JPS63104889A - 平版用印刷版に使用されるアルミニウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法 - Google Patents
平版用印刷版に使用されるアルミニウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F1/00—Platen presses, i.e. presses in which printing is effected by at least one essentially-flat pressure-applying member co-operating with a flat type-bed
- B41F1/16—Platen presses, i.e. presses in which printing is effected by at least one essentially-flat pressure-applying member co-operating with a flat type-bed for offset printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/16—Pretreatment, e.g. desmutting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
- C25F3/04—Etching of light metals
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/44—Manufacturing insulated metal core circuits or other insulated electrically conductive core circuits
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、第一段階の機械的研摩および/または第二段
階の゛シ気化学的研摩の後多段階法で研摩された、アル
ミニウムまたはアルミニウム合金を基材とする印刷版支
持材料を・4気化学的に改良するための方法に関する。
階の゛シ気化学的研摩の後多段階法で研摩された、アル
ミニウムまたはアルミニウム合金を基材とする印刷版支
持材料を・4気化学的に改良するための方法に関する。
このように改良された材料はオフセット印刷版の製造で
使用される。
使用される。
従来の技術
オフセット印刷版の片面または両面には、直接ニーデー
によるかまたはプレコーテッド印刷版のメイカーによっ
て、輻射線感受性(感光性)層(複写または再現層)が
画される。この層は光機械的方法による印刷画像(版〕
の製造を許す。版の製造後には、層支持材料は画像部を
有し、同時に画像のない部分(非画像部)には、平版印
刷作業のための親水性m像バックグラウンドを形成して
いる。
によるかまたはプレコーテッド印刷版のメイカーによっ
て、輻射線感受性(感光性)層(複写または再現層)が
画される。この層は光機械的方法による印刷画像(版〕
の製造を許す。版の製造後には、層支持材料は画像部を
有し、同時に画像のない部分(非画像部)には、平版印
刷作業のための親水性m像バックグラウンドを形成して
いる。
平版の製造で使用されるこの種類の感光性材料の支持材
料は、特に次の要注を満足しなければならない; 1)照射の結果比較的可溶性の増大する感光性層の部分
は、現像作業によって支持材料から容易に除去されて、
残存物を残すことなしに親水性非画像部を形成しなけれ
ばならない。
料は、特に次の要注を満足しなければならない; 1)照射の結果比較的可溶性の増大する感光性層の部分
は、現像作業によって支持材料から容易に除去されて、
残存物を残すことなしに親水性非画像部を形成しなけれ
ばならない。
2〕 非画像部で露出されている支持材料は、水に対す
る高い親和性を有しなければならない、つまり同支持材
料は、著しく親水性であって、平版印刷作業中に迅速に
かつ永久的に水を受理しかつ油性印刷インキに対する十
分な忌避作用を発揮しなければならない。
る高い親和性を有しなければならない、つまり同支持材
料は、著しく親水性であって、平版印刷作業中に迅速に
かつ永久的に水を受理しかつ油性印刷インキに対する十
分な忌避作用を発揮しなければならない。
3ン 感光性層は、露光前に十分なぞ溜置を示さなけれ
ばならず、同層の印刷部分は露光の結果十分なf着力を
示さなければならない。
ばならず、同層の印刷部分は露光の結果十分なf着力を
示さなければならない。
4)支持材料は、例えば摩耗に対する良好な機械的安定
性および特にアルカリ性媒体に対する良好な耐薬品性を
有しなければならない。
性および特にアルカリ性媒体に対する良好な耐薬品性を
有しなければならない。
5〕 印刷中の水要求量は、例えば紙の過剰加湿を防止
するために可及的に低くなければならない、それという
のもさもなければカラー印刷の楊会の1見当障害(re
gister difficul−t1θ日〕”(つま
り第2または第6の色合いを見当合せでもはや第1の色
合りの上に印刷することができない)、または回転オフ
セット印刷でのペーパーウェブの破損が起るoJ能性が
あるからである。
するために可及的に低くなければならない、それという
のもさもなければカラー印刷の楊会の1見当障害(re
gister difficul−t1θ日〕”(つま
り第2または第6の色合いを見当合せでもはや第1の色
合りの上に印刷することができない)、または回転オフ
セット印刷でのペーパーウェブの破損が起るoJ能性が
あるからである。
前ij6 I+’ 件のいくつかを満足させるために、
有利に現場で使用されるアルミニウム支持材料に、機械
的、化学的および/または電気化学的研摩処理を施し、
この処理の次にさらに研摩されたアルミニウム面の陽極
酸化を行ってもよい。特に、支持材料と印刷版の感光性
層との間の中間面を形成する微細研4に構造を有する、
電気化学的に研摩されたアルミニウム面は、これらの印
刷版から製造されうる完成版において、実地の諸要件を
満足させ、大部分の要求に応じる成果をもたらす。しか
し印刷中の水要求量は、研7輩されかつ場合により公知
法によシ陽極酸化された支持材料においてなお高すぎる
ことが多い。
有利に現場で使用されるアルミニウム支持材料に、機械
的、化学的および/または電気化学的研摩処理を施し、
この処理の次にさらに研摩されたアルミニウム面の陽極
酸化を行ってもよい。特に、支持材料と印刷版の感光性
層との間の中間面を形成する微細研4に構造を有する、
電気化学的に研摩されたアルミニウム面は、これらの印
刷版から製造されうる完成版において、実地の諸要件を
満足させ、大部分の要求に応じる成果をもたらす。しか
し印刷中の水要求量は、研7輩されかつ場合により公知
法によシ陽極酸化された支持材料においてなお高すぎる
ことが多い。
従って、特に研摩段階後に適用されうる前記方法の改良
処理がすでに記載されている。
処理がすでに記載されている。
***国特許出禎公開第3009103号(F@アフリカ
共和国特ff第81/1545号にa肖〕には、電気化
学的に研摩された、アルミニウムから成る印刷版の支″
ff材料の研摩改良法が記載されている。この改良処理
の場合には、0.4〜3・0 & / m”のオーダー
の表面からの物質の除去は、11を越えるpHk有する
アルカリ水浴液作用下に行なわれる。このように改良さ
れ、場合により@極酸化された支持材料から製造された
印刷版は、湿し水の消費量が低く、吸層性が減少される
という。
共和国特ff第81/1545号にa肖〕には、電気化
学的に研摩された、アルミニウムから成る印刷版の支″
ff材料の研摩改良法が記載されている。この改良処理
の場合には、0.4〜3・0 & / m”のオーダー
の表面からの物質の除去は、11を越えるpHk有する
アルカリ水浴液作用下に行なわれる。このように改良さ
れ、場合により@極酸化された支持材料から製造された
印刷版は、湿し水の消費量が低く、吸層性が減少される
という。
***ltP!j許出鴫公開第2557222号(内容が
米国特許第3g35,080号に類似〕によるアルミニ
ウム印刷版支持材料をm造する方法の場合には、水性塩
酸中での電気化学的研と前段階と水性硫酸中での陽極酸
化段階との間で、該支持材料はさらに水性硫酸中で陽極
的に改良される(清浄される)。同方法は先づ連続的方
法で用いるのに通しており、極めてf#階な表面をもた
らす、という。
米国特許第3g35,080号に類似〕によるアルミニ
ウム印刷版支持材料をm造する方法の場合には、水性塩
酸中での電気化学的研と前段階と水性硫酸中での陽極酸
化段階との間で、該支持材料はさらに水性硫酸中で陽極
的に改良される(清浄される)。同方法は先づ連続的方
法で用いるのに通しており、極めてf#階な表面をもた
らす、という。
また先行技術からは、他の方法で@他処理も庚用される
ことが知られてhる: ***国特許出願公告第2420704号(米国特許第3
.865.700号に相当)によれば、通常存在する接
触ロールの使用を止めるために、水性硫酸中でのアルミ
ニウム支持体の陽極酸化で同支持体の陰・−受線が利用
される。
ことが知られてhる: ***国特許出願公告第2420704号(米国特許第3
.865.700号に相当)によれば、通常存在する接
触ロールの使用を止めるために、水性硫酸中でのアルミ
ニウム支持体の陽極酸化で同支持体の陰・−受線が利用
される。
***−特許第2537724号(英国特許i1,532
,303号に相当)には、表面の二次的研摩改良のない
1段階研r−fi方法が開示されているが、同方法では
印刷版用アルミニウム支持材料が、少なくとも2001
/11の塩一度、5〜8の−および60℃未満の温度を
有する攪拌水性塩溶液中で電気化学的に処理される。使
用される塩は、塩化水Re1Rまたは窒素またはハロゲ
ノのオキソ酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩ま
たはアンモニウム塩である。変法(Aタイプの表mをも
たらす)では、1衾F!i回路装置でアルミニウム支持
材料が70〜150A/ am”で30〜60秒間研摩
され、それによって艶消仕上を有する銀面が作られる。
,303号に相当)には、表面の二次的研摩改良のない
1段階研r−fi方法が開示されているが、同方法では
印刷版用アルミニウム支持材料が、少なくとも2001
/11の塩一度、5〜8の−および60℃未満の温度を
有する攪拌水性塩溶液中で電気化学的に処理される。使
用される塩は、塩化水Re1Rまたは窒素またはハロゲ
ノのオキソ酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩ま
たはアンモニウム塩である。変法(Aタイプの表mをも
たらす)では、1衾F!i回路装置でアルミニウム支持
材料が70〜150A/ am”で30〜60秒間研摩
され、それによって艶消仕上を有する銀面が作られる。
この変法の場合にはアルカリ金属塩のみが使用される。
同様に***国特許第2537725号(英国時、fF第
1.532.3049に相当)は、水性電解液が1〜5
のPHでアルミニウム塩の他にアルカリ金ALA塩をそ
の甲に宮イするアルミニウム研摩用の可能な陽極回路装
置を開示している。
1.532.3049に相当)は、水性電解液が1〜5
のPHでアルミニウム塩の他にアルカリ金ALA塩をそ
の甲に宮イするアルミニウム研摩用の可能な陽極回路装
置を開示している。
また、平版印刷版の支持材料を−14することを目的と
する多段階方法も開示されている:例えば米国特許第2
,544,510号、同@3,929,591号および
同第4,477.517号(英国特許第1,582,6
20号に相当) ; tf!f願昭55−123.2L
lJ号、14′9顆昭53−145.701号、特願昭
57−16,918号および特願昭58−197,09
0号;***国特許出願公開第3012135号(米国特
許第4,476,006号または英国脣吐出願第2,0
47,274号に相当)、同第3031764号(英国
特岬出頒′gg2,058,136号に相当〕および同
第3036174号(英国特吐出願第2,060,92
3号)およびヨーロッパ%、fF出願公開第0.131
,926号。
する多段階方法も開示されている:例えば米国特許第2
,544,510号、同@3,929,591号および
同第4,477.517号(英国特許第1,582,6
20号に相当) ; tf!f願昭55−123.2L
lJ号、14′9顆昭53−145.701号、特願昭
57−16,918号および特願昭58−197,09
0号;***国特許出願公開第3012135号(米国特
許第4,476,006号または英国脣吐出願第2,0
47,274号に相当)、同第3031764号(英国
特岬出頒′gg2,058,136号に相当〕および同
第3036174号(英国特吐出願第2,060,92
3号)およびヨーロッパ%、fF出願公開第0.131
,926号。
これらの刊行物に記載された方法のはとんとすべては、
物理的研摩と電気化学的研摩との間で清浄処理を行なう
ことが必要であると明記している。この処理がば媒体中
で行なわれる場合には、機械的に形成された研摩構造に
対する漁かな侵食しか認められない。清浄作用が優れて
いるのである。反対にアルカリ性処理は表面の明確な改
質をもたらす・ 電気化学的な第二研摩段階および前記陽極酸化に続く化
学的中間処理は、米国特許 第2,344,510号で言及され、特願昭53−12
3204号、***国特許出願公開 第3012135号(英国特許第2.047.274号
または米国特許第4.476,006号に相当)および
***国%許出IA公開第5036174号(英国特庁出
Ji!a第2.060,923号に相当〕に記載されて
いる。この処理は酸性またはアルカリ性条件下で行なわ
れ、前記効果が得られる。
物理的研摩と電気化学的研摩との間で清浄処理を行なう
ことが必要であると明記している。この処理がば媒体中
で行なわれる場合には、機械的に形成された研摩構造に
対する漁かな侵食しか認められない。清浄作用が優れて
いるのである。反対にアルカリ性処理は表面の明確な改
質をもたらす・ 電気化学的な第二研摩段階および前記陽極酸化に続く化
学的中間処理は、米国特許 第2,344,510号で言及され、特願昭53−12
3204号、***国特許出願公開 第3012135号(英国特許第2.047.274号
または米国特許第4.476,006号に相当)および
***国%許出IA公開第5036174号(英国特庁出
Ji!a第2.060,923号に相当〕に記載されて
いる。この処理は酸性またはアルカリ性条件下で行なわ
れ、前記効果が得られる。
特にアルカリ性処理の場合には、電気化学的研摩構造は
大部分、水/インキのバランスに有効な効果を及ぼすこ
ともある細孔壁の除去によって平均化されるが、しかし
このようにして製造された印刷版の印刷ランを必然的に
短縮する。
大部分、水/インキのバランスに有効な効果を及ぼすこ
ともある細孔壁の除去によって平均化されるが、しかし
このようにして製造された印刷版の印刷ランを必然的に
短縮する。
1段階′繻気化学的研摩処理の後に行なわれる陽極表面
改良処理は、***国特許出禎公開第5222967号(
米国特許第4,482,444号に相当)に開示されて
いる。この処理は、本願に記載されている酸性またはア
ルカリ性ca洗い処理の欠点を除去し、感光性膜の密着
に不利な影響を及ぼすことなく、水/インキのバランス
が改善されかつ印刷中の摩耗の減少された支持材料を供
給する。
改良処理は、***国特許出禎公開第5222967号(
米国特許第4,482,444号に相当)に開示されて
いる。この処理は、本願に記載されている酸性またはア
ルカリ性ca洗い処理の欠点を除去し、感光性膜の密着
に不利な影響を及ぼすことなく、水/インキのバランス
が改善されかつ印刷中の摩耗の減少された支持材料を供
給する。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、前記研摩処理で作られた表面の均一性
を改善しかっ/または印刷作業で要求される湿し水のt
を減少させる効果を有する印刷版用支持材料の製造方法
を提供することである。
を改善しかっ/または印刷作業で要求される湿し水のt
を減少させる効果を有する印刷版用支持材料の製造方法
を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明は、t7セツト印刷版に使用するためのアルミニ
ウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法
において、次の処理段階:■〕 該材料の磯緘的研ノψ
、 ■〕 中間処理、 III)酸含有電解液中での電気化学的研摩、■)中間
処理、 ■)材料表面の陽極酸化 から成る前記方法を基礎にしている。
ウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法
において、次の処理段階:■〕 該材料の磯緘的研ノψ
、 ■〕 中間処理、 III)酸含有電解液中での電気化学的研摩、■)中間
処理、 ■)材料表面の陽極酸化 から成る前記方法を基礎にしている。
本発明の方法の場合、■および/または■段階における
中間処理は、先行段階の研i1シートを陽極とする電気
化学的処理であり、0.1〜101//m”のオーダー
の物質の電気化学的除去は、0〜11のpHを有しかり
3I/!から飽和限界までの濃度の少なくとも1種の水
溶性塩および/または0.5〜509/lの濃度の1櫨
の酸を含有する水性電解液中で、15〜90℃の温度で
5〜90秒間3〜100 A / dm”の直流を適用
す゛ることによって行なう。
中間処理は、先行段階の研i1シートを陽極とする電気
化学的処理であり、0.1〜101//m”のオーダー
の物質の電気化学的除去は、0〜11のpHを有しかり
3I/!から飽和限界までの濃度の少なくとも1種の水
溶性塩および/または0.5〜509/lの濃度の1櫨
の酸を含有する水性電解液中で、15〜90℃の温度で
5〜90秒間3〜100 A / dm”の直流を適用
す゛ることによって行なう。
機械的研摩後に行われる本発明の陽極処理の結果として
、次の段階の電気化学的作用は意外にもより一層均−に
なる。この均一性の改善は、交流を用いると明らかにな
るが、特に直流全便用する場合に明白にわかる。
、次の段階の電気化学的作用は意外にもより一層均−に
なる。この均一性の改善は、交流を用いると明らかにな
るが、特に直流全便用する場合に明白にわかる。
本発明による陽極頃良処理は、第2段階の電気化学的研
摩後に適用されると、印刷作業における水要求量の減少
をもたらすが、化学的起源の異なる/aの場合にも印刷
ラン安定性の損失は見−られない。従って本発明の有利
な実施態様では、本発明による陽極表面改良処理は機械
的研摩段階後および′就気化学的研4段階後にも行なわ
れる。
摩後に適用されると、印刷作業における水要求量の減少
をもたらすが、化学的起源の異なる/aの場合にも印刷
ラン安定性の損失は見−られない。従って本発明の有利
な実施態様では、本発明による陽極表面改良処理は機械
的研摩段階後および′就気化学的研4段階後にも行なわ
れる。
また本発明による方法は、■および1y段階の一つで純
粋に酸性またはアルカリ性の中間処理が行なわれるよう
に行なってもよい。この櫨の処理は好ましくは■段階で
適用する。
粋に酸性またはアルカリ性の中間処理が行なわれるよう
に行なってもよい。この櫨の処理は好ましくは■段階で
適用する。
有利な実施態様の場合、電解液は6〜9の−を有し、1
0〜250!//Ic)−反の少なくとも1槌の水溶性
塩を含有する。方法条件は、電気化学的改良処理が15
〜90℃、特に20〜40℃の温度で5〜90秒、特に
10〜60秒の間3〜100A/dm”、特に10〜8
0A/dm”の電流密度の直流を用いて行なわれるよう
に、適当に選択される。相応の電圧は5〜60v1特に
10〜40Vの範囲である。
0〜250!//Ic)−反の少なくとも1槌の水溶性
塩を含有する。方法条件は、電気化学的改良処理が15
〜90℃、特に20〜40℃の温度で5〜90秒、特に
10〜60秒の間3〜100A/dm”、特に10〜8
0A/dm”の電流密度の直流を用いて行なわれるよう
に、適当に選択される。相応の電圧は5〜60v1特に
10〜40Vの範囲である。
■段階で本発明による陽極改良処理を適用する場合、電
気化学的物質除去量の値(便用する電圧および電流密度
により各員に調wJされる〕は、■段階で行なわれる研
摩の種類に依存する。
気化学的物質除去量の値(便用する電圧および電流密度
により各員に調wJされる〕は、■段階で行なわれる研
摩の種類に依存する。
■段階における機械的研Mをワイヤブラシで表面組織化
することによって行なう場合には、■段階での電気化学
的物質除去量の値は有利には1〜10#/m2の範囲l
Cあるo3#/m”lでの低い値の場合には、後続の電
気化学的研摩後に得られる表面組織はむしろ、***国特
許出願公開第3305067号(南アフリカ共和国特I
f!F第8410821号に相当)に記載された種類に
類似しているが、■段階でのより高い値の場合には、も
つと顕著な波構造が形成され、同構造の上に■段階で微
細な電気化学的研摩が均一にかつ局部的な差別なしに施
されうる。
することによって行なう場合には、■段階での電気化学
的物質除去量の値は有利には1〜10#/m2の範囲l
Cあるo3#/m”lでの低い値の場合には、後続の電
気化学的研摩後に得られる表面組織はむしろ、***国特
許出願公開第3305067号(南アフリカ共和国特I
f!F第8410821号に相当)に記載された種類に
類似しているが、■段階でのより高い値の場合には、も
つと顕著な波構造が形成され、同構造の上に■段階で微
細な電気化学的研摩が均一にかつ局部的な差別なしに施
されうる。
■段階でスラリーブラッシングによって予備組織化した
アルミニウムシートの場合には、■段階で電気化学的物
質除去量の値を0.5〜3y/ m2に調節すると、■
段階での均一な’m流作用が十分に保証される。
アルミニウムシートの場合には、■段階で電気化学的物
質除去量の値を0.5〜3y/ m2に調節すると、■
段階での均一な’m流作用が十分に保証される。
サンドブラストによる■段階での機械的研摩の場合には
、■段階での電気化学的物質除去量の高い値(6〜10
17m”)は、このようにして製造された支持材料の水
/インキバランスに対して好lしい影響を及ぼす。
、■段階での電気化学的物質除去量の高い値(6〜10
17m”)は、このようにして製造された支持材料の水
/インキバランスに対して好lしい影響を及ぼす。
本発明による@極中間処理を■段階で使用する場合には
、0.1〜0.51 / m”の電気化学的物質除去量
の値はすでに表面の相当の改良をもたらしうるが、その
効果は一般にまだ不十分である。5.li’/m”を越
える値は高すぎるかも知れない、これは特に、先行研摩
処理がむしろ桟く行なわれた、つまり比較的低い山−谷
高さを与えるように行なわれた場廿に適用される。核方
法は不連続的に行なってもよいが、好ましくは最新のウ
ェブ加工装置で連続的に行なう。
、0.1〜0.51 / m”の電気化学的物質除去量
の値はすでに表面の相当の改良をもたらしうるが、その
効果は一般にまだ不十分である。5.li’/m”を越
える値は高すぎるかも知れない、これは特に、先行研摩
処理がむしろ桟く行なわれた、つまり比較的低い山−谷
高さを与えるように行なわれた場廿に適用される。核方
法は不連続的に行なってもよいが、好ましくは最新のウ
ェブ加工装置で連続的に行なう。
本発明の陽極改良方法で使用する水性電解液には、原則
として任意の水溶性塩が4当でめる。
として任意の水溶性塩が4当でめる。
このものは水の84電率を十分に高い程度に1a大させ
、開基の陽イオンは使用条件下では、レドックス生成物
が陽極上に析出されるように陽極たるアルミニウムと、
141互作用しない。実地の目的に適当な等電率を得る
ためには、ハロゲン化水素酸およびハロゲン、炭素、硼
累、窒素、燐および硫黄のオキソ酸またはml累、珪素
、燐および硫黄の含弗素酸のアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩またはアルミニウム塩を単独でまたは相互に
組合せて使用するのが有利である。
、開基の陽イオンは使用条件下では、レドックス生成物
が陽極上に析出されるように陽極たるアルミニウムと、
141互作用しない。実地の目的に適当な等電率を得る
ためには、ハロゲン化水素酸およびハロゲン、炭素、硼
累、窒素、燐および硫黄のオキソ酸またはml累、珪素
、燐および硫黄の含弗素酸のアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩またはアルミニウム塩を単独でまたは相互に
組合せて使用するのが有利である。
特に塩酸、塩素酸、硝酸、硫酸、燐酸、弗化硼素酸また
は弗化珪酸のNa%KまたはMg塩、特に好ましくは塩
化物または硝酸塩である。′I5s液としては、好まし
くは前記塩の水性f6液を便用する。また格別な効果t
″達成るためには、電解液は前記塩に相応するrIR’
!たは前記酸および塩の混合物を含有していてもよい。
は弗化珪酸のNa%KまたはMg塩、特に好ましくは塩
化物または硝酸塩である。′I5s液としては、好まし
くは前記塩の水性f6液を便用する。また格別な効果t
″達成るためには、電解液は前記塩に相応するrIR’
!たは前記酸および塩の混合物を含有していてもよい。
電解液中使用される塩は、生産工学、経析学および生態
学の観点から好ましくは、低濃反で良好な等電率をもた
らし、その水性靜液がすでに中性点に近い−を有してい
る塩を包含する。
学の観点から好ましくは、低濃反で良好な等電率をもた
らし、その水性靜液がすでに中性点に近い−を有してい
る塩を包含する。
本発明による方法では、先行の4気化学的研摩で形成さ
れた細孔(セル〕の壁が■段階で部分的に除去され、セ
ルの底部に微孔が形成されると考えられる。このように
形態に影響を与えることによっておそらくあまり凹凸の
ない表面が形成されるであろう。この表面構造は、中性
範囲のpHを有する水性電解液中での1段階研摩□処理
から得られる構造からはっきり区別されうる。
れた細孔(セル〕の壁が■段階で部分的に除去され、セ
ルの底部に微孔が形成されると考えられる。このように
形態に影響を与えることによっておそらくあまり凹凸の
ない表面が形成されるであろう。この表面構造は、中性
範囲のpHを有する水性電解液中での1段階研摩□処理
から得られる構造からはっきり区別されうる。
すてに′6気化学的に研摩されているアルミニウム表面
を陽極により改良する方法は、先づ、処理時間(通過し
た電荷りと相俟って使用する電気的条件(それぞれ′α
流ff!iまたは電圧)によって規定されうる。この仮
定のもとに、任意の他のv!4節可能の方法のパラメー
タ、例えば温度、塩の種類または#it屏液一度は、尋
4率に及ぼす影#七通しての関節的効果しか■しない。
を陽極により改良する方法は、先づ、処理時間(通過し
た電荷りと相俟って使用する電気的条件(それぞれ′α
流ff!iまたは電圧)によって規定されうる。この仮
定のもとに、任意の他のv!4節可能の方法のパラメー
タ、例えば温度、塩の種類または#it屏液一度は、尋
4率に及ぼす影#七通しての関節的効果しか■しない。
従来公知であった平版印刷版支持材料の他の製造方法と
比較して、アルミニウム表面を陽極により改良する本発
明の方法は、m段階およびIV段階の任意の一つで使用
すると、次の利点を生じる: 方法工学の鮫点からニ ー■m段階本発明による方法を適用することによって、
ワイヤブラッシング、スラリーブラッシング、サンドブ
ラストまたは他の機械的表面組繊化法によって形成され
た1欠粗構造が、後続の方法段階および使用するための
最終特性に多数の微小な変化をもって適合されうる。こ
の種の微小な変化程度は、従来公知の化学的中間処理法
で得ることができない。
比較して、アルミニウム表面を陽極により改良する本発
明の方法は、m段階およびIV段階の任意の一つで使用
すると、次の利点を生じる: 方法工学の鮫点からニ ー■m段階本発明による方法を適用することによって、
ワイヤブラッシング、スラリーブラッシング、サンドブ
ラストまたは他の機械的表面組繊化法によって形成され
た1欠粗構造が、後続の方法段階および使用するための
最終特性に多数の微小な変化をもって適合されうる。こ
の種の微小な変化程度は、従来公知の化学的中間処理法
で得ることができない。
一同様に方法の■段階でも微小な変化程度の作用が有利
に使用される。
に使用される。
−II段階およびIV段階における本発明による改、良
処理は、m段階で陽極直流法と組合せると極めて有利な
効果を有する。
処理は、m段階で陽極直流法と組合せると極めて有利な
効果を有する。
−(電解液の1値に関して)その最高中性度が可能であ
るために、アルミニウムに対する制御できない純化学的
作用はおそらく無視できるので、変化する電気化学的物
質除去量が広い湿灰範囲で殆ど電気的パラメータおよび
処理時間によって制御されうる。かくして、特定の成果
を目的として、大きな費用を用いることなく支持材料を
櫨々の使用分野に関して変化させることが可能になる。
るために、アルミニウムに対する制御できない純化学的
作用はおそらく無視できるので、変化する電気化学的物
質除去量が広い湿灰範囲で殆ど電気的パラメータおよび
処理時間によって制御されうる。かくして、特定の成果
を目的として、大きな費用を用いることなく支持材料を
櫨々の使用分野に関して変化させることが可能になる。
一水性′5等液中で使用される塩が事実上水の導電率を
増大させるためにのみ必要であつソ、該処理において消
費されないために、浴がなんらかの補給または浄化作業
なしに極めて長い期間に亘って使用されうる、つま9浴
は長1ハ使用寿命を有する。
増大させるためにのみ必要であつソ、該処理において消
費されないために、浴がなんらかの補給または浄化作業
なしに極めて長い期間に亘って使用されうる、つま9浴
は長1ハ使用寿命を有する。
応用技術の観点からニ
ーより軽い支持表面は、fA像後に1渾と非画像との間
の改善されたコントラストを生じる。
の改善されたコントラストを生じる。
−大きな穴のない、均一性の増大された粗構造は、露光
のより正確な管理および印刷版上の感光性被蝋の改善さ
れた溶Sをもたらす。
のより正確な管理および印刷版上の感光性被蝋の改善さ
れた溶Sをもたらす。
−あまり深くない表面粗さは、印刷中の湿し水の消費を
減少させ、表面の耐摩耗性を増大させる。
減少させ、表面の耐摩耗性を増大させる。
一支持材料の表面は、方法における大きな変更を要する
ことなく、種々の印刷上の使用分野の諸要求に適合され
うる。
ことなく、種々の印刷上の使用分野の諸要求に適合され
うる。
ウェブ、箔またはシートの形の材料の金属基板としては
、アルミニウムまたはアルミニウム合金をte用する。
、アルミニウムまたはアルミニウム合金をte用する。
好ましくは次の材料を用いるニー1純アルミニウム”(
D工N材料A3. [1255):At 99.596
以上、およびs1’0.3 q6、B’130.i、T
i O−03% 、Cu O−02%、znO,07*
および他の物質0.03係の許容混合物(最大総量0.
5チ)から成る。
D工N材料A3. [1255):At 99.596
以上、およびs1’0.3 q6、B’130.i、T
i O−03% 、Cu O−02%、znO,07*
および他の物質0.03係の許容混合物(最大総量0.
5チ)から成る。
−” At合金3003 ” (DIN材料/163.
0515と比較できる):At98.5優、合金成分M
g O〜0.3 %およびMn 0.8〜1.5%、お
よび510−54、Fa O−54、Ti O−2S、
Zn O12’4、CuQ、iおよび他の物質0.15
*の奸谷混曾物から成る。
0515と比較できる):At98.5優、合金成分M
g O〜0.3 %およびMn 0.8〜1.5%、お
よび510−54、Fa O−54、Ti O−2S、
Zn O12’4、CuQ、iおよび他の物質0.15
*の奸谷混曾物から成る。
■段階の機械的研摩は轟菓界公知の方法により行なう。
本発明による方法では、ワイヤ製回転デラシロールによ
る研摩が好筐しい。極めて −有利な方法は、水性
研摩懸濁液を用いてナイロンブラシを回転することによ
って研摩することから成る。
る研摩が好筐しい。極めて −有利な方法は、水性
研摩懸濁液を用いてナイロンブラシを回転することによ
って研摩することから成る。
m段階の成気化学的研摩は、HClおよび/またはHN
O3を含有する水注電′W4液中で交流を用いる任意の
慣用方法によってまたはウェブを陽極とする、直流を用
いる方法で行なうことができる。lたm段階では例えば
次の変法も可能であるニ ー HC1希薄水溶液中で、他の酸、例えばクロム酸ま
たは燐Mlを加えるか〔***国特奸出禎公告第2327
764号(米国特許第3,887.447号に相当)〕
、または腐食防止剤、例えばアミン、アルデヒド、アミ
ド、尿素または非イオン性界面活性剤を加えて(***国
時計出願公告第2218471号)アルミニウムをMm
する。
O3を含有する水注電′W4液中で交流を用いる任意の
慣用方法によってまたはウェブを陽極とする、直流を用
いる方法で行なうことができる。lたm段階では例えば
次の変法も可能であるニ ー HC1希薄水溶液中で、他の酸、例えばクロム酸ま
たは燐Mlを加えるか〔***国特奸出禎公告第2327
764号(米国特許第3,887.447号に相当)〕
、または腐食防止剤、例えばアミン、アルデヒド、アミ
ド、尿素または非イオン性界面活性剤を加えて(***国
時計出願公告第2218471号)アルミニウムをMm
する。
−特殊なfl類の電流、例えば電流の59iさが陽極の
振幅よりも大きい陽極振幅を有する交流を用いて、HC
l1たはE(NO38薄水浴液中でアルミニウムを研摩
する〔***国脣岬出1娘公告第2650762号(米L
Tl特ff第4,087,641号に相当)〕。
振幅よりも大きい陽極振幅を有する交流を用いて、HC
l1たはE(NO38薄水浴液中でアルミニウムを研摩
する〔***国脣岬出1娘公告第2650762号(米L
Tl特ff第4,087,641号に相当)〕。
−aCtまたはHNO、希薄水溶液中で、釦赦または硼
酸塩を加えてアルミニウムを研摩する(***国特岬出願
公告第2149899号)。
酸塩を加えてアルミニウムを研摩する(***国特岬出願
公告第2149899号)。
−交流または陽極回路装置金屑いて比較的高い塩濃度を
有する塩の中性水溶液中でアルミニウムを研摩する(西
独国時計出願公開第2537724号)。
有する塩の中性水溶液中でアルミニウムを研摩する(西
独国時計出願公開第2537724号)。
一交流または陽極回路装置を用いて比較的高い塩濃度を
有するアルミニウム塩の酸性水溶液中でアルミニウムを
研摩する(***国特許出頓公開第2537725号)。
有するアルミニウム塩の酸性水溶液中でアルミニウムを
研摩する(***国特許出頓公開第2537725号)。
特に連d的方法に2ける研摩段階の方法パラメータは一
般に欠の範囲内にある:電解液の温度:20〜60℃、
活性物質(酸、塩)の謎度:5〜100y/13 (ま
たは塩の場合にはもつと高い)、′成流缶度: 15〜
130A/am”、滞留時間:10〜100秒、被処理
加工物の表面上の流速:5〜100c!rL/秒。使用
する′4流の種類は大部分交流である。しかしまた変調
した種類の′4流、例えば陽極および陽極電流の電流@
さの振幅の鶏なる交流も用いることができる。
般に欠の範囲内にある:電解液の温度:20〜60℃、
活性物質(酸、塩)の謎度:5〜100y/13 (ま
たは塩の場合にはもつと高い)、′成流缶度: 15〜
130A/am”、滞留時間:10〜100秒、被処理
加工物の表面上の流速:5〜100c!rL/秒。使用
する′4流の種類は大部分交流である。しかしまた変調
した種類の′4流、例えば陽極および陽極電流の電流@
さの振幅の鶏なる交流も用いることができる。
該材料は、仮、読方法段階(V)で、例えば支持材料の
表面の耐摩耗性および警着性をさらに改善するために陽
極酸化させる。陽極酸化のためには、常用の電解液、例
えばu2so4 、H3P0.、HgC2O4、アミド
スルホン酸、スルホコハク酸、スルホサルチル酸または
それらの混合物を使用してもよい。例えば陽極酸化のた
めには、H,So、を含有する水性′B1騨液を便用す
る次の標準釣方法が有オリである:これに関しては、例
え(dM−シエンク(5ahonk ) 、ヴエルクシ
ュトフ・アルミ−ニウム・つ/ト・デイネ・アノーデイ
ツシエ・オクシダチオーン(WθrkatoffAlu
minium und eeine anodisch
a 0xidation )、すなわち1デ・マテリア
ル・アルミニム・アンド拳イツ・アノ−ディック・オク
シデイション(The Material Alumi
num and its AnodicOxidati
on )”、ベルン(Barn )在7ランケ・フエル
ラーク(tPrauke Verlag) 、194
B、760A;”プラクテイツシエ・ガルバノテヒ二7
り(Praktische Ga:Lvanotech
nik )”、すなわち1ゾラクテイカル・エレクトロ
プレイティング(Praclcal Electrop
lating)”、デクルがり(Saulgau )在
オイrン−G、−CIイツエ−7エルラーク(Euge
n G Leuze Verlag) 。
表面の耐摩耗性および警着性をさらに改善するために陽
極酸化させる。陽極酸化のためには、常用の電解液、例
えばu2so4 、H3P0.、HgC2O4、アミド
スルホン酸、スルホコハク酸、スルホサルチル酸または
それらの混合物を使用してもよい。例えば陽極酸化のた
めには、H,So、を含有する水性′B1騨液を便用す
る次の標準釣方法が有オリである:これに関しては、例
え(dM−シエンク(5ahonk ) 、ヴエルクシ
ュトフ・アルミ−ニウム・つ/ト・デイネ・アノーデイ
ツシエ・オクシダチオーン(WθrkatoffAlu
minium und eeine anodisch
a 0xidation )、すなわち1デ・マテリア
ル・アルミニム・アンド拳イツ・アノ−ディック・オク
シデイション(The Material Alumi
num and its AnodicOxidati
on )”、ベルン(Barn )在7ランケ・フエル
ラーク(tPrauke Verlag) 、194
B、760A;”プラクテイツシエ・ガルバノテヒ二7
り(Praktische Ga:Lvanotech
nik )”、すなわち1ゾラクテイカル・エレクトロ
プレイティング(Praclcal Electrop
lating)”、デクルがり(Saulgau )在
オイrン−G、−CIイツエ−7エルラーク(Euge
n G Leuze Verlag) 。
1970.395頁以下および5181519頁;W、
ヒユーブナ−(Huebner )およびC,T。
ヒユーブナ−(Huebner )およびC,T。
シュパイゼル(8peiser ) 、”ディ・プラク
シス−デル・アノーデイツシエン・オクシダチオーン・
デス・アルミニウムス(Die Praxiader
anodischen 0xidation d
ea Aluminiums”、すなわち1プラクテ
イカル・チクノロシー・オデ・アノ−ディック・オクシ
デイション・オデーアルーミナム(Practical
Technology ofAnodia 0xla
tion of Aluminum )”、ゾユセルド
ルフ在アルミニーウム・クエルラーク(Alumini
um Verlag ) 、i 977年、第3版、
137貞以下参照。
シス−デル・アノーデイツシエン・オクシダチオーン・
デス・アルミニウムス(Die Praxiader
anodischen 0xidation d
ea Aluminiums”、すなわち1プラクテ
イカル・チクノロシー・オデ・アノ−ディック・オクシ
デイション・オデーアルーミナム(Practical
Technology ofAnodia 0xla
tion of Aluminum )”、ゾユセルド
ルフ在アルミニーウム・クエルラーク(Alumini
um Verlag ) 、i 977年、第3版、
137貞以下参照。
一直流硫ぼ法の場合には陽極酸化を、有利にH2So4
約230171溶液金含有する水性電解液中で、10〜
22℃で10〜60分間、′6流!就0.5〜2−5
A / dm”で行なう。またこの方法では、水は電解
液中の硫酸濃度は、 H2so、 8〜10重量%(H
2SO,1009/l )に減少されるかまたは303
tR% (HgSO4365g / l)以上に増大さ
れてもよい。
約230171溶液金含有する水性電解液中で、10〜
22℃で10〜60分間、′6流!就0.5〜2−5
A / dm”で行なう。またこの方法では、水は電解
液中の硫酸濃度は、 H2so、 8〜10重量%(H
2SO,1009/l )に減少されるかまたは303
tR% (HgSO4365g / l)以上に増大さ
れてもよい。
一1硬質陽極酸化法(hard−anoaizigpr
ocess)”は、H2SO,1661/l (’Eた
は2 りO1/11)の鑓度のH2s o、全含有する
水性電解液を用いて、使用@度0〜5°C1電流密度2
〜3 A / dが、処理開始時の約25〜30Vから
処理終了に向って約40〜100■に増大する′ぼ圧で
30〜200分間行なう。
ocess)”は、H2SO,1661/l (’Eた
は2 りO1/11)の鑓度のH2s o、全含有する
水性電解液を用いて、使用@度0〜5°C1電流密度2
〜3 A / dが、処理開始時の約25〜30Vから
処理終了に向って約40〜100■に増大する′ぼ圧で
30〜200分間行なう。
またFIIJ記の印刷版支持材料の陽極酸化法の他に、
例えば次の方法も便用してよい: At3+イ値 オンの址が12&/lを越えlχ調節されるH、S O
4含将水性電解液中(***国−ffi!F−出顧公開第
2811396号;米国特、f!F第4,211,61
9号に相当)、H2so4 オ!びH3PO4’ii含
有する水性4解液中(***国特許出頭公開第27078
10号;米国特fF第4,049,504号に相当〕ま
たはH,So、、H3PO4オよびAt” イ、t 7
f B有する水性電解液中でのアルミニウムの陽極酸
化。
例えば次の方法も便用してよい: At3+イ値 オンの址が12&/lを越えlχ調節されるH、S O
4含将水性電解液中(***国−ffi!F−出顧公開第
2811396号;米国特、f!F第4,211,61
9号に相当)、H2so4 オ!びH3PO4’ii含
有する水性4解液中(***国特許出頭公開第27078
10号;米国特fF第4,049,504号に相当〕ま
たはH,So、、H3PO4オよびAt” イ、t 7
f B有する水性電解液中でのアルミニウムの陽極酸
化。
陽極酸化のためには、好1しくは直流を使用する。しか
しlた交流または両種の電流の組合せ(例えばM畳交流
を有する直流)を用いることもできる。酸化アルミニウ
ムの層重量は1〜10g/In”であり、これは0−3
〜3.OAm O層厚に相当する。
しlた交流または両種の電流の組合せ(例えばM畳交流
を有する直流)を用いることもできる。酸化アルミニウ
ムの層重量は1〜10g/In”であり、これは0−3
〜3.OAm O層厚に相当する。
印刷版のアルミニウム支持材料の陽極酸化段階Vを含む
本発明の方法には、場合によっては1つ以上の後処理段
階が続く。追加段階■の後処理は、特に酸化アルミニウ
ム層の化学的または′シ気化学的颯水化処理、例えばポ
リビニルホスホン酸の水溶液中での材料の浸漬処理(西
独国特FM1621478号;英国特許 第1,230,447号に相当)、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液中での浸漬処理(***国峙杆出狽公告第147
1707号;米国特許第3,181,461号に相当)
、またはアルカリ金属珪酸塩の水浴液中での電気化学的
処理(陽極酸化〕(***国特肝出願公開第253276
9号;米国特許第3,902g76号に相当〕として明
らかである。これらの後処理段階d、特に、すでに多く
の使用分野にとって十分な、酸化アルミニウム層の親水
性をさらに改善するために役立ち、その他の周知の層特
性は少なくとも維持される。
本発明の方法には、場合によっては1つ以上の後処理段
階が続く。追加段階■の後処理は、特に酸化アルミニウ
ム層の化学的または′シ気化学的颯水化処理、例えばポ
リビニルホスホン酸の水溶液中での材料の浸漬処理(西
独国特FM1621478号;英国特許 第1,230,447号に相当)、アルカリ金属珪酸塩
の水溶液中での浸漬処理(***国峙杆出狽公告第147
1707号;米国特許第3,181,461号に相当)
、またはアルカリ金属珪酸塩の水浴液中での電気化学的
処理(陽極酸化〕(***国特肝出願公開第253276
9号;米国特許第3,902g76号に相当〕として明
らかである。これらの後処理段階d、特に、すでに多く
の使用分野にとって十分な、酸化アルミニウム層の親水
性をさらに改善するために役立ち、その他の周知の層特
性は少なくとも維持される。
さらに本発明の目的は、感光性層e&を有する印刷版’
fcH造する場合、本発明によシ■段階で機械的に研摩
し、■段階で電気化学的に@摩し、■段階および/また
はIV段階で陽極的に改良し、V段階で芭極酸化しかつ
■段階で親水化後処理をb*t、た材料と使用すること
によって達成される。感光性被覆含有する印刷版tS造
する目的のためには、支持材料に、PB版の製造所でま
たは支持材料を被覆する工程でニーデーによって次子の
感光性組成物の1種を被覆する二適当な感光性層は基本
的には、照射(露光)後、場合によっては現像および/
または定着後に、印刷用に使用できる表面に1稼構成を
もたらす任意の層である。
fcH造する場合、本発明によシ■段階で機械的に研摩
し、■段階で電気化学的に@摩し、■段階および/また
はIV段階で陽極的に改良し、V段階で芭極酸化しかつ
■段階で親水化後処理をb*t、た材料と使用すること
によって達成される。感光性被覆含有する印刷版tS造
する目的のためには、支持材料に、PB版の製造所でま
たは支持材料を被覆する工程でニーデーによって次子の
感光性組成物の1種を被覆する二適当な感光性層は基本
的には、照射(露光)後、場合によっては現像および/
または定着後に、印刷用に使用できる表面に1稼構成を
もたらす任意の層である。
ハロゲン化銀を含有し、多くの分野で使用される層の他
に、また他の種々の層も公知である、例えばヤロマイヤ
ー・ニーデー(Jaromir Koaar)著、9ラ
イトーセンシチイデ・システムス(Lighを8ens
itive 8ystems )”、= ニー 5−り
在ジョン拳ヴイレイーアンド・ソング(JohnWil
ey & 5ons )刊、1965年に記ggれてい
るニ クロム酸およびニクロム酸塩を含有するコロイド層(ニ
ーデー、第2章〕;不飽和化合物を含有する層一層中で
これらの化合物が露光時に異性化され、再配置され、環
化されまたは架橋される(ニーデー、第4章);光重合
されうる化合物を含有する層−露光時に層中でモノマー
またはゾレボリマーが場合によυ重合開始剤によって重
合される(ニーデー、第5章);O−ジアゾキノン例え
ばナフトキノンジアジド、p−ジアゾキノンまたはシア
ゾニウム塩の縮合生成物を含有する層(ニーデー、第7
章〕。また適当な層は、電子写真層、つ1すS機または
存機光導1!l性物質を含有する層も包含する。またこ
れらの層は、感光性物質の他にもちろん他の成分、例え
ば樹脂、染料または可製剤を含有していてもよい。本発
明の方法により製造された支持材料の被覆の際、特に天
下の感光性組成物または化合物を使用することができる
ニーポジ作用性0−キノンジアジド化合物、好筐しくは
0−ナフトキノンジアシド化合物:例えば***国特fF
第854,890号、同第865,109号、同第87
9,205号、同第894,959号、同第938,2
33号、同第1.109,521号、同第1,144,
705号、同第1,118,606号、同第1,120
.273号および同第1,124,817号に記載され
ている。
に、また他の種々の層も公知である、例えばヤロマイヤ
ー・ニーデー(Jaromir Koaar)著、9ラ
イトーセンシチイデ・システムス(Lighを8ens
itive 8ystems )”、= ニー 5−り
在ジョン拳ヴイレイーアンド・ソング(JohnWil
ey & 5ons )刊、1965年に記ggれてい
るニ クロム酸およびニクロム酸塩を含有するコロイド層(ニ
ーデー、第2章〕;不飽和化合物を含有する層一層中で
これらの化合物が露光時に異性化され、再配置され、環
化されまたは架橋される(ニーデー、第4章);光重合
されうる化合物を含有する層−露光時に層中でモノマー
またはゾレボリマーが場合によυ重合開始剤によって重
合される(ニーデー、第5章);O−ジアゾキノン例え
ばナフトキノンジアジド、p−ジアゾキノンまたはシア
ゾニウム塩の縮合生成物を含有する層(ニーデー、第7
章〕。また適当な層は、電子写真層、つ1すS機または
存機光導1!l性物質を含有する層も包含する。またこ
れらの層は、感光性物質の他にもちろん他の成分、例え
ば樹脂、染料または可製剤を含有していてもよい。本発
明の方法により製造された支持材料の被覆の際、特に天
下の感光性組成物または化合物を使用することができる
ニーポジ作用性0−キノンジアジド化合物、好筐しくは
0−ナフトキノンジアシド化合物:例えば***国特fF
第854,890号、同第865,109号、同第87
9,205号、同第894,959号、同第938,2
33号、同第1.109,521号、同第1,144,
705号、同第1,118,606号、同第1,120
.273号および同第1,124,817号に記載され
ている。
一芳香族ゾアゾニウム塩と活性カルボニル21!、fc
有する化合物とから得られたネガ作用性縮合生成物、好
lしくはジフェニルアミンシアゾニウム塩とホルムアル
デヒドから形成された縮合生成物二例えば***国特吐M
596,731号、同第1,138.599号、同第1
,138,400号、同第1.138,401号、同第
1,142,871号および同第1,154,123号
、米国用2,679,498号および同@ 3.050
,502号、英国特許g712,606号に記載されて
いる。
有する化合物とから得られたネガ作用性縮合生成物、好
lしくはジフェニルアミンシアゾニウム塩とホルムアル
デヒドから形成された縮合生成物二例えば***国特吐M
596,731号、同第1,138.599号、同第1
,138,400号、同第1.138,401号、同第
1,142,871号および同第1,154,123号
、米国用2,679,498号および同@ 3.050
,502号、英国特許g712,606号に記載されて
いる。
−芳香族ジアゾニウム化合物のネが作用比共正縮合生成
物、例えば***国特訂出禎公開第2024244号記載
。
物、例えば***国特訂出禎公開第2024244号記載
。
一照射時に、酸によって分離されうる少なくとも1個の
C−0−C基(例えばオルトカル4ぐン鍍エステル基ま
たはカルボキシアミド−アセタール基〕を有する酸、モ
ノマー筐たはポリマー化合物を分解する化合物および適
当な場合にはバインダーを含有するホゾ作用性ノー(西
独国特杆出願公開第2610842号、***−特許g2
718254号または***国特許出願公開第29286
56号記載)。
C−0−C基(例えばオルトカル4ぐン鍍エステル基ま
たはカルボキシアミド−アセタール基〕を有する酸、モ
ノマー筐たはポリマー化合物を分解する化合物および適
当な場合にはバインダーを含有するホゾ作用性ノー(西
独国特杆出願公開第2610842号、***−特許g2
718254号または***国特許出願公開第29286
56号記載)。
一光重合性モツマー1元重合開始剤、バインダーおよび
適当な場合にはさらに添加物から成るネが作用性層。こ
のような層中にはモノマーとして例えばアクリル酸およ
びメタクリル酸エステル、またはジイソシアネートと多
価アルコールの部分エステルとの反応生成物が使用され
る。
適当な場合にはさらに添加物から成るネが作用性層。こ
のような層中にはモノマーとして例えばアクリル酸およ
びメタクリル酸エステル、またはジイソシアネートと多
価アルコールの部分エステルとの反応生成物が使用され
る。
例えば米国特許記2,760,863号および同第3,
060,023号、***国特岬出願公開8g20640
79号および同第2561041号に記載されている。
060,023号、***国特岬出願公開8g20640
79号および同第2561041号に記載されている。
一感光性化合物として、ジアゾニウム塩重縮合生成物ま
たは有機アジド化合物を含有しかつパインp’ (!
