JPS628143A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
- Publication number
- JPS628143A JPS628143A JP60148026A JP14802685A JPS628143A JP S628143 A JPS628143 A JP S628143A JP 60148026 A JP60148026 A JP 60148026A JP 14802685 A JP14802685 A JP 14802685A JP S628143 A JPS628143 A JP S628143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- groups
- silver halide
- represented
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 366
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 93
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 93
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 99
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract description 37
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 36
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 abstract description 22
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 abstract description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 abstract description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 114
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 87
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 description 47
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 40
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 37
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 30
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 29
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 28
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 24
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 22
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 19
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 19
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 18
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 17
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 17
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 17
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 17
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 17
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 17
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 17
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 16
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 14
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 13
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 13
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 13
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 12
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 10
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 10
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 10
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 9
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 8
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 7
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004422 alkyl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 5
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 5
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 5
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 5
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 5
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 5
- 150000003413 spiro compounds Chemical group 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 4
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 4
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N octane-1-sulfonamide Chemical group CCCCCCCCS(N)(=O)=O QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JKRNNIGZNCVVHA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate;trimethylazanium Chemical compound C[NH+](C)C.C[NH+](C)C.C[NH+](C)C.C[NH+](C)C.[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O JKRNNIGZNCVVHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005199 aryl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound [CH]1C=CC=C2N=NN=C21 BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-sulfonimidic acid Chemical group CCCCCCCCCCCCS(N)(=O)=O COMFSPSZVXMTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical group NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 2
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N [methyl(sulfamoyl)amino]methane Chemical group CN(C)S(N)(=O)=O QMHAHUAQAJVBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000004657 aryl sulfonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical group CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical compound OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005978 1-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJHXAVTZYESJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenoxy)butanamide Chemical group CCC(C(N)=O)OC1=CC=C(O)C=C1 UWJJHXAVTZYESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005826 2-chloro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:2])C([H])=C(Cl)C([*:1])=C1[H] 0.000 description 1
- YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonimidic acid Chemical group CC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUXJHBAJZQREDB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanamide Chemical group CCC(C)C(N)=O XUXJHBAJZQREDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- AZPVYDDUIKAUGT-UHFFFAOYSA-N 3-octadec-1-enylpyrrolidine-2,5-dione Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCC=CC1CC(=O)NC1=O AZPVYDDUIKAUGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 4-[7-hydroxy-2-[5-[5-[6-hydroxy-6-(hydroxymethyl)-3,5-dimethyloxan-2-yl]-3-methyloxolan-2-yl]-5-methyloxolan-2-yl]-2,8-dimethyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-9-yl]-2-methyl-3-propanoyloxypentanoic acid Chemical compound C1C(O)C(C)C(C(C)C(OC(=O)CC)C(C)C(O)=O)OC11OC(C)(C2OC(C)(CC2)C2C(CC(O2)C2C(CC(C)C(O)(CO)O2)C)C)CC1 ZNBNBTIDJSKEAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100130497 Drosophila melanogaster Mical gene Proteins 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000619542 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase parkin Proteins 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100345589 Mus musculus Mical1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000650589 Mus musculus Roundabout homolog 3 Proteins 0.000 description 1
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 101710186159 S-adenosylmethionine synthase 4 Proteins 0.000 description 1
- 101000650578 Salmonella phage P22 Regulatory protein C3 Proteins 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001040920 Triticum aestivum Alpha-amylase inhibitor 0.28 Proteins 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical group NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJEIYVAPNMUNIU-UHFFFAOYSA-N [Na].OC(O)=O Chemical compound [Na].OC(O)=O WJEIYVAPNMUNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005193 alkenylcarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003806 alkyl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004658 aryl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSFDELZPURLKD-UHFFFAOYSA-N azanium;hydroxide;hydrate Chemical compound N.O.O ZFSFDELZPURLKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N benalaxyl-M Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1N([C@H](C)C(=O)OC)C(=O)CC1=CC=CC=C1 CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- PBHVCRIXMXQXPD-UHFFFAOYSA-N chembl2369102 Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C1C(C1=CC=C(N1)C(C=1C=CC(=CC=1)S(O)(=O)=O)=C1C=CC(=N1)C(C=1C=CC(=CC=1)S(O)(=O)=O)=C1C=CC(N1)=C1C=2C=CC(=CC=2)S(O)(=O)=O)=C2N=C1C=C2 PBHVCRIXMXQXPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000009034 developmental inhibition Effects 0.000 description 1
- 125000002720 diazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N dinonyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCC DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- PCAXGMRPPOMODZ-UHFFFAOYSA-N disulfurous acid, diammonium salt Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O PCAXGMRPPOMODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008451 emotion Effects 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N glutaric acid group Chemical group C(CCCC(=O)O)(=O)O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003976 glyceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C(O[H])([H])C(O[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 241000411851 herbal medicine Species 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000378 hydroxylammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008141 laxative Substances 0.000 description 1
- 229940125722 laxative agent Drugs 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005948 methanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000006870 ms-medium Substances 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FZERHIULMFGESH-QBZHADDCSA-N n-phenylacetamide Chemical group CC(=O)[15NH]C1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-QBZHADDCSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 102000045222 parkin Human genes 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M potassium bisulfite Chemical compound [K+].OS([O-])=O DJEHXEMURTVAOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940099427 potassium bisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010259 potassium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N pyrazolo[3,4-d]triazole Chemical compound N1=NN=C2N=NC=C21 MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical group OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K sodium nitrilotriacetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- NPAWNPCNZAPTKA-UHFFFAOYSA-M sodium;propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCS([O-])(=O)=O NPAWNPCNZAPTKA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical group O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- ARZGWBJFLJBOTR-UHFFFAOYSA-N tetradecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCCCCCC(N)=O ARZGWBJFLJBOTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 125000005031 thiocyano group Chemical group S(C#N)* 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- USFMMZYROHDWPJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azanium Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)C USFMMZYROHDWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/132—Anti-ultraviolet fading
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するものであり
、特に長期保存した時の写真表面付近におCブるくもり
(以下、ヘイズと称する)の発住が防止されたハロゲン
化銀写真感光材料に関する。 [発明の背I!] 一般にハロゲン化銀カラー写真感光材料は支持体上に青
色光・緑色光および赤色光に感光性を有するように選択
的に増感された3種のハロゲン化錫カラー写真用乳剤層
がI]1されている。たとえばカラーネガ用感光材料で
は、一般に露光ぎれる倒から青感性乳剤層、緑感性乳剤
層、赤感性乳剤層の順に塗設されており、青感性乳剤層
と緑感性乳剤層のBiこは青感性乳剤層を透過する青色
光を吸収させるために漂白可能な黄色フィルタ一層が設
けられている。さらに各乳剤層の間には各々特殊な目的
で他の中間層を、また最外層として保護層を設けること
が行なわれている。また、たとえばカラー印画紙用感光
材料では一般に露光される側から赤感性乳剤層、緑感性
乳剤層、青感性乳剤層の順に塗設されており、カラーネ
ガ用感光材料におけると同様に各々特殊の目的で紫外線
吸収層をはじめとする中I]層、保護層等が設けられて
いる。これらの各乳剤層は前記とは別の配列でもうろこ
とも知られており、さらに感光域の異なる各乳剤層を1
層用いる代りに各々の色光に対して実質的に同じ感光域
に感光性を有する28iの感光性乳剤層を用いることも
知られている。これらのハロゲン化銀カラー写真感光材
料においては、発色現像主薬として、例えば芳香族第1
級アミン化合物を用いて、露光されたハロゲン化銀粒子
を現像し、生成した発色現像主薬の酸化生成物と色素形
成カプラーとの反応により色素画像が形成される。 この方法においては通常シアン、マゼンタおよびイエロ
ーの色素画像を形成するために、それぞれフェノールも
しくはナフトール系シアンカプラー、5−ピラゾロン、
ピラゾリノベンツイミダゾール、ピラゾロトリアゾール
、インダシロンもしくはシアノアセチル系マゼンタカプ
ラーおよびアシルアセトアミドもしくはベンゾイルメタ
ン系イエローカプラーが用いられる。これらの色素形成
カプラーは感光性カラー写真用乳剤層中もしくは現像液
中に含有される。 一般に色素画像は様々な保存条件の下で変退色すること
が知られている。例えばカラープリントを写真館のショ
ーウィンドーでのティスプレィの如く、長時間光に曝さ
れて保存される場合の変退色があり、明度退色と呼んで
いる。更に、カラープリントのアルバムでの保存の如く
、光に暉される時間は短いものの長時間高温多湿の暗所
に保存される場合の変退色もあり、暗度退色と呼んでい
る。前記カラープリントの如く色素画像を有する写真製
品を記録材料としてみた場合、担持される色素画像の保
存性が半永久的であるためには、如何なる保存条件にお
いても前記の変退色が極力小さいことが望まれ、近年こ
の要望は高まるばかりである。 上記のうち、特に明度退色性の改良方法として特開昭5
8−209734号および同5B−2I]147N公報
に記載されている如<2−(2’ −ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤を含有する写
真層および該層に関わる層に関連した層構成技術が提案
されている。 この方法によれば確かに色素自伝の明退色は軽減される
が、一方、長期保存時における感光材料のへイズが発生
する傾向は十分に改善されているとは言えない。前記の
ヘイズとは光、熱または湿度の厳しい条件下において長
期保存した際に写真感光材料によっては表面にくもりが
発生し、例えば黒字部分の視感的漠度低下や、もやがか
かった如き絵となり、視覚的鮮鋭度も低下する減少をい
う。たとえば、カラープリントにおいて、仕上がったプ
リントをアルバム等における長期保存後に該カラープリ
ントにヘイズが発生した場合、たとえ色素画像の退色が
起きなかったζ仮定しても、総合的な画質というl!!
点からは著しく価値が低下してしまうことになり好まし
くない。 従来より、単なる表面物性の改良としては、例えば矢印
特許第1,320,564号、同第1,320,565
号、同第1,320,757号、特開昭49−5017
号、同51−141623号、同53−57023号、
同54−159221号等に記載の方法が挙げられるが
、いずれもヘイズの改良を意図したものではないため、
上記方法による改良効果はほとんど得られなかった。 すなわち、現像処理直後の写真材料を長期保存した場合
に劣化するヘイズの改良についてmffAのゆく方法が
見出されていないのが実情であり改良が大いに望まれて
いた。 [発明の目的] 本発明の目的は、長期保存時のへイズが改良され、かつ
明退色性に優れたハロゲン化眼写真感光材料を提供する
ことにある。 本発明の伯の目的は以下の記載より自ら明らかとなろう
。 [発明の構成] 本発明の前記目的は、反射支持体上にハロゲン化銀乳剤
層および非感光性層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳
剤層の支持体側とは反対側に2つ以上の非感光性層を有
し、該非感光性層のうち最外層には平均粒径1〜10μ
mの微粒子粉末を含有し、残りの非感光性層の少なくと
も一層が下記一般式[UV−I]で示される紫外線吸収
剤の異なる2種以上が混合して含有されている如き構成
を有するハロゲン化票写真感光材料によって達成される
ことをみいだした。 一般式[UV−I]
、特に長期保存した時の写真表面付近におCブるくもり
(以下、ヘイズと称する)の発住が防止されたハロゲン
化銀写真感光材料に関する。 [発明の背I!] 一般にハロゲン化銀カラー写真感光材料は支持体上に青
色光・緑色光および赤色光に感光性を有するように選択
的に増感された3種のハロゲン化錫カラー写真用乳剤層
がI]1されている。たとえばカラーネガ用感光材料で
は、一般に露光ぎれる倒から青感性乳剤層、緑感性乳剤
層、赤感性乳剤層の順に塗設されており、青感性乳剤層
と緑感性乳剤層のBiこは青感性乳剤層を透過する青色
光を吸収させるために漂白可能な黄色フィルタ一層が設
けられている。さらに各乳剤層の間には各々特殊な目的
で他の中間層を、また最外層として保護層を設けること
が行なわれている。また、たとえばカラー印画紙用感光
材料では一般に露光される側から赤感性乳剤層、緑感性
乳剤層、青感性乳剤層の順に塗設されており、カラーネ
ガ用感光材料におけると同様に各々特殊の目的で紫外線
吸収層をはじめとする中I]層、保護層等が設けられて
いる。これらの各乳剤層は前記とは別の配列でもうろこ
とも知られており、さらに感光域の異なる各乳剤層を1
層用いる代りに各々の色光に対して実質的に同じ感光域
に感光性を有する28iの感光性乳剤層を用いることも
知られている。これらのハロゲン化銀カラー写真感光材
料においては、発色現像主薬として、例えば芳香族第1
級アミン化合物を用いて、露光されたハロゲン化銀粒子
を現像し、生成した発色現像主薬の酸化生成物と色素形
成カプラーとの反応により色素画像が形成される。 この方法においては通常シアン、マゼンタおよびイエロ
ーの色素画像を形成するために、それぞれフェノールも
しくはナフトール系シアンカプラー、5−ピラゾロン、
ピラゾリノベンツイミダゾール、ピラゾロトリアゾール
、インダシロンもしくはシアノアセチル系マゼンタカプ
ラーおよびアシルアセトアミドもしくはベンゾイルメタ
ン系イエローカプラーが用いられる。これらの色素形成
カプラーは感光性カラー写真用乳剤層中もしくは現像液
中に含有される。 一般に色素画像は様々な保存条件の下で変退色すること
が知られている。例えばカラープリントを写真館のショ
ーウィンドーでのティスプレィの如く、長時間光に曝さ
れて保存される場合の変退色があり、明度退色と呼んで
いる。更に、カラープリントのアルバムでの保存の如く
、光に暉される時間は短いものの長時間高温多湿の暗所
に保存される場合の変退色もあり、暗度退色と呼んでい
る。前記カラープリントの如く色素画像を有する写真製
品を記録材料としてみた場合、担持される色素画像の保
存性が半永久的であるためには、如何なる保存条件にお
いても前記の変退色が極力小さいことが望まれ、近年こ
の要望は高まるばかりである。 上記のうち、特に明度退色性の改良方法として特開昭5
8−209734号および同5B−2I]147N公報
に記載されている如<2−(2’ −ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤を含有する写
真層および該層に関わる層に関連した層構成技術が提案
されている。 この方法によれば確かに色素自伝の明退色は軽減される
が、一方、長期保存時における感光材料のへイズが発生
する傾向は十分に改善されているとは言えない。前記の
ヘイズとは光、熱または湿度の厳しい条件下において長
期保存した際に写真感光材料によっては表面にくもりが
発生し、例えば黒字部分の視感的漠度低下や、もやがか
かった如き絵となり、視覚的鮮鋭度も低下する減少をい
う。たとえば、カラープリントにおいて、仕上がったプ
リントをアルバム等における長期保存後に該カラープリ
ントにヘイズが発生した場合、たとえ色素画像の退色が
起きなかったζ仮定しても、総合的な画質というl!!
点からは著しく価値が低下してしまうことになり好まし
くない。 従来より、単なる表面物性の改良としては、例えば矢印
特許第1,320,564号、同第1,320,565
号、同第1,320,757号、特開昭49−5017
号、同51−141623号、同53−57023号、
同54−159221号等に記載の方法が挙げられるが
、いずれもヘイズの改良を意図したものではないため、
上記方法による改良効果はほとんど得られなかった。 すなわち、現像処理直後の写真材料を長期保存した場合
に劣化するヘイズの改良についてmffAのゆく方法が
見出されていないのが実情であり改良が大いに望まれて
いた。 [発明の目的] 本発明の目的は、長期保存時のへイズが改良され、かつ
明退色性に優れたハロゲン化眼写真感光材料を提供する
ことにある。 本発明の伯の目的は以下の記載より自ら明らかとなろう
。 [発明の構成] 本発明の前記目的は、反射支持体上にハロゲン化銀乳剤
層および非感光性層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳
剤層の支持体側とは反対側に2つ以上の非感光性層を有
し、該非感光性層のうち最外層には平均粒径1〜10μ
mの微粒子粉末を含有し、残りの非感光性層の少なくと
も一層が下記一般式[UV−I]で示される紫外線吸収
剤の異なる2種以上が混合して含有されている如き構成
を有するハロゲン化票写真感光材料によって達成される
ことをみいだした。 一般式[UV−I]
【上記一般式[LIV−■]にj5いT、R+ R2お
よびR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルケニル基、ニトロ基または水酸基を表わす。) [発明の具体的構成] 前記一般式[UV−1〕において、R?%R2およびR
3で表わされるハロゲン原子としては例えば弗素原子、
塩素原子および臭素原子等が挙げられ、特に塩素原子が
好ましい。 R+ 、R2およびR3で表わされるアルキル基、アル
コキシ基としては、炭素数1〜20のもの、アルケニル
基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、これら
は直鎖でも分岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
は、置換を有するものでもよい、M換器としては、例え
ばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有橋
炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カルバ
モイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボ
ニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更には
へテロ原子を介してKmするもの(具体的にはヒドロキ
シ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ、シ
ロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸素原
子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジアルキル
アミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、アルコキシ
カルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、
アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等の
窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、アリー
ルチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル、ス
ル77モイル等の硫黄原子を介して置換するもの、ホス
ホニル等の燐原子を介して置換するもの等)が挙げられ
る。 具体的には、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、t−ブチル基、5ec−ブチル基、n−ブチル基、
n−アミル基、5ec−アミル基、【−7ミル基、α、
α−ジメチルベンジル基、オクチルオキシカルボニルエ
チル基、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基、
フリル基等が挙げられる。 R+ 、R2およびR3で表わされるアリール基。 アリールオキシ基としては、例えばフェニル基、フェニ
ルオキシ基が特に好ましく、置M基(例えばアルキル基
、アルコキシ基等)を有するものでもよい。具体的には
、例えばフェニル基、4−を−ブチルフェニル基、2.
4−ジ−t−7ミルフヱニル基等が挙げられる。 R1およびR2で表わされる基のうち、水素原子、アル
キル基、アルコキシ基およびアリール基が好ましく、特
に水素原子、アルキル基およびアルコキシ基が好ましい
。 R3で表わされる基のうち特に水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いられる層
構成としては支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤
層の支持体側とは反対側に、2つ以上の非感光性層を有
し、該非感光性層のうち最外層には平均粒径1〜10μ
mの微粒子粉末を含有している。 なお、非感光性層のうち最外層に含有されている平均粒
径1〜10μmの微粒子粉末は当業界でマット剤と一般
に称されるものであり、従って以下では、特に断わりの
ない限りマット剤と称す。 前記の支持体側からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤層と
しては如何なる感色性をもつハロゲン化銀乳剤でもよく
、具体的には青感性ハロゲン化銀乳剤層、緑感性ハロゲ
ン化銀乳剤層または赤感性ハロゲン化銀乳剤層が挙げら
れるが、好ましくは赤感性ハロゲン化銀乳剤層である。 本発明において、前記の非感光性層中の親水性バインダ
ーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体(例えばアセチ
ル化ゼラチン、フタル化ゼラチン等)アルブミン、コロ
ジオン等が用いられるが、ゼラチンが好ましい。 本発明に係るマット剤としては、例えば、結晶性または
非結晶性シリカ、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸アルミナマグネジ
゛ウム、アクリル駿−エチルアクリレート共重合体、ア
クリル駿−メチルメタクリレート共重合体、イタコン駿
−スチレン共重合体、マレイン醇−メチルメタクリレー
ト共重合体、マレイン酸−スチレン共重合体、アクリル
酸−フェニルアクリレート共重合体、ポリメチルメタク
リレート、アクリル酸−メタクリル酸−エチレメタクリ
レート共重合体、ポリスチレン、デンプン、セルロース
アセテートプロピオネート等を挙げることができ、その
他米国特許I],221,980号、同第2,992,
101号等に記載の化合物等が挙げられ、これらを単独
で、もしくは2種以上組み合わせて用いることができる
。 上記マット剤の粒子サイズは平均粒径が1〜10μ■で
あればよいが好ましくは2〜7μmである。 ここでいう平均粒径とは、球状の粒子の場合はその直径
、また立方体や球状以外の形状の粒子の場合はその投影
像を同面積の円像に換算した時の直径の平均値であって
、個々のその粒径がrlであり、その数がniである時
下記の式によって定義される。 具体的な測定方法は特開昭59−29243号公報に記
載された方法を用いることができる。 本発明に係るマット剤は非感光性層の最外層中に分散含
有されるが分散含有させる方法としては、必要に応じJ
ノニオン性、カチオン性またはアニオン性界面活性剤を
含む親水性バインダー中に、必要により他の添加剤を加
え、高速回転ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散、
ボールミル等により、せん断応力を利用した乳化分散法
により分散し、写真分野で用いられる任意の方法により
感光材料の最外層として塗布することにより形成できる
。 本発明に係るマット剤の塗布量としては、最外層の非感
光性Hにおいて、17当たり0.5〜b含有させること
が好ましい。更に好ましくは1f当たり1〜20mg含
有させる。 また、マット剤の含有層は、親水性バインダーに対して
0.1〜2!量%が好ましい。 又、本発明に係る反射支持体の面質としては如何なる面
質を用いることもできるが、少なくともハロゲン化銀乳
剤の塗布面側が型押しされていない支持体であることが
本発明の効果の点から有利である。 一方、前記の一般式[UV−I]で示される2−(2′
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤は従来より析出性が強く、水中油滴分散物の安定性
も著しく低いことが知られており、この欠点を改良する
ための技術として特公昭48−5496号、同48−4
1572号、特開昭53−85425号、同59−21
5378号等に紫外線吸収剤の混合技術が提案されてい
る。 これらの方法は確かに析出性改良には効果があるけれど
も、未だ満足のゆくものではなく、経時による分散粒子
の粗大化に対して効果が小さい。 これに対して、国際公開81−01473号および欧州
特許公開57,160号の各明細口等には、常温にて液
体状である紫外線吸収剤が開示されており、析出性につ
いては満足できるものであるが、取り扱いにくい製造工
程においてロスを生じ易い、およびIl製が離しいため
に成分がロフトによりばらつく、コスト高等の欠点があ
った。 また公開技報85−800号に常温にて固体状の紫外線
吸収剤と液体状の紫外線吸収剤を混合する技術が記載さ
れている。しかしながら我々の結果によれば上記におい
て分散液安定性等は改善されたが、イエローカプラー、
マゼンタカプラーおよびシアンカプラーをそれぞれ含有
するハロゲン゛化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感
光材料に応用した場合に該写真感光材料に含有される色
素画像の明退色性において特に退色の後期においてカラ
ーバランスのずれが増大するという欠点を示した。 そこで前記の如き紫外線吸収剤を用いた場合の分散液安
定性と該分散液を用いたハロゲン化銀写真感光材料にお
ける明退色カラーバランスとを同時に解決すべく検討し
たところ、反射支持体上に、イエローカプラー、マゼン
タカプラー、およびシアンカプラーをそれぞれ含有する
ハロゲン化銀乳剤層および該支持体からみて最も遠いハ
ロゲン化想乳剤日の支持体側とは反対側に紫外線吸収剤
を含有する非感光性すを有するハロゲン化銀写真感光材
料において、前記含有されている紫外線吸収剤は一般式
[UV−I]の2− (2’−ヒトOキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤であり、常温にて固
体状のものと常温にて液体状のものの組み合せであり、
液体状のものは全紫外線吸収剤に対する重量比が30%
以上であり、少なくとも固体状のものは異なる構造を有
する2種以上の組み合せであり、該固体状のものの少な
くとも一つは一般式r(JV−41におけるR1および
R2の各基の炭素原子数の総和が8以上のものでありか
つ該8以上のものは全固体状の紫外線吸収剤に対するJ
1gil比が、35%以上であること、ならびに前記イ
エローカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層中に一般
式[A]で示される化合物が含有されていることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成されるこ
とをみいだした。 更に好ましい態様としては、紫外線吸収剤を含有する非
感光性層の支持体側とは反対側、好ましくは最外層に前
記したマット剤を含有させておくことである。 紫外線吸収剤について以下に詳しく述べる。 紫外線吸収剤は常温にて液体状のものと常温にて固体状
のものの組み合せであるが、常温にて液体状の紫外線吸
収剤は融点が30℃以下であることが好ましく、特に7
5℃において液体であること好ましい。また液体状を呈
する紫外線吸収剤は単一成分あっても、あるいは数種の
構造異性体から構成される混合物であってもかまわない
。 紫外線吸収剤の混合比率は、前記した様に常温にて液体
状の紫外線吸収剤の量は、全紫外線吸収剤に対する重量
比が30%以上好ましくは30%以上99%以下特に好
ましくは30%以上95%以下である。また、常温にて
固体状の紫外線吸収剤の方に関しては、前記の一般式[
UV−I]におけるR1およびR2の各基の炭素原子数
の総和が8以上の紫外線吸収剤の全固体状の紫外線吸収
剤に対するl1il比が35%以上であればよいが好ま
しくは、35%以上100%まで、より好ましくは50
%以上100%までである。 なお、常温にて固体状の紫外線吸収剤の少なくとも一つ
は前記一般式[UV−I]におけるR1およびR2の各
基の炭素原子数の総和が8以上であればよいが、その上
限は、R1およびR2の基、更にはR3の基によって異
なるが概ね12までが好ましいといえる。また紫外線吸
収剤のM添加量は紫外線吸収剤を含有する非感光性層の
バインダーに対する重量比で一般に0.1〜300%の
範囲であればよく、好ましくは1〜200%、より好ま
しくは5〜100%の範囲である。 紫外線吸収剤を含有する非感光性層に用いられるバイン
ダーとしては親水性バインダーが好ましく、ゼラチン、
ゼラチン誘導体(例えばアセチル化ゼラチン、フタル化
ゼラチン等)アルブミン、フロジオン等が挙げられるが
ゼラチンが好ましい。 紫外線吸収剤を非感光性層に含有させるには、いわゆる
、アルカリ水溶液分散法、固体分散法、ラテックス分散
法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を用いること
ができ、これは紫外線吸収剤の化学構造等に応じて適宜
選択することができるが、ラテックス分散法や水中油滴
型乳化分散法が特に有効である。これらの分散方法は従
来からよく知られており、ラテックス分散法およびその
効果は、特願昭49−74538号、同51−5994
3号、同54−32552号各公報やリサーチ・ディス
クロージャー(Research D 1sclosu
re )誌、1976年 8月、No、14850
、77〜79頁に記載されている。 適当なラテックスは、例えばスチレン、エチルアクリレ
ート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、2
−(メタクリロイルオキシ)エチルトリメチルアンモニ
ウムメトサルフェート、3−(メタクリロイルオキシ)
プロパン−1−スルホン酸ナトリウム塩、N−イソプロ
ピルアクリルアミド、N−[2−(2−メチル−4−オ
キソペンチル)]アクリルアミド、2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸などのようなモノマー
のホモポリマー、コポリマーおよびターポリマーである
。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性添加物
を分散させる従来公知の方法が適用でき、例えば通常沸
点約175℃以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低
沸点溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性
バインダー中に界面活性剤を用いて、微分散し、この分
散物を目的とする居中に添加すればよい。 常温にて液体状である2−(2’ −とドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系紫外ts@収剤の代表的具体
例を示す。 以下余白 C,H會(1) C4H*(sea) 次に、常温にて固体状の2−(2”−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代表的具体例
を挙げる。 C4Hi (す なお、これらの液状ないし固体状のベンゾトリアゾール
系化合物は、特公昭36−10466号、同42−26
187号、同4g−5496号、同48−41572号
、米国特許3.754,919号、同4,220,7I
]号、国際公開81−01473号、欧州特許公開57
160号等に記載されている。 反射支持体上に設けられたイエローカプラー、マゼンタ
カプラーおよびシアンカプラーをそれぞれ含有するハロ
ゲン化銀乳剤層の囮順に関しては特に限定はないが、一
般的には反射支持体から順次イエローカプラーを含有す
る青感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカブう−を含有
する緑感性ハロゲン化銀乳剤層、シアンカプラーを含有
する青感性ハロゲン化銀乳剤層の順番で設けられている
!!!様が好ましい。 次に、イエローカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層
中に含有せしめる一般式[A]で示される化合物につい
て述べる。 以下余白 一般式[A) R。 均 〔式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基を表わ
す。Rコはアルキル基、−NR’ R”基、−8R’基
(R’は価の有機基を表わす。〕、または、−COOR
”基(R″は水素原子または1価の有機基を表わす。〕
を表わすQmは0〜3の整数を表わす。〕一般式(A)
のR1およびR2で表わされるアルキル基の好ましくは
、炭素原子数1〜12個のアルキル基、更に好ましくは
炭素原子数3〜8個のα位が分岐のアルキル基である。 R1およびR2の特に好ましくは、t−ブチル基または
t−ペンチル基である。 R1で表わされるアルキル基は、直鎖または分岐のもの
であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基
、オクタデシル基等である。 このアルキル基が置換基を有する場合、これらの置換基
としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、
シアン基、アリール基(例えばフェニル基、ヒドロキシ
フェニル基、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ラエニル& 、’ 3e 5−’) −t−ペンチル−
4−ヒドロキシフェニル基等)、7ミノ基(例えばジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、1,3.5−)リア
ジニルアミノ基等)、アルキルオキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フ
ロピルオ率ジカルボニル基、メトキシカルボニル基、ペ
ンチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル
基、ノニルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボ
、ニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル
基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基
、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブ
チルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基等のアル
キルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等のアリ
ールカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基等
のシクロアルキルカルバモイル基等)、インシアヌリル
基、1,3.5− )リアジニル基等の複素環基が挙げ
られる。R3で表わされるアミノ基は1例えばジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等
のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシル
フェニルアミノ基等のアリールアミノ基、シクロヘキシ
ル基等のシクロアル。 キ゛ルアミノ基、1.3.5−トリアジニルアミノ基、
インシアヌリル基等の複素環アミノ基などを包含する。 R′およびR“で表わされる1価の有機基は、例えばア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、アミル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基等)、アリール基(例えばフエ゛
ニル基、ナフチル基等〕、シクロアルキル基(例えばシ
クロヘキシル基等)、複素環基(例えば1,3,5−)
リアジニル基、インシアヌリル基等)を包含する。これ
らの有機基が置換基を有する場合、この置換基としては
、。例えばハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等
〕、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、i−プロピル
基、t−ブチル基、t−アミル基等)、アリール基(例
えばフェニル基、トリル基等)、アルケニル基(例えば
アリル基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えばメ
チルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、
ベンジルカルボニルオキシ基等)、アリールカルボニル
オキシ基(例えばベンゾイルオキシ基等)などが挙げら
れる0 本発明において前記一般式(A)で表わされる化合物の
好ましくは下記−1般式[A’)、 [A’)及び(A
”]で表わされる化合物である。 一般式〔A′〕 〔式中、RI]およびR12は、それぞれ炭素原子数3
〜8価の直鎖または分岐のアルキル基、特にt−ブチル
基、t−ペンチル基を表わす。R13はに価の有機基を
表わす。kは1〜6の整数を衣ゎす。〕RI3で表わさ
れるに価の有機基としては、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ヘ
キサデシル基、メトキシエチル基、クロロメチル基、1
,2−ジブロモエチル基、2−クロロエチル基、ヘンシ
ル基、フェネチル基等のアルキル基、アリル基、プロペ
ニル基、ブテニル基等のアルケニル基、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、ヘキサメチレン、2−クロロト
リメチレン等の多価不飽和炭化水素基、グリセリル、ジ
グリセリル、ペンタエリスリチル、ジペンタエリスリチ
ル等の不飽和炭化水素基、シクロプロピル、シクロヘキ
シル、シクロヘキセニル基等の脂環式炭化水素基、フェ
ニル基、p−オクチルフェニル基、2.4−ジメチルフ
ェニル基、2.4−ジ−t−ブチルフェニル基、2,4
−ジーを一ペンチルフェニル基、p−クロロフェニル基
、2.4−ジブロモフェニル基、ナフチル基等の了り−
ル基、1.2−4たは1,3−あるいは1,4−フェニ
レン基、s*s−ジメチル−1,4−フェニレン基、2
−t−ブチル−1,4−フェニレン基、2−クロロ−1
,4−フェニレン基、ナフタレン差等ノアリーレン基、
1.3.5−三置換ベンゼン基等が挙げられる。 R13は、更に上記の基以外に、上記基のうち任意の基
を一〇−1−S−1−802−基を介して結合し7’(
k価の有機基を包含する。 R13の更に好ましくは、2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル基、2.4−ジ−t−ペンチルフェニル基、p−オ
クチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、 a、s
−シー t−フチルー4−ヒドロキシルフェニル基、
3,5−ジ−t−ペンチル−4−ヒドロキシフェニル基
でアル。 kの好ましくは、1〜4の整数でちる。 以下余白 一般式[A“] [式中RI]乃至R13およびkは一般式[A′]で示
したものと同一であり、Yは2価の有機基を表わす。l
は正の整数、nおよびqはOまたは正の整数を表わすa
] Yで表わされる2価の有機基としてはアリーレン基(例
えばフェニレン基)、オキシカルボニル基、カルボニル
オキシ基、スルホニル基、アミノ基、スルホンアミド基
、スルファモイル基、アシルアミノ基、カルバモイル基
等を挙げることができる。 以下余白 一般式[A″″] 【式中、Ru 、R12は一般式[A′]で示したもの
と同一であり、見は一般式[A“]で示したものと同一
であり、R14およびR15は水素原子、アルキル基、
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ベンジル基等)、アルケニル基、(例えば
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等)、アルキニ
ル基、(例えば、エチニル基、プロペニル基等)、アシ
ル基(例えばホルミル基、アセチル基、ブ0ピオニル基
、ブチリル基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メ
タクリロイル基、クロトノイル基等)を表わす。 nおよびQは1乃至3の整数を表わし、pはO乃至2の
整数を表わし、n +Q+p s−4である。 R14、Rtsの更に好ましい基としては、メチル基、
エチル基、ビニル基、フリル基、プロピニル (1)
基、ベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基である。 以下に一般式(A)で示される化合物の具体的(2〕 化合物を挙げる。 以下余白 (3〕 (4〕 C4H9(t) 03H7(す C5Htt(t) C4H9(t) 04H9(t) C5H1t(t)C4Hs(t
) C4He(t)(25〕 (26〕 以下余白 一般式[AIで表わされる化合物の添加量は、イエロー
カプラーの塗布jI]00重量部に対して、5〜300
重量部、好ましくは10〜100重量部の割合で用いる
。 添加方法に関しては前記した紫外線吸収側の添加方法と
同様な手段を用いればよい。 次にイエローカプラーについて述べる。 以下余白 本発明に係る色素画像を形成するカプラーとしでは限定
される事なく種々のカプラーを用いることができるが、
イエロー色素画像形成カプラーとしては、下記一般式[
8]で示されるカプラーを用いることができる。 一般式[B] 式中、R1はアルキル基またはアリール基を表わし、R
2はアリール基を表わし、Xは水素原子または発色現像
反応の過程で脱離する基を表わす。 R1としては直鎖または分岐のアルキル基(例えばブチ
ル基)またはアリール基(例えば)Iニル基)であるが
、好ましくはアルキル基(特に【−ブチル基)が挙げら
れ、R2としてはアリール基(好ましくはフェニル基)
を表わし、これらR1、R2の表わすアルキル基、アリ
ール基は置換基を有するものも含まれ、R2のアリール
基にはハ[tゲン原子、アルキル基等が置換されている
ことが好ましい。Xとしては下記一般式[CIまたは[
DJで示される基が好ましく、さらに一般式[CIのう
ち一般式【C′ ]で示される基が特に好ましい。 一般式[CI 式中、zlは4員〜7員環を形成し得る非金属原子群を
表わす。 一般式[DJ −O−Ru 式中、Ratはアリール基、複素環基またはアシル基を
表わすがアリール基が好ましい。 一般式[C′] 成し得る非金属原子群を表わす。 前記一般式[8]において好ましい本発明に係るイエロ
ーカプラーは次の一般式[8’ ]で示される。 一般式[B′] 式中、R14は水素原子、ハロゲン原子、または、アル
コキシ基を表わし、ハロゲン原子が好ましい。 またR15、Rls及びR17はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、カルボキシ基、アフレコキシ力ルボニル
基、カルバミル ルファミル基、アルキルスルフォンアミド基、アシルア
ミド基、ウレイド基またはアミノ基を表わし、R15及
びRlsがそれぞれ水素原子であってR+7がアルコキ
シカルボニル基、アシルアミド基またはアルキルスルホ
ンアミド基が好ましい。また、Xは前記一般式[8]で
示されたものと同義の基を表わし、好ましくは前記一般
式EC]または〔DJ、または[CIのうちでさらに好
ましくは前記一般式CG’]で表わされる基が挙げられ
る。 また、前記一般式[8]において別の好ましい− 本
発明に係るイエローカプラーは次の一般式%式% 一般式[B#] 式中、R18は前記一般式[B′]におけるR1つと同
義の基を表わし、Rls,R20及びR21はそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ′基、アリール基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、カルバミル基、スルホン基、スルフ
7ミル基、スルホンアミド基、アシルアミド基、ウレイ
ド基、アミノ基のいずれかを表わす。また、Xは前記一
般式[B′]で示されたものと同義の基を表わす。 イエローカプラーの添加層は任息のハロゲン化銀乳剤層
でよいが好ましくは青感光性ハロゲン化銀乳剤層であり
、添加口としては銀1モル当り2X10−3〜5X10
−1モルが好ましく、より好ましくは1X10−2〜5
X10−1モルである。 以下に、本発明に係るイエローカプラーの具体例を挙げ
るが、これに限定されるものではない。 以下余白 (Y−7) (Y−8) 2H5 CH2CH20CzHs Hs iU灸。7八h H 〔− ””62uj’1 (Y−33) (Y−34) (Y−35) (Y−36) (Y−37) 、 (Y−38) 1’1 (Y−39) (Y−40) (RM/RN=0.65 ) (Y−41) (Y−42) (Y−43) (Y−44) t (RM/RN=1.27 ) (Y−54) (Y−55) (RM/RN=1.1 ) (、RM/RN=4.3 ) (RM/RN=4.0) (Y−58) (RM/RN=0.94) シアン画像形成カプラーとしては、下記一般式[D]、
[E]で示されるカプラーを好ましく用いることができ
る。 Z。 式中、R,はアリール基、シクロアルキル基または複素
環基を表わす、R2はアルキル基またはフェニル基を表
わすm R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基ま
たはアルコキシ基を表わす。 Zlは水素原子、ハロゲン原子または芳瞥前筒−級アミ
ン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る基
を表わす。 式中、R1はアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ノニル基等)を表わす。鳥はア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす。鳥
は水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素
等)またはアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)
を表わ丁。Z2は水素原子、ハロゲン原子または芳香族
第1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応により離
脱し得る基を表わす。 本発明において前記一般式[Eコの凡で表わされるアリ
ール基は、例えばフェニル基、ナフチル基であり、好ま
しくはフェニル基である。烏で浅わされる複素環基は、
例えばピリジル基、7ラン基等である。R1で衷わされ
るシクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等である。これらの凡で表わされる基は単一
もしくは複数の置換基な有していても良(、例えばフェ
ニル基に導入される置換基としては代表的なものにハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
アルキルスルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えばフェニルスルホンアミド基、ナフチ
ルスルホンアミド基等) 、アルキルスルファモイル基
(例えばブチルスルファモイル基等)、了り−ルスルフ
ァモイル基(例エバフェニルスルファモイル基等)、ア
ルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオキシカルボ
ニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェ
ニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基
、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオ
キシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルキルカル
ボニル基、アリールカルボニル酸、アミノカルボニル基
などを挙げることができろ。これらの置換基は2種以上
がフェニル基に置換されていても良い。鳥で表わされる
好ましい基としては、フェニル基またはハロゲン原子、
アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基
