JPS6264860A - 光学用成形材料 - Google Patents
光学用成形材料Info
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分針〉
本発明はレンズ、プリズム、情報記録ディスク用基盤が
どの光学用成形品の成形材料に関する。
どの光学用成形品の成形材料に関する。
〈従来技術〉
最近、ポリカーボネートがその透明性、耐熱性1寸法安
定性などの特徴を生かして、レンズ、情報記録ディスク
用基盤などに使用されるようにな9、それに伴なって種
々の提案がなされている。即ち、特開昭58−1261
19号公報では亜リン酸エステルを0.005〜0.5
重量%含有する平均分子量12000〜18000のポ
リカーボネートから成形する方法、また特開昭1’18
−180553号公報では酸化防止剤を0.01〜0.
06重量%含有する平均分子量15000へ18000
めポリカーボネート組成物が提案されている。しかしな
がら亜リン酸エステルまたは酸化防止剤のみを含有する
ポリカーボネートで成形した場合には、離型性が不充分
であるために、成形品には離型に伴々う歪を生ずること
があって、生産性の面から問題があった。また特開昭6
0−113201号公報では多価アルコールの部分エス
テルf 0.01〜0.2重量%配合した平均分子量1
2000〜19000のポリカーボネート↓す々る光学
用成形品が提案されているが、実際に350℃付近で成
形してみると、焼けを生ずることがあって充分に満足す
べきものとは言い難い。
定性などの特徴を生かして、レンズ、情報記録ディスク
用基盤などに使用されるようにな9、それに伴なって種
々の提案がなされている。即ち、特開昭58−1261
19号公報では亜リン酸エステルを0.005〜0.5
重量%含有する平均分子量12000〜18000のポ
リカーボネートから成形する方法、また特開昭1’18
−180553号公報では酸化防止剤を0.01〜0.
06重量%含有する平均分子量15000へ18000
めポリカーボネート組成物が提案されている。しかしな
がら亜リン酸エステルまたは酸化防止剤のみを含有する
ポリカーボネートで成形した場合には、離型性が不充分
であるために、成形品には離型に伴々う歪を生ずること
があって、生産性の面から問題があった。また特開昭6
0−113201号公報では多価アルコールの部分エス
テルf 0.01〜0.2重量%配合した平均分子量1
2000〜19000のポリカーボネート↓す々る光学
用成形品が提案されているが、実際に350℃付近で成
形してみると、焼けを生ずることがあって充分に満足す
べきものとは言い難い。
ポリカーボネートに亜リン酸エステルをリン原子として
0.001〜0.1重量%及び高級脂肪酸のモノグリセ
リドio、01〜2重量%配合した樹脂組成物(%開昭
49−111959号公報)、数社塩素原子として0.
0015〜0.0150重量%の塩素化合vIIを含有
するポリカーボネートに多価アルコールの部分エステル
を0.001〜0.5重量%配合した樹脂組成物(特開
昭60−81245号公報)が知られているが、こnら
の樹脂組成物が光学用成形材料として適するか否かにつ
いてト全く記載されていない。
0.001〜0.1重量%及び高級脂肪酸のモノグリセ
リドio、01〜2重量%配合した樹脂組成物(%開昭
49−111959号公報)、数社塩素原子として0.
