JPS61250644A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、さらに詳し
くは、色再現性に優れ、しがも白地部分の黄変（以下、
Ｙ−スティンと称す）が改良されたハロゲン化銀写真感
光材料に関する。

〔発明の背景〕

従来より、ハロゲン化銀写真感光材料を画像露光し、発
色現像することにより芳香族第１級アミン系発色現像主
薬の酸化体と発色剤とがカップリング反応を行って、例
えばインドフェノール、インドアニリン、インダミン、
アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンおよびそれら
に類似する色素が生成し、色画像が形成されることは良
く知られているところである。このような写真方式にお
いては通常減色法による色再現方法が採られ、青感性、
緑感性ならびに赤感性の感光性ハロゲン化銀乳剤層に、
それぞれ余色関係にある発色剤、すなわちイエロー、マ
ゼンタおよびシアンに発色するカプラーを含有せしめた
ハロゲン化銀カラー写真感光材料が使用される。

上記のイエロー色画像を形成するために用いられるカプ
ラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラー
が挙げられ、またマゼンタ色画像形成用のカプラーとし
ては例えばピラゾロン、ピラゾロベンズイミダゾール、
ピラゾロトリアゾールまたはインダシロン系カプラーが
知られており、さらにシアン色画像形成用のカプラーと
しては、例えばフェノールまたはナフトール系カプラー
が一般的に用いられている。

マゼンタ色素を形成するために広（使用されているカプ
ラーの代表的なものとしては、１．２−ピラゾロ−５−
オン類がある。この１，２−ピラソロ−５−オン類のマ
ゼンタカプラーから形成される色素は５５０ｎｍ付近の
主吸収以外に、４３０ｒｖ付近の副吸収を有しているこ
とが大きな問題であり、これを解決するために種々の研
究がなされてきた。

例えば、１．２−ピラゾロ−５−オン類の３位にアニリ
ノ基を有するマゼンタカプラーは上記副吸収が小さく、
特にプリント用カラー画像を得るために有用である、こ
れらの技術については、例えば米国特許第２，３４３．
７０３号、英国特許第１，０５９．９９４号等公報に記
載されている。

上記マゼンタカプラーの４３０ｎｌｌ付近の副吸収を更
に減少させるための手段として、例えば英国特許第１，
０４７，６１２号記載されているピラゾロベンズイミダ
ゾール類、米国特許第３，７７０，４４７号に記載のイ
ンダシロン類、また同第３，７２５，０６７号、英国特
許第１，２５２，４１８号、同第１，３３４，５１５号
、特開昭５９−１６２５４８号、同５９−１７１９５６
号等に記載のピラゾロトリアゾール類等のマゼンタカプ
ラーが提案されている。これらのカプラーから形成され
る色素は、４３０ｎｍ付近の副吸収が、前記の３位にア
ニリノ基を有する１、２−ピラゾロ−５−オン類から形
成される色素に比べて著しく小さくなり、色再現上好ま
しく、さらに、熱、湿度に対する未発色部のＹ−スティ
ンの発生も極めて小さく好ましい利点を有するものであ
る。

しかしながら、これらのマゼンタカプラーを用いた場合
の光により誘起されるＹ−スティンは未だ実用上十分な
レベルに到達しておらず、特に紫外光によりＹ−スティ
ンが発生しやすく好ましくない。この様に未露光部にＹ
−スティンが発生すると、写真材料としての商品価値を
著しく低下さてしまう。殊に近年、写真の保存状態が多
様化してきており、ディスプレイ的要素が強くなってい
るためこの問題は非常に深刻であり、改良が望まれてい
る。

上記の光に対するＹ−スティンを改良するための方法と
しては、例えば特開昭５２−７２２２５号公報にビスフ
ェノール類を使用することが提案されている。確かに３
−アニリノ−５−ピラゾロン型マゼンタカプラーについ
ては効果を示すが、前記ピラゾロトリアゾール類等のマ
ゼンタカプラーに適用した場合、Ｙ−スティン抑制効果
が無いばかりか、逆にＹ−スティンを増加させるものも
あった。

また２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール系化合物を３−アリ二ノー５−ピラゾロン型マゼン
タカプラー含有層よりも上層に位１する中間層に添加し
、紫外線カツト作用により光によるＹ−スティンを改良
する技術も用いられているが、添加量を増大しても得ら
れる効果に限界があった。

［発明の目的］ 本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであり、本発
明の目的は、色再現性に優れ、しかも光に対して未発色
部のＹ−スティンの発生が抑制されたハロゲン化銀写真
感光材料を提供することにある。

［発明の構成］ 上記本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層の写真
構成層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、下
記一般式［Ｉ］で示される化合物および２−（２’　−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物を前
記写真構成層の少なくとも１つの同一層に含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料によって達成された。

一般式［Ｉ］ Ｘ ［式中、Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、該２により形成される環は置換基を有し
てもよい。Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体と
の反応により離脱しうる置換基を表わす。またＲは水素
原子または置換基を表わす。Ｊ ［発明の具体的構成］ 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。。

本発明に係る前記一般式（１） 一般式ＣＩ） ！ で表されるマゼンタカプラーに於いて、Ｚは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Ｚにより
形成される環は置換基を有してもよい。

Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。

またＲは水素原子または置換基を表す。

前記Ｒの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基１．ヘテロ環基
、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニ
ル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、
スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。

ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。

Ｒで表されるアルキル基としては、炭素数１〜３２のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数２〜３
２のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。

また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はへテロ原子を介して置換するもの（具体的にはヒドロ
キシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ、
シロキシ、アシルオキシ、カルノ（モイルオキシ等の酸
素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ジアル
キルアミノ等を含む）、スルファモイルアミノ、アルコ
キシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド
等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、ア
リールチす、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル
、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、
ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等）〕を有
していてもよい。

具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、ｔ−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、■
−ヘキシルノニル基、１．１′−ジベンチルノニル基、
２−クロル−ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、Ｉ
−エトキシトリデシル基、１−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、２，４−ジ−ｔ−アミル
フェノキシメチル基、アニリノ基、１−フェニルイソプ
ロピル基、３−ｍ−ブタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、３−４・−（α−〔４・・（ｐ−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル）フェノキシフドデカノイルアミノ
）フェニルプロピル基、３−（４・−〔α−（２・・、
４・・−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンアミド〕フ
ェニル）−プロピル基、４−〔α−（Ｏ−クロルフェノ
キシ）テトラデカンアミドフェノキシフプロピル基、ア
リル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基（例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等）を有していてもよい。

具体的には、フェニル基、４〜ｔ−ブチルフェニル基、
２．４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、４−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、４・
−〔α−（４・・−ｔ−ブチルフェノキシ）テトラデカ
ンアミド〕フェニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環基としては５〜７員のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。

具体的には２−フリル基、２−チェニル基、２−ピリミ
ジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−２，４−ジ−
ｔ−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、３−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、ｐ−クロルベンゾイル基等のアリールカルボニ
ル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、３−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、ｍ　−ペンタデシルフェニルスル
フィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられ
る。

Ｒで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカ
ルバモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオクチルエチル
）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルカルバモ
イル基、Ｎ−（３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキ
シ）プロピル）カルバモイル基等が挙げられる。

以下余白 Ｒで表されるスルファモイル基はアルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−プロピルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルスルファモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオキシエ
チル）スルファモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルス
ルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ［
３，３］へブタン−１−イル等が挙げられる。

Ｒで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ［２，２，１１ヘプタン−１−イル、トリシクロ［３
，３，１，Ｍ”］］デカンー１−イル７．７−シメチル
ービシクロ［２，２，１］へブタン−１−イル等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、２−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、２−ドデシルオキシエトキシ基
、フエネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、ｐ−を−ブチルフェノキシ基、ｍ
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環オキシ基としては５〜７員のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、３゜４．５．６−テトラヒ
ドロピラニル−２−オキシ基、■−フェニルテトラゾー
ルー５−オキシ基が挙げられる。

Ｒで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばＮ−エチルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。

Ｒで表されるアミノ基はアルキル基、アリール基（好ま
しくはフェニル基）等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリス基、ｍ　−クロルアニリノ基
、３−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、２−
クロル−５−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。

Ｒで表されるアシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基（好ましく
はフェニルカルボニルアミノ基）等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、Ｎ−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、２．４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ
アセトアミド基、α−３−ｔ−ブチル４−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。

具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−ト
ルエンスルホンアミド基、２−メトキシ−５−ｔ−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、３−ヘプタデシルコノ１り酸イミド基、フ
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基（
好ましくはフェニル基）等により置換されていてもよく
、例えばＮ−エチルウレイド基、Ｎ−メチル−Ｎ−デシ
ルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−ｐ−トリ
ルウレイド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルファモイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基（好ましくはフェニル基）等で置換されてい
てもよく、例えばＮ、Ｎ−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、Ｎ−メチルスルファ゛モイルアミノ基、Ｎ−フェ
ニルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルフキシカ２ルボニルアミノ基としては
、更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカル
ボニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基
、オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられ
る。

Ｒで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、４−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキ゛ジカ
ルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
ｐ−クロルフェノキシカルボニル基、ｍ−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、３−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。

Ｒで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
ｐ−メトキシフヱニルチオ基、２−ｔ−オクチルフェニ
ルチオ基、３−オクタデシルフェニルチオ基、２−カル
ボキシフェニルチオ基、ｐ−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。

Ｒで表されるペテロ環チオ基としては、５〜７員のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい。例えば２−ピリジルチオ基
、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２．４〜ジフェノキシ
−１，３，５−）リアゾール−６−チオ基が挙げられる
。

Ｘの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子、フッソ原子等）の他炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。

炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 （Ｒ１・は前記Ｒと同義であり、Ｚ・は前記Ｚと同義で
あり、Ｒ，・及びＲ８・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。）で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。

酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。

該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、２−フェノキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、ｐ−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。

該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、３−
ドデシルフェノキシ基、４−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、４−〔α−（３・−ペンタデシルフェノキシ
）ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メタン
スルホニルフェノキシ基、ｌ−ナフチルオキシ基、ｐ−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。

該ヘテロ環オキシ基としては、５〜７員のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、１−フヱニルテトラゾリ
ルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。

該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。

該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。

該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。

該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。

硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。

該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、２−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ベンジルチオ基等が
挙げられる。

該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、４−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、４−ドデシルフェネチ
ルチオ基、４−ノナフルオロペンタンアミドフェネチル
チオ基、４−カルボキシフェニルチオ基、２−エトキシ
−５−１−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。

該へテロ環チオ基としては、例えばｌ−フェニル−１，
２，３，４−テトラゾリル−５−チオ基、２−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。

該アルキルオキシチオカルボニルチオ基とじては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。

上記窒素原子を介して置換する基としては、例Ｒ４′ えば一般式−Ｎ　　　で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４・とＲ６・は
結合してペテロ環を形成してもよい。但しＲ４・とＲ６
・が共に水素原子であることはない。

該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数１〜２２のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。

該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、２−エチルヘキシル基、２−クロルエチ
ル基が挙げられる。

、Ｒ４・又はＲ６・で表されるアリール基としては、炭
素数６〜３２、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく
、該アリール基は、置換基を有してもよく置換基として
は上記Ｒ４・又はＲ６・で表されるアルキル基への置換
基として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該ア
リール基として具体的なものとしては、例えばフェニル
基、１−ナフチル基、４−メチルスルホニルフェニル基
が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ５・で表されるヘテロ環基としては５〜６
員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、２−フリル基、２−キ
ノリル基、２−ピリミジル基、２−ベンゾチアゾリル基
、２−ピリジル基等が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるスルファモイル基としては
、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキル
スルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ
、Ｎ−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ジエチ
ルスルファモイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ
−ドデシルスルファモイル基、Ｎ−ｐ−）リルスルファ
モイル基が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるカルバモイル基としては、
Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルカル
バモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の具体例としでは例えばＮ、Ｎ−ジエチルカルバモイ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−ドデシルカルバ
モイル基、Ｎ−ｐ−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ
−ｐ−トリルカルバモイル基が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ６・で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙′げられ、該アルキル基、該アリー
ル基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシ
ル基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオ
ロブタノイル基、２゜３．４．５．６−ペンタフルオロ
ベンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル
基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ４・又はＲ５・で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、ｐ−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。

Ｒ６・又はＲ６・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ２・又はＲ６・で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ４・及びＲ６・が結合して形成するヘテロ環としては
５〜６員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該へテロ環としては例えばＮ−フタル
イミド基、Ｎ−コハク酸イミド基、４−Ｎ−ウラゾリル
基、１−Ｎ−ヒダントイニル基、３−Ｎ−２，４−ジオ
キソオキサゾリジニル基、２−Ｎ−１，１−ジオキソ−
３−（２Ｈ）−オキソ−１，２−ベンズチアゾリル基、
１−ピロリル基、ｌ−ピロリジニル基、■−ピラゾリル
基、！−ピラゾリジニル基、ｌ−ピペリジニル基、ｌ−
ピロリニル基、１−イミダゾリル基、■−イミダゾリニ
ル基、■−インドリル基、■−イソインドリニル基、２
−イソインドリル基、２−イソインドリニル基、ｌ−ベ
ンゾトリアゾリル基、１−ベンゾイミダゾリル基、１−
（１，２，４−トリアゾリル）基、１−（１，２，３−
）リアゾリル）基、！　−（１，２，３，４−テトラゾ
リル）基、Ｎ−モルホリニル基、１．２．３．４−テト
ラヒドロキノリル基、２−オキソ−１−ピロリジニル基
、２−ＩＨ−ピリドン基、フタラジオン基、２−オキソ
−１−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基
はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリー
ルオキシ基、アシル基、スルボニル基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等によ
り置換されていてもよい。

またＺ又はＺ・により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Ｒについて述べたものが挙げられる
。

又、一般式（１）及び後述の一般式〔■〕〜〔■〕に於
ける複素環上の置換基（例えば、Ｒ９Ｒ１〜Ｒ８）が ！ 部分（ここにＲ・・、Ｘ及びＺ・・は一般式ＣＩ）にお
けるＲ、Ｘ、Ｚと同義である。）を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。

又、Ｚ、Ｚ・、Ｚ・・及び後述のＺｌにより形成される
環は、更に他の環（例えば５〜７員のシクロアルケン）
が縮合していてもよい。例えば一般式（Ｖ）においては
Ｒ５とＲ８が、一般式（Ｖｌ）においてはＲ７とＲ８と
が、互いに結合して環（例えば５ニア員のシクロアルケ
ン、ベンゼン）を形成してもよい。

以下余白 一般式（１）で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式（Ｉｆ）〜〔■〕により表される。

一般式（ｆｆ） 一般式（Ｉ［） Ｎ　　　Ｎ　−Ｎ 一般式（ＩＶ） ＮＮ□袖 一般式（Ｖ） 一般式〔■〕 Ｎ　　　　Ｎ　−８１ 一般式〔■〕 前記一般式（ｆｆ）〜〔■〕に於いてＲ１−Ｒ８及びＸ
は前記Ｒ及びＸと同義である。

又、一般式（１）の中でも好ましいのは、下記一般式（
■）で表されるものである。

一般式〔■〕 ８Ｎ、、／ 式中Ｒ、、Ｘ及び２．は一般式（１）におけるＲ９Ｘ及
びＺと同義である。

前記一般式（１１）〜Ｃ■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式（ＩＩ）で表され
るマゼンタカプラーである。

又、一般式ＣＩ）〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式（１）においてはＲが、また一般
式（ｎ）〜〔■〕においてはＲ３が下記条件１を満足す
る場合が好ましく更に好ましいのは下記条件ｌ及び２を
満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件１．２
及び３を満足する場合である。

条件Ｉ　複素環に直結する根元原子が炭素原子である。

条件２　該炭素原子に水素原子が１個だけ結合している
、または全く結合していない。

条件３　該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。

前記複素環上の置換基Ｒ及びＲ１として最も好ましいの
は、下記一般式（ＩＸ）により表されるものである。

一般式（［） 式中Ｒｓ、Ｒ＋ａ及びＲ１１はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基
、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、
シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミ
ド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基を表し、Ｒ８゜ＲＩＯ及びＲ＋＋の少なくとも２つ
は水素原子ではない。

又、前記Ｒｓ　、　Ｒ＋。及びＲ１１の中の２つ例えば
Ｒ，とＲ３゜は結合して飽和又は不飽和の環（例えばシ
クロアルカン、シクロアルケン、ヘテロ環）を形成して
もよく、更に該環にＲ１が結合して・有橋炭化水素化合
物残基を構成してもよい。

Ｒ８−Ｒ１により表される基は置換基を有してもよく、
Ｒ３−Ｒ１により表される基の具体例及び該基が有して
もよい置換基としては、前述の一般式（１）におけるＲ
が表す基の具体例及び置換基が挙げられる。

又、例えばＲｏとＲＬｏが結合して形成する環及びＲ８
〜Ｒ１１により形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式ＣＩ）におけるＲが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。

一般式（［）の中でも好ましいのは、 （ｉ　）Ｒｓ＝　Ｒｚの中の２つがアルキル基の場合、
（ｉｉ）Ｒ−〜Ｒ１の中の１つ例えばＲｏが水素原子で
あって、他の２つＲ，とＲ＋ｏが結合して根元炭素原子
と共にシクロアルキルを形成する場合、 である。

更に（ｉ）の中でも好ましいのは、Ｒ，〜Ｒ１１の中の
２つがアルキル基であって、他の１つが水素原子または
アルキル基の場合である。

ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式（１）におけるＲが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。

以下余白 又、一般式（１）におけるＺにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるＺ、により形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式〔■〕〜〔■〕におけるＲ１
−Ｒ８としては下記一般式（Ｘ）で表されるものが好ま
しい。

一般式（Ｘ） −Ｒ’−ＳＱ、−Ｒ” 式中Ｒ１はアルキレンを、Ｒ１はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。

Ｒ１で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が２以上、より好ましくは３ないし６であり、直鎖１
分岐を問わない。またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。

該置換基の例としては、前述の一般式ＣＩ）におけるＲ
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。

置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。

Ｒ１で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。

−ＣＩｌ、ＣＩｌ、ＣＩ、−、−ＣＨＣＨ，ＣＩｌ、−
、−ＣＨＣＨ，ＣＩｌ、−、−ＣＩｌ、ＣＭ、ＣトＣｌ
１ｓ　−ＣＪｓ　　　　　ＣＪ＋ｓＲ２で示されるアル
キル基は直鎖１分岐を問わない。

具体的にはメチル、エチル、プロピル、１ｓｏ−プロピ
ル、ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、２−へ
キシルデシルなどが挙げられる。

Ｒ２で示されるシクロアルキル基としては５〜６員のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。

Ｒ１で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のＲ１への置換基と
して例示したものが挙げられる。

Ｒ２で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のＲ１への置換基として例示したもの
が挙げられる。