、アルキルフルファモイル基、アリールスルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、もしくは
シアノ基を置換基として1つまたは2つ以上有するフェ
ニル基である。 馬で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもの
であり例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基等である。 本発明において一般式[Eコで表わされるシアンカプラ
ーの好ましくは、下記一般式[E′」で茨わされる化合
物である。 このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良(、導入される置換基としては代表的なものにハ
ロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シア
ノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)、アルキルヌルホンアミド基(例えばメチ
ルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、
7’J−ルスルホンアミド基(例えばフェニルスルホン
アミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、
アリールスルファモイルi(例tばフェニルスルファモ
イル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチ
ルオキシカルボニル基り、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェニルオキシカルボニル基等)などを挙げる
ことができる。これらの置換基は2種以上がフェニル基
に置換されていても良い。R1で表わさ基、p−オクチ
ルスルホンアミド基、O−ドデシルスルホンアミド基)
、アリールスルホンアミド基(好マしくはフェニルスル
ホンアミド基)、アルキルスル77モイルi(好tしく
はブチルスルファモイル基)、アリールスルファモイル
基(好t L < ハフェニルスル7アモイル基)、フ
ルキル基(好ましくはメチル基、トリフルオロメチル基
)アルコキシ基(好ましくはメトキシ基、エトキシ基)
を置換基として1つまたは2つ以上有するフェニル基で
ある。 馬はアルキル基またはアリール基である。アルキル基ま
たはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良く、この置換基としては代表的なものに、ハロゲ
ン原子(例えば7ツ累、塩素、臭素等)ヒドロキシル基
、カルボキシル基、アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基
等)、アラルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ
基(例えばメトキシ基、エトキシ基)アリールオキシ基
、アルキルスルホンアミド基(例えばメチルスルホンア
ミド基、オクチルスルホンアミド基等)アリールスルホ
ンアミド基(例、tばフエニ7tzスルホンアミド基、
ナフチルスルホンアミド基等)アルキルスルファモイル
MC例、t ばブチルスルファモイルi等)、アリール
スルファモイルitC例、tばフェニルスルファモイル
基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオ
キシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(
例工ばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基(例えばジメチルアミノスルホンアミド基等
)、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ、lL/
基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ア
ミノカルボニールアミド基、カルバモイル基、スルフィ
ニル基などを挙げることができる。 これらの置換基は2種以上が導入されても良い。 鳥で表わされる好ましい基としては、n = oの゛
ときはアルキル基、n = 1以上のときはアリール
基である。鳥で表わされているさらに好ましい基として
は、n=oのときは炭素数1〜22個のアルキル基(好
ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
オクチル基、ドデシル基)であり、n = 1以上のと
きはフェニル基、またはアルキル基(好ましくはt−ブ
チル基、t−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホ
ンアミド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オク
チルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、
アリールスルホンアミド基(好ましくはフェニルスルホ
ンアミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジ
メチルアミノスルホンアミド基)、アをキルオキシカル
ボニル基(好ましくはメチルオキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基)を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。 R,l’!アルキレン基な表わす。直鎖または分岐の炭
素原子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のア
ルキレン基を表わす。 R1゜は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素または沃素)を表わす。好ましくは水素原子である
。 nは0または正の!i数であり、好ましくは0または】
である。 Xは+、−CO−、−Coo−、−0CO−1−8O,
NRL。 −NR’ SO,NR”−、−5−、−80−または−
8O,−基の2価基を表わす。ここで、R′、R′は置
換または非置換のアルキル基を茨わ丁。Xの好ましくは
、ベト、−シ、−5O−1SOz−基である。 Z、は水素原子、ハロゲン原子または芳香族第1契アミ
ン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る基
を宍わ丁。 好ましくは、塩素原子、フッ素原子である。 以下余白 以下に式[E)で表わされるシアンカプラーの代表的具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。 (n)Ctz&s S 02NH 不発明において、前記一般式〔F:Jで表わされるシア
ンカプラーは、よシ好ましくは下記一般式CF’)
で表わされるものである。 2゜ 式中、R1,およびR1,は、同一でありまたは異なり
、水素原子、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、ドデシ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)を表わす。 但しR1,とRoの炭素原子数の総和は8〜16個であ
る。よシ好ましくは、R1,および只、、が、それぞれ
ブ、チル基またはアミル基である。 R□は水素原子またはアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等)である
。 mho〜2の!!5!を茨わす。zlは水素原子、バロ
ゲン原子または芳香族第1Rアミン系発色現像主薬の酸
化体との反応によシ離脱し得る基を表わす。 式[EI LFI [r’Jおよび印′]において、z
l、21.2、および2.で表わされる芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬の酸化体との反応によシ離脱し得る
基は、当業者の周知のものであル、カブ゛ラーの反応性
を改質し、またはカプラーから離脱して、I・ロダン化
銀カラー写真感光材料中のカプラーを含む塗布層もしく
はその他の層において、現像抑制、漂白抑制、色補正な
どの機能を果たすことによシ有利に作用するものである
。代表的なものとしては、例えばアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アリールアゾ基、チオエーテル、カルバモ
イルオキ7基、アシルオキシ基、イミド基、スルホンア
ミド基、チオシアノ基または複素環基(例えば、オキサ
シリル、ジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル等)
などが挙げられる。2で表わされる特に好適な例は、水
素原子または塩素原子である0以下に式[FJで表わさ
れるシアンカプラーの代表的具体例を示すが、これらに
限定されるもので1寸ちい。 (ll−1) t (ll−2) (L (II−3) t (II−4) (Ir−5) t (II−6) t (II−7) t (II−10) t (II−I]) t (II−12) ([−13) CL (II−14) (II−15) (il−19) (IT−20) t (II−21) t−発明に古ツす3ハρケ′″シイ6金
よびR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルケニル基、ニトロ基または水酸基を表わす。) [発明の具体的構成] 前記一般式[UV−1〕において、R?%R2およびR
3で表わされるハロゲン原子としては例えば弗素原子、
塩素原子および臭素原子等が挙げられ、特に塩素原子が
好ましい。 R+ 、R2およびR3で表わされるアルキル基、アル
コキシ基としては、炭素数1〜20のもの、アルケニル
基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、これら
は直鎖でも分岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
は、置換を有するものでもよい、M換器としては、例え
ばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有橋
炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カルバ
モイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボ
ニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更には
へテロ原子を介してKmするもの(具体的にはヒドロキ
シ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ、シ
ロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸素原
子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジアルキル
アミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、アルコキシ
カルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、
アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等の
窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、アリー
ルチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル、ス
ル77モイル等の硫黄原子を介して置換するもの、ホス
ホニル等の燐原子を介して置換するもの等)が挙げられ
る。 具体的には、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、t−ブチル基、5ec−ブチル基、n−ブチル基、
n−アミル基、5ec−アミル基、【−7ミル基、α、
α−ジメチルベンジル基、オクチルオキシカルボニルエ
チル基、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基、
フリル基等が挙げられる。 R+ 、R2およびR3で表わされるアリール基。 アリールオキシ基としては、例えばフェニル基、フェニ
ルオキシ基が特に好ましく、置M基(例えばアルキル基
、アルコキシ基等)を有するものでもよい。具体的には
、例えばフェニル基、4−を−ブチルフェニル基、2.
4−ジ−t−7ミルフヱニル基等が挙げられる。 R1およびR2で表わされる基のうち、水素原子、アル
キル基、アルコキシ基およびアリール基が好ましく、特
に水素原子、アルキル基およびアルコキシ基が好ましい
。 R3で表わされる基のうち特に水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いられる層
構成としては支持体からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤
層の支持体側とは反対側に、2つ以上の非感光性層を有
し、該非感光性層のうち最外層には平均粒径1〜10μ
mの微粒子粉末を含有している。 なお、非感光性層のうち最外層に含有されている平均粒
径1〜10μmの微粒子粉末は当業界でマット剤と一般
に称されるものであり、従って以下では、特に断わりの
ない限りマット剤と称す。 前記の支持体側からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤層と
しては如何なる感色性をもつハロゲン化銀乳剤でもよく
、具体的には青感性ハロゲン化銀乳剤層、緑感性ハロゲ
ン化銀乳剤層または赤感性ハロゲン化銀乳剤層が挙げら
れるが、好ましくは赤感性ハロゲン化銀乳剤層である。 本発明において、前記の非感光性層中の親水性バインダ
ーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体(例えばアセチ
ル化ゼラチン、フタル化ゼラチン等)アルブミン、コロ
ジオン等が用いられるが、ゼラチンが好ましい。 本発明に係るマット剤としては、例えば、結晶性または
非結晶性シリカ、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸アルミナマグネジ
゛ウム、アクリル駿−エチルアクリレート共重合体、ア
クリル駿−メチルメタクリレート共重合体、イタコン駿
−スチレン共重合体、マレイン醇−メチルメタクリレー
ト共重合体、マレイン酸−スチレン共重合体、アクリル
酸−フェニルアクリレート共重合体、ポリメチルメタク
リレート、アクリル酸−メタクリル酸−エチレメタクリ
レート共重合体、ポリスチレン、デンプン、セルロース
アセテートプロピオネート等を挙げることができ、その
他米国特許I],221,980号、同第2,992,
101号等に記載の化合物等が挙げられ、これらを単独
で、もしくは2種以上組み合わせて用いることができる
。 上記マット剤の粒子サイズは平均粒径が1〜10μ■で
あればよいが好ましくは2〜7μmである。 ここでいう平均粒径とは、球状の粒子の場合はその直径
、また立方体や球状以外の形状の粒子の場合はその投影
像を同面積の円像に換算した時の直径の平均値であって
、個々のその粒径がrlであり、その数がniである時
下記の式によって定義される。 具体的な測定方法は特開昭59−29243号公報に記
載された方法を用いることができる。 本発明に係るマット剤は非感光性層の最外層中に分散含
有されるが分散含有させる方法としては、必要に応じJ
ノニオン性、カチオン性またはアニオン性界面活性剤を
含む親水性バインダー中に、必要により他の添加剤を加
え、高速回転ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散、
ボールミル等により、せん断応力を利用した乳化分散法
により分散し、写真分野で用いられる任意の方法により
感光材料の最外層として塗布することにより形成できる
。 本発明に係るマット剤の塗布量としては、最外層の非感
光性Hにおいて、17当たり0.5〜b含有させること
が好ましい。更に好ましくは1f当たり1〜20mg含
有させる。 また、マット剤の含有層は、親水性バインダーに対して
0.1〜2!量%が好ましい。 又、本発明に係る反射支持体の面質としては如何なる面
質を用いることもできるが、少なくともハロゲン化銀乳
剤の塗布面側が型押しされていない支持体であることが
本発明の効果の点から有利である。 一方、前記の一般式[UV−I]で示される2−(2′
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤は従来より析出性が強く、水中油滴分散物の安定性
も著しく低いことが知られており、この欠点を改良する
ための技術として特公昭48−5496号、同48−4
1572号、特開昭53−85425号、同59−21
5378号等に紫外線吸収剤の混合技術が提案されてい
る。 これらの方法は確かに析出性改良には効果があるけれど
も、未だ満足のゆくものではなく、経時による分散粒子
の粗大化に対して効果が小さい。 これに対して、国際公開81−01473号および欧州
特許公開57,160号の各明細口等には、常温にて液
体状である紫外線吸収剤が開示されており、析出性につ
いては満足できるものであるが、取り扱いにくい製造工
程においてロスを生じ易い、およびIl製が離しいため
に成分がロフトによりばらつく、コスト高等の欠点があ
った。 また公開技報85−800号に常温にて固体状の紫外線
吸収剤と液体状の紫外線吸収剤を混合する技術が記載さ
れている。しかしながら我々の結果によれば上記におい
て分散液安定性等は改善されたが、イエローカプラー、
マゼンタカプラーおよびシアンカプラーをそれぞれ含有
するハロゲン゛化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感
光材料に応用した場合に該写真感光材料に含有される色
素画像の明退色性において特に退色の後期においてカラ
ーバランスのずれが増大するという欠点を示した。 そこで前記の如き紫外線吸収剤を用いた場合の分散液安
定性と該分散液を用いたハロゲン化銀写真感光材料にお
ける明退色カラーバランスとを同時に解決すべく検討し
たところ、反射支持体上に、イエローカプラー、マゼン
タカプラー、およびシアンカプラーをそれぞれ含有する
ハロゲン化銀乳剤層および該支持体からみて最も遠いハ
ロゲン化想乳剤日の支持体側とは反対側に紫外線吸収剤
を含有する非感光性すを有するハロゲン化銀写真感光材
料において、前記含有されている紫外線吸収剤は一般式
[UV−I]の2− (2’−ヒトOキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤であり、常温にて固
体状のものと常温にて液体状のものの組み合せであり、
液体状のものは全紫外線吸収剤に対する重量比が30%
以上であり、少なくとも固体状のものは異なる構造を有
する2種以上の組み合せであり、該固体状のものの少な
くとも一つは一般式r(JV−41におけるR1および
R2の各基の炭素原子数の総和が8以上のものでありか
つ該8以上のものは全固体状の紫外線吸収剤に対するJ
1gil比が、35%以上であること、ならびに前記イ
エローカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層中に一般
式[A]で示される化合物が含有されていることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成されるこ
とをみいだした。 更に好ましい態様としては、紫外線吸収剤を含有する非
感光性層の支持体側とは反対側、好ましくは最外層に前
記したマット剤を含有させておくことである。 紫外線吸収剤について以下に詳しく述べる。 紫外線吸収剤は常温にて液体状のものと常温にて固体状
のものの組み合せであるが、常温にて液体状の紫外線吸
収剤は融点が30℃以下であることが好ましく、特に7
5℃において液体であること好ましい。また液体状を呈
する紫外線吸収剤は単一成分あっても、あるいは数種の
構造異性体から構成される混合物であってもかまわない
。 紫外線吸収剤の混合比率は、前記した様に常温にて液体
状の紫外線吸収剤の量は、全紫外線吸収剤に対する重量
比が30%以上好ましくは30%以上99%以下特に好
ましくは30%以上95%以下である。また、常温にて
固体状の紫外線吸収剤の方に関しては、前記の一般式[
UV−I]におけるR1およびR2の各基の炭素原子数
の総和が8以上の紫外線吸収剤の全固体状の紫外線吸収
剤に対するl1il比が35%以上であればよいが好ま
しくは、35%以上100%まで、より好ましくは50
%以上100%までである。 なお、常温にて固体状の紫外線吸収剤の少なくとも一つ
は前記一般式[UV−I]におけるR1およびR2の各
基の炭素原子数の総和が8以上であればよいが、その上
限は、R1およびR2の基、更にはR3の基によって異
なるが概ね12までが好ましいといえる。また紫外線吸
収剤のM添加量は紫外線吸収剤を含有する非感光性層の
バインダーに対する重量比で一般に0.1〜300%の
範囲であればよく、好ましくは1〜200%、より好ま
しくは5〜100%の範囲である。 紫外線吸収剤を含有する非感光性層に用いられるバイン
ダーとしては親水性バインダーが好ましく、ゼラチン、
ゼラチン誘導体(例えばアセチル化ゼラチン、フタル化
ゼラチン等)アルブミン、フロジオン等が挙げられるが
ゼラチンが好ましい。 紫外線吸収剤を非感光性層に含有させるには、いわゆる
、アルカリ水溶液分散法、固体分散法、ラテックス分散
法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を用いること
ができ、これは紫外線吸収剤の化学構造等に応じて適宜
選択することができるが、ラテックス分散法や水中油滴
型乳化分散法が特に有効である。これらの分散方法は従
来からよく知られており、ラテックス分散法およびその
効果は、特願昭49−74538号、同51−5994
3号、同54−32552号各公報やリサーチ・ディス
クロージャー(Research D 1sclosu
re )誌、1976年 8月、No、14850
、77〜79頁に記載されている。 適当なラテックスは、例えばスチレン、エチルアクリレ
ート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、2
−(メタクリロイルオキシ)エチルトリメチルアンモニ
ウムメトサルフェート、3−(メタクリロイルオキシ)
プロパン−1−スルホン酸ナトリウム塩、N−イソプロ
ピルアクリルアミド、N−[2−(2−メチル−4−オ
キソペンチル)]アクリルアミド、2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸などのようなモノマー
のホモポリマー、コポリマーおよびターポリマーである
。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性添加物
を分散させる従来公知の方法が適用でき、例えば通常沸
点約175℃以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低
沸点溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性
バインダー中に界面活性剤を用いて、微分散し、この分
散物を目的とする居中に添加すればよい。 常温にて液体状である2−(2’ −とドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系紫外ts@収剤の代表的具体
例を示す。 以下余白 C,H會(1) C4H*(sea) 次に、常温にて固体状の2−(2”−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代表的具体例
を挙げる。 C4Hi (す なお、これらの液状ないし固体状のベンゾトリアゾール
系化合物は、特公昭36−10466号、同42−26
187号、同4g−5496号、同48−41572号
、米国特許3.754,919号、同4,220,7I
]号、国際公開81−01473号、欧州特許公開57
160号等に記載されている。 反射支持体上に設けられたイエローカプラー、マゼンタ
カプラーおよびシアンカプラーをそれぞれ含有するハロ
ゲン化銀乳剤層の囮順に関しては特に限定はないが、一
般的には反射支持体から順次イエローカプラーを含有す
る青感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカブう−を含有
する緑感性ハロゲン化銀乳剤層、シアンカプラーを含有
する青感性ハロゲン化銀乳剤層の順番で設けられている
!!!様が好ましい。 次に、イエローカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層
中に含有せしめる一般式[A]で示される化合物につい
て述べる。 以下余白 一般式[A) R。 均 〔式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基を表わ
す。Rコはアルキル基、−NR’ R”基、−8R’基
(R’は価の有機基を表わす。〕、または、−COOR
”基(R″は水素原子または1価の有機基を表わす。〕
を表わすQmは0〜3の整数を表わす。〕一般式(A)
のR1およびR2で表わされるアルキル基の好ましくは
、炭素原子数1〜12個のアルキル基、更に好ましくは
炭素原子数3〜8個のα位が分岐のアルキル基である。 R1およびR2の特に好ましくは、t−ブチル基または
t−ペンチル基である。 R1で表わされるアルキル基は、直鎖または分岐のもの
であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基
、オクタデシル基等である。 このアルキル基が置換基を有する場合、これらの置換基
としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、
シアン基、アリール基(例えばフェニル基、ヒドロキシ
フェニル基、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ラエニル& 、’ 3e 5−’) −t−ペンチル−
4−ヒドロキシフェニル基等)、7ミノ基(例えばジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、1,3.5−)リア
ジニルアミノ基等)、アルキルオキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フ
ロピルオ率ジカルボニル基、メトキシカルボニル基、ペ
ンチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル
基、ノニルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボ
、ニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等)、アリ
ールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル
基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基
、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブ
チルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基等のアル
キルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等のアリ
ールカルバモイル基、シクロヘキシルカルバモイル基等
のシクロアルキルカルバモイル基等)、インシアヌリル
基、1,3.5− )リアジニル基等の複素環基が挙げ
られる。R3で表わされるアミノ基は1例えばジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等
のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシル
フェニルアミノ基等のアリールアミノ基、シクロヘキシ
ル基等のシクロアル。 キ゛ルアミノ基、1.3.5−トリアジニルアミノ基、
インシアヌリル基等の複素環アミノ基などを包含する。 R′およびR“で表わされる1価の有機基は、例えばア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、アミル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基等)、アリール基(例えばフエ゛
ニル基、ナフチル基等〕、シクロアルキル基(例えばシ
クロヘキシル基等)、複素環基(例えば1,3,5−)