0015〜0.0150重量%の塩素化合vIIを含有
するポリカーボネートに多価アルコールの部分エステル
を0.001〜0.5重量%配合した樹脂組成物(特開
昭60−81245号公報)が知られているが、こnら
の樹脂組成物が光学用成形材料として適するか否かにつ
いてト全く記載されていない。
〈発明の目的〉
本発明の目的は、成形が容易で焼けを生ずること々く、
かつ金型からの離型も円滑方、光学用成形材料を提供す
ることにある。
かつ金型からの離型も円滑方、光学用成形材料を提供す
ることにある。
〈発明の構成〉
本発明は、平均分子量13000〜18000のポリカ
ーボネート(4)100重量部当たり、亜リン酸エステ
ルの)全リン原子として0.00001〜0.005重
量部および多価アルコールの部分エステル■io、01
〜0.2重量部、配合してなる光学用成形材料である。
ーボネート(4)100重量部当たり、亜リン酸エステ
ルの)全リン原子として0.00001〜0.005重
量部および多価アルコールの部分エステル■io、01
〜0.2重量部、配合してなる光学用成形材料である。
本発明で使用されるポリカーボネート囚は二価フェノー
ルと、ホスゲンやジフェニルカーボネート々とのカーボ
ネート先駆体との反応によって製造することができる。
ルと、ホスゲンやジフェニルカーボネート々とのカーボ
ネート先駆体との反応によって製造することができる。
二価フェノールの例としては、ハイドロキノン、ジオキ
シジフェニル、ビス(ヒドロキシフェニル)アルカン、
ビス(ヒドロキシフェニル)シクロアルカン、ビス(ヒ
ドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシフェニ
ル)ケトン。
シジフェニル、ビス(ヒドロキシフェニル)アルカン、
ビス(ヒドロキシフェニル)シクロアルカン、ビス(ヒ
ドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシフェニ
ル)ケトン。
ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(ヒドロ
キシフェニル)スルホン、 或ハ、:れらの低級アルキ
ル又はハロゲン置換体などが挙げられるが、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパンが好ましく使用され
る。これらの二価フェノールは単独或は混合して使用さ
れる。′また、ポリカーボネートはそのカーボネート残
基の一部が芳香族二塩基酸残基で置換されていても工〈
或は分岐構造であってもよい。
キシフェニル)スルホン、 或ハ、:れらの低級アルキ
ル又はハロゲン置換体などが挙げられるが、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2.2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパンが好ましく使用され
る。これらの二価フェノールは単独或は混合して使用さ
れる。′また、ポリカーボネートはそのカーボネート残
基の一部が芳香族二塩基酸残基で置換されていても工〈
或は分岐構造であってもよい。
これらのポリカーボネートは、塩化メチレンを溶媒とし
て20℃で限定された極限粘度〔η〕を用いて次式 %式% から求めた平均分子量Mが13000〜18000のも
のである。13000未満では成形品の強度が実用に耐
えないし、18000を越えると溶融粘度が高いために
成形が円滑に行ない得す、成形品に光学歪を生ずるので
適当でない。
て20℃で限定された極限粘度〔η〕を用いて次式 %式% から求めた平均分子量Mが13000〜18000のも
のである。13000未満では成形品の強度が実用に耐
えないし、18000を越えると溶融粘度が高いために
成形が円滑に行ない得す、成形品に光学歪を生ずるので
適当でない。
ポリカーボネートに配合される亜リン酸エステルの)の
例としてはジフェニルホスファイト、ジフェニルイソデ
シルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト
、ジクレジルホヌファイト、トリシクロヘキシルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト、トリ(2−シクロ
ヘキシルフェニル)ホスファイト、トリ(2−)’fデ
シルェニル)ホスファイト、オクチルージ(4−1−プ
チルフェニル)ホスファイト、トリ(2,4−ジノニル
フェニル)ホスファイト、トリ(混合上ノー。
例としてはジフェニルホスファイト、ジフェニルイソデ
シルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト
、ジクレジルホヌファイト、トリシクロヘキシルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト、トリ(2−シクロ
ヘキシルフェニル)ホスファイト、トリ(2−)’fデ
シルェニル)ホスファイト、オクチルージ(4−1−プ
チルフェニル)ホスファイト、トリ(2,4−ジノニル
フェニル)ホスファイト、トリ(混合上ノー。
ジ−ノニルフェニル)ホスファイト、トリ(3−エチル
オキセタニルメチル)ホスファイトを挙げることができ
るが、特にトリフェニルホスファイト、トリ(ノニルフ
ェニル)ホスファイト、トリ(2,4−ジー(−ブチル
フェニル)ホスファイトが好ましく使用される。
オキセタニルメチル)ホスファイトを挙げることができ
るが、特にトリフェニルホスファイト、トリ(ノニルフ
ェニル)ホスファイト、トリ(2,4−ジー(−ブチル
フェニル)ホスファイトが好ましく使用される。
これらの亜リン酸エステルの配合割合は、ポリカーボネ
ートの100重量部当た9、リン原子として0.000
01〜0.005重量部である。
ートの100重量部当た9、リン原子として0.000
01〜0.005重量部である。
0.00001重量部未満でL熱安定化の効果を殆んど
生じないし、0.005重量部を超えると、かえって成
形時にポリカーボネートの分子量低下を生じたシ鎖条の
発生をもたらすので適当でない。
生じないし、0.005重量部を超えると、かえって成
形時にポリカーボネートの分子量低下を生じたシ鎖条の
発生をもたらすので適当でない。
更に1本発明で使用する多価アルコールの部分エステル
(C1は脚素数10〜3oの脂肪族−価カルボン酸と脚
素数2〜10の多価アルコールの部分エステルであり、
例えば、エチレングリフールモノパルミテート、グリセ
リンモノステアレート、ペンタエリスリトールモノパル
ミテート、ソルビタンモノステアレート、プロピレング
リコールモノオレエート。
(C1は脚素数10〜3oの脂肪族−価カルボン酸と脚
素数2〜10の多価アルコールの部分エステルであり、
例えば、エチレングリフールモノパルミテート、グリセ
リンモノステアレート、ペンタエリスリトールモノパル
ミテート、ソルビタンモノステアレート、プロピレング
リコールモノオレエート。
グリセリンジステアレート等を挙げることができる。こ
nらのエステルは一種tたは二種以上を混合して用いて
もよい。
nらのエステルは一種tたは二種以上を混合して用いて
もよい。
これらのエステルの配合割合は、ポリカーボネート10
0重量部当たり、0.01〜0.2重量部でおる。0.
01重量部未満では良好な離型性が得られず、0.2重
量部を超えると成形品に銀条を生じたり、金型の転写が
不完全になったりするので適邑でない。
0重量部当たり、0.01〜0.2重量部でおる。0.
01重量部未満では良好な離型性が得られず、0.2重
量部を超えると成形品に銀条を生じたり、金型の転写が
不完全になったりするので適邑でない。
本発明の成形材料は、成分囚、@及び(0を混合するこ
とによって得られる。混合方法としては例えばタンブラ
−、ナウターミキサ−等による方法、押出機で溶融混練
する方法、ポリカーボネートの溶液に成分(B)及びa
t混合してから溶媒を除去する方法などを挙げることが
できる。
とによって得られる。混合方法としては例えばタンブラ
−、ナウターミキサ−等による方法、押出機で溶融混練
する方法、ポリカーボネートの溶液に成分(B)及びa
t混合してから溶媒を除去する方法などを挙げることが
できる。
この際に通常ポリマーに添加される添加剤。
たとえばフェノール系安定剤、紫外線吸収剤。
難燃剤、或は本発明の効果を損々わない範囲内で少量の
ポリエステル、ポリスチレン々どの他のポリマー全混合
することができる。
ポリエステル、ポリスチレン々どの他のポリマー全混合
することができる。
〈発明の効果〉
本発明の成形材料は300〜400℃の高温成形におい
ても焼けを生ずること々く、薄肉成形用の型も容易に充
填し、かつ離型も円滑であり金型の転写も完全でおるの
で特に透明性、光学歪、転写性を重視する光学用成形品
の成形材料として適するものである。
ても焼けを生ずること々く、薄肉成形用の型も容易に充
填し、かつ離型も円滑であり金型の転写も完全でおるの
で特に透明性、光学歪、転写性を重視する光学用成形品
の成形材料として適するものである。
〈実施例〉
以下に実施例を挙げて本発明を詳述する。
なお、実施例中の特性評価は以下の方法で行なった。
1、 流動性
JIS K 7210 に準じ温度280℃、荷重2
.16 Kgfでメルトフローレート(MFR)を測定
した。測定値が大きい程流れ性が良い。
.16 Kgfでメルトフローレート(MFR)を測定
した。測定値が大きい程流れ性が良い。
2 複屈折
厚さ1−2 mm l 直径155mmの円板を成形し
、カールツアイス社製偏光顕微鏡にニコルプリズムのフ
ンベンサーを取シっけて測定した。数値が小さい程、複
屈折が小さく光学歪が少ないことを表わす。
、カールツアイス社製偏光顕微鏡にニコルプリズムのフ
ンベンサーを取シっけて測定した。数値が小さい程、複
屈折が小さく光学歪が少ないことを表わす。
実施例1〜4.比較例1〜2
平均分子量15100 のポリカーボネート粉末光1
記載の亜リン酸エステル及び部分エステルを添加混合し
押出機を通して得たベレットを115℃で8時間乾燥し
た後、射出成形機によって成形温度340〜360℃、
金型温度100〜110°で直径155m、厚さ1.2
mmの円盤を成形した。ペレットおよび円盤について行
なった評価の結果を表IK示す。
記載の亜リン酸エステル及び部分エステルを添加混合し
押出機を通して得たベレットを115℃で8時間乾燥し
た後、射出成形機によって成形温度340〜360℃、
金型温度100〜110°で直径155m、厚さ1.2
mmの円盤を成形した。ペレットおよび円盤について行
なった評価の結果を表IK示す。
表1
A:[x(ノニルフェニル)ホスファイトB:lス(2
,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトa:ペン
タエリスリトールモノステアレートb:グリセリンモノ
ステアレート 比較例1は成形さrt7を円盤が焼けており光学用成形
品として不適尚であった。
,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトa:ペン
タエリスリトールモノステアレートb:グリセリンモノ
ステアレート 比較例1は成形さrt7を円盤が焼けており光学用成形
品として不適尚であった。
比較例2は層温が円滑で々いため離型歪が発生した。
一1〇−
手続補正書
昭和61年 1月7日
Claims (1)
- 平均分子量13000〜18000のポリカーボネー
ト(A)100重量部当たり亜リン酸エステル(B)を
リン原子として0.00001〜0.005重量部、及
び多価アルコールの部分エステル(C)を0.01〜0
.2重量部、配合してなることを特徴とする光学用成形
材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60203460A JPS6264860A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 光学用成形材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60203460A JPS6264860A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 光学用成形材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6264860A true JPS6264860A (ja) | 1987-03-23 |
Family
ID=16474491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60203460A Pending JPS6264860A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 光学用成形材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6264860A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0299561A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学用芳香族共重合ポリカーボネート樹脂組成物 |
JPH04168151A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク用樹脂組成物 |
WO2000054263A1 (de) * | 1999-03-05 | 2000-09-14 | Vivastar Materials Ag | Aufzeichnungsschicht für optischen datenspeicher |
WO2000073387A1 (fr) * | 1999-05-27 | 2000-12-07 | Teijin Limited | Composition a base de resine de polycarbonate, support d'enregistrement optique et substrat afferent |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49111959A (ja) * | 1973-02-26 | 1974-10-24 | ||
JPS58126119A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光学的特性のすぐれた成形物の製造法 |
JPS60113201A (ja) * | 1983-11-24 | 1985-06-19 | Teijin Chem Ltd | 光学用成形品 |
-
1985
- 1985-09-17 JP JP60203460A patent/JPS6264860A/ja active Pending
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JP4617042B2 (ja) * | 1999-05-27 | 2011-01-19 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物、光記録媒体およびその基板 |
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