にあけ、弱酸性にしたのち、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチルを除去したのち、残渣を薄層クロマ
トグラフィー（展開溶媒　ヘキサン：酢酸エチル＝５：
１）にて精製し、２−（１−エトキシアミノブチリデン
）　−５−（２−（５−）リフルオロメチル−２−ピリ
ジルチオ）エチルコシクロヘキサン−１，８−ジオン０
．４５Ｆを得た。

ｎ３１°’１．５２８９ ’Ｈ−ＮＭＲ７，ヘク）ル（ＣＤｃＪ１３　）δ値（ｐ
ｐｍ）　１４．６８　（Ｉ　Ｈ、ｓ　）、８．６５（Ｉ
Ｌ８）、７．６５（ＩＨ，ｄｄ）、７．２８（ＩＨ，ｄ
）、４．１１（２Ｈ，ｑ）、８．２５（２Ｈ，ｔ）、８
．１〜１．５　（１１Ｈ、ｍ）、１．２９（８Ｈ，ｔ）
、０．８４（８Ｈ，ｔ） 製造例２（本発明化合物（５）の製造）２−プロピオニ
ル−５−（２−（５−）すフルオロメチル−２−ピリジ
ルチオ）エチルツーシクロヘキサン−１，８−ジオン０
．１８　Ｆを５ｍのエタノールに溶かし、０．０４Ｆの
エトキシアミン塩酸塩と０．０５　Ｆのトリエチルアミ
ンを加え、１晩室温で攪拌した。反応溶液は水にあけ弱
酸性にしたのち、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを
除去したのち、残渣を薄層クロマトグラフィー（展開溶
媒　ヘキサン：酢酸エチル　８：１）にて精製し、２−
（１−エトキシアミノプロビリデン）−５−（２−（５
−）リフルオロメチル−２−ピリジルチオ）エチルコシ
クロヘキサン−１゜８−ジオン０．０８　Ｆを得た。

ｎ″Ｄ’１．５８７４ ”Ｈ−Ｎ皿スペクトル（ＣＤα、） δ値Ｃｐｐｍ”）　１４〜１５（ＩＨ，ｂｒｓ）、８．
６７（ＩＨ，ｓ）、７．６６（ＩＨ，ｄｄ）、７．２２
（ＩＨ，ｄ）、４．１０（２Ｈ，Ｑ）、８．２６（２Ｈ
，ｔ）、２．９２（２Ｈ，Ｑ）、２．８〜１．５上記と
同様にして製造された本発明化合物のいくつかを第２表
に示す。

Ｗｉ２表 （２７釘　　ナトリウム塩 （２８）””　　テトラプロピルアンモニウム塩水和物
次に、本発明化合物を製造する際の原料化合物の製造例
を参考例として示す。

参考例１　　（一般ｍＶ）で示される化合物の製造例）
５−トリフルオロメチルピリジン−２−チオール１５？
をテトラヒドロフラン１００ｄに溶かし、水冷下９６９
６アクロレイン６．４２ｉとトリエチルアミン０．１５
　Ｆとを加え２時間攪拌した。反応液を水に加え酢酸エ
チルで抽出し、酢酸エチル層を水層後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を除去し、２１ｔの８−（５−
）リフルオロメチル−２−ピリジルチオ）プロピオンア
ルデヒドを得た。

ｎ蟹１．５２２８ ’Ｈ−ＮＭＲＸ　ヘ’ｙ　）　＃　（ＣＤＣｊ　３　）
δ値（１）ｐＩｎ）　９．６９　（Ｉ　Ｈ、ｂｒａ　’
）、８．６１（１１１１、ｂｒｓ）、７．６４（ＩＨ，
ｄｄ）、７．２２（ＩＨ，ｄ）、８．４５（２Ｈ。

ｔ）、２．９１（２Ｈ，ｔ） 同様にして、６−トリフルオロメチル−８−クロロピリ
ジン−２−チオールより８−（５−トリフルオロメチル
−８−クロロ−２−ピリジルチオ）プロピオンアルデヒ
ド（ｎＤｌ、５２６２）を製造した。

参考例２　（一般式（ロ）で示される化合物の製造例）
８−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジルチオ）プ
ロピオンアルデヒド８８．０２Ｆをクロロホルム８００
−に溶かし、１−トリフェニルホスホエリダン−２−プ
ロパノン５２．４８Ｆを加え１０時間攪拌した。クロロ
ホルムを除去した後、残液を酢酸エチルとヘキサン（１
：１）の混合液で抽出した。抽出液より溶媒を除去し、
残液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液、
酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）に付し、６−（５−）
リフルオロメチル−２−ピリジルチオ）−８−ヘキセン
−２−オン４１．６６Ｆを得た。

ｎ：１．５１６２ ’ＩＨ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ！ｆｓ）”？　Ｍ　
（１）ｉ）ｆｎ）　８．５９　（Ｉ　Ｈ、ｂｒｓ　）、
７−６２（ＩＨ，ｄｄ）、７．１９（ＩＥ、ｄ）、６．
７５（ＩＨ，ｄｔ）、　６．０８（ＩＨ。

ｄ）、８．８４（２Ｈ，ｔ）、１７０（２Ｈ，ｔ）、２
．２１（８Ｈ，８） 同様にして８−（５−）リフルオロメチル−８−クロロ
−２−ピリジルチオ）プロピオンアルデヒドより６−（
５−）リフルオロ−８−クロロ−２−ピリジルチオ）−
８−ヘキセン−２−オン（ｎＱ’１．５８８２）を製造
した。

参考例３　（一般式〔■〕で示される化合物の製造例）
０、２７　ｙ−の金属ナトリウムを５ｄのエタノールに
溶かし、テトラヒドロフランＳｏｄとマロン酸ジエチル
１．９２ｆとを加え、２０分間加熱還流した。反応液を
室温まで冷却し８．２６Ｆの６−（５−）リフルオロメ
チル−２−ピリジルチオ）−８−ヘキセン−２−オンを
加えた後、再び１．６時間加熱還流した。

放冷して析出した結晶を戸数しエーテルで洗浄して４−
エトキシカルボニル−５−（２−（５−トリフルオロメ
チル−２−ピリジルチオ）エチルコシクロヘキサン−１
，８−ジオンのナトリウム塩８．６１Ｆを得た。

’　Ｈ−ＮＭＲスペクトル　（ＤｚＯ）δ値ＣＴｌ９ｍ
＞　８．６２（ＩＨ，８）、７．７６（ＩＨ，ｄｄ）、
７４２（ＩＬｄ）、６．２２　（Ｉ　Ｈ、８）、４．０
６　（２Ｈ。

ｑ）、８．０１（２Ｈ、ｔ　’）、１５〜Ｌ、５（６Ｈ
，ｍ）、１．１２（８Ｈ，ｔ） 同様にして、６−（５−）リフルオロメチル−８−クロ
ロ−２−ピリジルチオ）−８＝ヘキセン−２−オンより
４−エトキシカルボニル−５−（２−（５−）リフルオ
ロメチル−８−クロロ−２−ピリジルチオ）エチルコシ
クロヘキサン−１，８−ジオンのナトリウム塩を得た。

”Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤｚＯ） δ値（１）９ｍ）　８．６５（ＩＨ，ｂｒｓ）、７．８
０（ＩＨ，ｂｒ峠５．２５（ＩＨ，ｓ）、４．０１（２
８％ｑ）、８．０２（２Ｈ。

ｔ）、２．５〜１．５（６Ｈ，ｍ）、１．１１（８Ｈ，
ｔ）参考例４　（一般式〔刈〕で示される化合物の製造
例）６−ニトキシカルボニルー５−（２−（５−トリフ
ルオロメチル−２−ピリジルチオ）エチルコシクロヘキ
サン−１，８−ジオンのナトリウム塩２１Ｆを水酸化カ
リウム４．７１を水１５０ｄに溶かしたアルカリ溶液に
加え９０〜９６℃に１．６時間保った。反応液を冷却し
ジエチルエーテルで不純物を抽出、除去した。次いで水
層を酸性にして酢酸エチルで抽出し、溶媒を除去して５
−（２−（５−）リフルオロメチル−２−ピリジルチオ
）エチルコシクロヘキサン−１，８−ジオン８．５Ｆを
得た。

’　Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃＲ，＋　ＤＭＳＯ−
ｄｓ　）ａ値（１）Ｉ）ｍ）　８．６０　（ＩＢ　、　
ｓ　）、７．７５（ＩＨ，ｄｄ）、７．２４（ＩＨ，ｄ
）、５．２８（ＩＨ，８）、８．０１（２Ｂ。

ｔ）、２．５〜１．５　（７Ｈ，ｍ） 同様にして６−ニトキシカルボニルー５−（２−（５−
）リフルオロメチル−８−クロロ−２−ピリジルチオ）
エチルコシクロヘキサン−１，８−ジオンのナトリウム
塩より５−（２−（５−トリフルオロメチル−８−クロ
ロ−２−ピリジルチオ）エチルコシクロヘキサン−１，
８−ジオンを得た。

’Ｈ−ＮＭＲスヘク）７１／　（ＣＤｃＪｌ、　＋ＤＭ
ＳＯ−（１，）δ値（１）ｐｍ）　　８．６８（ＩＢ、
ｂｒ８）、７．７５（ＩＬｂｒｓ）、５．２６（ＩＨ，
８）、８．０２（２Ｈ，ｔ）、２、Ｆ１〜１．５　（７
Ｈ、Ｉｎ） 参考例５　　（一般式（Ｘ）で示される化合物の製造例
）５−（２−（５−）リフルオロメチル−２−ピリジル
チオ）エチルシクロヘキサン−１，８−ジオン０．２８
９−を８０ｍのテトラヒドロフランに溶かし、トリエチ
ルアミン０．１１とプロピオニルクロリド０．０９　Ｆ
とを加え、室温で２時間攪拌した。反応液を水に加え酢
酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を重曹水、次いで水で
洗浄した。溶媒を除去し、１−プロピオニルオキシ−５
−（２−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジルチオ
）エチル〕−１−シクロヘキセン−８−オン０．２５　
Ｆを得た。

”Ｈ−ＮＭＲｘへ）；ｐ　）７１／　　（ＣＤＣＪ、　
）δ値（ｐｐｍ）　　８．６８（ＩＨ，！ｌ）、７．０
２（ＩＨ，ｄｄ）、７．２２（ＩＨ，ｄ）、５．９１（
ＩＨ，８）、８．２５　（２Ｈ。

ｔ）、２．８〜１．５　（７Ｈ、ｍ）、１．１９０８Ｌ
ｔ）上記と同様にして製造された一般式（２）で示され
る化合物のいくつかを第８表に示す。

ＩＨＢ表 参考例６　（一般式〔π〕で示される化合物の製造例）
０、２６　Ｆの１−プロピオニルオキシ−５−（２−（
５−）リフルオロメチル−２−ビリジルチオ）エチル〕
−１−シクロヘキセン−８−オンと０．０５Ｆの４−ジ
メチルア主ノビリジンとをＲｏｄのアセトニトリルに溶
かし、２．６時間加熱還流した。反応液を水に加え、弱
酸性にして酢酸エチルで抽出した。溶媒を除去し、２−
プロピオニル−５−（２−（５−トリフルオロメチル−
２−ピリジルチオ）エチルコシクロヘキサン−１，８−
ジオン０、２２　ＦＦを得た。

’Ｈ−ＮＭＲスヘク）Ｊｌ／　　（ＣＤＣ１ｌ、　）δ
値　１８〜１７（ＩＨ，ｂｒ）、８．７２（ＩＨ，ｓ）
、７．７０（ＩＨ，ｄｄ）、７．２７（ＩＨ，ｄ）、８
．２９（２Ｈ。

ｔ）、８．０９（２Ｈ，Ｑ）、２．８〜１．５　（７Ｈ
、ｍ　）、１．１８（８Ｈ，ｔ） 上記と同様にして製造された一般式（ＩＩ）で示される
化合物のいくつかを第４表に示す。

第４表 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第２表の化合
物番号で示す。部は重量部である。

製剤例１ 本発明化合物（４）　５０部、リグニンスルホン酸カル
シウム８部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含
水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。

製剤例２ 本発明化合物（６）　１０部、ポリオキシエチレンスチ
リルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウム６部、キシレン８０部およびシクロヘキ
サノン４０部をよく混合して乳剤を得る。

製剤例８ 本発明化合物（９）２部、合成含水酸化珪素１部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト８０部お
よびカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加え
てよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。

製剤例４ 本発明化合物（ロ）２５部、プリオキシエチレンソルビ
タンモノオレエート８部、０Ｍ０８部、水６９部を混合
し、粒度が６ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁
剤を得る。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第２表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物はｊ１５
表の化合物記号で示す。

第５表 また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものをｒＯＪとし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているものを
「６」として、θ〜６の６段階に評価し、０，１．２．
８．４．５で示す。

試験例１　畑地土壌処理試験 直径１０ｃｊｓ、深さ１０鐸の円筒型プラスチックポッ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバクを播種し、覆土し
た。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定
量を１アールあたり１０リツトル相当の水で希釈し、小
型噴霧器で土壌表面に処理した。処理後２０日間温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果を第６表）ζ
示す。

第６表 試験例２　畑地茎葉処理試験 直径１６ａｌ、深さ１０５１の円筒型プラスチックポッ
トに畑地土壌を結め、ヒエ、エンバク、ダイコン、イチ
ビを播冒し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤ｌこし、その所定量を１
アールあたり１０リツトル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理
後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を第７表に示す。

試験例８　水田潜水処理試験 直径ｇ３．深さ１２３の円筒型プラスチックポットに水
田土壌を詰め、タイヌビエの種子を１〜２３の深さに混
ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、更に２葉期のイ
ネを移植し、温室内で育成した。６日後（各雑草の発生
初期）に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を６ｔリリツトルの水で希釈し、水面に処理した
。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した
。その結果を第８表に示す。

第　　８　　表 試験例４　畑地土壌処理試験 面積８８Ｘ２８ｄ、深さ１ｌｃ１１のバットに畑地土壌
を詰め、ダイズ、ワタ、イヌビエ、セイバンモロコシ、
エノコログサを播種シ、１〜２１の厚さに覆土した。製
剤例２に準じ供試化合物を乳剤番とし、その所定量を１
アールあたり１０リツトル相当の水で希釈し、小型噴霧
器で土壌表面に処理した。処理後２０日間温室で育成し
、除草効力を調査した。その結果を第９表に示す。

第９表 試験例５　畑地茎葉処理試験 面積８８Ｘ２８ｄ、深さ１１ｃ１１のバットに畑地土壌
を詰め、ダイズ、ワタ、イヌビエ、メヒシバ、セイバン
モロコシ、エノコログサ、エンバク、スズメノカタビラ
及びノスズメノテッポウを播種し、１８日間育成した。

その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定：１１を展着剤を含む１アールあたり６リツトル相
当の水で希釈し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉部
全面に均一に処理した。

このとき雑草および作物の生育状況は草種により異なる
が、子葉展開〜８葉期で、草丈は５〜１９ｃ１１であっ
た。処理２０日後に除草効力を調査した。その結果をＨ
ｉｏ表に示す。

なお、本試験は、全期間を通して温室内で行った。

第１０表 （４Ｇ　） 試験例６　水田湛水処理試験 １１５０００　ａ　　ワグネルポットに水田土壌を詰め
、タイヌビエの種子を１〜２３の深さに混ぜ込んだ。湛
水して水田状態にした後、８葉期のイネを移植し、温室
内で育成した。４日後に、製剤例２に準じて供試化合物
を乳剤にし、その所定量を１０ミリリツトルの水で希釈
し水面に処理し、その水深を４ｔｍとした。

処理後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。

その結果を第１１表に示す。なお、処理の翌日から２日
間は、１日あたり３ｃＰ１１の水深に相当する量の漏水
をおこなった。

第１１表 〈発明の効果〉 本発明化合物は、畑地の土壌処理および茎葉処理、さら
に水田の湛水処理をζおいて問題となる種々の雑草に対
して優れた除草効力を有し、主要作物と雑草間に優れた
選択性を示すことから除草剤の有効成分として種々の用
途に用いることができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、低級アルキル基または低級
   アルコキシメチル基を表わし、Ｒ＾２は低級アルキル基
   、低級アルケニル基、低 級アルキニル基、ハロ低級アルケニル基、 シアノ低級アルキル基、低級アルキルチオ メチル基または低級アルコキシメチル基を 表わし、Ｘは水素原子またはハロゲン原子 を表わす。〕 で示されるシクロヘキサン誘導体およびその塩。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、低級アルキル基または低級
   アルコキシメチル基を表わし、 Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表わす。〕で示され
   るアシルシクロヘキサン誘導体と、一般式 ＮＨ＿２ＯＲ＾２ 〔式中、Ｒ＾２は低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基、ハロ低級ア ルケニル基、シアノ低級アルキル基、低級 アルキルチオメチル基または低級アルコキ シメチル基を表わす。〕 で示されるヒドロキシルアミンまたはその無機酸塩とを
   反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＸは前記と同じ意味を表
   わす。〕 で示されるシクロヘキサン誘導体の製造法。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１は水素原子、低級アルキル基をたは低級
   アルコキシメチル基を表わし、 Ｒ＾２は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アル
   キニル基、ハロ低級アルケニル基、シアノ低級アルキル
   基、低級アルキルチオ メチル基または低級アルコキシメチル基を 表わし、Ｘは水素原子またはハロゲン原子 を表わす。〕 で示されるシクロヘキサン誘導体またはその塩を有効成
   分として含有することを特徴とする除草剤。