リアジニル基、インシアヌリル基等)を包含する。これ
らの有機基が置換基を有する場合、この置換基としては
、。例えばハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等
〕、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、i−プロピル
基、t−ブチル基、t−アミル基等)、アリール基(例
えばフェニル基、トリル基等)、アルケニル基(例えば
アリル基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えばメ
チルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、
ベンジルカルボニルオキシ基等)、アリールカルボニル
オキシ基(例えばベンゾイルオキシ基等)などが挙げら
れる0 本発明において前記一般式(A)で表わされる化合物の
好ましくは下記−1般式[A’)、 [A’)及び(A
”]で表わされる化合物である。 一般式〔A′〕 〔式中、RI]およびR12は、それぞれ炭素原子数3
〜8価の直鎖または分岐のアルキル基、特にt−ブチル
基、t−ペンチル基を表わす。R13はに価の有機基を
表わす。kは1〜6の整数を衣ゎす。〕RI3で表わさ
れるに価の有機基としては、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、ヘ
キサデシル基、メトキシエチル基、クロロメチル基、1
,2−ジブロモエチル基、2−クロロエチル基、ヘンシ
ル基、フェネチル基等のアルキル基、アリル基、プロペ
ニル基、ブテニル基等のアルケニル基、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、ヘキサメチレン、2−クロロト
リメチレン等の多価不飽和炭化水素基、グリセリル、ジ
グリセリル、ペンタエリスリチル、ジペンタエリスリチ
ル等の不飽和炭化水素基、シクロプロピル、シクロヘキ
シル、シクロヘキセニル基等の脂環式炭化水素基、フェ
ニル基、p−オクチルフェニル基、2.4−ジメチルフ
ェニル基、2.4−ジ−t−ブチルフェニル基、2,4
−ジーを一ペンチルフェニル基、p−クロロフェニル基
、2.4−ジブロモフェニル基、ナフチル基等の了り−
ル基、1.2−4たは1,3−あるいは1,4−フェニ
レン基、s*s−ジメチル−1,4−フェニレン基、2
−t−ブチル−1,4−フェニレン基、2−クロロ−1
,4−フェニレン基、ナフタレン差等ノアリーレン基、
1.3.5−三置換ベンゼン基等が挙げられる。 R13は、更に上記の基以外に、上記基のうち任意の基
を一〇−1−S−1−802−基を介して結合し7’(
k価の有機基を包含する。 R13の更に好ましくは、2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル基、2.4−ジ−t−ペンチルフェニル基、p−オ
クチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、 a、s
−シー t−フチルー4−ヒドロキシルフェニル基、
3,5−ジ−t−ペンチル−4−ヒドロキシフェニル基
でアル。 kの好ましくは、1〜4の整数でちる。 以下余白 一般式[A“] [式中RI]乃至R13およびkは一般式[A′]で示
したものと同一であり、Yは2価の有機基を表わす。l
は正の整数、nおよびqはOまたは正の整数を表わすa
] Yで表わされる2価の有機基としてはアリーレン基(例
えばフェニレン基)、オキシカルボニル基、カルボニル
オキシ基、スルホニル基、アミノ基、スルホンアミド基
、スルファモイル基、アシルアミノ基、カルバモイル基
等を挙げることができる。 以下余白 一般式[A″″] 【式中、Ru 、R12は一般式[A′]で示したもの
と同一であり、見は一般式[A“]で示したものと同一
であり、R14およびR15は水素原子、アルキル基、
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ベンジル基等)、アルケニル基、(例えば
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等)、アルキニ
ル基、(例えば、エチニル基、プロペニル基等)、アシ
ル基(例えばホルミル基、アセチル基、ブ0ピオニル基
、ブチリル基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メ
タクリロイル基、クロトノイル基等)を表わす。 nおよびQは1乃至3の整数を表わし、pはO乃至2の
整数を表わし、n +Q+p s−4である。 R14、Rtsの更に好ましい基としては、メチル基、
エチル基、ビニル基、フリル基、プロピニル (1)
基、ベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基である。 以下に一般式(A)で示される化合物の具体的(2〕 化合物を挙げる。 以下余白 (3〕 (4〕 C4H9(t) 03H7(す C5Htt(t) C4H9(t) 04H9(t) C5H1t(t)C4Hs(t
) C4He(t)(25〕 (26〕 以下余白 一般式[AIで表わされる化合物の添加量は、イエロー
カプラーの塗布jI]00重量部に対して、5〜300
重量部、好ましくは10〜100重量部の割合で用いる
。 添加方法に関しては前記した紫外線吸収側の添加方法と
同様な手段を用いればよい。 次にイエローカプラーについて述べる。 以下余白 本発明に係る色素画像を形成するカプラーとしでは限定
される事なく種々のカプラーを用いることができるが、
イエロー色素画像形成カプラーとしては、下記一般式[
8]で示されるカプラーを用いることができる。 一般式[B] 式中、R1はアルキル基またはアリール基を表わし、R
2はアリール基を表わし、Xは水素原子または発色現像
反応の過程で脱離する基を表わす。 R1としては直鎖または分岐のアルキル基(例えばブチ
ル基)またはアリール基(例えば)Iニル基)であるが
、好ましくはアルキル基(特に【−ブチル基)が挙げら
れ、R2としてはアリール基(好ましくはフェニル基)
を表わし、これらR1、R2の表わすアルキル基、アリ
ール基は置換基を有するものも含まれ、R2のアリール
基にはハ[tゲン原子、アルキル基等が置換されている
ことが好ましい。Xとしては下記一般式[CIまたは[
DJで示される基が好ましく、さらに一般式[CIのう
ち一般式【C′ ]で示される基が特に好ましい。 一般式[CI 式中、zlは4員〜7員環を形成し得る非金属原子群を
表わす。 一般式[DJ −O−Ru 式中、Ratはアリール基、複素環基またはアシル基を
表わすがアリール基が好ましい。 一般式[C′] 成し得る非金属原子群を表わす。 前記一般式[8]において好ましい本発明に係るイエロ
ーカプラーは次の一般式[8’ ]で示される。 一般式[B′] 式中、R14は水素原子、ハロゲン原子、または、アル
コキシ基を表わし、ハロゲン原子が好ましい。 またR15、Rls及びR17はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、カルボキシ基、アフレコキシ力ルボニル
基、カルバミル ルファミル基、アルキルスルフォンアミド基、アシルア
ミド基、ウレイド基またはアミノ基を表わし、R15及
びRlsがそれぞれ水素原子であってR+7がアルコキ
シカルボニル基、アシルアミド基またはアルキルスルホ
ンアミド基が好ましい。また、Xは前記一般式[8]で
示されたものと同義の基を表わし、好ましくは前記一般
式EC]または〔DJ、または[CIのうちでさらに好
ましくは前記一般式CG’]で表わされる基が挙げられ
る。 また、前記一般式[8]において別の好ましい− 本
発明に係るイエローカプラーは次の一般式%式% 一般式[B#] 式中、R18は前記一般式[B′]におけるR1つと同
義の基を表わし、Rls,R20及びR21はそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ′基、アリール基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、カルバミル基、スルホン基、スルフ
7ミル基、スルホンアミド基、アシルアミド基、ウレイ
ド基、アミノ基のいずれかを表わす。また、Xは前記一
般式[B′]で示されたものと同義の基を表わす。 イエローカプラーの添加層は任息のハロゲン化銀乳剤層
でよいが好ましくは青感光性ハロゲン化銀乳剤層であり
、添加口としては銀1モル当り2X10−3〜5X10
−1モルが好ましく、より好ましくは1X10−2〜5
X10−1モルである。 以下に、本発明に係るイエローカプラーの具体例を挙げ
るが、これに限定されるものではない。 以下余白 (Y−7) (Y−8) 2H5 CH2CH20CzHs Hs iU灸。7八h H 〔− ””62uj’1 (Y−33) (Y−34) (Y−35) (Y−36) (Y−37) 、 (Y−38) 1’1 (Y−39) (Y−40) (RM/RN=0.65 ) (Y−41) (Y−42) (Y−43) (Y−44) t (RM/RN=1.27 ) (Y−54) (Y−55) (RM/RN=1.1 ) (、RM/RN=4.3 ) (RM/RN=4.0) (Y−58) (RM/RN=0.94) シアン画像形成カプラーとしては、下記一般式[D]、
[E]で示されるカプラーを好ましく用いることができ
る。 Z。 式中、R,はアリール基、シクロアルキル基または複素
環基を表わす、R2はアルキル基またはフェニル基を表
わすm R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基ま
たはアルコキシ基を表わす。 Zlは水素原子、ハロゲン原子または芳瞥前筒−級アミ
ン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る基
を表わす。 式中、R1はアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ノニル基等)を表わす。鳥はア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基等)を表わす。鳥
は水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素
等)またはアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)
を表わ丁。Z2は水素原子、ハロゲン原子または芳香族
第1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応により離
脱し得る基を表わす。 本発明において前記一般式[Eコの凡で表わされるアリ
ール基は、例えばフェニル基、ナフチル基であり、好ま
しくはフェニル基である。烏で浅わされる複素環基は、
例えばピリジル基、7ラン基等である。R1で衷わされ
るシクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、シクロ
ヘキシル基等である。これらの凡で表わされる基は単一
もしくは複数の置換基な有していても良(、例えばフェ
ニル基に導入される置換基としては代表的なものにハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、
アルキルスルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えばフェニルスルホンアミド基、ナフチ
ルスルホンアミド基等) 、アルキルスルファモイル基
(例えばブチルスルファモイル基等)、了り−ルスルフ
ァモイル基(例エバフェニルスルファモイル基等)、ア
ルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオキシカルボ
ニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェ
ニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基
、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、ス
ルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオ
キシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルキルカル
ボニル基、アリールカルボニル酸、アミノカルボニル基
などを挙げることができろ。これらの置換基は2種以上
がフェニル基に置換されていても良い。鳥で表わされる
好ましい基としては、フェニル基またはハロゲン原子、
アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基
、アルキルフルファモイル基、アリールスルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、もしくは
シアノ基を置換基として1つまたは2つ以上有するフェ
ニル基である。 馬で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のもの
であり例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基等である。 本発明において一般式[Eコで表わされるシアンカプラ
ーの好ましくは、下記一般式[E′」で茨わされる化合
物である。 このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良(、導入される置換基としては代表的なものにハ
ロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シア
ノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)、アルキルヌルホンアミド基(例えばメチ
ルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、
7’J−ルスルホンアミド基(例えばフェニルスルホン
アミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、
アリールスルファモイルi(例tばフェニルスルファモ
イル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチ
ルオキシカルボニル基り、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェニルオキシカルボニル基等)などを挙げる
ことができる。これらの置換基は2種以上がフェニル基
に置換されていても良い。R1で表わさ基、p−オクチ
ルスルホンアミド基、O−ドデシルスルホンアミド基)
、アリールスルホンアミド基(好マしくはフェニルスル
ホンアミド基)、アルキルスル77モイルi(好tしく
はブチルスルファモイル基)、アリールスルファモイル
基(好t L < ハフェニルスル7アモイル基)、フ
ルキル基(好ましくはメチル基、トリフルオロメチル基
)アルコキシ基(好ましくはメトキシ基、エトキシ基)
を置換基として1つまたは2つ以上有するフェニル基で
ある。 馬はアルキル基またはアリール基である。アルキル基ま
たはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良く、この置換基としては代表的なものに、ハロゲ
ン原子(例えば7ツ累、塩素、臭素等)ヒドロキシル基
、カルボキシル基、アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基
等)、アラルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ
基(例えばメトキシ基、エトキシ基)アリールオキシ基
、アルキルスルホンアミド基(例えばメチルスルホンア
ミド基、オクチルスルホンアミド基等)アリールスルホ
ンアミド基(例、tばフエニ7tzスルホンアミド基、
ナフチルスルホンアミド基等)アルキルスルファモイル
MC例、t ばブチルスルファモイルi等)、アリール
スルファモイルitC例、tばフェニルスルファモイル
基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオ
キシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(
例工ばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホ
ンアミド基(例えばジメチルアミノスルホンアミド基等
)、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ、lL/
基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ア
ミノカルボニールアミド基、カルバモイル基、スルフィ
ニル基などを挙げることができる。 これらの置換基は2種以上が導入されても良い。 鳥で表わされる好ましい基としては、n = oの゛
ときはアルキル基、n = 1以上のときはアリール
基である。鳥で表わされているさらに好ましい基として
は、n=oのときは炭素数1〜22個のアルキル基(好
ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
オクチル基、ドデシル基)であり、n = 1以上のと
きはフェニル基、またはアルキル基(好ましくはt−ブ
チル基、t−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホ
ンアミド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オク
チルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、
アリールスルホンアミド基(好ましくはフェニルスルホ
ンアミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジ
メチルアミノスルホンアミド基)、アをキルオキシカル
ボニル基(好ましくはメチルオキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基)を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。 R,l’!アルキレン基な表わす。直鎖または分岐の炭
素原子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のア
ルキレン基を表わす。 R1゜は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素または沃素)を表わす。好ましくは水素原子である
。 nは0または正の!i数であり、好ましくは0または】
である。 Xは+、−CO−、−Coo−、−0CO−1−8O,
NRL。 −NR’ SO,NR”−、−5−、−80−または−
8O,−基の2価基を表わす。ここで、R′、R′は置
換または非置換のアルキル基を茨わ丁。Xの好ましくは
、ベト、−シ、−5O−1SOz−基である。 Z、は水素原子、ハロゲン原子または芳香族第1契アミ
ン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し得る基
を宍わ丁。 好ましくは、塩素原子、フッ素原子である。 以下余白 以下に式[E)で表わされるシアンカプラーの代表的具
体例を示すが、これらに限定されるものではない。 (n)Ctz&s S 02NH 不発明において、前記一般式〔F:Jで表わされるシア
ンカプラーは、よシ好ましくは下記一般式CF’)
で表わされるものである。 2゜ 式中、R1,およびR1,は、同一でありまたは異なり
、水素原子、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、ドデシ
ル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ
基等)を表わす。 但しR1,とRoの炭素原子数の総和は8〜16個であ
る。よシ好ましくは、R1,および只、、が、それぞれ
ブ、チル基またはアミル基である。 R□は水素原子またはアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等)である
。 mho〜2の!!5!を茨わす。zlは水素原子、バロ
ゲン原子または芳香族第1Rアミン系発色現像主薬の酸
化体との反応によシ離脱し得る基を表わす。 式[EI LFI [r’Jおよび印′]において、z
l、21.2、および2.で表わされる芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬の酸化体との反応によシ離脱し得る
基は、当業者の周知のものであル、カブ゛ラーの反応性
を改質し、またはカプラーから離脱して、I・ロダン化
銀カラー写真感光材料中のカプラーを含む塗布層もしく
はその他の層において、現像抑制、漂白抑制、色補正な
どの機能を果たすことによシ有利に作用するものである
。代表的なものとしては、例えばアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アリールアゾ基、チオエーテル、カルバモ
イルオキ7基、アシルオキシ基、イミド基、スルホンア
ミド基、チオシアノ基または複素環基(例えば、オキサ
シリル、ジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル等)
などが挙げられる。2で表わされる特に好適な例は、水
素原子または塩素原子である0以下に式[FJで表わさ
れるシアンカプラーの代表的具体例を示すが、これらに
限定されるもので1寸ちい。 (ll−1) t (ll−2) (L (II−3) t (II−4) (Ir−5) t (II−6) t (II−7) t (II−10) t (II−I]) t (II−12) ([−13) CL (II−14) (II−15) (il−19) (IT−20) t (II−21) t−発明に古ツす3ハρケ′″シイ6金
【写其癩・光材
芋丑lこ劣“()″′2′、輩゛°上79と素IV象形
波゛カフ°ラーどL71;t−λ−”l M武’D)
t・、)v’CI)z”;n亡失3 @7’ニア−e’
IJ−ま乙く用t1a″:−ヒか’T’?J。 【式中、Arはアリール基を表わし、R/ は水素原
子又はm換器を表わし、RλはW!置換基表わす。Yは
水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によりM
脱しうる置換基を、Wは−NH−1−NHCO−(Nl
ffi子はビラゾロン核の炭素原子に結合)または−N
HCONH−を表わし、m1ユ1または2の整数である
。) 以下余白 一般式〔1] ア [式中2は含窒素複素環を形成するに必要な非。 金属原子群を表し、該2により形成される環は置換基を
有してもよい、Xは水素原子または発色現像主薬の酸化
体との反応により離脱しうる置換基を表す、またRは水
素原子または置換基な表す、1以下余白 次に前記一般式[a]で表わされるカプラーについて詳
述する。 Arで表わされるアリール墨としてはフェニル基および
ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基であり
、特に好ましくはH換されたフェニル基である。 この置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルフギシカルボ
ニル基、シアノ基、カルバモイル暴、スルファモイル器
、スルホニル基、スルホンアミド器、アシルアミノaS
であり、Arであられされるフェニル基に2個以上の置
換基を有してもよい。 以下に置換基の具体的な例を挙げる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フッ素 アルキル基:メチル基、エチル基、1so−プロピル基
、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基等であるが
特に炭素原子徐1〜5のアルキルUが好ましい。 アルコキシ基:メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
5eC−7トキシ基、1so−ペンチルオキシ1s@で
あるが、特に炭素原子数1〜5のアルコキシ基が好まし
い。 アリールオキシ昌:フエノキシ基、β−ナフトキ゛シm
等であるが、このアリール部分には更にArで示される
フェニル基に蓼ばているとJBJ様なrlt検基を有し
てもよい。 アルコキシカルボニルIk=上述したアルコキシ基の付
いlcカルボニル塁であり、メトキシカルボニル墨、ペ
ンチルオキシカルボニルMI!のフルキル部分の炭素原
子数が1〜5のものが好ましい。 カルバモイル ルフモイル基等のフルキルカルバモイル基スルファモイ
ルN:スルフ7モイル基、メチルスルファモイル基、ジ
メチルスルファモイル基、エチルスルファモイルM等の
アルキルスルファモイル基 スルホニル蟇:メタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ブタンスルホニルB@アルキルスルホニル基 スルホンアミド基:メタンスルホンアミド基、トルエン
スルホンアミド基等のフルキルスルホンアミド アシルアミノ基:アシルアミノしピノ〜ロイルアミノU
,ベンズアミド昌等 特に好ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩素が
最も好ましい。 Rjで表わされるIt置換基ハロゲン原子、アル・キル
基、アルコキシ基等である。 具体的な倒を以下に挙げる。 ハロゲン原子:i!素、臭素、フッ素 アルコキシ!!:メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基
、sec−ブトキシ基、iso−ペンチル−オキ2M等
の炭素原子数が1〜5のアルコキシ基が好ましい。 アルキル基:メチル基、エチル1,+soープロピル器
、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基等の炭素原
子数が1〜5のアルキル基が好ましい。 特に好ましくはハロゲン原子であり、中でも塩素が好ま
しい。 R2−で表わされる[&基はハロゲン原子、アルキル基
、アミド基、イミド基、N−アルキルカルバモイル ル゛コキシカルボニル基、アシルオキシ≦、スルホンア
ミド基、またはウレタンM尋である.これらの基のうち
アミド基(例えば、テトラデカンアミド基、3−1−ブ
チル−4−ヒトOキシフェノキシテトラデカンアミド蟇
等)、イミド基(例えはドデシルスルホンアミド基、オ
クタデセニルスクシンイミド基等)およびスルホンアミ
ド基(例えばブチルスルη1ンアミド基、ドデシルスル
ホンアミド基等)を好ましく用いることができる。 Wは一NH−、−NHCO− (窒素原子はピラゾロン
核の炭素原子に結合)威たは一NHCONH−のいずれ
でもよいが、Wは一NH−を特に好ましく用いることが
できる。 YT″表わされる芳香族fI!41級アミン系発色堤像
生薬の酸化体とカップリング反応によりmlしうるl換
器としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アシルオキシ基、ア= / +− %、 (Z2は窯素原子と共にr!i素原子、酸素原子、窯素
原子、イオウ原子の中から選ばれた原子と5ないし6員
環を形成するに投する原子群を表ね7F.)等が挙げら
れる。 以下に具体的な例をtげる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フッ素 アルコキシ墨:エトキシ昌、ペンシルオキシ基、メトキ
シ1チルカルバモイルメトキシ デシルカルバモイルメトキシM% アリールオキシミニフェノキシ基、4−メ1ーキシフェ
ノキシ昌、4−ニドaフェノキシM@アシルオキシIk
:アセトキシ基、ミリストイルオキシ器、ベンゾイルオ
キシ基等 アリールチオ基:フェニルチオ基、2−ブトキシ−5−
オクチルフェニルチオ基、2.5−ジヘキシルオキシフ
ェニルチオ墨客 アルキルチオa:メチルチオ基、オクチルチオ基、ヘキ
サデシルチオ基、ベンジルチオ基、2−(ジエチルアミ
ノ)エチルチオ基、エトキシカルボニルメチルチオ基、
エトキシエチルチオ基、フドリアゾリル囚、テトラゾリ
ルj1等 次に前記一般式[a Jで表わされるマゼンタカプラー
の具体的代表例を挙げるが、本発明がこれらに限定され
るものではない。 以下余白 !−4CJ!。 a −7CZ a−1o C1 a−18ct α a −22ct & −24Ct Ct a−28 a−35ct t CL t a −49004&(n) CHs これらは、例えば米FiJ特許第2,600,788@
、同$ 3,061,432号、同第3,062,65
3@、同第3.127゜269号、同第 3,3I],
476号、同第 3.152.896号、同第3.4t
9,391号、同第3,519.42SJ@、同第3.
555.318号、同第 3,684,514号、同第
3,888,680号、同第3,907.571!、
同第3.928,044号、同第3.930461号、
同第3,930,866号、同第3,933,500号
等の明FI!目、特開昭49−29639号、同49−
I]1631号、同49−129538@、同50−1
3041号、同!12−58922号、同55−624
544、N 55−I]8034号、(oJ5G−38
043号、同57−35858号、同60−23855
号の各公報、実印特許$ 1,247,493号、ベル
ギー特許@ 769,I]6号、同第792,525号
、***特許2,156,I]1号の各明【L特公昭46
−60479号公報等に記載されている。 以下余白 本発明に係る前記一般式(1) 一般式〔1〕 ! で表されるマゼンタカプラーに於いて、2は含窪素複素
環を形成するz二必要な非金属原子群を表し、該Zによ
り形成される環は置換基を有してもよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。 前記Rの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、1f@炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミへLアリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基2、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜32のも
の、アルケニル基、アをキニル基としては炭素数2〜3
2のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数3〜12、特に5〜7のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニル基如く゛カルボニル基を介して置換するもの、更
にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒド
ロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環・オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介して置換するもの′、ニトロ、アミノ(ジ
アルキルアミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、ア
ルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニル
アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレ
イド等の厘素原子を介して置換するもの、アルキルチオ
、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィ
ニル、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するも
の、ホスホニル等のj[子を介して置換するもの等)〕
を有していてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.l・−ジベンチルノニル基、
2−クロル−!−ブチル基、トリフルオロメチル基、l
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2.4−ジ−t−アミル
フェノキシメチル基、アニリノ基、l−フェニルイソプ
ロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、3−4・−(α−〔4・・(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル)フェノキシスドデカノイルアミノ
)フェニルプロピル基、3−(4・−〔α−(2−,4
−I−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド〕フェ
ニル)−プロピル基、4−〔α−(O−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシ〕プロピル基、アリ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 Rで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(伺えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等)を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、4−1−ブチルフェニル基、
2.4−ジー1−アミルフェニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4・
−〔α−(4・・−1−ブチルフェノキシ)テトラデカ
ンアミドフェニル基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環基としては5〜7貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。 具体的には2−フリル基、2−チェニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 Rで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−ジー
1−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシ・ルオキシベン
ゾイル基、p−クロルベンゾイル基等のアリールカルボ
ニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−)ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、動−ベンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。 “Rで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホ
スホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。 Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N−エチルーN−ドデシルカルバモ
イル基、N−(3−’(2,4−ジー1−アミルフェノ
キシ)プロピル】カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Rで表されるスルファモイル基はアルキル基、ア゛リー
ル基(好ましくはフェニル基)肴が置換していてもよく
、例えばN−プロピルスルファモイル基、N、N−ジエ
チルスルファモイル基、N−(2−ペンタデシルオキシ
エチル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシル
スルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基等が
挙げられる。 Rで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]へブタン−1−イル等が挙げられる。 Rで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ−[2,2,1コヘブタン−1−イル、トリシクロ[
3,3,1,1”°7]デカンー1−イル、7.7−シ
メチルービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等
が“・挙げられる。 Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2 ′−ドデシルオキシ
エトキシ基、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられ
る。 Rで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、烏
−ペンタデンルフェノキシ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7員のへテ
ロ環を有するものが好ましく該へテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テトラヒ
ドロビラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾー
ル−5−オキシ基が挙げられる。 Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。・ Rで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。 Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチルカ
ルバモイルオキシ基、N、N−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。 Rで表されるアミノ基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、m −クロルアニリノ基
、3−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、2−
クロル−5−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。 R″′Q表されるアシルアミノ基としては、アルキルカ
ルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基(好ま
しくはフェニルカルボニルアミノ基)等が挙げられ、更
に置換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α
−エチルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド
基、ドデカンアミFM、2.4−ジー1−アミルフェノ
キシアセトアミド基、σ−3−t−ブチル4−ヒドロキ
シフェノキシブタンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるスルホンアミド基としては、アル十ルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更−に置換基を有・してもよい。 具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、p−)
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−1−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘプタデシルコノ1り酸イミド基、フ
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。。 Rで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基(
好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよく
、例えばN−エチルウレイド基、N−メチル−N−デシ
ルウレイド基、N−フェニルウレイド基1.N−p−)
リルウレイド基等が挙げられる。 Rで表されるスルフ7モイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、N−メチルスルファモイルアミノ基、N−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。 Rで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。。 Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を存
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。 Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシガルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Rで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、伺えばフェニルチオ基、
p−メトキシフェニルチオ基、2−1−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カル
ボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−ジフェ、ツキ
シー1.3.5−トリアゾール−6−チオ基が挙げられ
る。 −Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し
うる置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、
臭素原子、フッソ原子等)の低炭素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R1・は前記Rと同義であり、2・は前記2と同義で
あり%Rt・及びR3・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。 酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、ス゛ルホニルオキシ基、アルジキシカルボニルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル
オキサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が
挙げられる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。 該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、具
体的にはフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−〔α−(3・−ペンタデシルフェノキシ
)ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シアノフェノキシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、p−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。 該へテロ環オキシ基としては、sニーrBのへテロ環オ
キシ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を
育してい、でもよい。具体的には、1−フェニルテトラ
ゾリルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙
げられる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルケルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如・きアリールカルボニルオキシ
基が挙げられる。 該スルホ、ニルオキシ基としては、例えばブタンスルホ
ニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる
。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、伺えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ペンビルチオ基等が
挙げられる。 該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシルフェネチ
ルチオ基、4−ノナフルオロペンクンアミドフェネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5−1−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−フェニル−1,
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。 該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 えば一般式−N ゛で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、R4・とRs・は
結合してペテロ環を形成してもよい。但しR4・とR,
・が共に水素原子であることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては何えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルフ1モイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。 該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。 R4・又はRs・で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R4・又はRs・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、1−ナフチル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。 R,J又はR1・で表されるヘテvyHI基としては5
〜6員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換
基を有してもよい、具体例としては、2−フリル基、2
−キノリル基、2−ピリミジル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、2−ピリジル基等が挙げられる。 R4・又はRs’で表されるスルファモイル基としては
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N
、N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N
−ドデシ、ルスルフ1モイル基、N−p−)リル
□−: スルファモイル基が挙げられる。
1□ R4・又はR1・で表されるカルバモイル基としては、
N−アルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前 。 記アルキル基及びアリール基について挙げた置換基を有
していてもよい。カルバモイル基の具体例としでは例え
ばN、N−ジエチルカルバモイル基、N−メチルカルバ
モイル基、N−ドデシルカルバモイル基、N−p−シア
ノフェニルカルバモイル基、N−p−)リルカルバモイ
ル基が挙げられる。 R4・又はR1・で表されるアシル基としては、例え°
ばアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテ
ロ環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリー
ル基、該ヘテロ環基は置換基を育していてもよい。アシ
ル基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオ
ロブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペン゛タフルオ
ロベンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニ
ル基、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。 fl 、z又はR1・で表されるスルホニル基としては
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテ
ロ環スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、
具体的な゛ものとしては例えばエタンスルホニル基、ベ
ンゼンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレ
ンスルホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が
挙げられる。 R4・又はR1・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基lニついて挙げたものを置換基と
して有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基
等が挙げられる。 R4・又はR,・で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。 R4・及びR,・が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
1、又、芳香族性を有していても、いなくてもよくψ又
、縮合環でもよい、該ヘテロ環としては例えばN−フタ
ルイミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリ
ル基、1−N−ヒダンEイニル基、3−N−2,4−ジ
オキソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキソ
−3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基
、l−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラゾリ
ル基、】−ピラゾリジニル基、1−ピペリジニル基、l
−ピロリニル基、1−イミダゾリル基、1−イミダゾリ
ニル基、1−インドリル基、!−イソインドリニル基、
2−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−
ベンゾトリアゾリル基、1、−ベンゾイミダゾリル基、
I−(1,2,4−)リアゾリル)基、]−(1,2,
3−)リアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラ
ゾリル)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テ
トラヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル
基、2−IH−ピリドン基、ブタラジオン基、2−オキ
ソ−1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環
基はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリ
ールオキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンア
ミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等に
より置換されていてもよい。 またZ又はZ・7二より形成される含窟素vl素環とし
ては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環
またはテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有しても
よい置換基としては前記Rに9いて述べたものが挙げら
れる。 又、一般式〔1〕及び後述の一般式(II)〜【■〕に
於ける複素環上の置換基(例えば%IR1〜R1)が ! 部分(ここにRI・、X及びZI・は一般式〔1〕にお
けるR、X、’Zと同義である。)を有する場合、所謂
ビス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される
。又、2.2・、2・・及び後述のZsにより形成され
る環は、更に他の!(例えば5〜7貝のシクロアルケン
)が縮合していてもよい。例えば一般式(V〕において
はR1とR6が、一般式(■)においてはR7とR1と
か、互いに結合して環(例えば5〜7員のシクロアルケ
ン、ベンゼン)を形成してもよい。 以下余白 一般式〔1〕で表されるものは更に具体的には何えば下
記一般式(It)〜C■〕2二より表される。 一般式(It) 一般式CIII) N N −I] 一般式(R’) IN□龍 一般式(V) 一般式(Vl) H−に□龍 一般式〔■〕 NN 前記一般式(n)〜〔■〕に於いてR1−R1及びXは
前記R及びXと同義である。 又、一般式(1)の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。 一般式〔■〕 式中R,x及び2.は一般式【1〕におけるRlX及び
Zと同義である。 前記一般式(It)〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式(II)で表され
るマゼンタカプラーである。 又、一般式〔1〕〜【■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式〔1〕においてはRが、また一般
式(n)〜〔■〕においてはR1が下記条件lを満足す
る場合が好ましく更に好ましいのは下記条件l及び2を
満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件1.2
及び3を満足する場合である。 条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。 条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基R及びR3として最も好ましいの
は、下記一般式(IX)により表されるものである。 一般式(IX) ス■ Rjo−C− Mg 式中R*、Rs。及びRflはそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アル、ケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基
、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イ
ミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環
チオ基を表し、Rs。 RIo及びRI]の少なくとも2つは水素原子、ではな
い。 又、前記R# 、 R、e及びRtsの中の2つ例えば
R・とRloは結合して飽和又は不飽和の環(例えばシ
クロアルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成して
もよく、更に該環にRjlが結合して有橋炭化水素化合
物残基を構成してもよい。 R,〜RIIにより表される基は置換基を有してもよく
、R1〜R1mにより表される基の具体例及び骸晶が有
してもよい置換基としては、前述の一般式〔1〕におけ
るRが表す基の具体例及び置換基が誉げられる。 又、例えばR1とR3゜が結合して形成する環及びR1
〜R0にょう形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般式
〔1)におlするRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素、化香物残基の具体例
及びその置換基が挙げられる。 一般式(IIK)の中でも好ましいのは、(i)Re〜
R0の中の2つがアルキル基の場合、(ii)Re−R
I]の中の1つ例えばFitsが水素原子であって、他
の2つReとRhDが結合して根元炭素原子と共にシク
ロアルキルを形成する場合、 である。 更に(i)の中でも好ましいのは、R1〜R1lの中の
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
アルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式(1)におけるRが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。 以下余白 又、一般式〔1〕におけるZにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるZ、により形成される環が育しても
よい置換基、並びに一般式(I])〜〔)り〕における
R1゛〜R1としては下記一般式[X)で表されるもの
が好ましい。 一般式(X) −R” −S Ot−R宜 式中R工はアルキレンを、R’はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。 R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖0
分岐を問わない。またこのアルキジンは置換基を有して
もよい。 該置換基の例としては、前述の一般式〔1〕に°おける
Rがアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換
基として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。 R′で示さiするアルキレンの、好ましい具体例を以下
に示す。 R2で示されるアルキル基は直鎖9分岐を問わない。 具体的にはメチル、エチル、プロピル、jso−プロピ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−へ
キシルデシルなどが挙げられる。 RRで示されるシクロアルキル基としては5〜6員のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。 R1で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。 R2で示されるアリールとしては具体的には、フニニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したもの
が挙げられる。 また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 −8式〔1〕で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式(XI)で表されるものである。 一般式〔η〕 式中、R,Xは一般式(1)におけるR、Xと同義であ
りR1,RRは、一般式(X)におけるRI。 RRと同義である。 以下余白 −= −一() LN
()= 1Qロト 工 工 ロー crt ++I
−ひ 1”’I! (’II −リ「A CI4++7Iす L暁Ma+ CH。 (”/ −工 工 ; Q リ 寸 ? 寸
クリリー U) :l:#I 〒 V5 。 ロ − (Ow C−) L、o
C= Q 工 = QC,) ド ア (J ト″+ ゝ Co +
ゝoo QQCl:l 00 CA’ CH。 ψへ r AT CaH+y(す 125゛ CH。 (’1 【28 (”/ CHs CaHI?(す二
二 Cq − ゴ − 一 +1
()CJ C7! し4Mg CsHu(t) l CsHo(1 −N−NH 9B CH。 CI! また前記カプラーの合成はジャーナル・カブ・ザ・ケミ
カル・ソサイアティ(Jour力a1oftbeChe
mical 5ocfet)・) 、パーキン(P
erkfn)I C1977) 、 2047〜20
52、米国特許3,725,067号、特、開昭59−
99437号、特開昭58−42045号、特開昭59
−162548号、特開昭59−171956、lff
開昭1o−33552号及び特開昭60−43659号
等を参考にして合成を行った。 前記カプラーはL!常ハロゲン化#!1モル当りlXI
D−”モル乃至1モル、好ましくはlX10−’モル乃
至8XIO−’モルの範囲で用いることができる。 以下余白 カブ7−−qの化合物は、ハロ ゲン化銀写真感光材料への添加方法としてGよ、一般的
な疎水性化合物の添加方法と同様に、固体分散法、ラテ
ックス分散法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を
用いる事ができ、これG、tカプラー等の疎水性化合物
の化学構造等に応じて適宜選択することができる。水中
油滴型乳化分散法G、t 。 カプラー等の疎水性化合物を分散させる従来公知の方法
が適用でき、通常、沸点約150℃以上の高沸点有1I
Witsに、必要に応じて低沸点、及びまたは水溶性有
機溶媒を併用して溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性
バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイ
ザー、コロイドミル、フ以下余白 O−ラットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて
、乳化分散した後、目的とする親水性コロイド層中に添
加すればよい9分散液または分散と同時に低沸点有機溶
媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、環像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
150℃以上の有ms媒が用いられる。 本発明において好ましく用いることのできる高沸点有機
溶−媒としては、誘電率が6.0以下の化合物であり、
例えば、ltN率8.OJX下の7タル醒エステル、リ
ン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケトン
類、炭化水素化合物等である。 好ましくは誘電率6.0以下1.9以上で100℃にお
ける蒸気圧が0.5IIIIHg以下の高沸点有機溶媒
である。またより好ましくは、該a沸点有機溶媒中の7
タル醪エステル類あるいはリン酸エステル類である。更
に該高沸点有vIWi媒は2種以上の混合物であっても