また、置換基が２個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。

一般式ＣＩ）で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式（ＸＩ）で表されるものである。

一般式（ＸＩ） 式中、Ｒ，Ｘは一般式（１）におけるＲ、Ｘと同義であ
りＲＩ　、　ｒｔ　＊は、一般式（Ｘ）におけるＲ１゜
Ｒ１と同義である。

以下余白 Ｃ２Ｈツ Ｃ，Ｈ。

Ｉｄｌ１５ Ｃ，Ｈ。

Ｃ２＋１５ 以下余白 Ｃ２＋＋５ Ｃ４Ｂ。

Ｉ Ｃ１１，ｃＩｌｍ ｌＮ１１ １０Ｈ２１ Ｃ，、Ｎ宜Ｓ Ｃ，２Ｏ，ツ 以下余白 Ｃ，ＩＩ。

Ｃ２１１ｓ ｃ、ｎ＋ｔ（ｔ） ｔｌｌｌｓ ｃ、ｕ＋ｔ（ｔ） Ｊｔ Ｊｓ ｒ、ＩＩ＝ Ｊｓ 以下余白 Ｃ，Ｈ，コ Ｃ，Ｈ。

Ｃ，Ｈ。

０ＣＩｈＣＯＮＩＩＣ１ｈＣｈＯＣＨｉＯＣＨ２ＣＨ２
Ｓ％ＣＩｈ Ｃ，Ｉｔ。

Ｃ，ｌｌ。

２Ｈｓ Ｃ，Ｉｔ。

■ Ｃ２１＋％ Ｃ，ｌＩ＊ Ｃ２Ｈう Ｃ，ｌＩ５ ＣＨｉ 以下余白 ＣＩ。

９９　′ Ｃ，ｌｌ。

Ｃ，Ｉｌ。

Ｃ４Ｈ＠ Ｃ口Ｉ２舊 ＨＨ２４１ ｘＮｓ Ｃ１２Ｎ２％ ｃｓｌｌｔｉ 以下余白 ＣＨ１ ＣＨ。

０Ｃ，ｌ。

畦５ＱｔＣｔｓｌｈｘ ＣＨ。

Ｃ自Ｎｕ（ｔ） Ｌ ＣａｌＬフ（１） ｌ１２ ＣＨ３ ■ ＣＨ３ （Ｈ３ＣＪ１ｙ（Ｌ） ３Ｇ Ｃ＋＋２ じ■り Ｊｓ ＣＪ＋ｓ ＨｉＣＣＨ＊ Ｃ，Ｈ。

以下余白 ０（ＣＴｏ）ｔＯｃｕｌｌｔｓ Ｎ　　−Ｎ　−Ｎ １５Ｏ Ｎ　　　　Ｎ　　　　Ｎ　　　　　　　　　　　　　　
ＣｕＨｔｓＮ　　　Ｎ　　　Ｎ　　　　（、Ｈ。

Ｃ１゜ｌ、、　　　　　　　　　　　Ｎ　−Ｎ　−ＨＮ
　−Ｎ　−Ｎ Ｎ　−Ｎ　−Ｎ Ｃ，Ｈｓ　　　　　　　　　　　　’　　　　８　　８
１６Ｏ Ｎ　　　　Ｎ　　　　ＮＯ Ｎ　−Ｎ　−ＮＨ Ｎ　　　　Ｎ　　　　ＮＨ （山　　　　　　　　ｃＨ，Ｎ　　Ｎ−朋Ｎ　−Ｎ　　
　　８１１ Ｃ，Ｈ，Ｎ　　　　Ｎ−袖 ｔｌｌｓ Ｊｓ Ｎ　　　　Ｎ　　　　Ｎｉｌ Ｎ　　　　Ｎ　　　　８１１ ８８□袖 Ｎ　　　　Ｎ　　　　ＨＨ Ｎ　　　　Ｎ、　　　）１ Ｎ−Ｎ Ｃ＋Ｊｔｓ　　　　　　　　　　　Ｎ　　　Ｎ　　　　
７４１９６　’ Ｃ２Ｈ５ＣＪ％　　　” 以下余白 また、前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサイティー、パーキン　エ（Ｊ　ｏｕｒｎａ
ｌ　　ｏｆ　　ｔｈｅ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　Ｓ　ｏ
ｃｉｅｔｙ。

Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ　）　　（１９７７）　、　２０４７
〜２０５２、米国特許第３．７２５，０８７号、特開昭
５９−９９４３７号及び同５８−４２０４！号等を参考
にして合成を行った。

本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀１モル当り１×１
０−３モル乃至１モル、好ましくは１×１０−２モル乃
至８　Ｘ　１　ｏ−１モルの範囲で用いることができる
。

また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。

本発明に用いる２−（２’　−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール系化合物は、２−　（２’−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物ならば如何な
る構造の化合物を用いることもできるが、特に下記一般
式（ａ　）で示される化合物が好ましい。

以下余白 一般式［ａ　］ 上記一般式［ａコにおいて、Ｒ１ＲおよびＪユ　　　１
３ ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルケニル基、ニトロ基または水酸基を表わす。

Ｒ１２、ＲＩ３およびＲ埠で表わされるハロタン原子と
しては、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子等が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。

Ｒ１□、Ｒ１３およびＲ１１Ｆで表わされるアルキル基
、アルコキシ基としては、炭素数１〜２０のものが好ま
しく、またアルケニル基としては、炭素数２〜２０のも
のが好ましく、これらの基は直鎖でも分岐でもよい。

また、これらアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
は、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はへテロ原子を介して置換するもの（具体的にはとドロ
キシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ、
シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸素
原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ジアルキ
ルアミノ等を含む）、スルファモイルアミノ アミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等の窒素原
子を介して置換するもの、アルキルチオ、アリールチオ
、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル、スルファ
モイル等の硫黄原子を介して置換するもの、ホスホニル
等の燐原子を介して置換するもの等）が挙げられる。

具体的には、例えばメチル基、エチル基、イソプ０ピ′
し基・　ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ドブチル基
１ｎーアミル基、ｓｅｃ−アミル基、ｔ−アミル基、α
．αージメチルベンジル基、オクチルオキシカルボニル
エチル基、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基
、アリル基等が挙げられる。

ＲＩ２、Ｒ１３およびＲ１＋で表わされるアリール基、
アリールオキシ基としては、例えばフェニル基、フェニ
ルオキシ基が特に好ましく、置換基（例えばアルキル基
、アルコキシ基等）を有していてもよい。具体的には、
例えばフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４
−ジ−ｔ−７ミルフエニル基等が挙げられる。

Ｒ＋２およびＲｌＢで表わされる基のうち、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基およびアリール基が好ましく
、特に水氷原子、アルキル基およびアルコキシ基が好ま
しい。

Ｒ１４で表わされる基のうち、特に水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。

更に前記一般式［ａ　］で表わされる化合物のうち、常
温にて液体である化合物は、前記一般式［Ｉ］で示され
る化合物（以下、本発明に係るマゼンタカプラーと称す
）の高沸点有機溶媒としても用いることができるため、
塗膜中のオイル比率を下げることができる点、および析
出性の点から有利に用いることができる。

ここで常温にて液体であるとは、本発明に係るハロゲン
化銀写真感光材料に一般式［ａ　］で表わされる化合物
を含有させる工程の濃度条件下において液状であればよ
く、特にその融点が３０℃以下である化合物が好ましい
。更に好ましくは融点が１５℃以下の化合物である。

またこの場合、上記条件下にて液状であれば、２−　（
２’　−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化
合物のうち、いかなる化合物をも用いられ、単一化合物
であっても混合物であってもよい。混合物としては構造
異性体群から構成されるものを好ましく用いることがで
きる。

以下に前記一般式（Ｑ）で表わされる化合物の代表的具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

（ＵＶ−３） （υ■−４） Ｈｓ （ＵＶ−６） （ＵＶ−７） （ＵＶ−８） （ｔ］Ｖ−９） （ＵＶ−１４） にａｋＬｄＬ） υに５ｋｉｔｙ（ｎＪ これらの２−　（２’　−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール系化合物は、本発明に係るマゼンタカプラ
ーに対し、１乃至３００１量％の割合で用いられ、好ま
しくはカプラーに対し、２ｏ乃至２００重最５である。

本発明に係るマゼンタカプラーおよび２−（２′−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物は、ハロ
ゲン化銀写真感光材料を構成する写真構成層の少なくと
も１つの同一層に含有される。この場合の添加方法とし
ては、一般的な疎水性化合物の添加方法と同様に、固体
分散法、ラテックス分散法、水中油滴型乳化分散法等、
種々の方法を用いる事ができ、これはカプラー等の疎水
性化合物の化学構造等に応じて適宜選択することができ
る。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性化合
物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点約１５０℃
以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点、及びま
たは水溶性有機溶媒を併用して溶解し、ゼラチン水溶液
などの親水性バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器
、ホモジナイザー、コロイドミル、７０−ジットミキサ
ー、超音波装置等の分散手段によって、乳化分散した後
、目的とする親水性コロイド層中に添加すればよい。分
散液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する工程
を入れても良い。

高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
１５０’Ｃ以上の有機溶媒が用いられる。

本発明において好ましく用いることのできる高沸点有機
溶媒としては、誘電率が６．０以下の化合物であり、例
えば、誘電率６．０以下のフタル酸エステル、リン酸エ
ステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケトン類、炭
化水素化合物等である。

好ましくは誘電率６．０以下１．９以上で１００’Ｃに
おける蒸気圧が０．５１１ＨＱ以下の高沸点有機溶媒で
ある。またより好ましくは、咳高沸点有機溶媒中のフタ
ル酸エステル類あるいはリン酸エステル類である。更に
該高沸点有機溶媒は２種以上の混合物であってもよい。

なお、本発明における誘電率とは、３０℃における誘電
率を示している。

本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式［ｂ　］で示されるものが挙げられる
。

一般式［ｂ　］ 式中、Ｒ１５およびＲ／６は、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、Ｒ／Ｓ−
およびＲ１１，で表わされる基の炭素原子数の総和は８
乃至３２である。またより好ましくは炭素原子数の総和
が１６乃至２４である。

本発明において、前記一般式［ｂｌのＲ／、ｉ〜および
Ｒ／４で表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のもの
でもよく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基等である。Ｒ１５およびＲｔｔで表わされ
るアリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等であ
り、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル
基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基、
アルケニル基およびアリール基は、単一もしくは複数の
置換基を有していても良（、アルキル基およびアルケニ
ル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、
アルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置
換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル
基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができる。

本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式［０］で示されるものが挙げられる。

一般式［Ｃ］ 討 Ｒ＋ｓＯＰ　　ＯＲ＋を 魯 ＯＲ＋ｓ 式中、Ｆ＜ｔｑ　、Ｆ＜ｔｖおよびＲ／９は、それぞれ
アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。

但し、ＲＱ、Ｒ１，およびＲＩＦで表わされる炭素原子
数の総和は２４乃至５４である。

一般式［Ｃ］のＲ１り、ＲＩＦおよびＲＩＦで表わされ
るアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリール
基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり、
またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘプ
テニル基、オクタデセニル基等である。

これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはＲＩＱ、ＲＩｆおよびＲ／９はアルキル基であり
、例えば、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、３
．５．５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−
デシル基、５ｅａ−デシル基、５ｅｃ−ドデシル基、ｔ
−オクチル基等が挙げられる。

以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下余白 例示有機溶媒 Ｓ−２Ｃ２８ｓ Ｃ、Ｉ−１。

、Ｓ−３ Ｓ−１２Ｃ２Ｈ５ ０Ｃｓ　Ｈ＋　ｓ　（ｉ　） ■ ０＝　Ｐ　ＯＣｓＨ＋＊（＋） ０　　ＣＪ（＋１（ｉ） ０Ｃ＊Ｈ＋＊（ｎ） ０−Ｐ　　ＯＣ５Ｈ１ｓ（ｎ） Ｏ−Ｃ，Ｈ，、（ｎ） Ｏ−Ｃ，。Ｈｚ＋（ｉ） 嘗 ｏ＝ｐ−ｏ−ｃ、。Ｈ２１（＋） Ｏ−Ｃ，。Ｉ（ｔｔ（＋） ０Ｃ＋　ｏ　Ｈ２１（ｎ　） ■ ０”Ｐ−ＯＣ＋ｏＨｚ＋（ｎ） ０−Ｃ４゜Ｈｚ＋（ｎ） Ｓ−１フ これらの有機溶媒は、本発明に係るマゼンタカプラーに
対し、２０乃至１５０重量％の割合で用いられる。好ま
しくはカプラーに対し４０乃至１００重量％である。な
お、本発明の２−　（２’　−ヒドロキシフェニル）ヘ
ンシトリアゾール系化合物が常温にて液状である場合に
は、特にこれらの有機溶媒は用いなくてもよい。

カプラー等の疎水性化合物を＾沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用い
て水中に分散する時の分散助剤として、アニオン性界面
活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤
を用いる事が出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
に適用されるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラー
印画紙に適用した場合に本発明の効果が有効に発揮され
る。

このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有す
るハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の暦数及び層順で積層した構造を有しているが、咳
層数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更し
ても良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀
、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン
化銀乳剤に使用される任意のものを用いる事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得られたもの
でもよい。該粒子は一時に成長させても良いし、種粒子
をつくった後、成長させても良い。種粒子をつくる方法
と成長させる方法は同じであっても、異なっても良い。

ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のｏ
　Ｈ，ｐ　Ａ！；Ｉをコントロールしつつ逐次同時に添
加する事により、生成させても良い。成長後にコンバー
ジョン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても
良い。

ハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハロゲン化
銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の粒子サイ
ズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長速度をコ
ントロール出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒
子を形成する過程及び／又は成長させる過程で、カドミ
ウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩又は
ｍ塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を用いて金
属イオンを添加し、粒子内部に及び／又は粒子表面に包
含させる事が出来、また過当な還元的雰囲気におく事に
より、粒子内部及び／又は粒子表面に還元増感核を付与
出来る。

ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長の終了後
に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、あるいは含有
させたままで良い。該塩類を除去する場合には、リサー
チ・ディスクロージャー１７６４３号記載の方法に基づ
いて行う事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、内
部と表面が均一な層から成っていても良いし、興なる層
から成っていても良い。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、Ｉ
Ｉ像が主として表面に形成されるような粒子であっても
良く、また主として粒子内部に形成されるような粒子で
も良い。

ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、規
則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板状のよう
な変則的な結晶形を持つものでも良い。これら粒子にお
いて、（１００）面と（１１１）面の比率は任意のもの
が使用出来る。又、これら結晶形の複合形を持つもので
も良く、様々な結晶形の粒子が混合されても良い。

ハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した２種以上のハロゲ
ン化銀乳剤を混合して用いても良い。

ハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感される。即ち
、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、活性ゼラ
チンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用いるセレン
増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他の貴
金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又は組み合
わせて用いる事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色素として
知られている色素を用いて、所望の波長域に光学的に増
感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、２種以上
を組み合わせて用いても良い。増感色素と共にそれ自身
分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光を実質的
に吸収しない化合物であって、増感色素の増感作用を強
める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。

ハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、保存中、
あるいは写真処理中のカプリの防止及び／又は写真性能
を安定に保つことを目的として、化学熟成中及び／又は
化学熟成の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロ
ゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカブ
リ防止剤又は安定剤として知られている化合物を加える
事が出来る。

ハロゲン化銀乳剤のバインダー（又は保護コロイド〉と
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子・のグラフト
ポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体、単一
あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等の親水
性コロイドも用いる事が出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー（又は保護コロイ
ド）分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
る量添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び／又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良などを目的と
して、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物（ラテッ
クス）を含む事が出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現像処理において、芳香族第１級アミン現像剤（例えば
ｐ−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など）の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成する、色素形成カプラーが用いられる。該色素形成性
カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペク
トル光を吸収する色素が形成されるように選択されるの
が普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形
成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形
成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成
カプラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記
組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材
料をつくっても良い。

イエロー色素画像形成カプラーとしては、アシルアセト
アミド型ベンゾイルメタン型の４光量もしくは２当量カ
プラーが代表的であり、例えば米国特許第２，１８６，
８４９号、同第２，３２２，０２７号、同第２．７２８
，６５８号、同第２，８７５，０５７号、同第３，２６
５．５Ｈ号、同第３，２７７．１５５号、同第３，４０
８．１９／、号、同第３，４１５，６５２号、′同第３
，４４７，９２８号、同第３，６６４．８４１号、同第
３，７７０，４４６号、同第３，７７８，２７７号、同
第３，８４９，１４０号、同第３，８９４，８７５号、
英国特許第７７８．０８’ｌ１号、同第８０８，２７６
＠、同第８７５，４７６号、同第１，４０２，５１１号
、同第１，４２１，１２６Ｍ及び同第１．５１３，８３
２号の各明細副および特公昭４’！−１３５７６号、特
開昭４８−２９４３２号、同４８−６６８３４号、同４
９−１０７３０号、同４９−１２２３３５号、同５０−
２８８３４号、同５０−１３２９２６号、同　５０−１
３８８３２号、同　５１−３６３１号、同５１−１７４
３８号、同５１−２６０３８号、同５１−２６０３９号
、同５１−５０７３４＠、同５１−５３８２５号、同５
１−７５５２１号、同５１−８９７２８＠、同５１・−
１０２６３８＠、同　５１−１０７１３７号、同　５１
−１１７０３１号、同　５１−１２２４３９号、同　５
１−１４３３１９号、同　５３−９５２９号、同５３−
８２３３２＠、同　５３−１３５６２５号、同　５３１
４５６１９号、同５４−２３５２８号、同５４−４８５
４１号、同５４−６５０３５号、同５４−１３３３２９
号、同５５−５９８号の各公報などに記載されている。

シアン色素画像形成カプラーとしては、フェノール系、
ナフトール系４当量もしくは２当量型シアン色素画像形
成カプラーが代表的であり、米国特許第２，３０６，４
１０号、同第２，３５６，４７５号、同第２．３６２，
５９８号、同第２，３６７．５３１号、同第２，３６９
，９２９号、同第２，４２３，７３０号、同第２，４７
４，２９３号、同第２，４７６．００８号、同第２，４
９８，４６６号、同第２，５４５．６８７号、同第２，
７２８，６６０号、同第２，７７２，１６２号、同第２
，８９５，８２６号、同第２，９７６、１４６号、同第
３，００２．８３６号、同第３，４１９，３９０号、同
第３，４４６，６２２号、同第３，４７６．５６３号、
同第３，７３７，３１６号、同第３，１５８．３０８号
、同第３，８３９，０４４号、英国特許第４７８，９９
１号、同第９４５，５４２号、同第１，０８４，４８０
号、同第１．３７７．２３３号、同第１，３８８，０２
４号及び同第１，５４３．０４０号の各明細書、並びに
特開昭４７−３７４２５号、同５０−１０１３５号、同
５０−２５２２８号、同　５Ｇ−１１２０３８号、同５
Ｇ−１１７４２２号、同５０−１３０４４１号、同５１
−６５５１号、同５１−３７６４７号、同５１−５２８
２８号、同　５１−１０８８４１号、同　５３−１０９
６３０号、同５４−４８２３７号、同５４−６６１２９
号、同５４−１３１９３１号、同５５−３２０７１号の
各公報などに記載されている。

カラードカプラーとしては、例えば英国特許第９３７．
６２１号、同　１，０３５，９５９号、同　１，２５５
，１１１号、特開昭４８−２２０２８号、同５２−４２
１２１号、特公昭３８−２２３３５号、同４４−２０１
５号、同４４−１５７５４号、米国特許第２．４４９，
９６６号、同　２，５２１，９０８号、同　２，５４３
，６１１号、同２，８０１，１７１号、同２，９８３，
６０８号、同３，００５，７１２号、同３，０３４，８
９２号、同３，０６１，４３２号、同３，４１９．３９
１号、同３，４７６．５６０号、同３，４７６．５６３
号、同３．４８１，７４１号、同３，５１９，４２９号
、同３，５８３，９７１号、同３，６２２，３２８号、
同３，６８４，５１４号、同４，００４，９２９号、同
４，０７０，１９１号、同４，１３８，２５８号、同４
，１３８．２６４号、同　４，１６３，６７０号、同　
４，２９２，４００号、同４．３６９，２４８号等に記
載のものを使用できる。

ＤＩＲカプラーとしては、例えば英国特許第９５３．４
５４号、米国特許第３，２２７，５５４号、同３，６１
５．５０６号、同３，６１７，２９１号、同３．７０１
，７８３号、同３．９３３，５００号、同　４，０９５
，９８４号、同　４，１４９，８８６号、同４，２８６
，０５４号、同４，３５９，５２１号、特開昭５２−９
０９３２号、同５Ｂ−１１６０２９号、同５７−１５１
９４４号等に記載の化合物及び、米国特許第４，２４８
，９６２号、同４，４０９．３２３号、特開昭　５７−
１５４２３４号、同　５ｇ−４８２９４９号、同５８−
２０５１５０号、同５９−１９５６４３号、同５９−２
０６８３４号、同５９−２０６８３６号、同５９−２１
０４４０号、同６Ｇ−７４２９号等に記載のタイミング
ＤＩＲカプラーを好ましく用いることができる。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、色素画像の劣
化を防止する褪色防止剤を用いる事が出来る。好ましい
ものとしては下記一般式［Ａ１−［Ｈ］及び［Ｊ］、［
Ｋ］で示されるものが挙げられる。

以下余白 一般式［Ａ］ 式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルクニル基、ア
リール基、又は複素環基を表し、Ｒ２、Ｒ５、Ｒｓ、Ｒ
ｓはそれぞれ水素原子、７％ロデン原子、ヒドロキシ基
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ
基またはアシルアミノ基をあられし、Ｒ１はアルキル基
、ヒドロキシ基、アリ、−ル基又はアルコキシ基を表す
。

又Ｒ，とＲ２は互いに閉環し、５ｉ４または６貝環を形
成してもよく、その時のＲ４はヒドロキシ′ＪＪ、また
はアルコキシ基をあられす、又Ｒ３とＲ４が閉環し、５
貝の炭化水素環を形成してもよく、そのときのＲ１はフ
ルキル基、アリール基、または複索環基をあられす、但
し、Ｒ１が水素原子で、かつ、Ｒ１がヒドロキシ基の場
合を除く。

前記一般式［Ａ］において、Ｒ１は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、７１７−ル基または複素環基をあら
れすが、このうも、アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ
−オクチル基、ヘキサデシル基などの直ｉＲ＊たは分岐
のフルキル基を挙げることができる。またＲ１であられ
されるアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニ
ル、オクテニル基などが挙げられる。さらに、Ｒ１の７
リール基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げら
れる。さらにＲ１で示される複素環基としては、テトラ
ヒドロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げら
れる。これら各基は置換基を有することができ、例えば
置換基を有するアルキル基としてベンジル基、エトキシ
メチル基、置換基をあられすが有するアリール基としで
メトキシ７ヱニル基、クロルフェニル基、４−ヒドロキ
シ−３，５−ジブチルフェニル基などが挙げられる。

一般式［ＡＩにおいて、Ｒ２、Ｒ２、ＲｓおよびＲ６は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ７基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記Ｒ１について述べた
アルキル基、アルケニル基、７リール基と同一のものが
挙げられる。＊た前記ハロゲン原子どしでは、例えば７
７素、塩素、臭素などを亭げることができる。さらに前
記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基など
を具体的に挙げることができる。さらに前記アシルアミ
ノ基はＲ’　Ｃ０ＮＨ−で示され、ここにおいて、Ｒ′
はアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ペン
シルなどの各基）、アルケニル基（例えばアリル、オク
テニル、オレイルなどの各基）、アリール基（例え゛ば
フェニル、メト斗ジフェニル、ナフチルなどの各基）、
またはへテロ環基（例えばピリジル、ピリミジルの各基
）を挙げることができる。

また前記一般式［ＡＩにおいて、Ｒ４はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基については、前記Ｒ１
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。＊たＲ１のアルケニル基につ
いては前記Ｒ２、Ｒ１、Ｒ４およびＲ６について述べた
アルコキシ基と同一・のものを挙げることがでさる。

Ｒ７とＲ２は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環とｌ、では、例えばクロマン、クマラン、メチレンジ
オキシベンゼンが苧げられる。

また、Ｒ５とＲ１が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としでは、たとえばインダンが挙げられる。これらの
城は、置換基（例えばアルキル、アルコキシ、アリール
）を有してもよい。

又％　Ｒ１とＲ２％　またはＲ，とＲ４が閉環して形成
する環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成
してもよいし、Ｒ２、Ｒ４などを連結基として、ビス体
を形成してもよい。

前記一般式［ＡＩで表されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、Ｒ
Ｏ−基（Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
またはへテロ環基を表す、）を４個有するビインダン化
合物であり、待に好ましくは下記＝般式［Ａ−１］で表
すことができる。

一般式［Ａ−１］ 式中Ｒはアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル
、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ベンジル、ヘキ
サデシル）、アルケニル基（例えば、アリル、オクテニ
ル、オレイル）、アリール基（例えば、フェニル、ナフ
チル）またはへテロ環基（例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル）で表される基をあられす、Ｒ１および
Ｒ３゜は各々水素原子、ハロゲン原子、（例えば、フッ
素、塩素、臭素）、アルキル基（例えばメチル、エチル
、ｉ−ブチル、ベンジル）、アルコキシ基（例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル）、またはアルコキシ基（
例ぇばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ）を表し、
Ｒ目は水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、
ｎ−メチル、ベンジル）、アルケニル基（例ｔｊＬ２−
フロベニル、ヘキセニル、オクテニル）、またはアリー
ル基（例えばフェニル、メトキシフェニル、クロルフェ
ニル、ナフチル＞をｉｔ。

前記一般式［Ａ］で表される化合物は、米国特許第３，
９３５，０１６号、同第３，９８２，９４４号、同第４
．２５４，２１６号、特開昭５５−２１００４号、同５
４−１４５５３０号、英国特許公開２，０７７．４５５
号、同２，０６２号、８８８号、米国特許第３，７８４
，３３７、同第３．４３２３００号、同第３，５７４，
６２７号、同第３．５７３，０５０号、特開昭５２−１
５２２２５号、同５３−２０３２７号、同５３−１７７
２９号、同５５−６３２１号、英国特許第１ｖ３４フ、
５５６号、同公開２．０６６．９７５号、特公昭５４−
１２３３７号、同４８−３１６２５号、米国特許第３，
７００，４５５号などに記載の化合物をも含む。

前記一般式［Ａ］で表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、より
好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に前記一般式［Ａ］で表される化合物の代表的具体
例を示す。

タイプ（１） ＲＩ １１’ タイプ（２） タイプ（３） タイプ（４） タイプ（５） タイプ（６） タイプ（７） タ　　イ　　プ　（２） 以下余白 タ　　イ　　プ　　（４） タ　　イ　　プ　　（５） タ　　イ　　プ　　（６） Ａ−７ 以下余白 一般式［Ｂ］ （式中Ｒ１およびＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし、Ｒ３は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、Ｒ５は水素原子、ハロ
ゲン原子、フルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
リールオキシ基、７シル基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、ジクロフルキル基またはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い１例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミ７基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルフ７モイル基などが挙げられる。

またＲ２とＲ５は互いに閉環し、５員または６貝環を形
成してもよい、Ｒ１とＲ３が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、了り−ル基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［Ｂ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｂ−１］、［Ｂ　−２］、［Ｂ　
−３］、［Ｂ　−４］、［Ｂ　−５］で示される化合物
に包含される。

一般式［Ｂ−１］ 一般式［Ｂ　−２１ 一般式［Ｂ　−３］ 一般式［Ｂ　−４］ 一般式［Ｂ　−５］ れ９ 一般式［Ｂ−１］、［Ｂ−２１，［Ｂ−３］、［Ｂ　−
４］および［Ｂ　−５］におけるＲ、％　Ｒ７、Ｒ１お
よびＲ１は前記一般式［Ｂ］におけるのと同じ意味を持
ち、Ｒ６、Ｒ６、Ｒ１、Ｒ，、Ｒ１およびＲＩ。

は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、７リールオキシ基もしくはヘテロ環基をあ
られす。

さらにＲ６とＲ６、Ｒ６とＲ２、Ｒ７とＲ８、Ｒ１とＲ
９およびＲ１とＲ１゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はフルキル基で置換されて
もよい。

前記一般式［Ｂ−１］、［Ｂ　−２］、［Ｂ　−３］、
［Ｂ　−４１および［Ｂ−５］においてＲ，およびＲ４
が水素原子、７ノ号キル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基またはシクロアルキル基、Ｒｓ％　Ｒ＠、Ｒ２、Ｒ１
、Ｒ１およびＲ３゜が水素原子、フルキル基、またはシ
クロアルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｂ］で表される化合物はテトラヘドロン（Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１９フＯ，ｖｏ１２６，４７４
３〜４７５１頁、日本化学会誌、１９７２．Ｎｏ１０，
０９８７−１９９０頁、ケミカル（ｃｈｅｗ、　Ｌｅｔ
ｔ、　）ｔ　１９７２（４）：１１１５〜３１Ｂ頁、特
開昭５５−１３９３８３号に記載されている化合物を表
し、含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することがで軽る。

前記一般式［Ｂ　］′？表される化合物のうち使用量は
、前記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して５〜３
００モル％該好ましく、より好ましくは１０〜２００モ
ル％である。

以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。

以下余白 一般式［Ｃｌ Ｒ１ 一般式［Ｄ］ Ｒ＋ 式中Ｒ１およびＲ１は水素原子、１１ロデン原子、フル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アシルオキシ基、アシ
ル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基もしく１よアルコキレカルボニル基をあられす。

以、上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されても
よい１例えばノ１０デン原子、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、
アルコキレカルボニル基、ア１）−ルオキンカルポニル
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド
基、スル７７モイル基などが挙げられる。

Ｙはベンゼン環と共にジクロマンもしくはノクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［ＣＩおよＩ／［ＤＩで示される化合物のうち、
本発明に特に有用な化合物は一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−
２］、［Ｄ−１］お上り［Ｄ−２］で示される化合物に
包含される。

一般式［Ｃ−１］ 一般式［Ｃ−２］ 一般式［Ｄ　−１１ 一般式［Ｄ−２１ 一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２］、［Ｄ−１］および［Ｄ
　−２］におけるＲ、およびＲ２は前記一般式ｒｃ］お
よ（／、［ＤＩにおけるのと同じ意味を持ち、Ｒ１、Ｒ
１、Ｒ６、Ｒ６、Ｒ７およびＲ６は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アル
ケニル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリール
オキシ基もしくはヘテロ環基をあられす、さらにＲ１と
Ｒ，ＳＲ，とＲ１、Ｒ５とＲ，、Ｒ，とＲ２およびＲ７
とＲ１１とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、
さらに該炭素環はフルキル基で！！換されてもよい。

前記一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２］、［Ｄ−１］および
［Ｄ　−２］荷おいて％　Ｒ１およびＲ２が水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロ
アルキル基、Ｒ４、ＲいＲ３、Ｒ６、Ｒ７およびＲ１が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が特に有用である。

一般式［ＣＩ、［Ｄ］″Ｃｈ表される化合物は日本化学
学会誌（Ｊ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　ｐａｒｔ　Ｃ）
　１９６８．（１４）、　１９３７〜１８頁、有機合成
化学協会誌１９７０．２８（１）、　６０〜６５頁、テ
トラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ）１９７３、　（２９）、２７０７〜２７１０真に記
載されでいる化合物を含み、かつこれらに記載されでい
る方法に従って合成することができる。

前記一般式［ＣＩ、［ＤＩで表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３０
０モル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル
％である。

以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。

以下余白 一般式（Ｅ） 式中Ｒ’は水素原子、アルキル基、アルクニル基、アリ
ール基、アシル基、ジクロフルキル基もしくはヘテロ環
基を表わし、Ｒ３は水素原子、ノ〜ロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカルボ
ニル基を表わす。

Ｒ２お上りＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。

以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい０例えばアル岬ル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スル７７モイル基等が挙げられる。

虫たＲ１とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貫環を形
成してもよい。

その時Ｒ３お上りＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルクニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［Ｅ）で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式（Ｅ−１）。

（Ｅ−２）、（Ｅ−３）ｔ（Ｅ−４）および（Ｅ−５）
で示される化合物に包含される。

一般式（Ｅ−１） ＯＲ＋ 一般式（Ｅ−２） ＯＲ＋ 一般式（Ｅ−３） 一般式（Ｅ−４） 一般式（Ｅ−５） 一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ
３およびＲ４は前記一般式（Ｅ）におけるのと同じ意味
を持ち、Ｒ’、Ｒ＠、Ｒフ、Ｒ”、Ｒ１お上りＲ１０は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表わ
す、さらにＲ１とＲ“、Ｒ＠とＲ’、Ｒ’とＲ”、Ｒ”
とＲ”お、ｋｃ／Ｒ’とＲＩ０とが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置
換されでもよい。

前記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）において、Ｒ’、Ｒ
”、Ｒ”およびＲ４が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式（Ｅ−５）において、Ｒ３
およびＲ４が水素原子、アルキル基、フルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般式
（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）ニオイテ、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、
Ｒ”、Ｒ”およｔ／Ｒ”が水素原子、アルキル基、また
はシクロアルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｅ］により表される化合物はテトラヘトｏ　ン
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　１９８
５．（８Ｌ４５７−４６０頁日本化学学会誌（Ｊ、　Ｃ
ｈｅｗ、Ｓｏｃ、　ｐａｒｔ　Ｃ）　１９６６゜（２２
）、　２０１３〜２０１８頁、（Ｚｈ、　ｅｒｇ、　Ｋ
ｈｉｍ）　１９７０．（６）。

１２３０〜１２３７真に記載されでいる化合物を含み、
かつこれらに記載されでいる方法に従って合成すること
ができる。

前記一般式［Ｅ−１］で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モ
ル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％で
ある。

以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。

以下余白 一般式ＣＦ） Ｒ２Ｒコ 式中Ｒ８は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルフキジカルボニ
ル基をあられす。

Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基をあられす。

Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
はアルフキジカルボニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い１例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル７ミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基などが挙げられる。

又Ｒ３とＲ７は互いに閉環し、５貝または６）ｌ環を形
成してもよい、その時Ｒ３およびＲ１は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［Ｆ］で示されろ化合物のう九、本発明に特に有
用な化合物は一般式ＩＦ−１１、［Ｆ　−２］、［Ｆ−
３１、ＩＦ　−４１および［Ｆ　−５］で示される化合
物に包含されろ。

以下余白 一般式（Ｆ−１） 一般式（Ｆ−２） 一般式（Ｆ−３） 一般式（Ｆ−４） 一般式（Ｆ−５） 一般式［Ｆ−１１および［Ｆ　−５１におけるＲ１、Ｒ
７、Ｒ５およびＲ４は前記一般式［Ｆ］におけるのと同
じ意味を持ち、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ，、Ｒ１およびＲ
１゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、７リール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基
をあられす。

さらにＲ３とＲい　Ｒ６とＲ１、Ｒ１とＲ，、Ｒ１とＲ
３およびＲ，とＲ１゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。

また［Ｆ−３Ｊ、［Ｆ　−４］および［Ｆ　−５］にお
いて２つのＲ１〜ＲＩＧはそれぞれ同一でも異なってい
てもよい。

前記一般式［Ｆ−１］、［Ｆ　−２］、［Ｆ　−３］、
［Ｆ　−４］および［Ｆ　−５］においてＲ１、Ｒ２、
およびＲ１が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
、Ｒ１が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基またはジクロフルキル基、さらにＲ３、Ｒ６、Ｒ
９、Ｒ６、Ｒ１およびＲ１゜が水素原子、アルキル基、
またはシクロアルキル基である化合物が特に有用である
。

一般式［Ｆ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｃｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　１９７０
＊　Ｖｏｌ　２６，４７４３〜４７５１頁、日本化学学
会誌１９７２．　Ｎｏ、１０．１９８７〜１９９０頁、
シンセサイズ（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）　１９７５＋　Ｖ
ｏｌ　Ｌ３９２〜３９３頁、（Ｂｕｌ　５ａｃｓ　Ｃｈ
ｉｍ＋　ｌ１ｅｌＦＩ）　１９７５．　Ｖｏｌ８４（）
）ｔ　７４７〜７５９頁に記載されている化合物を含み
、かつこれらに記載さ八でいる方法に従って合成するこ
とができる。

前記一般式［Ｆ］で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モル％
が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％である
。

以下に一般式ＩＦＩで表される化合物の具体的代表例を
示す。

以下余白 一般式（Ｇ） Ｒ′ 式中Ｒ１及びＲ３は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、了り−ル基、アリールオキシ基、アシル基、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシルア
ミノ基、７シルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリ、−ル基、アリールオキシ基、ヒド
ロキシ基、フルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル７ミ７基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基等が挙げられる。

またＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貫または６貝の炭化
水素環を形成してもよい。この５員または６員の炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、７リール
基、７リールオキシ基またはへテロ環基等で置換されて
もよい。

Ｙはインダン環を形成するのに必要な原子群を表す。イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、ジクロフルキル基、ヒドロキシ基、７リ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されでもよく、更にスピロ環を形成しでもよい。

一般式ＣＧ）で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式（ａ−ｉ）〜（Ｇ−３）で示される化
合物に包含される。

以下余白 一般式ＣＧ−１） Ｋ＋ 一般式（Ｇ−２３ 一般式（Ｇ−３） 一般式（Ｇ−１３〜（Ｇ−３）におけるＲ　Ｉ、Ｒ２及
びＲ３は一般式（Ｇ）におけるものと同義であり、Ｒ’
、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’及びＲ９は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケ
ニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基を、１１す、ｌ　Ｒ４とＲ’Ｓ　Ｒ’
とＲ’、Ｒ’とＲ’、ＲマとＲ＠及びＲ・とＲ９は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水
素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）において、Ｒ１及び
Ｒ３が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、Ｒ２が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、Ｒ
’、Ｒ”、ＲフＩＲ”及びＲ％が水素原子、アルキル基
土たはシクロアルキを基である化合物が特に有用である
。

前記一般式［Ｇ］で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、
より好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に一般式［Ｇ］で表される化合物の代表的具体例を
示す。

以下余白 一般式（Ｈ） Ｒコ 式中Ｒ’及びＲ１は、それぞれ水素原子、／”１０デン
原子、フルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル
基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド
基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を
表す。

Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。

上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホン７ミド基、スル
７７モイル基等が挙げられる。

またＲ１とＲ２及（／Ｒ”とＲ３は互いに閉環し、５員
または６真の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素
環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基
、アリールオキシ基、ヘテロ゛環基等で置換されてもよ
い。

Ｙはインダン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。

一般式（Ｈ）で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−２）で示される化
合物に包含される。

一般式（Ｈ−２３ 一般式（Ｈ−３） 一゛般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３）におけるＲ１．Ｒ２及
びＲ３は一般式（Ｈ）におけるものと同義であり、Ｒ’
、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ＠及１／Ｒ”ｌｉ、＋レソｔｔ
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオ
キシ基またはへテロ環基を表す、またＲ’とＲ５，Ｒ’
とＲ＠、Ｒ＠とＲ７、Ｒ’、！：Ｒ”及（／ＲａとＲ１
は互いに閉環して炭化水素環を形成して６よく、更に該
炭化水素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３）において、Ｒ１及（
／Ｒ”がそれぞれ水素原子、フルキル基またはシクロア
ルキル基％　Ｒ’が水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基またはシフロアｋｉｆ）’に基、Ｒ’
、Ｒ５，Ｒ＠、Ｒ’、Ｒ・及ｔ／Ｒ＠カ、ツレぞれ水素
原子、アルキル基またはシクロアルキル基である化合物
が特に有用である。

前記一般式［Ｈ］で表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許３．０５７９２９号、Ｃｈｅｗ。

Ｂ　ｅｒ、　１９７２．　９５（５）＝　　　１６７３
〜１６フ４頁、　Ｃｈｅｍｉｓｔ−ｒｙ　　Ｌ　ｅｔｔ
ｅｒ８＊　　１９８０ｔ７３９−７４２頁に従って製造
で終る。

前記一般式［Ｈ］で表される化合物マゼンタカプラーに
対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは１
０〜２００モル％である。

以下に一般式［Ｈ］で表される具体的代表例を示す。

以下余白 たはアリール基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７員環
の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但
し、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、
２以上のへりａ原子がある場合、少なくとも２つのへテ
ロ原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Ｒ′で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロベニル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７貝のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ’で表されるアリール基としては、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ１で表される脂肪族基、ジクロフルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルフ
斗シ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらのｉｌＩ！挨基はさら
に置換基を有してもよい。

前記一般式（Ｊ）において、Ｙは窒素原子と共に５〜７
員環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少なくとも２つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なくとも２つのへテロ原子は互いに隣接してはな
らない、一般式（Ｊ）で表される化合物の複素環におい
て、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼン
タ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが出来
ないので好ましくない。

前記一般式（Ｊ）で表される化合物の前記５〜７員環の
複１！′環は置換基を有してもよく、置換基としては、
アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、スルホニル基、スル７７モイ
ル基等であり、更に置換基を有してもよい、また、該５
〜７′Ｒ環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複
素環が好ましい、又、該複葉環にベンゼン環等が縮合し
ていてもよく、スピロ環を形成してもよい。

本発明の前記一般式（Ｊ）で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラ
ーに対して５〜３００−ｅル％が好ましく、より好まし
くは１０〜２（）０モル％である。

以下に一般式（Ｊ）で′Ｒされる代表的具体例を示す。

以下余白 Ｊ−６３ Ｊ−６４ Ｊ−６フ Ｊ−フＯ 「 ■ ！Ｉ Ｈ 前記一般式（Ｊ）で表される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−
２）で表される化合物である。

一般式［Ｊ−１］ 一般式（Ｊ−２３ 式中、Ｒ２及ｖＲ３は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す、但し、Ｒ”とＲ”が同時に水
素となることはない。Ｒ４〜ＲＩ３は、それぞれ水素原
子、アルキル基またはアリール基を表す。

前記一般式（Ｊ−１）及び（Ｊ−２）においてＲ２及び
Ｒ５は、それぞれ水素原子、アルキル基または７リール
基を表すが、Ｒ２＊たはＲ３で表さ八るアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基等が挙げられる。Ｒ１たはＲ３で表され
るアリール基としては、フェニル基等が挙げられる。Ｒ
１＊たはＲ３で表されるフルキル基、アリール基は置換
基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、複素環基等が挙げられる。

Ｒ２とＲｚ（置換基を含む）の炭素原子数の合計は６〜
４０が好ましい。

前記一般式（Ｊ−１３または（Ｊ−２３において、Ｒ４
〜Ｒ”は、それぞれ水素原子、アルキル基土たはアリー
ル基を表すが、Ｒ４〜Ｒ”で表されるアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる　１４
〜ＲＩ３で表されるアリール基としではフェニル基等が
挙げられる。

前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−２）で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物（Ｊ　
−１）〜（Ｊ−３０）及び例示ホモピペラジン系化合物
（Ｊ−５１）〜（Ｊ−８２）の中に記載した通りである
。

次に、前記一般式（Ｊ）で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。

合成例−１（化合物Ｊ−２の合成） ピペラジン９．０．及びミリスチルブロマイド５５゜を
溶解した１００唆のアセトン中に、無水炭酸カリウム１
５．を加え、１０時間煮沸還流して反応させた。

反応後、反応液を５００峻の水にあけた後、酢酸エチル
５００唆で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウム
で乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目的物
が得られた。アセトン３００峻で再結晶して、白色鱗片
状の結晶３４ｇ（収率７０％）を得た。

融点５５〜５８℃ 合成例−２（化合物Ｊ−３４の合成） ４−モルホリノアニリン１８ｇを酢酸エチル１００唆に
溶解した後、攪拌下、反応液を２０”Ｃに保ちながら、
無水酢ｆｉｌ１２唆を少しずつ加えた。無水酢酸添加後
、水冷し、析出する結晶を間取した後、酢酸エチルで再
結晶し、白色粉末状結晶１８．５ｇ（収率７５％）を得
た。

融、＄７２０７〜２１０’Ｃ 一般式（Ｋ） 式中％Ｒ１は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７員環の複葉環を
形成するのに必要な単なる結合手または２価の炭化水素
基を表すａ　Ｒ”ｔＲ３ｔＲ’ｔＲｉ　、　Ｒ＠　、　
Ｒ？は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル
基またはアリール基を表す、但し、Ｒ２とＲ４及びＲ３
とＲ１は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原
子、Ｙと共に不飽和の５〜７員環の複素環を形成しても
よい、また、Ｙが単なる結合手のときは、ＲＳとＲｔが
互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Ｙと
共に不飽和の５員環の複素環を形成してもよい、また、
Ｙが単なる結合手でないときは、Ｒ５とＹ、Ｒ丁とＹま
たはＹ自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Ｙと共に
不飽和の６員または７貫の複素環を形成してもよい。

Ｒ１で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が苧げられ
、不飽和アルキル基としでは、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。

Ｒ′で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

１１”？表されるアリール基としては、置換基を有して
もよいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ’で表される脂肪族基、ジクロフルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ７
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、フルキルチオ基、７１
Ｊ−ルチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置
換基を有しでもよい。

前記一般式（Ｋ）において、Ｙは窒素原子と共に５〜７
員環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
２価の炭化水素基を表すが、Ｙが単なる結合手のときは
、さらにＲ５とＲ１が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の５貝環の複葉環を形成してもよく、また
Ｙが２価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場合
には、Ｒ５とＹまたはＲ７とＹとで不飽和結合を形成し
、不飽和の６員環の複素環を形成してもよく、またエチ
レン基の場合には％　Ｒ’とＹ、Ｒ’とＹまたはＹ白身
で不飽和結合を形成し、不飽和の７Ｒ環の・複素環を形
成してもよい、さらにＹで表される２価の炭化水素基は
置換基を有してもよく、この置換基には、アルキル基、
カルバモイル基、アル今ルオキシカルポニル基、アシル
アミ７基、スルホンアミド基、スル７７モイル基、アリ
ール基、ヘテロ環基等が挙げられる。

前記一般式〔Ｋ〕において、Ｒ２，Ｒ’、Ｒ４，Ｒｉ。

Ｒｓ及びＲｔは、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、Ｒ”〜Ｒ７で表
される脂肪族基としでは、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、へ今すデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。

Ｒ２−Ｒ７で表されるシクロアルキル基としては、置換
基を有してもよい５〜７員環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。

Ｒ２−Ｒ７で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

上記Ｒ２〜Ｒ１で表されろ脂肪族基、シク豐アルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ７基、スル７７モイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。

前記一般式（Ｋ）で表される化合物は、５〜７員環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。

以下に前記一般式（Ｋ）で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるマゼンタカプラー
に対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは
１０〜２００モル％である。

前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的具体例を示
す。

以下余白 に−３４ に−３５ に−３６ に−３７ に−３８ に−３９ に−４０ に−４１ 次に、前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的合成
例を示す。

合成例−１（化合物に−１４の合成） ピペラジン９．Ｏｇ及Ｖミリスチルブロマイド２８ｇを
溶解した６０．９の７七トン中に、無水炭酸カリウム６
．０ｇを加え、２０時間煮沸還流して反応させた。

反応後、反応液をａ　ｏ　ｏ　、ｇの水に注ぎ込んだ後
、酢酸エチル３０　Ｏｖ（Ｉで抽出した。酢酸エチル層
を硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると
、白色結晶の目的物が得られた。アセトン１００　ｍ（
Ｉ　で再結晶して、白色鱗片状の結晶１２ｇ（収率４３
％）を得た。

融点１７５〜１８０℃ 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の層構成は如何
なる層数、層順もとりうるが、好ましくは、支持体上に
■イエローカプラー含有ハロゲン化銀乳剤層、■マゼン
タカプラー含有ハロゲン化銀乳剤層、■シアンカプラー
含有ハロゲン化銀乳剤層が支持体側より■−■−〇の順
に塗設されており、■と■、■−〇の間に中間層を、支
持体からみて■より遠い側に非感光性層を設け、前記■
と■の中１１１Ｉｌおよび■に隣接する非感光性層中に
紫外線吸収剤を含有させることが好ましく、上記■に隣
接する非感光性層中に紫外線吸収剤を含有させる場合は
、該層上に隣接して保護層を更に塗設したものが好まし
い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び／又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
／又は乳剤層中には、現像処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層、及び／又はその他の親水性コロイド層に感光材料の
光沢を低減する、加筆性を高める、感材相互のくつつき
防止等を目標としてマット剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び／又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び／
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び（現像促進、
５！謂化、増感等の）写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の層が塗布される支持体としてはバライタ層又はα−
オレフレインボリマー等をラミネートシた紙、合成紙等
の可撓性反射支持体、酢酸セルロース、ｖ／４ＷＩセル
ロース、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネイト、ポリアミド等の半
合成又は合成高分子からなるフィルムや、ガラス、金属
、陶器などの剛体等である。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は（支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性及び／又はその他の特性を向上するための）１また
は２以上の下塗層を介して塗布されても良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては２種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光（日光）
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フ
ライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光
、電子線、ｘｍ、γ線、α線などによって励起された蛍
光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いる
ことが出来る。

露光時間は通常カメラで用いられる１ミリ秒から１秒の
露光時間は勿論、１マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて１００マイクロ秒〜１
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、１秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠時に行なわれても良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事によりカラー画像を形成することが出
来る。

本発明において発色現像液に使用される芳香族第１級ア
ミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにおい
て広範囲に使用されている公知のものが包含される。こ
れらの現像剤はアミンフェノール系及びｐ−フェニレン
ジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離状
態より安定のため一般に塩の形、例えば塩ａｍまたは硫
酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般に
発色現像液１１について約０．１ｇ〜約３０９の濃度、
好ましくは発色現像液１ｆｌについて約１ｇ〜約１５（
ｌの濃度で使用する。

アミノフェノール系現像液としては、例えば〇−アミノ
フェノール、ｐ−アミンフェノール、５−アミノ−２−
オキシトルエン、２−アミノ−３−オキシトルエン、２
−オキシ−３−アミノ−１゜４−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。

特に有用な第１級芳香族アミン系発色現像剤はＮ、Ｎ’
−ジアルキル−ｐ−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、Ｎ、Ｎ’−ジエチルーｐ−フェニレンジアミン塩酸塩
、Ｎ−メチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、Ｎ、Ｎ
’　−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、２−
アミノ−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルアミノ）−ト
ルエン、Ｎ−エチル−Ｎ−β−メタンスルホンアミドエ
チル−３−メチル−４−アミノアニリン硫酸塩、Ｎ−エ
チル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、４−
アミノ−３−メチル−Ｎ。

Ｎ′−ジエチルアニリン、４−アミノ−Ｎ−（２−メト
キシエチル）−Ｎ−エチル−３−メチルアニリン−ｐ−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。

本発明において使用される発色現像液には、前記第１級
芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現像液に
通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ剤、
アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩、アル
カリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン化物、
ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤などを任意
に含有せしめることもできる。この発色現像液のｐＨ値
は、通常７以上であり、最も一般的には約１０〜約１３
である。

本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有機酸の金属錯塩を形成するために用いられる最も
好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはアミノ
ポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン酸
またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。

−これらの具体的代表例としては、次のものを挙げるご
とができる。

［１］エチレンジアミンテトラ酢酸 ［２］ニトリロトリ酢酸 ［３］イミノジ酢酸 ［４］エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 ［５］エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ（トリメチル
アンモニウム）塩 ［６コエチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 ［７］ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。

また硼酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等のｐＨ
１ｌｌ剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド
類等の通常漂白液に添加することが知られているものを
適宜添加することができる。

更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜＠酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウム
、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等の
亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢酸
ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から成る
ｐＨ緩衝剤を単独或いは２種以上含むことができる。

漂白定着液（浴）に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明のハロゲン化銀写真感光材料の処理を行なう場合、該
漂白定着液（浴）にチオ硫酸塩、チオシアン酸塩又は亜
硫酸塩等を含有せしめてもよいし、該漂白定着補充液に
これらの塩類を含有せしめて処理浴に補充してもよい。

漂白定着液の活性度を高める為に漂白定着浴中及び漂白
定着補充液の貯蔵タンク内で所望により空気の吹き込み
、又は酸素の吹き込みをおこなってもよく、或いは適当
な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素酸塩、過硫酸塩等を
適宜添加してもよい。

［実施例］ 以下に具体的実施例を示して本発明を更に詳しく説明す
るが、本発明の実施の態様がこれによって限定されるも
のではない。

〈実施例１〉 下記表−１に示した層構成にて試料を作成した。

表−１ 塗布量：　Ｉ（１／　１０００１” ここで、層１に用いたカプラー分散液組成を表−２に示
した如く変化させて各試料を作成した。

更に詳細な試料の作成方法を以下に示す。

表−２に示した本発明に係るカプラーおよび比較カプラ
ー４０ａを用いて、表−２に示した一般式［ａｌで表わ
される２−（２’　−１：ドロキシフ工二ル）ベンゾト
リアゾール系化合物を、カプラーに対してＯ又は５０重
量％を表中の高沸点有機溶媒４ｏａｊ　　および酢酸エ
チル１ｏｏＪ’の混合溶媒に加熱溶解し、この溶液をド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む５％ゼラチ
ン水溶液３００、Ｊ　　に添加した後、超音波ホモジナ
イザーにて乳化分散し、得られた分散液を緑感性塩臭化
銀乳剤５００ｇに混合し、ポリエチレン被覆紙に塗布乾
燥して層１を作成した。層２の作成も前記層１に示した
方法に準じた。

但し層１中のカプラー塗布層は８，０１（１／　１００
ｃｏ＋”、一般式［ａ　］で表わされる化合物の塗布量
は５，０■Ｍ１０ＧＣ１２とした。

（比較カプラー１） （比較化合物−１） 以上のようにして作成した１７種の試料に感光計（小西
六写真工業株式会社ＫＳ−７型）を使用して緑色光を用
い光模を通して露光した後、下記の処理工程に従って処
理を施した。

処理後、得られた各試料について、未発色部のＹ−ステ
ィン試験を以下の如く施した。得られた結果も表−２に
示す。

くＹ−スティン試験〉 アンダーグラス屋外曝露台（スガ試験機■製）を用いて
１力月間太陽光を曝射する前後の未発色部の青色濃度を
それぞれＤＢ　、Ｄｓ　とすると、Ｙ−スティン−Ｄ−
ＤＢ で表示した。

基準処理工程（処理温度と処理時間） ［１］発色現像　　　３８℃　　３分３０秒［２］漂白
定着　　　３３℃　　１分３０秒［３］水洗処理　２５
〜３０’Ｃ３分 ［４］乾　　燥　７５〜８０℃　約２分処理液組成 （発色現像液） ベンジルアルコール　　　　　　　　　１５−エチレン
グリコール　　　　　　　　　１ｓ　ｍｌ亜硫酸カリウ
ム　　　　　　　　　　２．０ｇ臭化カリウム　　　　
　　　　　　　　０．７　ｇ塩化ナトリウム　　　　　
　　　　　　０．２ｇ炭酸カリウム　　　　　　　　　
　　３０．ＯＱヒドロキシルアミン硫酸塩　　　　　　
３．０ｇポリリンＩ！（ＴＰＰＳ）　　　　　　　　２
．５０３−メチル−４−アミノ−Ｎ−エチル −Ｎ−（β−メタンスルホンアミド エチル）−アニリン硫酸塩　　　　　　５．５ｇ蛍光増
白剤（４，４’　−ジアミノ スチルベンズスルホン酸誘導体）　　　　１．ＯＱ水酸
化カリウム　　　　　　　　　　　２．０ｇ水を加えて
全量を１ρとし、ｐｌ−１１０，２０に調整する。

（ＩＩ白定着液） エチレンジアミンテトラ酢酸第２鉄 アンモニウム２水塩　　　　　　　　　６０ｇエチレン
シアミンチ“トラ酢酸　　　　　　３ｇチオ硫酸アンモ
ニウム（７０％溶液）１００ｍノ亜硫酸アンモニウム（
４０％溶液＞　　　２７．５　ａｌｌ炭酸カリウムまた
は氷酢酸でｐＨ７，１に調整し水を加えて全量を１夕と
する。

以下余白 表−２より、本発明に係るカプラーを用いた試料１乃至
１５では、比較カプラー１を用いた試料１６および１７
よりもＹ−スティンが低い。更に一般式［ａ　］で表わ
される化合物を比較カプラー１に用いた試料１７では、
改良効果が殆ど奏されないが、本発明に係るカプラーと
組合せた場合、著しいＹ−スティン抑制効果が発揮され
ていることが明らかである。

更に試料７と比較して試料８Ｃにおいて、むしろＹ−ス
ティンの改良効果が大きく、本発明に係る効果が単なる
紫外線カツト効果によるものではないことがかる。

また、３−７ニリノー５−ピラゾロン型マゼンタカプラ
ーのＹ−スティン改良に効果のある比較化合物−１は、
本発明に係るカプラーに対してはむしろ劣化させた。

以下余白 〈実施例２〉 下表３に示しｆｃ層構成になるように各層の塗布液を調
製し、支持体側より順次塗設して多層ノ・ロゲン化銀写
真感光劇料を作成した。

表３ イエローカプラー　Ｙ−１ シアンカプラー　Ｃ−Ｉ ｔ シアンカプラー　Ｃ−２ 比較カプラー　２ Ｌ 以下余白 なお、第３層については表−４に示す如く試料を作成し
、試料２２については、本発明の効果を明確にするため
に、第３層に用いるべき一般式［ａ　］の化合物を第５
層に添加した。

上記の如くして得られた各試料について実施例１と同様
の処理を施し、得られたマゼンタ発色試料の分光反射ス
ペクトルをカラーアナライザー６０７型（日立製作新製
）を用いて測定した。この際多試料の可視部の吸収スペ
クトルの最高濃度を１．０に規格化して測定した。各試
料の４２０ｎｍにおける反射濃度を副吸収濃度として色
純度の指標とした。

これらの結果も表−４に示す。

以下余白 表４ 表−４より実施例１と同様の結果が多層ハロゲン化銀写
真感光材料においても確認された。更に試料２２の如く
、一般式［ａ　］で表わされる化合物は本発明に係るカ
プラーと同一の層に用いないとその効果を示さないこと
も明らかである。

特許出願人　小西六写真工業株式会社 手続補正書（自船 昭和６１年０７月２４日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層の写真構成層を有するハロゲ
   ン化銀写真感光材料において、下記一般式［ I ］で示
   される化合物および２−（２′−ヒドロキシフェニル）
   ベンゾトリアゾール系化合物を前記写真構成層の少なく
   とも１つの同一層に含有することを特徴とするハロゲン
   化銀写真感光材料。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
   子群を表わし、該Ｚにより形成される環は置換基を有し
   てもよい。Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体と
   の反応により離脱しうる置換基を表わす。またＲは水素
   原子または置換基を表わす。］