:Lテ%アルケニルスルホニルウレタン17’C4−j
シクロアルケニルスルホニルウレタン側基含有する高分
子量ポリマーを含有するネガ作用性層(***国特許出願
公開第3036077号記載)。
たは有機アジド化合物を含有しかつパインp’ (!
:Lテ%アルケニルスルホニルウレタン17’C4−j
シクロアルケニルスルホニルウレタン側基含有する高分
子量ポリマーを含有するネガ作用性層(***国特許出願
公開第3036077号記載)。
また本発明により製造された支持材料に半光導゛1性層
を適用することもでき(例えば***国特許第11173
91号、同第1522497号、同第1572312号
、同第2322046号および同第2322047号に
記載〕、その結果として高感光性電子写真作用性印刷版
が装造される。
を適用することもでき(例えば***国特許第11173
91号、同第1522497号、同第1572312号
、同第2322046号および同第2322047号に
記載〕、その結果として高感光性電子写真作用性印刷版
が装造される。
次子の実施例では、「慢」は[重illであり、重量部
は、キログラムがリットルに対応するように容量部に対
応する。本発明方法により製造された支持材料の評価の
場合には、次の標準方法を用いる; 湿し水の消費量の測定 使用される湿し水の量は、湿し装置〔ダールグレン(D
ahlgren)社製〕で使用される指示装置によって
測定する。この指示装置は湿し水の消費値の絶対的尺度
金与えないが、しかし櫨々の印刷順序に関して同装置に
よって指示される目盛単位の読みは相互に比較されうる
(相対尺度〕。
は、キログラムがリットルに対応するように容量部に対
応する。本発明方法により製造された支持材料の評価の
場合には、次の標準方法を用いる; 湿し水の消費量の測定 使用される湿し水の量は、湿し装置〔ダールグレン(D
ahlgren)社製〕で使用される指示装置によって
測定する。この指示装置は湿し水の消費値の絶対的尺度
金与えないが、しかし櫨々の印刷順序に関して同装置に
よって指示される目盛単位の読みは相互に比較されうる
(相対尺度〕。
耐摩耗性の測定
耐摩耗性を限定するために、印刷機での印刷に関して、
本発明方法により陽極的に改良された支持材料から装造
された版を、このような改良段階を用いることなく相応
の方法で研j$され、陽極酸化された支持材料から製造
された版と一緒に使用する。両櫨の版を、層の密着力お
よび非mu部のプライトスポット(bright 5p
qts+ )(摩耗を示す)に関して、特定の間隔をお
いて比較する。
本発明方法により陽極的に改良された支持材料から装造
された版を、このような改良段階を用いることなく相応
の方法で研j$され、陽極酸化された支持材料から製造
された版と一緒に使用する。両櫨の版を、層の密着力お
よび非mu部のプライトスポット(bright 5p
qts+ )(摩耗を示す)に関して、特定の間隔をお
いて比較する。
陽極改良処理から得られるアルミニウム材料からの物質
除去量は、重量計量法に上って測定する。この目的のた
めに、陽極処理の前に、研摩された寸法10100X1
00のアルミニウムシート全秤量する。本発明による処
理を行なった後、試料を洗浄し、乾燥し、物質除去量を
再秤量によって測定する。
除去量は、重量計量法に上って測定する。この目的のた
めに、陽極処理の前に、研摩された寸法10100X1
00のアルミニウムシート全秤量する。本発明による処
理を行なった後、試料を洗浄し、乾燥し、物質除去量を
再秤量によって測定する。
山−谷高さのぶ11定
山−谷高さを、D工N4768によ91970年10月
の日付けの変法で測定する、この際山−谷高さRzは、
相互に近接する5個の611J足長さ含有する個々の山
−谷高さの値からtF算される算術平均である。単−山
一谷高さは、各測定長さ内で粗さ分布の最高点および最
低点上接触させる2本の平行庫の、中央線からの距離と
して定義する。単一測定長さは、評価のために直接便用
される、粗さ分布の部分の、中央庫に直角に射影された
長さの5分の1に相当する。中央線は、幾何学的に理想
的な分布の形状を有する粗さ分布の一般方向に平行に走
シかつ中央嶽上部の物質で占められた面4Aの和と回り
下部の物質のない面積の和が等しくなるように粗さ分布
を分割する線である。
の日付けの変法で測定する、この際山−谷高さRzは、
相互に近接する5個の611J足長さ含有する個々の山
−谷高さの値からtF算される算術平均である。単−山
一谷高さは、各測定長さ内で粗さ分布の最高点および最
低点上接触させる2本の平行庫の、中央線からの距離と
して定義する。単一測定長さは、評価のために直接便用
される、粗さ分布の部分の、中央庫に直角に射影された
長さの5分の1に相当する。中央線は、幾何学的に理想
的な分布の形状を有する粗さ分布の一般方向に平行に走
シかつ中央嶽上部の物質で占められた面4Aの和と回り
下部の物質のない面積の和が等しくなるように粗さ分布
を分割する線である。
次に、選択された好ましい実施例により本発明を説明す
るが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
るが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
例1〜43
天下の実施例において、他に指摘がなければ、L 11
1、vおよび■段階における次の条件下で常に本発明方
法を実施して、■およびIV段階での陽極的改良処理の
特定効果を証明する;■段lv: ワイヤブラッシング(WB )、生じる山−谷高さR2
:回転方向に関しては5.0μm1回転方向に対して横
方向には6.6μm0 スラリーブラツシング(SB)、生じる山−谷高さR2
:回転方向に関して5.4μm1回転方向に対して横方
向には5.7μm0 サンドシラスI’ (S)、生じる山−谷高さR2:回
転方向に関して7gμm1回転方向に対して横方向には
8.1μm0 ■段階: すべての例において電気化学的研摩を、40〜45℃の
温度で、HNO3鵞鷺督204ゾ/lおよびAt(No
3 ) 3・9H,050,F/lt″言有する水溶
液傷中で、電流密度2OA/dm”i有する交流作用下
に、浴を強力に循環させつつ10秒間行なう。
1、vおよび■段階における次の条件下で常に本発明方
法を実施して、■およびIV段階での陽極的改良処理の
特定効果を証明する;■段lv: ワイヤブラッシング(WB )、生じる山−谷高さR2
:回転方向に関しては5.0μm1回転方向に対して横
方向には6.6μm0 スラリーブラツシング(SB)、生じる山−谷高さR2
:回転方向に関して5.4μm1回転方向に対して横方
向には5.7μm0 サンドシラスI’ (S)、生じる山−谷高さR2:回
転方向に関して7gμm1回転方向に対して横方向には
8.1μm0 ■段階: すべての例において電気化学的研摩を、40〜45℃の
温度で、HNO3鵞鷺督204ゾ/lおよびAt(No
3 ) 3・9H,050,F/lt″言有する水溶
液傷中で、電流密度2OA/dm”i有する交流作用下
に、浴を強力に循環させつつ10秒間行なう。
V段階:
すべての例において陽極酸化工程を1硫酸を含有する水
性電解液中で***国特許出順公開第2811396号に
記載された条件により行なう。酸化物層は3.0 、V
/ m”である。
性電解液中で***国特許出順公開第2811396号に
記載された条件により行なう。酸化物層は3.0 、V
/ m”である。
■段階:
すべての例において陽極酸化された材料の有利な親水化
後処理を、温夏50℃で、mBf、Fl/lのポリビニ
ルホスホン酸水溶液中で、作用時間20秒間行なう。
後処理を、温夏50℃で、mBf、Fl/lのポリビニ
ルホスホン酸水溶液中で、作用時間20秒間行なう。
例中で実権したすべての変法の場合には、各処理段階の
後で脱鉱物水で表面を洗浄する。
後で脱鉱物水で表面を洗浄する。
■およびIV段階で使用した作業温度は常に30〜65
℃である。
℃である。
℃へ!■の00唖哨0く口Aへロ
ーq−へ寸匂ト■寸−へ−w−w+ C%10 哨 口
0 ロ ロ 00 ロ ロ ロ ロ ロ ロ ロ寸N
噂り寸哨へ一一哨へへい哨臂 デ8&吊8呂冨島為口0゜ロクロ 一へ罰C頃哨C硝噂N v−ヘ噂嘴り(hのへローへ哨寸− W−W ff r W r ff−へ〜NヘヘNNN’
) リ N) 臂 硝 ’OrN の さ 0 − へ
哨(イ) (イ) (イ) (イ) (イ)
噂 寸 寸 寸 寸例44 ■段階で例6による中間処理およびIV段階で例33に
よる同処理を施したアルミニウムシートに、次の成分か
ら成る溶液を被覆する:クレゾール/ホルムアルデヒド
ノボラック(軟化点範囲105〜120℃を有する、D
IN 53181による) 6.UJ O重址部、4−
(2−7二二ループロビー2−イルンーフエ二ルー1,
2−ナフトキノン−2−シアシト−4−スルホネート1
.10憲量部、ポリビニルブチラール0.81厘量部、
1.2−す7トキノンー2−シアシト−4−スルホクロ
リド0.75重量部、 クリスタルバイオレットo、osxii、エチレンクリ
コール七ツメチルエーテル4容址部、テトラヒドロ7ラ
ン5容濾部および酢酸ジチル1$を部から成る溶剤混合
物91.36重量部。
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噂 寸 寸 寸 寸例44 ■段階で例6による中間処理およびIV段階で例33に
よる同処理を施したアルミニウムシートに、次の成分か
ら成る溶液を被覆する:クレゾール/ホルムアルデヒド
ノボラック(軟化点範囲105〜120℃を有する、D
IN 53181による) 6.UJ O重址部、4−
(2−7二二ループロビー2−イルンーフエ二ルー1,
2−ナフトキノン−2−シアシト−4−スルホネート1
.10憲量部、ポリビニルブチラール0.81厘量部、
1.2−す7トキノンー2−シアシト−4−スルホクロ
リド0.75重量部、 クリスタルバイオレットo、osxii、エチレンクリ
コール七ツメチルエーテル4容址部、テトラヒドロ7ラ
ン5容濾部および酢酸ジチル1$を部から成る溶剤混合
物91.36重量部。
支持材料に適用した感光性層の!址は約3I/ mBで
るる。この版を5 kWのハロゲン化金属うジプを用い
て原稿下に露光し、次の溶液で現像する; メタ珪酸ナトリウム・9 H2O5,3重量部、燐酸三
ナトリウム・12 H2O3−4重量部、燐酸二水素ナ
トリウム(無水)0.5重量部、水91.0重量部。
るる。この版を5 kWのハロゲン化金属うジプを用い
て原稿下に露光し、次の溶液で現像する; メタ珪酸ナトリウム・9 H2O5,3重量部、燐酸三
ナトリウム・12 H2O3−4重量部、燐酸二水素ナ
トリウム(無水)0.5重量部、水91.0重量部。
このようにして製造した完成印刷版を、150.000
枚を越える良質複写物全印刷するために使用することが
できる。同板は捩れた印桐性を有する。湿し水を少な目
に供給する場合は対照印刷版と比べて約10〜15俤だ
け減少される。前記対照版の支持材料は■段階とV段階
の間で陽極処理を受けていないが、他の点で同一構造を
有する。両板において複写層はなお良好な状態にあるが
、しかし対照として用いたシートは約90.000〜1
10,000枚の複写物の印刷後に非画像部にデジイト
スポットを示し、機械的4粍を示す。これに対して本発
明によシ製造された版は、150.000枚の複写物の
印刷後にも支持材料の摩耗の跡を示さない。
枚を越える良質複写物全印刷するために使用することが
できる。同板は捩れた印桐性を有する。湿し水を少な目
に供給する場合は対照印刷版と比べて約10〜15俤だ
け減少される。前記対照版の支持材料は■段階とV段階
の間で陽極処理を受けていないが、他の点で同一構造を
有する。両板において複写層はなお良好な状態にあるが
、しかし対照として用いたシートは約90.000〜1
10,000枚の複写物の印刷後に非画像部にデジイト
スポットを示し、機械的4粍を示す。これに対して本発
明によシ製造された版は、150.000枚の複写物の
印刷後にも支持材料の摩耗の跡を示さない。
例45
■段階で例19による中間処理およびIV段階で例42
による同処理″をmしたアルミニウム支持材料に次の成
分から成る溶液を被覆する=3−メトキシ−ジフェニル
アミン−4−シアr=ウムスルフエート1m01と%4
@4’−に’スーメトキシメチルーゾフェニルエーテル
1molの重縮合生成物(メシチレンスルホネートとし
て沈殿)0.70!i部、 一度85係H3PO43,40重址部、1.000未満
の分子址を有するエポキシ樹脂50亘址部と安息香#1
2.8重に部を、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル中でペンシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドの
存在で反応させて得られた変性エポキシ樹脂3.00重
社部、 微粉砕へりオrンプルー(HeliogenBlue
)G(C,工、74100)0.44重量部、エチレン
グリコールモノメチルエーテル62.00容量部、 テトラヒドロフラン30.60g量部および酢酸ブチル
8.00容量部。
による同処理″をmしたアルミニウム支持材料に次の成
分から成る溶液を被覆する=3−メトキシ−ジフェニル
アミン−4−シアr=ウムスルフエート1m01と%4
@4’−に’スーメトキシメチルーゾフェニルエーテル
1molの重縮合生成物(メシチレンスルホネートとし
て沈殿)0.70!i部、 一度85係H3PO43,40重址部、1.000未満
の分子址を有するエポキシ樹脂50亘址部と安息香#1
2.8重に部を、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル中でペンシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドの
存在で反応させて得られた変性エポキシ樹脂3.00重
社部、 微粉砕へりオrンプルー(HeliogenBlue
)G(C,工、74100)0.44重量部、エチレン
グリコールモノメチルエーテル62.00容量部、 テトラヒドロフラン30.60g量部および酢酸ブチル
8.00容量部。
原稿を用いて露光した後、現毬を次の成分から成る溶液
で3Atyiを行なう二 Na2SO4’1 oHgo 2.80厘量部、Mg
SO4・7I(,02,80重量部、濃度8510H3
P0.0g0重電部、HsPO30,08重量部、 非イオン性界面活註剤1.60厘量部、ペンシルアルコ
ールio、ooxt1に部、n−プロパツール20.0
0重量部および水60.00重量部。
で3Atyiを行なう二 Na2SO4’1 oHgo 2.80厘量部、Mg
SO4・7I(,02,80重量部、濃度8510H3
P0.0g0重電部、HsPO30,08重量部、 非イオン性界面活註剤1.60厘量部、ペンシルアルコ
ールio、ooxt1に部、n−プロパツール20.0
0重量部および水60.00重量部。
このように製造した完成印刷版は、枚葉紙オフセット印
刷機で150,000枚を越える良質印刷物を生じ、層
が摩滅してからも支持表面の非li像部の機械的損傷の
跡を残さない。
刷機で150,000枚を越える良質印刷物を生じ、層
が摩滅してからも支持表面の非li像部の機械的損傷の
跡を残さない。
例42による中間処理を施した支持材料は、■段階で中
間処理なしに製造した支持材料から得られる印刷版と比
べると、25俤少な9ハ湿し水を消費する。
間処理なしに製造した支持材料から得られる印刷版と比
べると、25俤少な9ハ湿し水を消費する。
■およびIv段階で実施する本発明による中間処理なし
に製造した支持材料は、暗灰色のすし条表面を示すので
、実用には不適当である。
に製造した支持材料は、暗灰色のすし条表面を示すので
、実用には不適当である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、平版用印刷版に使用されるアルミニウムまたはアル
ミニウム合金の研摩支持材料を製造するに当り、次の処
理段階: I )該材料の機械的研摩、 II)中間処理、 III)酸含有電解液中での通気化学的研摩、 IV)中間処理、 V)材料表面の陽極酸化 から成り、II段階および/またはIV段階における中間処
理が、先行段階の研摩材料を陽極としかつ水性電解液を
0〜11のpHに調節する電気化学的処理であり、この
際電解液が3g/lから飽和限界までの濃度の少なくと
も1種の水溶性塩および/または0.5〜50g/lの
濃度の酸を含有し、3〜100A/dm^2の直流およ
び15〜90℃の温度を5〜90秒間適用しかつこれら
のパラメータを0.1〜10g/m^2の物質除去量が
得られるように調節することを特徴とする前記研摩支持
材料の製造方法。 2、II段階および/またはIV段階で使用する電解液のp
Hを1〜11の値に調節する特許請求の範囲第1項記載
の方法。 3、II段階および/またはIV段階で使用する電解液のp
Hを3〜9の値に調節する特許請求の範囲第1項または
第2項記載の方法。 4、II段階および/またはIV段階で使用する電解液のp
Hを1〜5の値に調節する特許請求の範囲第1項または
第2項記載の方法。 5、電解液が10〜250g/lの濃度の少なくとも1
種の水溶性塩を含有する特許請求の範囲第1項から第3
項までのいづれか1項記載の方法。 6、電解液が1〜20g/lの濃度の少なくとも1種の
酸を含有する特許請求の範囲第1項から第5項までのい
づれか1項記載の方法。 7、II段階および/またはIV段階の電気化学的中間処理
を、20〜40℃の温度で10〜80A/dm^2の電
流密度の直流を用いて10〜60秒間行なう特許請求の
範囲第1項から第6項までのいづれか1項記載の方法。 8、II段階および/またはIV段階で使用する電解液が、
水溶性塩として、ハロゲン化水素酸、ハロゲン、炭素、
硼素、窒素、燐または硫黄のオキソ酸または硼素、珪素
、燐または硫黄の含弗素酸の少なくとも1種のアルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩またはアルミニウム塩を含
有する特許請求の範囲第1項から第7項までのいづれか
1項記載の方法。 9、II段階および/またはIV段階で使用する電解液が、
ハロゲン化水素酸またはハロゲン、炭素、硼素、窒素、
燐または硫黄のオキソ酸を含有する特許請求の範囲第1
項から第8項までのいづれか1項記載の方法。 10、II段階およびIV段階の一つでの中間処理が、酸性
またはアルカリ性媒体中での化学的処理である特許請求
の範囲第1項記載の方法。 11、II段階での中間処理が酸性またはアルカリ性媒体
中での化学的処理である特許請求の範囲第1項または第
10項記載の方法。 12、 I 段階での機械的研摩がワイヤブラツシング、
スラリーブラツシングまたはサンドブラストから成る特
許請求の範囲第1項から第10項までのいづれか1項記
載の方法。13、III段階で材料を、塩酸および/また
は硝酸を含有する水性電解液中で交流によつて電気化学
的に研摩する特許請求の範囲第1項から第12項までの
いづれか1項記載の方法。 14、III段階で材料を、硝酸を含有する水性電解液中
で直流によつて電気化学的に研摩する特許請求の範囲第
1項から第12項までのいづれか1項記載の方法。 15、印刷版支持材料を、V段階で硫酸および/または
燐酸を含有する水性電解液中で直流を用いて陽極酸化す
る特許請求の範囲第1項から第14項までのいづれか1
項記載の方法。 16、陽極酸化された印刷版支持材料に、親水化後処理
を施す特許請求の範囲第1項から第15項までのいづれ
か1項記載の方法。
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---|---|---|---|
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---|---|
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03126900A (ja) * | 1989-10-13 | 1991-05-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用支持体の製造方法 |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
WO2009041659A1 (ja) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 太陽電池 |
EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
WO2018235659A1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | アルミニウム複合材料 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5152877A (en) * | 1989-10-13 | 1992-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing support for printing plate |
US5122243A (en) * | 1991-07-22 | 1992-06-16 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plates comprising an aluminum support grained in a two stage-electrolytic process |
US5186795A (en) * | 1991-07-22 | 1993-02-16 | Eastman Kodak Company | Two-stage process for electrolytic graining of aluminum |
DE4129909A1 (de) * | 1991-09-09 | 1993-03-11 | Hoechst Ag | Verfahren zum aufrauhen von aluminium bzw. von aluminiumlegierungen als traegermaterial fuer druckplatten und eine druckplatte |
US5284554A (en) * | 1992-01-09 | 1994-02-08 | International Business Machines Corporation | Electrochemical micromachining tool and process for through-mask patterning of thin metallic films supported by non-conducting or poorly conducting surfaces |
US5432046A (en) * | 1993-09-29 | 1995-07-11 | Hoechst Celanese Corporation | Process for preparing improved lithographic printing plates by brushgraining with alumina/quartz slurry |
EP0874068B1 (en) * | 1997-04-25 | 2004-01-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate |
US6264821B1 (en) | 1997-12-16 | 2001-07-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing aluminum support for lithographic printing plate |
EP1046514B1 (en) * | 1999-04-22 | 2005-07-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing aluminium support for lithographic printing plate |
ES2430562T3 (es) * | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica |
US20110159312A1 (en) * | 2009-12-24 | 2011-06-30 | Panasonic Corporation | Aluminum foil for aluminum electrolytic capacitor electrode and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2679498A (en) | 1954-05-25 | Atent office | ||
DE596731C (de) | 1932-05-23 | 1934-05-09 | Kalle & Co Akt Ges | Verfahren zur Darstellung von hoehermolekularen Diazoverbindungen |
US2344510A (en) | 1939-09-01 | 1944-03-21 | Davidson Mfg Corp | Planographic plate |
GB712606A (en) | 1949-05-05 | 1954-07-28 | Kalle & Co Ag | Improvements in or relating to photolithographic diazotype printing materials and processes |
BE510563A (ja) | 1949-07-23 | |||
BE525225A (ja) | 1951-08-20 | |||
DE938233C (de) | 1953-03-11 | 1956-01-26 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
NL247299A (ja) | 1959-01-14 | |||
NL130027C (ja) | 1959-01-15 | |||
NL247406A (ja) | 1959-01-17 | |||
NL130248C (ja) | 1959-01-21 | |||
US3050502A (en) | 1959-01-29 | 1962-08-21 | Polychrome Corp | Diazo condensation polymers |
DE1117391B (de) | 1959-03-18 | 1961-11-16 | Kalle Ag | Elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
DE1144705B (de) | 1959-07-07 | 1963-03-07 | Svenska Oljeslageri Ab | Verfahren zum Chlorieren von Naphthochinon |
BE626525A (ja) | 1959-08-05 | |||
NL136289C (ja) | 1961-01-25 | |||
NL273553A (ja) | 1961-01-25 | |||
NL273556A (ja) | 1961-01-25 | |||
NL273555A (ja) | 1961-01-25 | |||
US3181461A (en) | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
DE1522497C3 (de) | 1966-05-13 | 1974-09-19 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Verfahren zum Herstellen von Druckformen |
DE1572312B2 (de) | 1967-04-13 | 1977-04-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum herstellen von druckformen |
ZA6807938B (ja) | 1967-12-04 | |||
NL168631C (nl) | 1969-05-20 | 1982-04-16 | Hoechst Ag | Registreermateriaal bestaande uit een drager waarop een laag is aangebracht die een lichtgevoelig condensatieprodukt van een diazoniumverbinding bevat. |
CH534214A (de) | 1970-10-06 | 1973-02-28 | Alusuisse | Verfahren zur Erzeugung einer gleichmässigen und feinen Aufrauhung auf Aluminiumoberflächen |
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
JPS517081B1 (ja) | 1971-04-17 | 1976-03-04 | ||
GB1392191A (en) | 1971-07-09 | 1975-04-30 | Alcan Res & Dev | Process for electrograining aluminium |
DE2322046C3 (de) | 1973-05-02 | 1979-11-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Herstellen von Druckformen |
US3865700A (en) | 1973-05-18 | 1975-02-11 | Fromson H A | Process and apparatus for continuously anodizing aluminum |
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US3929591A (en) | 1974-08-26 | 1975-12-30 | Polychrome Corp | Novel lithographic plate and method |
US3902976A (en) | 1974-10-01 | 1975-09-02 | S O Litho Corp | Corrosion and abrasion resistant aluminum and aluminum alloy plates particularly useful as support members for photolithographic plates and the like |
US3935080A (en) | 1974-10-02 | 1976-01-27 | Polychrome Corporation | Method of producing an aluminum base sheet for a printing plate |
CH621416A5 (ja) | 1975-03-27 | 1981-01-30 | Hoechst Ag | |
DE2537725C3 (de) | 1975-08-25 | 1981-02-19 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verwendung eines Verfahrens zum elektrochemischen Aufrauhen von Aluminium bei der Herstellung von Flachdruckplattenträgern |
DE2537724C3 (de) | 1975-08-25 | 1981-02-26 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verwendung eines Verfahrens zum elektrochemischen Aufrauhen von Aluminium bei der Herstellung von Flachdruckplattenträgern |
GB1548689A (en) | 1975-11-06 | 1979-07-18 | Nippon Light Metal Res Labor | Process for electrograining aluminum substrates for lithographic printing |
US4049504A (en) | 1976-02-23 | 1977-09-20 | Polychrome Corporation | Method of producing lithographic printing plates |
JPS53123204A (en) | 1977-04-04 | 1978-10-27 | Okamoto Kagaku Kogyo Kk | Method of producing printing plate aluminum support |
DE2718254C3 (de) | 1977-04-25 | 1980-04-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliche Kopiermasse |
US4477317A (en) | 1977-05-24 | 1984-10-16 | Polychrome Corporation | Aluminum substrates useful for lithographic printing plates |
GB1582620A (en) | 1977-05-24 | 1981-01-14 | Polychrome Corp | Aluminium substrates useful for lithograpic printing plates |
JPS5463902A (en) | 1977-10-31 | 1979-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of making offset printing plate |
DE2811396A1 (de) | 1978-03-16 | 1979-09-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial |
DE2836803A1 (de) | 1978-08-23 | 1980-03-06 | Hoechst Ag | Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial |
GB2047274B (en) | 1979-03-29 | 1983-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Support for lithographic printing plates and process for their production |
JPS5628893A (en) | 1979-08-16 | 1981-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Carrier for lithography plate and manufacture of said carrier |
DE2928636A1 (de) | 1979-07-16 | 1981-02-12 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
US4242417A (en) | 1979-08-24 | 1980-12-30 | Polychrome Corporation | Lithographic substrates |
JPS5647041A (en) | 1979-09-27 | 1981-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of positive type photosensitive lithographic printing plate |
DE3009103A1 (de) | 1980-03-10 | 1981-09-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur modifizierung der oberflaeche von druckplatten-traegermaterialien aus aluminium und verfahren zur herstellung von druckplatten aus diesen materialien |
DE3222967A1 (de) * | 1982-06-19 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur abtragenden modifizierung von elektrochemisch aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium nd deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten |
JPS5716918A (en) * | 1980-07-02 | 1982-01-28 | Toyobo Co Ltd | Preparation of modified synthetic fiber |
DE3036077A1 (de) | 1980-09-25 | 1982-05-06 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichthaertbares gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
DE3305067A1 (de) | 1983-02-14 | 1984-08-16 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Platten-, folien- oder bandfoermiges material aus mechanisch und elektrochemisch aufgerauhtem aluminium, ein verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung als traeger fuer offsetdruckplatten |
JPS6019593A (ja) | 1983-07-14 | 1985-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-17 DE DE19863635303 patent/DE3635303A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-10-07 EP EP87114631A patent/EP0268790B1/de not_active Revoked
- 1987-10-07 DE DE8787114631T patent/DE3778309D1/de not_active Revoked
- 1987-10-13 US US07/106,646 patent/US4786381A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-15 JP JP62258489A patent/JPH0714672B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-17 KR KR1019870011535A patent/KR960012749B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03126900A (ja) * | 1989-10-13 | 1991-05-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用支持体の製造方法 |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
WO2009041659A1 (ja) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 太陽電池 |
EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
WO2018235659A1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | アルミニウム複合材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR880004951A (ko) | 1988-06-27 |
KR960012749B1 (ko) | 1996-09-24 |
EP0268790B1 (de) | 1992-04-15 |
JPH0714672B2 (ja) | 1995-02-22 |
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EP0268790A2 (de) | 1988-06-01 |
DE3778309D1 (de) | 1992-05-21 |
DE3635303A1 (de) | 1988-04-28 |
US4786381A (en) | 1988-11-22 |
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