よい。 なお、本発明における誘電率とは、30℃におけるIe
W率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式[bJで示されるものが挙げられる。 式中、R1&およびRrqは、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、R1&お
よびRrqで表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至
32である。またより好ましくは炭素原子数の総和が1
6乃至24である。 本発明において、前記一般式[bJのRI&およびRr
qで表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のものでも
よく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘアタデシル基、オクタ
デシル基等であ6. R1&J5よびR+りで表わされ
るアリール基は、例えば)ノニル基、ナフチル基等であ
り、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル
基。 オクタデセニル基等である。これらのアルキル基、アル
ケニル基およびアリール基は、単一もしくは複数のlf
置換基有していても良く、アルキル基およびアルケニル
基の置換基としては、例えばハロゲン原子、フルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、ア
ルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換
基としては1、 例えばハロゲン原子、アルキル基、ア
ルフキシ基〜アリール基、アリールオキシ基、アルケニ
ル基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができる
一本発明において有利に用いられるリン酸エステルとし
ては、下記一般式[C]で示されるものが挙げられる。 一般式[0] 。 R2゜0−P−OR,。 OR,。 式中、RIg1 s RrqおよびRzDは、それぞれ
アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。 但し、RIg 、RrqおよびR2Oで表わされる炭素
原子数の総和は24乃至54である。 一般式[C]のRag 、RrqおよびRzoで表わさ
□れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基
、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基
、テトラデシル基、′ペンタデシル基、ヘキサデシル基
、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基等で
あり、アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチ
ル基等であり、またアルケニル基としては、例えばヘキ
セニル基、ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはR79、RJ9およびR2oはアルキル基であり
、例えば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、3
,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−
デシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、t
−オクチル基等が挙げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 以下余白 例示有機溶媒 C2Hs −s 0−C*H+*(i) 0”P−0−C*H+t(i) 0−C*H+*(i) 0−CsH+*(n) 0−CtoHz+(n) S−17 S−19 これらの有機溶媒は、一般に本発明に用03カプラーに
対し、10乃至150重量%の割合で用いられる。好ま
しくはカプラーに対し20乃至100重量%である。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用い
て水中に分4敗する時の分散助剤として、アニオン性界
面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤を用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えGfカラー
ネガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙な
どに適用されるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラ
ー印画紙に適用した場合に本発明の効果が有効に発運さ
れる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳−には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀
、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン
化銀乳剤に使用される任意のものを用いる事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得られたもの
でもよい。該粒子は一時に成長させても良いし、種粒子
をつくった後、成長させても良い。種粒子をつくる方法
と成長させる方法は同じであっても、異なっても良い。 ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のD
H,D Agをコント以下余白 ロールしつつ逐次同時に添加する事により、生成させて
も良い、成長後にコンバージョン法を用いて、粒子のハ
ロゲン組成を変化させても良い。 ハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハロゲン化
銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の粒子サイ
ズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長速度をコ
ントロール出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒
子を形成する過程及び/又は成長させる過程で、カドミ
ウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩又は
錯塩、Oジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を用いて金
属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面に包
合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気におく事に
より、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感核を付与
出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後
に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、あるいは含有
させたままで良い、該塩類を除去する場合には、リサー
チ・ディスク0−ジャー17643号記載の方法に基づ
いて行う事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、内
部と表面が均一な層から成っていても良いし、興なる層
から成っていても良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、潜
像が主として表面に形成されるような粒子であっても良
く、ま″た主として粒子内部に形成されるような粒子で
も良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、規
則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板状のよう
な変則的な結晶形を持つものでも良い。これら粒子にお
いて、(100)面と(I]13面の比率(ま任意のも
のが使用出来る。又、これら結晶形の複合形を持つもの
でも良く、様々な結晶形の粒子が混合されても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上のハロゲ
ン化銀乳剤を混合して用いても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感される。即ち
、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、活性ゼラ
チンを用いる硫黄lll演法セレン化合物を用いるセレ
ン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他の
貴金属化合物を用いる薄金属増感法などを単独又は組み
合わせて用いる事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色素として
知られている色素を用いて、所望の波長域に光学的に増
感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、2種以上
を組み合わせて用いても良い。増感色素と共にそれ自身
分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光を実質的
に吸収しない化合物であって、増感色素の増感作用を強
める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。 ハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、保存中、
あるいは写真処理中のカプリの防止及び/又は写真性能
を安定に保つことを目的として、化学熟成中及び/又は
化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了後、A
Oゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカ
ブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物を加え
る事が出来る。 ハロゲン化銀乳゛剤のバインダー(又は保護コロイド)
としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以
外にゼラチンI!導体、ゼラチンと他の高分子のグラフ
トポリマー、蛋白質、I!誘導体、セルロース誘導体、
単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等の
親水性コロイドも用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子をMmさせ、m強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない紛度に、感光材料を硬膜出来
るI1m加す、る事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を
加える事も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良などを目的と
9て、水不溶又は紅溶性合成ポリマーの分散物(ラテッ
クス)を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など)の酸化体とカップ □リング反応を行
い色素を形成する、色素形成カプラーが用いられる。該
色素形成性カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の
感光スペクトル光を吸収する色素が形成されるように選
択されるのが普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエ
ロー色素形成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼ
ンタ色素形成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシア
ン色素形成カプラーが用いられる。しかしながら目的に
応じて上記組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀
写真感光材料をつくっても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び/又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
/又1j乳剤翳中にG1、現像処理中にカラー感光材料
より流出する力1、もしくは漂白される染料が含有させ
られても良しA。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び/
又゛は他の親水性フロイド層には、塗布性改良、帯電防
止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現像促進
、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤L−下全
余 白、その他の層が・塗布される支持体としてはバライタ
層又はα−オレフレインボリマー等をラミネート、した
紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢酸セルロース、硝
酸セルロース、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネイト、ポリアミド
等の半合成又は合成高分子からなるフィルムや、ガラス
、金属、陶器などの剛体等である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性及び/又はその他の特性を向上するための)1また
は2以上の下塗層を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い、塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュfi、Fa極極
線スフライングスポット各稜レーザー光、発光ダイオー
ド光、電子線、X線、γ線、α線などによって励起され
た蛍光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用
いることが出来る。 露光Rffilは通常カメラで用いられる1ミリ秒から
1秒の露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例
まば陰極mwやキセノン閃光灯を用いて、100マイク
ロ秒〜1マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1
秒以上より長い露光も可能である。該露光は連続的に行
なわれても、間欠時に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事によりカラー画像を形成することが出
来る。 本発明において・発色現像液に使用される芳香族第1級
アミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。 これらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態より安定のため一般に塩の形、倒えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液I]について約0.1Q〜約309の濃度
、 ′好ましくは発色現像液I]1について約1g〜約
15gの濃度で使用する。 本発明において使用される発色現像液には、前記第1級
芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現像液に
通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ剤、
アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金j!1亜硫!l塩、
アルカリ金属チオシアン′M塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジ以下余白 ルアルコール、水、軟化剤及び濃厚化剤などを任意に含
有せしめることもできる。この発色現像液のpH値は、
通常7以上であり、最も一般的には約10〜約13であ
る。 本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属n塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有mvaで鉄、コ
バルト、銅等の金属イオンを配位したものである。この
ような有IIlの金属錯塩を形成するために用いられる
最も好ましい有IIMとしては、ポリカルボン酸または
アミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカル
ボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、
アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい
。 これらの具体的“代表例としては、次のものを挙げるこ
とができる。 [1]エチレンジアミンテトラ酢酸 [2]ニトリロトリ酢酸 [3]イミノジ酢酸 [4]エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 [5]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 〔71ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有SUaの金属錯塩を
漂白剤として含有すると共に、穫々の添加剤を含むこと
ができる。添加剤としては、特にアルカリハライドまた
はアンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。 また硼MMiJ、蓚酸塩、酢H塩、炭酸塩、燐wI塩等
のpHII剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサ
イド類等の通常漂白液に添加することが知られているも
のを適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜i1Mカリウム、I亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等
の亜硫ll塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、
酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から
成るOH緩暫剤を単独或いは2種以上含むことができる
。 漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明のハロゲン化銀写真感光材料の処理を行なう場合、該
漂白定着液(浴)にチオ硫M塩、チオシアン酸塩又は亜
硫酸塩等を含有せしめてもよいし、該漂白定着補充液に
これらのS類を含有せしめて処理浴に補充してもよい。 漂白定着液の活・性度を高める為に漂白定着浴中及び漂
白定着補充液の貯蔵タンク内で所望により空気の吹き込
み、又は酸素の吹き込みをおこなってもよ(、或いは適
当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素酸塩、過硫酸塩等
を適宜添加してもよい。 以下余白 以下に具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明
するが本発明はこれに限定されるものではない。 〔実施例1」 表1に示した層構成にて以下に詳述するポリエヂレン被
覆組を用いて多層ハロゲン化銀カラー写真感光材料を作
成した。 以下余白 ここで用いたAs−1および08−1は下記に示す構造
の化合物である。 スティン防止剤AS−1 退色防止剤DS−1 以上の如く作成した試料を試料1とする。次に、試料1
において第6層中の紫外線吸収剤、第7層へのマット剤
の添加、イエ0−、マゼンタおよびシアンカプラーおよ
び第1層への一般式[A]で示される化合物の添加を表
2に示した如く変更して試料2乃至29を作成した。 得られた試料1乃至29について以下の処理を施した。 これらの試n1乃至29に感光針(小西六写真工業株式
会社製KS−7型)を用いて緑色光により光楔露光を行
なった後、以下の処理を施した。 基準処理工程(処理温度と処理時間) 「1」発色現像 38℃ 3分30秒[2]漂白
定着 33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25
〜30℃ 3分 [41乾 燥 75〜80℃ 約2分処理液組成 (発色現像液) ベンジルアルコール 15IIIIlエ
チレングリコール 15 ll1fl亜
硫酸カリ°ウム 2.0g臭化カ
リウム 0.7g塩化ナトリウ
ム 0.2 a炭酸カリウム
30.00ヒドロキシルアミン硫酸塩
3.00ポリリン酸(TPPS)
2.5173−メチル−4−アミノ−N− エチル−N−(β−メタンスルホン アミドエチル)−アニリン硫酸塩 5.5g蛍光増白
剤(4,4’ −ジアミノ スチルベンズスルホンMtR導体) i、og水
酸化カリウム 2.OQ水を加え
て全量を12とし、I)Hlo、201.:’;E1m
する。 (漂白定着液) エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 6ogエチレン
ジアミンテトラ酢M 3Clヂオ硫酸アンモ
ニウム(70%溶液> 100mff1亜硫酸アンモ
ニウム(40%溶液) 27.5 ml炭酸カリウム
または氷酢酸でDH7,1に!I整し水を加えて全日を
12とする。 処理後に得られたニュートラル(中性灰色)の試料につ
いて明退色性を下記方法にて試験した。 C明退色性試験〕 キセノンフェードメーター(10万ルクス、40℃40
%RH) ヲ用イT: 100R1ctj ヨU 20
0時間にわたって照射した。耐光性評価尺度として、C
I E1976(L” a享り’ ) 色空fJIC
J:8色差に △Eabで表示した。測定は直読式測色計(スガ試験機
製カラーコンピューター5M−3−CH)を用いて行な
った。 ゛ (2)表面状態観察 (1)において200FRWJ照射後の試料について、
特に発色部について物性面から肉眼にて観察評価した。 ヘイズまたはくもり具合については下記の評価基準を用
いてランク付けした。 ランク 状 態 ○ 照射前と殆ど同一。 Δ 若干不透明感がある。 × 肉眼にて明らかに白いもやがみえる。 ×× 更にかすんで来て表面光沢に異常発生。 (3)紫外線吸収剤乳化分散物安定性試験本発明に係る
乳化分散物は、下記の手順で作成した。 <a )表2に示す組成の紫外線吸収剤10Qジノニル
フタレート10gおよび酢酸エチル20gを混合し、約
60℃に加熱して溶解する。 (b)写真用ゼラチン15Q、純水200i12を空温
にて混合し、20分間膨潤させる。 次に約60℃に加熱し溶解させた後にアルカノールB(
デュポン社製)の5%水溶液を20I]添加し、均一に
撹拌する。 (C)(a)#よび(b)にて得られた各溶液を混合し
、超音波分散機にて20分子1分散し、乳化分散液を術
だ。これを300 、flに純水にて仕上げた。 得られた乳化分散物に栓をして、40℃36時間保温放
置を施し、放置前後の濁度上昇Δ丁を調べた。 ここで「濁度」とは分散粒子の粒径と相関を示す数値で
あり、同一条件下では値が小さい程粒径が小さい、すな
わち、4丁が小さい程分散粒子の粗大化が起きておらず
安定であることを示す。濁度の測定はボイック積分球式
濁度計(日本蹟密光学株式会社製、型式5EP−PT−
5010)を用いて行なった。 (1)乃至(3)にて(1られた結果を表2に示す。 注)1 表2中のマット剤の内容を以下に示す。 略 号 開方r 平均粒径(μm
) 塗布tka/vMAT−1シリカ
3.0 0.003MAT−2ポリメ
チルメタクリレート 0.5 #MA
T−3シリカ 6.03
#MAT−4ポリスチレン
1.5#以下余白 注)2 第1層に添加した一般式[Alで示される化合物の添加
量はイエローカプラーに対して30重量%とじた。 注)3 第6I]中に添加した紫外線吸収剤の総量は0.3Q
/fであり、2種以上含有させた時の比率は重量比であ
る。 表2の結果より第61Jに用いた紫外線吸収剤が1種の
みの単独使用である試料1および3について本発明に係
る平均粒径7〜10μ■の微粒子粉末を第7Mに添加し
てもヘイズの改良効果は殆どみられない。紫外線吸収剤
を2種以上併用した試料7,12および14においては
、試料1乃至4より改良されているが十分ではない。し
かし、これら試料にマット剤を使用した試料8乃至I]
.13および15においては視感では認知できないレベ
ルにまで向上しており、その改良効果の大きさは相乗的
であり、艮くべきことであった。又、前記紫外線吸収剤
とマット剤とを最外層に添加した試料5においても改良
効果は殆ど現われていない。 更に明退色性試験の結果より、試料7乃至15について
は試料1乃至6に比較してニュートラル(中性灰色)か
らのカラーバランスのずれが抑制されていることがわか
る。 上記の2試験より試料8乃至I].13および15につ
いては保存における色素画像および膜物性の両面におい
て卓越した感光材料であることがわかる。 一方、前記の如き紫外線吸・成剤を混合使用した試料1
6において塗布前に調製された紫外線吸収剤の乳化分散
°物の安定性もがなり良好なレベルであるが十分とはい
えない。これに対して一般式[UV−1]におけるR1
とR2に含まれる炭素数が8であるLIV−68の比率
を徐々に増加した。 試料18.20,22および24について、改良されて
おり、特に試料22および24の分散物の安定性は著し
く高いものである。しかし、明退色性において特に後期
での色差が試F17等に比べ劣るという欠点が存在する
。この欠点に対し、前記の如く、一般式[A]で示され
る化合物をイエローカプラー含有層に添加した場合に改
良効果を示していることが明らかであろう。更にこの効
果は特に試料22.24.26.28の如き常温にて固
体状の紫外線吸収剤のうち、前記一般式[UV−I]に
おけるR1とR2に含まれる炭素数が8以上の紫外線吸
収剤の比率が高い試料について特に絶大であった。かく
して分散物の安定性と明退色性が著しく改良された試料
を得た。 [実施例2] 実施例1における試料7に対して、第7Hに添加したマ
ット剤の量を表3の如く変更した以外は試料7と同一の
試料30乃至32を、又試料29に対して、一般式[A
]で示される化合物の種類および添加層を表3の如く変
更した以外は試料29と同一の試料33乃至37を夫々
作成した。 以下合力 表3の結果より、まずマット剤の添加量を試料7に比較
して夫々1/10.5.25倍した試料30乃至32の
ヘイズの結果よりマット剤の添加量は0,0003L’
i”では少なすぎて、0.075Ω/ itでは多す
ぎてその効果が比較的小さくなる。 更に試料33乃至37の明退色性より、一般式rA]で
示される化合物は少なくともイエローカプラー含有層に
添加することが必須であることが明らかであろう。
芋丑lこ劣“()″′2′、輩゛°上79と素IV象形
波゛カフ°ラーどL71;t−λ−”l M武’D)
t・、)v’CI)z”;n亡失3 @7’ニア−e’
IJ−ま乙く用t1a″:−ヒか’T’?J。 【式中、Arはアリール基を表わし、R/ は水素原
子又はm換器を表わし、RλはW!置換基表わす。Yは
水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によりM
脱しうる置換基を、Wは−NH−1−NHCO−(Nl
ffi子はビラゾロン核の炭素原子に結合)または−N
HCONH−を表わし、m1ユ1または2の整数である
。) 以下余白 一般式〔1] ア [式中2は含窒素複素環を形成するに必要な非。 金属原子群を表し、該2により形成される環は置換基を
有してもよい、Xは水素原子または発色現像主薬の酸化
体との反応により離脱しうる置換基を表す、またRは水
素原子または置換基な表す、1以下余白 次に前記一般式[a]で表わされるカプラーについて詳
述する。 Arで表わされるアリール墨としてはフェニル基および
ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基であり
、特に好ましくはH換されたフェニル基である。 この置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルフギシカルボ
ニル基、シアノ基、カルバモイル暴、スルファモイル器
、スルホニル基、スルホンアミド器、アシルアミノaS
であり、Arであられされるフェニル基に2個以上の置
換基を有してもよい。 以下に置換基の具体的な例を挙げる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フッ素 アルキル基:メチル基、エチル基、1so−プロピル基
、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基等であるが
特に炭素原子徐1〜5のアルキルUが好ましい。 アルコキシ基:メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
5eC−7トキシ基、1so−ペンチルオキシ1s@で
あるが、特に炭素原子数1〜5のアルコキシ基が好まし
い。 アリールオキシ昌:フエノキシ基、β−ナフトキ゛シm
等であるが、このアリール部分には更にArで示される
フェニル基に蓼ばているとJBJ様なrlt検基を有し
てもよい。 アルコキシカルボニルIk=上述したアルコキシ基の付
いlcカルボニル塁であり、メトキシカルボニル墨、ペ
ンチルオキシカルボニルMI!のフルキル部分の炭素原
子数が1〜5のものが好ましい。 カルバモイル ルフモイル基等のフルキルカルバモイル基スルファモイ
ルN:スルフ7モイル基、メチルスルファモイル基、ジ
メチルスルファモイル基、エチルスルファモイルM等の
アルキルスルファモイル基 スルホニル蟇:メタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ブタンスルホニルB@アルキルスルホニル基 スルホンアミド基:メタンスルホンアミド基、トルエン
スルホンアミド基等のフルキルスルホンアミド アシルアミノ基:アシルアミノしピノ〜ロイルアミノU
,ベンズアミド昌等 特に好ましくはハロゲン原子であり、その中でも塩素が
最も好ましい。 Rjで表わされるIt置換基ハロゲン原子、アル・キル
基、アルコキシ基等である。 具体的な倒を以下に挙げる。 ハロゲン原子:i!素、臭素、フッ素 アルコキシ!!:メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基
、sec−ブトキシ基、iso−ペンチル−オキ2M等
の炭素原子数が1〜5のアルコキシ基が好ましい。 アルキル基:メチル基、エチル1,+soープロピル器
、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル基等の炭素原
子数が1〜5のアルキル基が好ましい。 特に好ましくはハロゲン原子であり、中でも塩素が好ま
しい。 R2−で表わされる[&基はハロゲン原子、アルキル基
、アミド基、イミド基、N−アルキルカルバモイル ル゛コキシカルボニル基、アシルオキシ≦、スルホンア
ミド基、またはウレタンM尋である.これらの基のうち
アミド基(例えば、テトラデカンアミド基、3−1−ブ
チル−4−ヒトOキシフェノキシテトラデカンアミド蟇
等)、イミド基(例えはドデシルスルホンアミド基、オ
クタデセニルスクシンイミド基等)およびスルホンアミ
ド基(例えばブチルスルη1ンアミド基、ドデシルスル
ホンアミド基等)を好ましく用いることができる。 Wは一NH−、−NHCO− (窒素原子はピラゾロン
核の炭素原子に結合)威たは一NHCONH−のいずれ
でもよいが、Wは一NH−を特に好ましく用いることが
できる。 YT″表わされる芳香族fI!41級アミン系発色堤像
生薬の酸化体とカップリング反応によりmlしうるl換
器としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アシルオキシ基、ア= / +− %、 (Z2は窯素原子と共にr!i素原子、酸素原子、窯素
原子、イオウ原子の中から選ばれた原子と5ないし6員
環を形成するに投する原子群を表ね7F.)等が挙げら
れる。 以下に具体的な例をtげる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フッ素 アルコキシ墨:エトキシ昌、ペンシルオキシ基、メトキ
シ1チルカルバモイルメトキシ デシルカルバモイルメトキシM% アリールオキシミニフェノキシ基、4−メ1ーキシフェ
ノキシ昌、4−ニドaフェノキシM@アシルオキシIk
:アセトキシ基、ミリストイルオキシ器、ベンゾイルオ
キシ基等 アリールチオ基:フェニルチオ基、2−ブトキシ−5−
オクチルフェニルチオ基、2.5−ジヘキシルオキシフ
ェニルチオ墨客 アルキルチオa:メチルチオ基、オクチルチオ基、ヘキ
サデシルチオ基、ベンジルチオ基、2−(ジエチルアミ
ノ)エチルチオ基、エトキシカルボニルメチルチオ基、
エトキシエチルチオ基、フドリアゾリル囚、テトラゾリ
ルj1等 次に前記一般式[a Jで表わされるマゼンタカプラー
の具体的代表例を挙げるが、本発明がこれらに限定され
るものではない。 以下余白 !−4CJ!。 a −7CZ a−1o C1 a−18ct α a −22ct & −24Ct Ct a−28 a−35ct t CL t a −49004&(n) CHs これらは、例えば米FiJ特許第2,600,788@
、同$ 3,061,432号、同第3,062,65
3@、同第3.127゜269号、同第 3,3I],
476号、同第 3.152.896号、同第3.4t
9,391号、同第3,519.42SJ@、同第3.
555.318号、同第 3,684,514号、同第
3,888,680号、同第3,907.571!、
同第3.928,044号、同第3.930461号、
同第3,930,866号、同第3,933,500号
等の明FI!目、特開昭49−29639号、同49−
I]1631号、同49−129538@、同50−1
3041号、同!12−58922号、同55−624
544、N 55−I]8034号、(oJ5G−38
043号、同57−35858号、同60−23855
号の各公報、実印特許$ 1,247,493号、ベル
ギー特許@ 769,I]6号、同第792,525号
、***特許2,156,I]1号の各明【L特公昭46
−60479号公報等に記載されている。 以下余白 本発明に係る前記一般式(1) 一般式〔1〕 ! で表されるマゼンタカプラーに於いて、2は含窪素複素
環を形成するz二必要な非金属原子群を表し、該Zによ
り形成される環は置換基を有してもよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。 前記Rの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、1f@炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミへLアリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基2、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜32のも
の、アルケニル基、アをキニル基としては炭素数2〜3
2のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数3〜12、特に5〜7のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニル基如く゛カルボニル基を介して置換するもの、更
にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒド
ロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環・オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介して置換するもの′、ニトロ、アミノ(ジ
アルキルアミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、ア
ルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニル
アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレ
イド等の厘素原子を介して置換するもの、アルキルチオ
、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィ
ニル、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するも
の、ホスホニル等のj[子を介して置換するもの等)〕
を有していてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.l・−ジベンチルノニル基、
2−クロル−!−ブチル基、トリフルオロメチル基、l
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2.4−ジ−t−アミル
フェノキシメチル基、アニリノ基、l−フェニルイソプ
ロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、3−4・−(α−〔4・・(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル)フェノキシスドデカノイルアミノ
)フェニルプロピル基、3−(4・−〔α−(2−,4
−I−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド〕フェ
ニル)−プロピル基、4−〔α−(O−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシ〕プロピル基、アリ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 Rで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(伺えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等)を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、4−1−ブチルフェニル基、
2.4−ジー1−アミルフェニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4・
−〔α−(4・・−1−ブチルフェノキシ)テトラデカ
ンアミドフェニル基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環基としては5〜7貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。 具体的には2−フリル基、2−チェニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 Rで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−ジー
1−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシ・ルオキシベン
ゾイル基、p−クロルベンゾイル基等のアリールカルボ
ニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−)ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、動−ベンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。 “Rで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホ
スホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。 Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N−エチルーN−ドデシルカルバモ
イル基、N−(3−’(2,4−ジー1−アミルフェノ
キシ)プロピル】カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Rで表されるスルファモイル基はアルキル基、ア゛リー
ル基(好ましくはフェニル基)肴が置換していてもよく
、例えばN−プロピルスルファモイル基、N、N−ジエ
チルスルファモイル基、N−(2−ペンタデシルオキシ
エチル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシル
スルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基等が
挙げられる。 Rで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]へブタン−1−イル等が挙げられる。 Rで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ−[2,2,1コヘブタン−1−イル、トリシクロ[
3,3,1,1”°7]デカンー1−イル、7.7−シ
メチルービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等
が“・挙げられる。 Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2 ′−ドデシルオキシ
エトキシ基、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられ
る。 Rで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、烏
−ペンタデンルフェノキシ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7員のへテ
ロ環を有するものが好ましく該へテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テトラヒ
ドロビラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾー
ル−5−オキシ基が挙げられる。 Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。・ Rで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。 Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチルカ
ルバモイルオキシ基、N、N−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。 Rで表されるアミノ基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、m −クロルアニリノ基
、3−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、2−
クロル−5−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。 R″′Q表されるアシルアミノ基としては、アルキルカ
ルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基(好ま
しくはフェニルカルボニルアミノ基)等が挙げられ、更
に置換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α
−エチルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド
基、ドデカンアミFM、2.4−ジー1−アミルフェノ
キシアセトアミド基、σ−3−t−ブチル4−ヒドロキ
シフェノキシブタンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるスルホンアミド基としては、アル十ルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更−に置換基を有・してもよい。 具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、p−)
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−1−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘプタデシルコノ1り酸イミド基、フ
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。。 Rで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基(
好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよく
、例えばN−エチルウレイド基、N−メチル−N−デシ
ルウレイド基、N−フェニルウレイド基1.N−p−)
リルウレイド基等が挙げられる。 Rで表されるスルフ7モイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、N−メチルスルファモイルアミノ基、N−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。 Rで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。。 Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を存
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。 Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシガルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Rで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、伺えばフェニルチオ基、
p−メトキシフェニルチオ基、2−1−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カル
ボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−ジフェ、ツキ
シー1.3.5−トリアゾール−6−チオ基が挙げられ
る。 −Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱し
うる置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、
臭素原子、フッソ原子等)の低炭素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R1・は前記Rと同義であり、2・は前記2と同義で
あり%Rt・及びR3・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。 酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、ス゛ルホニルオキシ基、アルジキシカルボニルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル
オキサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が
挙げられる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。 該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、具
体的にはフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−〔α−(3・−ペンタデシルフェノキシ
)ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シアノフェノキシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、p−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。 該へテロ環オキシ基としては、sニーrBのへテロ環オ
キシ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を
育してい、でもよい。具体的には、1−フェニルテトラ
ゾリルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙
げられる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルケルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如・きアリールカルボニルオキシ
基が挙げられる。 該スルホ、ニルオキシ基としては、例えばブタンスルホ
ニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる
。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、伺えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ペンビルチオ基等が
挙げられる。 該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシルフェネチ
ルチオ基、4−ノナフルオロペンクンアミドフェネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5−1−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−フェニル−1,
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。 該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 えば一般式−N ゛で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、R4・とRs・は
結合してペテロ環を形成してもよい。但しR4・とR,
・が共に水素原子であることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては何えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルフ1モイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。 該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。 R4・又はRs・で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R4・又はRs・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、1−ナフチル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。 R,J又はR1・で表されるヘテvyHI基としては5
〜6員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換
基を有してもよい、具体例としては、2−フリル基、2
−キノリル基、2−ピリミジル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、2−ピリジル基等が挙げられる。 R4・又はRs’で表されるスルファモイル基としては
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N
、N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N
−ドデシ、ルスルフ1モイル基、N−p−)リル
□−: スルファモイル基が挙げられる。
1□ R4・又はR1・で表されるカルバモイル基としては、
N−アルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前 。 記アルキル基及びアリール基について挙げた置換基を有
していてもよい。カルバモイル基の具体例としでは例え
ばN、N−ジエチルカルバモイル基、N−メチルカルバ
モイル基、N−ドデシルカルバモイル基、N−p−シア
ノフェニルカルバモイル基、N−p−)リルカルバモイ
ル基が挙げられる。 R4・又はR1・で表されるアシル基としては、例え°
ばアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテ
ロ環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリー
ル基、該ヘテロ環基は置換基を育していてもよい。アシ
ル基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオ
ロブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペン゛タフルオ
ロベンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニ
ル基、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。 fl 、z又はR1・で表されるスルホニル基としては
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテ
ロ環スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、
具体的な゛ものとしては例えばエタンスルホニル基、ベ
ンゼンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレ
ンスルホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が
挙げられる。 R4・又はR1・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基lニついて挙げたものを置換基と
して有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基
等が挙げられる。 R4・又はR,・で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。 R4・及びR,・が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
1、又、芳香族性を有していても、いなくてもよくψ又
、縮合環でもよい、該ヘテロ環としては例えばN−フタ
ルイミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリ
ル基、1−N−ヒダンEイニル基、3−N−2,4−ジ
オキソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキソ
−3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基
、l−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラゾリ
ル基、】−ピラゾリジニル基、1−ピペリジニル基、l
−ピロリニル基、1−イミダゾリル基、1−イミダゾリ
ニル基、1−インドリル基、!−イソインドリニル基、
2−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−
ベンゾトリアゾリル基、1、−ベンゾイミダゾリル基、
I−(1,2,4−)リアゾリル)基、]−(1,2,
3−)リアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラ
ゾリル)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テ
トラヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル
基、2−IH−ピリドン基、ブタラジオン基、2−オキ
ソ−1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環
基はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリ
ールオキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンア
ミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等に
より置換されていてもよい。 またZ又はZ・7二より形成される含窟素vl素環とし
ては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環
またはテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有しても
よい置換基としては前記Rに9いて述べたものが挙げら
れる。 又、一般式〔1〕及び後述の一般式(II)〜【■〕に
於ける複素環上の置換基(例えば%IR1〜R1)が ! 部分(ここにRI・、X及びZI・は一般式〔1〕にお
けるR、X、’Zと同義である。)を有する場合、所謂
ビス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される
。又、2.2・、2・・及び後述のZsにより形成され
る環は、更に他の!(例えば5〜7貝のシクロアルケン
)が縮合していてもよい。例えば一般式(V〕において
はR1とR6が、一般式(■)においてはR7とR1と
か、互いに結合して環(例えば5〜7員のシクロアルケ
ン、ベンゼン)を形成してもよい。 以下余白 一般式〔1〕で表されるものは更に具体的には何えば下
記一般式(It)〜C■〕2二より表される。 一般式(It) 一般式CIII) N N −I] 一般式(R’) IN□龍 一般式(V) 一般式(Vl) H−に□龍 一般式〔■〕 NN 前記一般式(n)〜〔■〕に於いてR1−R1及びXは
前記R及びXと同義である。 又、一般式(1)の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。 一般式〔■〕 式中R,x及び2.は一般式【1〕におけるRlX及び
Zと同義である。 前記一般式(It)〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式(II)で表され
るマゼンタカプラーである。 又、一般式〔1〕〜【■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式〔1〕においてはRが、また一般
式(n)〜〔■〕においてはR1が下記条件lを満足す
る場合が好ましく更に好ましいのは下記条件l及び2を
満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件1.2
及び3を満足する場合である。 条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。 条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基R及びR3として最も好ましいの
は、下記一般式(IX)により表されるものである。 一般式(IX) ス■ Rjo−C− Mg 式中R*、Rs。及びRflはそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アル、ケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基
、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イ
ミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環
チオ基を表し、Rs。 RIo及びRI]の少なくとも2つは水素原子、ではな
い。 又、前記R# 、 R、e及びRtsの中の2つ例えば
R・とRloは結合して飽和又は不飽和の環(例えばシ
クロアルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成して
もよく、更に該環にRjlが結合して有橋炭化水素化合
物残基を構成してもよい。 R,〜RIIにより表される基は置換基を有してもよく
、R1〜R1mにより表される基の具体例及び骸晶が有
してもよい置換基としては、前述の一般式〔1〕におけ
るRが表す基の具体例及び置換基が誉げられる。 又、例えばR1とR3゜が結合して形成する環及びR1
〜R0にょう形成される有橋炭化水素化合物残基の具体
例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般式
〔1)におlするRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素、化香物残基の具体例
及びその置換基が挙げられる。 一般式(IIK)の中でも好ましいのは、(i)Re〜
R0の中の2つがアルキル基の場合、(ii)Re−R
I]の中の1つ例えばFitsが水素原子であって、他
の2つReとRhDが結合して根元炭素原子と共にシク
ロアルキルを形成する場合、 である。 更に(i)の中でも好ましいのは、R1〜R1lの中の
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
アルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式(1)におけるRが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。 以下余白 又、一般式〔1〕におけるZにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるZ、により形成される環が育しても
よい置換基、並びに一般式(I])〜〔)り〕における
R1゛〜R1としては下記一般式[X)で表されるもの
が好ましい。 一般式(X) −R” −S Ot−R宜 式中R工はアルキレンを、R’はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。 R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖0
分岐を問わない。またこのアルキジンは置換基を有して
もよい。 該置換基の例としては、前述の一般式〔1〕に°おける
Rがアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換
基として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。 R′で示さiするアルキレンの、好ましい具体例を以下
に示す。 R2で示されるアルキル基は直鎖9分岐を問わない。 具体的にはメチル、エチル、プロピル、jso−プロピ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−へ
キシルデシルなどが挙げられる。 RRで示されるシクロアルキル基としては5〜6員のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。 R1で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。 R2で示されるアリールとしては具体的には、フニニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したもの
が挙げられる。 また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 −8式〔1〕で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式(XI)で表されるものである。 一般式〔η〕 式中、R,Xは一般式(1)におけるR、Xと同義であ
りR1,RRは、一般式(X)におけるRI。 RRと同義である。 以下余白 −= −一() LN
()= 1Qロト 工 工 ロー crt ++I
−ひ 1”’I! (’II −リ「A CI4++7Iす L暁Ma+ CH。 (”/ −工 工 ; Q リ 寸 ? 寸
クリリー U) :l:#I 〒 V5 。 ロ − (Ow C−) L、o
C= Q 工 = QC,) ド ア (J ト″+ ゝ Co +
ゝoo QQCl:l 00 CA’ CH。 ψへ r AT CaH+y(す 125゛ CH。 (’1 【28 (”/ CHs CaHI?(す二
二 Cq − ゴ − 一 +1
()CJ C7! し4Mg CsHu(t) l CsHo(1 −N−NH 9B CH。 CI! また前記カプラーの合成はジャーナル・カブ・ザ・ケミ
カル・ソサイアティ(Jour力a1oftbeChe
mical 5ocfet)・) 、パーキン(P
erkfn)I C1977) 、 2047〜20
52、米国特許3,725,067号、特、開昭59−
99437号、特開昭58−42045号、特開昭59
−162548号、特開昭59−171956、lff
開昭1o−33552号及び特開昭60−43659号
等を参考にして合成を行った。 前記カプラーはL!常ハロゲン化#!1モル当りlXI
D−”モル乃至1モル、好ましくはlX10−’モル乃
至8XIO−’モルの範囲で用いることができる。 以下余白 カブ7−−qの化合物は、ハロ ゲン化銀写真感光材料への添加方法としてGよ、一般的
な疎水性化合物の添加方法と同様に、固体分散法、ラテ
ックス分散法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を
用いる事ができ、これG、tカプラー等の疎水性化合物
の化学構造等に応じて適宜選択することができる。水中
油滴型乳化分散法G、t 。 カプラー等の疎水性化合物を分散させる従来公知の方法
が適用でき、通常、沸点約150℃以上の高沸点有1I
Witsに、必要に応じて低沸点、及びまたは水溶性有
機溶媒を併用して溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性
バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイ
ザー、コロイドミル、フ以下余白 O−ラットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて
、乳化分散した後、目的とする親水性コロイド層中に添
加すればよい9分散液または分散と同時に低沸点有機溶
媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、環像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
150℃以上の有ms媒が用いられる。 本発明において好ましく用いることのできる高沸点有機
溶−媒としては、誘電率が6.0以下の化合物であり、
例えば、ltN率8.OJX下の7タル醒エステル、リ
ン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケトン
類、炭化水素化合物等である。 好ましくは誘電率6.0以下1.9以上で100℃にお
ける蒸気圧が0.5IIIIHg以下の高沸点有機溶媒
である。またより好ましくは、該a沸点有機溶媒中の7
タル醪エステル類あるいはリン酸エステル類である。更
に該高沸点有vIWi媒は2種以上の混合物であっても
よい。 なお、本発明における誘電率とは、30℃におけるIe
W率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式[bJで示されるものが挙げられる。 式中、R1&およびRrqは、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、R1&お
よびRrqで表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至
32である。またより好ましくは炭素原子数の総和が1
6乃至24である。 本発明において、前記一般式[bJのRI&およびRr
qで表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のものでも
よく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘアタデシル基、オクタ
デシル基等であ6. R1&J5よびR+りで表わされ
るアリール基は、例えば)ノニル基、ナフチル基等であ
り、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル
基。 オクタデセニル基等である。これらのアルキル基、アル
ケニル基およびアリール基は、単一もしくは複数のlf
置換基有していても良く、アルキル基およびアルケニル
基の置換基としては、例えばハロゲン原子、フルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、ア
ルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換
基としては1、 例えばハロゲン原子、アルキル基、ア
ルフキシ基〜アリール基、アリールオキシ基、アルケニ
ル基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができる
一本発明において有利に用いられるリン酸エステルとし
ては、下記一般式[C]で示されるものが挙げられる。 一般式[0] 。 R2゜0−P−OR,。 OR,。 式中、RIg1 s RrqおよびRzDは、それぞれ
アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。 但し、RIg 、RrqおよびR2Oで表わされる炭素
原子数の総和は24乃至54である。 一般式[C]のRag 、RrqおよびRzoで表わさ
□れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基
、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基
、テトラデシル基、′ペンタデシル基、ヘキサデシル基
、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基等で
あり、アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチ
ル基等であり、またアルケニル基としては、例えばヘキ
セニル基、ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはR79、RJ9およびR2oはアルキル基であり
、例えば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、3
,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−
デシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、t
−オクチル基等が挙げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 以下余白 例示有機溶媒 C2Hs −s 0−C*H+*(i) 0”P−0−C*H+t(i) 0−C*H+*(i) 0−CsH+*(n) 0−CtoHz+(n) S−17 S−19 これらの有機溶媒は、一般に本発明に用03カプラーに
対し、10乃至150重量%の割合で用いられる。好ま
しくはカプラーに対し20乃至100重量%である。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用い
て水中に分4敗する時の分散助剤として、アニオン性界
面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤を用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えGfカラー
ネガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙な
どに適用されるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラ
ー印画紙に適用した場合に本発明の効果が有効に発運さ
れる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳−には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀
、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン
化銀乳剤に使用される任意のものを用いる事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得られたもの
でもよい。該粒子は一時に成長させても良いし、種粒子
をつくった後、成長させても良い。種粒子をつくる方法
と成長させる方法は同じであっても、異なっても良い。 ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のD
H,D Agをコント以下余白 ロールしつつ逐次同時に添加する事により、生成させて
も良い、成長後にコンバージョン法を用いて、粒子のハ
ロゲン組成を変化させても良い。 ハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハロゲン化
銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の粒子サイ
ズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長速度をコ
ントロール出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒
子を形成する過程及び/又は成長させる過程で、カドミ
ウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩又は
錯塩、Oジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を用いて金
属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子表面に包
合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気におく事に
より、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感核を付与
出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後
に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、あるいは含有
させたままで良い、該塩類を除去する場合には、リサー
チ・ディスク0−ジャー17643号記載の方法に基づ
いて行う事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、内
部と表面が均一な層から成っていても良いし、興なる層
から成っていても良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、潜
像が主として表面に形成されるような粒子であっても良
く、ま″た主として粒子内部に形成されるような粒子で
も良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、規
則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板状のよう
な変則的な結晶形を持つものでも良い。これら粒子にお
いて、(100)面と(I]13面の比率(ま任意のも
のが使用出来る。又、これら結晶形の複合形を持つもの
でも良く、様々な結晶形の粒子が混合されても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上のハロゲ
ン化銀乳剤を混合して用いても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感される。即ち
、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、活性ゼラ
チンを用いる硫黄lll演法セレン化合物を用いるセレ
ン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他の
貴金属化合物を用いる薄金属増感法などを単独又は組み
合わせて用いる事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色素として
知られている色素を用いて、所望の波長域に光学的に増
感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、2種以上
を組み合わせて用いても良い。増感色素と共にそれ自身
分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光を実質的
に吸収しない化合物であって、増感色素の増感作用を強
める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。 ハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、保存中、
あるいは写真処理中のカプリの防止及び/又は写真性能
を安定に保つことを目的として、化学熟成中及び/又は
化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了後、A
Oゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカ
ブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物を加え
る事が出来る。 ハロゲン化銀乳゛剤のバインダー(又は保護コロイド)
としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以
外にゼラチンI!導体、ゼラチンと他の高分子のグラフ
トポリマー、蛋白質、I!誘導体、セルロース誘導体、
単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等の
親水性コロイドも用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子をMmさせ、m強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない紛度に、感光材料を硬膜出来
るI1m加す、る事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を
加える事も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良などを目的と
9て、水不溶又は紅溶性合成ポリマーの分散物(ラテッ
クス)を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など)の酸化体とカップ □リング反応を行
い色素を形成する、色素形成カプラーが用いられる。該
色素形成性カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の
感光スペクトル光を吸収する色素が形成されるように選
択されるのが普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエ
ロー色素形成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼ
ンタ色素形成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシア
ン色素形成カプラーが用いられる。しかしながら目的に
応じて上記組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀
写真感光材料をつくっても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び/又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
/又1j乳剤翳中にG1、現像処理中にカラー感光材料
より流出する力1、もしくは漂白される染料が含有させ
られても良しA。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び/
又゛は他の親水性フロイド層には、塗布性改良、帯電防
止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現像促進
、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤L−下全
余 白、その他の層が・塗布される支持体としてはバライタ
層又はα−オレフレインボリマー等をラミネート、した
紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢酸セルロース、硝
酸セルロース、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネイト、ポリアミド
等の半合成又は合成高分子からなるフィルムや、ガラス
、金属、陶器などの剛体等である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性及び/又はその他の特性を向上するための)1また
は2以上の下塗層を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い、塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュfi、Fa極極
線スフライングスポット各稜レーザー光、発光ダイオー
ド光、電子線、X線、γ線、α線などによって励起され
た蛍光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用
いることが出来る。 露光Rffilは通常カメラで用いられる1ミリ秒から
1秒の露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例
まば陰極mwやキセノン閃光灯を用いて、100マイク
ロ秒〜1マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1
秒以上より長い露光も可能である。該露光は連続的に行
なわれても、間欠時に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事によりカラー画像を形成することが出
来る。 本発明において・発色現像液に使用される芳香族第1級
アミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。 これらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態より安定のため一般に塩の形、倒えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液I]について約0.1Q〜約309の濃度
、 ′好ましくは発色現像液I]1について約1g〜約
15gの濃度で使用する。 本発明において使用される発色現像液には、前記第1級
芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現像液に
通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ剤、
アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金j!1亜硫!l塩、
アルカリ金属チオシアン′M塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジ以下余白 ルアルコール、水、軟化剤及び濃厚化剤などを任意に含
有せしめることもできる。この発色現像液のpH値は、
通常7以上であり、最も一般的には約10〜約13であ
る。 本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属n塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有mvaで鉄、コ
バルト、銅等の金属イオンを配位したものである。この
ような有IIlの金属錯塩を形成するために用いられる
最も好ましい有IIMとしては、ポリカルボン酸または
アミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカル
ボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、
アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい
。 これらの具体的“代表例としては、次のものを挙げるこ
とができる。 [1]エチレンジアミンテトラ酢酸 [2]ニトリロトリ酢酸 [3]イミノジ酢酸 [4]エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 [5]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 〔71ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有SUaの金属錯塩を
漂白剤として含有すると共に、穫々の添加剤を含むこと
ができる。添加剤としては、特にアルカリハライドまた
はアンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナ
トリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。 また硼MMiJ、蓚酸塩、酢H塩、炭酸塩、燐wI塩等
のpHII剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサ
イド類等の通常漂白液に添加することが知られているも
のを適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜i1Mカリウム、I亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カ
リウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等
の亜硫ll塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、
酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から
成るOH緩暫剤を単独或いは2種以上含むことができる
。 漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明のハロゲン化銀写真感光材料の処理を行なう場合、該
漂白定着液(浴)にチオ硫M塩、チオシアン酸塩又は亜
硫酸塩等を含有せしめてもよいし、該漂白定着補充液に
これらのS類を含有せしめて処理浴に補充してもよい。 漂白定着液の活・性度を高める為に漂白定着浴中及び漂
白定着補充液の貯蔵タンク内で所望により空気の吹き込
み、又は酸素の吹き込みをおこなってもよ(、或いは適
当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素酸塩、過硫酸塩等
を適宜添加してもよい。 以下余白 以下に具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明
するが本発明はこれに限定されるものではない。 〔実施例1」 表1に示した層構成にて以下に詳述するポリエヂレン被
覆組を用いて多層ハロゲン化銀カラー写真感光材料を作
成した。 以下余白 ここで用いたAs−1および08−1は下記に示す構造
の化合物である。 スティン防止剤AS−1 退色防止剤DS−1 以上の如く作成した試料を試料1とする。次に、試料1
において第6層中の紫外線吸収剤、第7層へのマット剤
の添加、イエ0−、マゼンタおよびシアンカプラーおよ
び第1層への一般式[A]で示される化合物の添加を表
2に示した如く変更して試料2乃至29を作成した。 得られた試料1乃至29について以下の処理を施した。 これらの試n1乃至29に感光針(小西六写真工業株式
会社製KS−7型)を用いて緑色光により光楔露光を行
なった後、以下の処理を施した。 基準処理工程(処理温度と処理時間) 「1」発色現像 38℃ 3分30秒[2]漂白
定着 33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25
〜30℃ 3分 [41乾 燥 75〜80℃ 約2分処理液組成 (発色現像液) ベンジルアルコール 15IIIIlエ
チレングリコール 15 ll1fl亜
硫酸カリ°ウム 2.0g臭化カ
リウム 0.7g塩化ナトリウ
ム 0.2 a炭酸カリウム
30.00ヒドロキシルアミン硫酸塩
3.00ポリリン酸(TPPS)
2.5173−メチル−4−アミノ−N− エチル−N−(β−メタンスルホン アミドエチル)−アニリン硫酸塩 5.5g蛍光増白
剤(4,4’ −ジアミノ スチルベンズスルホンMtR導体) i、og水
酸化カリウム 2.OQ水を加え
て全量を12とし、I)Hlo、201.:’;E1m
する。 (漂白定着液) エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩 6ogエチレン
ジアミンテトラ酢M 3Clヂオ硫酸アンモ
ニウム(70%溶液> 100mff1亜硫酸アンモ
ニウム(40%溶液) 27.5 ml炭酸カリウム
または氷酢酸でDH7,1に!I整し水を加えて全日を
12とする。 処理後に得られたニュートラル(中性灰色)の試料につ
いて明退色性を下記方法にて試験した。 C明退色性試験〕 キセノンフェードメーター(10万ルクス、40℃40
%RH) ヲ用イT: 100R1ctj ヨU 20
0時間にわたって照射した。耐光性評価尺度として、C
I E1976(L” a享り’ ) 色空fJIC
J:8色差に △Eabで表示した。測定は直読式測色計(スガ試験機
製カラーコンピューター5M−3−CH)を用いて行な
った。 ゛ (2)表面状態観察 (1)において200FRWJ照射後の試料について、
特に発色部について物性面から肉眼にて観察評価した。 ヘイズまたはくもり具合については下記の評価基準を用
いてランク付けした。 ランク 状 態 ○ 照射前と殆ど同一。 Δ 若干不透明感がある。 × 肉眼にて明らかに白いもやがみえる。 ×× 更にかすんで来て表面光沢に異常発生。 (3)紫外線吸収剤乳化分散物安定性試験本発明に係る
乳化分散物は、下記の手順で作成した。 <a )表2に示す組成の紫外線吸収剤10Qジノニル
フタレート10gおよび酢酸エチル20gを混合し、約
60℃に加熱して溶解する。 (b)写真用ゼラチン15Q、純水200i12を空温
にて混合し、20分間膨潤させる。 次に約60℃に加熱し溶解させた後にアルカノールB(
デュポン社製)の5%水溶液を20I]添加し、均一に
撹拌する。 (C)(a)#よび(b)にて得られた各溶液を混合し
、超音波分散機にて20分子1分散し、乳化分散液を術
だ。これを300 、flに純水にて仕上げた。 得られた乳化分散物に栓をして、40℃36時間保温放
置を施し、放置前後の濁度上昇Δ丁を調べた。 ここで「濁度」とは分散粒子の粒径と相関を示す数値で
あり、同一条件下では値が小さい程粒径が小さい、すな
わち、4丁が小さい程分散粒子の粗大化が起きておらず
安定であることを示す。濁度の測定はボイック積分球式
濁度計(日本蹟密光学株式会社製、型式5EP−PT−
5010)を用いて行なった。 (1)乃至(3)にて(1られた結果を表2に示す。 注)1 表2中のマット剤の内容を以下に示す。 略 号 開方r 平均粒径(μm
) 塗布tka/vMAT−1シリカ
3.0 0.003MAT−2ポリメ
チルメタクリレート 0.5 #MA
T−3シリカ 6.03
#MAT−4ポリスチレン
1.5#以下余白 注)2 第1層に添加した一般式[Alで示される化合物の添加
量はイエローカプラーに対して30重量%とじた。 注)3 第6I]中に添加した紫外線吸収剤の総量は0.3Q
/fであり、2種以上含有させた時の比率は重量比であ
る。 表2の結果より第61Jに用いた紫外線吸収剤が1種の
みの単独使用である試料1および3について本発明に係
る平均粒径7〜10μ■の微粒子粉末を第7Mに添加し
てもヘイズの改良効果は殆どみられない。紫外線吸収剤
を2種以上併用した試料7,12および14においては
、試料1乃至4より改良されているが十分ではない。し
かし、これら試料にマット剤を使用した試料8乃至I]
.13および15においては視感では認知できないレベ
ルにまで向上しており、その改良効果の大きさは相乗的
であり、艮くべきことであった。又、前記紫外線吸収剤
とマット剤とを最外層に添加した試料5においても改良
効果は殆ど現われていない。 更に明退色性試験の結果より、試料7乃至15について
は試料1乃至6に比較してニュートラル(中性灰色)か
らのカラーバランスのずれが抑制されていることがわか
る。 上記の2試験より試料8乃至I].13および15につ
いては保存における色素画像および膜物性の両面におい
て卓越した感光材料であることがわかる。 一方、前記の如き紫外線吸・成剤を混合使用した試料1
6において塗布前に調製された紫外線吸収剤の乳化分散
°物の安定性もがなり良好なレベルであるが十分とはい
えない。これに対して一般式[UV−1]におけるR1
とR2に含まれる炭素数が8であるLIV−68の比率
を徐々に増加した。 試料18.20,22および24について、改良されて
おり、特に試料22および24の分散物の安定性は著し
く高いものである。しかし、明退色性において特に後期
での色差が試F17等に比べ劣るという欠点が存在する
。この欠点に対し、前記の如く、一般式[A]で示され
る化合物をイエローカプラー含有層に添加した場合に改
良効果を示していることが明らかであろう。更にこの効
果は特に試料22.24.26.28の如き常温にて固
体状の紫外線吸収剤のうち、前記一般式[UV−I]に
おけるR1とR2に含まれる炭素数が8以上の紫外線吸
収剤の比率が高い試料について特に絶大であった。かく
して分散物の安定性と明退色性が著しく改良された試料
を得た。 [実施例2] 実施例1における試料7に対して、第7Hに添加したマ
ット剤の量を表3の如く変更した以外は試料7と同一の
試料30乃至32を、又試料29に対して、一般式[A
]で示される化合物の種類および添加層を表3の如く変
更した以外は試料29と同一の試料33乃至37を夫々
作成した。 以下合力 表3の結果より、まずマット剤の添加量を試料7に比較
して夫々1/10.5.25倍した試料30乃至32の
ヘイズの結果よりマット剤の添加量は0,0003L’
i”では少なすぎて、0.075Ω/ itでは多す
ぎてその効果が比較的小さくなる。 更に試料33乃至37の明退色性より、一般式rA]で
示される化合物は少なくともイエローカプラー含有層に
添加することが必須であることが明らかであろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 反射支持体上にハロゲン化銀乳剤層および非感光性層を
有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記支持体
からみて最も遠いハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反
対側に2つ以上の非感光性層を有し、該非感光性層のう
ち最外層には平均粒径1〜10μmの微粒子粉末を含有
し、残りの非感光性層の少なくとも一層には下記一般式
[UV− I ]で示される紫外線吸収剤の異なる2種以
上が混合して含有されていることを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。 一般式[UV− I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1、R_2およびR_3は、それぞれ、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、ニトロ基
または水酸基を表わす。]
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60148026A JPS628143A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US06/880,781 US4692399A (en) | 1985-07-05 | 1986-07-01 | Silver halide photographic light-sensitive material |
EP86305205A EP0213700A3 (en) | 1985-07-05 | 1986-07-04 | Silver halide photographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60148026A JPS628143A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS628143A true JPS628143A (ja) | 1987-01-16 |
JPH0380293B2 JPH0380293B2 (ja) | 1991-12-24 |
Family
ID=15443449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60148026A Granted JPS628143A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4692399A (ja) |
EP (1) | EP0213700A3 (ja) |
JP (1) | JPS628143A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01287562A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびカラー画像形成方法 |
JP2002350644A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Konica Corp | 光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0715568B2 (ja) * | 1986-01-20 | 1995-02-22 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JP2516026B2 (ja) * | 1986-08-15 | 1996-07-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料 |
EP0271005B1 (en) * | 1986-12-06 | 1995-07-19 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material excellent in dye-image preservability |
JP2517288B2 (ja) * | 1987-06-12 | 1996-07-24 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
US5286616A (en) * | 1987-06-12 | 1994-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
JPH0833634B2 (ja) * | 1987-08-20 | 1996-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPH0833633B2 (ja) * | 1987-08-20 | 1996-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
US5183731A (en) * | 1987-08-20 | 1993-02-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic light-sensitive material containing epoxy compound |
US5112728A (en) * | 1989-10-05 | 1992-05-12 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
US5104777A (en) * | 1990-05-01 | 1992-04-14 | Eastman Kodak Company | Photographic element having both a filter dye layer and a matte layer |
EP0538862B1 (en) * | 1991-10-23 | 1995-09-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic material |
JP2890276B2 (ja) * | 1992-05-25 | 1999-05-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびカラー写真画像形成方法 |
US5585228A (en) * | 1994-11-30 | 1996-12-17 | Eastman Kodak Company | Benzotriazole based UV absorbing compounds and photographic elements containing them |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1965042A1 (de) * | 1969-12-27 | 1971-07-15 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliches,farbfotographisches Aufzeichnungsmaterial |
JPS5494319A (en) * | 1978-01-09 | 1979-07-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Silver halide photographic material |
IT1171550B (it) * | 1981-09-23 | 1987-06-10 | Minnesota Mining & Mfg | Procedimento per rendere matt la superficie di un materiale fotografico e materiale fotografico ottenuto con detto procedimento |
JPS58147742A (ja) * | 1982-02-25 | 1983-09-02 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
JPS58208745A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | カラ−写真感光材料 |
JPS58209735A (ja) * | 1982-06-01 | 1983-12-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | カラ−写真感光材料 |
JPS58211148A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | カラ−写真感光材料 |
JPS58211147A (ja) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | カラ−写真感光材料 |
JPS59215378A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 乳化分散物 |
US4587346A (en) * | 1985-01-22 | 1986-05-06 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP60148026A patent/JPS628143A/ja active Granted
-
1986
- 1986-07-01 US US06/880,781 patent/US4692399A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-04 EP EP86305205A patent/EP0213700A3/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01287562A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびカラー画像形成方法 |
JP2002350644A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Konica Corp | 光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4692399A (en) | 1987-09-08 |
EP0213700A2 (en) | 1987-03-11 |
JPH0380293B2 (ja) | 1991-12-24 |
EP0213700A3 (en) | 1988-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS628143A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62166339A (ja) | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 | |
EP0244160B1 (en) | Light-sensitive silver halide photographic material improved in stability of dye image | |
EP0240568B1 (en) | Silver halide photographic material | |
JPH0569212B2 (ja) | ||
US5006454A (en) | Light sensitive silver halide photographic material | |
EP0207794A2 (en) | Silver halide photographic material | |
JPS62166331A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS61189539A (ja) | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 | |
JPH071387B2 (ja) | 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62163052A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0473939B2 (ja) | ||
JPS62173470A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0427535B2 (ja) | ||
JPH073565B2 (ja) | 色素画像の安定性を改良したハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS61278853A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62203160A (ja) | 画質および皮膜物性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62169160A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0564786B2 (ja) | ||
JPS6219846A (ja) | 写真要素 | |
JPS61184543A (ja) | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 | |
JPS61272744A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS62291649A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH068951B2 (ja) | 色素画像の安定性を改良したハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS61250644A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |