JPS6312861U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6312861U JPS6312861U JP10491286U JP10491286U JPS6312861U JP S6312861 U JPS6312861 U JP S6312861U JP 10491286 U JP10491286 U JP 10491286U JP 10491286 U JP10491286 U JP 10491286U JP S6312861 U JPS6312861 U JP S6312861U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- source
- type
- impurity concentration
- high impurity
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
Landscapes
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
第1図はこの考案に係る電界効果トランジスタ
の一実施例を示す縦断面図、第2図は同上一実施
例の平面図、第3図はこの考案の他の実施例を示
す平面図、第4図は従来の電界効果トランジスタ
の縦断面図、第5図は同上従来例の平面図である
。 2:p形ウエル領域(p形の基板領域)、4,
4a〜4d:ソース領域、5,5a〜5e:p形
の高不純物濃度領域、6:ソースコンタクトホー
ル、8:ドレイン領域、9:チヤネル領域、11
:ゲート絶縁膜、12:ゲート電極、14:ソー
ス電極。
の一実施例を示す縦断面図、第2図は同上一実施
例の平面図、第3図はこの考案の他の実施例を示
す平面図、第4図は従来の電界効果トランジスタ
の縦断面図、第5図は同上従来例の平面図である
。 2:p形ウエル領域(p形の基板領域)、4,
4a〜4d:ソース領域、5,5a〜5e:p形
の高不純物濃度領域、6:ソースコンタクトホー
ル、8:ドレイン領域、9:チヤネル領域、11
:ゲート絶縁膜、12:ゲート電極、14:ソー
ス電極。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 p形の基板領域の表面部にn形のソース領域お
よびドレイン領域を離隔して形成し、ソース・ド
レイン領域間における基板領域上にゲート絶縁膜
を介してゲート電極を形成し、前記ソース領域に
はソース電極を接続した電界効果トランジスタに
おいて、 前記ソース領域に隣接する位置に基板領域と接
するp形の高不純物濃度領域を形成し、該p形の
高不純物濃度領域を前記ソース電極に接続したこ
とを特徴とする電界効果トランジスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10491286U JPS6312861U (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10491286U JPS6312861U (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6312861U true JPS6312861U (ja) | 1988-01-27 |
Family
ID=30978845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10491286U Pending JPS6312861U (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6312861U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005024931A1 (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-17 | Renesas Technology Corp. | 半導体装置およびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5232281A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-11 | Westinghouse Electric Corp | Mosfet transistor |
-
1986
- 1986-07-10 JP JP10491286U patent/JPS6312861U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5232281A (en) * | 1975-09-04 | 1977-03-11 | Westinghouse Electric Corp | Mosfet transistor |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005024931A1 (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-17 | Renesas Technology Corp. | 半導体装置およびその製造方法 |
JPWO2005024931A1 (ja) * | 2003-09-05 | 2006-11-16 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4624924B2 (ja) * | 2003-09-05 | 2011-02-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |