JPS6240703A - 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents

超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法

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JPS6240703A
JPS6240703A JP18016385A JP18016385A JPS6240703A JP S6240703 A JPS6240703 A JP S6240703A JP 18016385 A JP18016385 A JP 18016385A JP 18016385 A JP18016385 A JP 18016385A JP S6240703 A JPS6240703 A JP S6240703A
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steel sheet
ultra
silicon steel
unidirectional silicon
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JP18016385A
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Masao Iguchi
征夫 井口
Isao Ito
伊藤 庸
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 一方向性けい素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかで
も、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする
近年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつ
あるが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性け
い素鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのち、
いわゆるひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣
化の随伴を不可避に生じて、使途についての制限を受け
る不利が指摘される。
この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱履歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を拓くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。
さて一方向性け′い素鋼板は、よく知られているとおり
製品の2次再結晶粒を(110) (001) 、すな
わちゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変
圧器その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気
的特性として製品の磁束密度(Bo。
値で代表される)が高く、鉄損(W+tzso値で代表
゛される)の低いことが要求される。
この一方向性けい素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て
製造されるが、今までにおびただしい発明・改善が加え
られ、今日では板厚0.30mの製品の磁気特性がBo
o 1.90T以上、1,7.。1.05弱/kg以下
、また板厚0.23mの製品の磁気特性がBIGl、8
9T以上、1./、。0.90W/kg以下の超低鉄損
一方向性けい素鋼板が製造されるようになって来ている
特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーション」 (鉄損評価
)制度が普及している。
(従来の技術) このような状況下において最近、一方向性けい素鋼板の
仕上げ焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向での
レーザ照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分
化し、もって鉄損を低下させることが提案された(特公
昭57−2252号、特公昭57−53419号、特公
昭58−26405号および特公昭58−26406号
各公報参照)。
この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料としては効果的であるが、ひずみ取
り焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては
、レーザー照射によって折角に導入された局部微小ひず
みが焼鈍処理により解放されて磁区幅が広くなるため、
レーザー照射効果が失われるという欠点がある。
一方これより先に特公昭52−24499号公報におい
ては、一方向性けい素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっ
きやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付することによる
、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法が提案されて
いる。
しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアンプになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上げ後
に不可欠な絶縁被膜を塗布焼付した後の密着性に問題が
あるため、現在の製造工程において採用されるに至って
はいない。また特公昭56−4150号公報においても
鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄
膜を蒸着する方法が提案されている。しかしながらこの
方法も600℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミッ
ク層とが剥離するため、実際の製造工程では採用できな
い。
(発明が解決しようとする問題点) 発明者らは、上記した鏡面仕上げにより目指した鉄損向
上の実効をより有利に引き出すに当たって、特に今日の
省エネ材料開発の観点では上記のごときコストアップの
不利を凌駕する特性、なかでも、高温処理での特性劣化
を伴うことなくして絶縁層の密着性、耐久性の問題を克
服することが肝要と考え、この基本認識に立脚し、仕上
げ焼鈍済みの方向性けい素鋼板表面上の酸化物を除去し
た後に研磨を施して鏡面状態にする場合も含め、該酸化
物除去後における鋼板処理方法の抜本的な改善によって
とくに有利な超低鉄損化を達成する       きこ
とが、この発明の目的である。
(問題点を解決するための手段) さて発明者らは、上記の目的を達成すべく種々ゆit 
L f、ニー48よ、カワツー、い□1つ。イ、よ4□
□あ   1表面上の酸化物を除去したのち、表面を化
学研磨または電解研磨によって中心線平均粗さで0.4
μm       J以下の鏡面状態とし、ついでかか
る鏡面仕上げ表       ゛ごパ。
面上にたとえば蒸着により好ましくは0.1〜2.0μ
m厚程度のTi薄層を被成したのち、該Ti表面層を炭
化および/または窒化させることにより、鋼板表面上に
TiC,TiNないしTi(C,N)の極薄張力被膜を
形成させること(第1発明)、さらにはりん酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を形成させること
(第2発明)が、所期した目的の達成に極めて有効であ
ることの知見を得た。
ここにTi表面層を炭化および/または窒化させる手段
としては、 仕上げ焼鈍後の一方向性けい素鋼板中にC:0.001
〜0.010wtχ(以下車に%で示す)およびN: 
0.0005〜0.010wto%を含有させておき、
かかる鋼板の鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
てから、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施して鋼板中のCお
よびNの純化促進を図ること(第3.第4発明)、また
同じくCおよびNを所定量含有させた仕上げ焼鈍済みの
一方向性けい素鋼板の表面に、鏡面処理後、T4の表面
層を被成してから、炭化性ガスおよび/または窒化性ガ
ス雰囲気中で焼鈍を施して、fA板中のCおよびNの純
化促進と共に該雰囲気からの浸炭および/または浸窒を
図ること(第5、第6発明)、 さらに同しくCおよびNを所定量含有させた仕上げ焼鈍
済みの一方向性けい素鋼板の表面に、鏡面処理後、T1
の表面層を被成してから、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施
して鋼板中のCおよびNの純化促進を図り、引続き炭化
性および/または窒化性ガス雰囲気中で焼鈍を施して該
雰囲気からの浸炭および/または浸窒作用を加味するこ
と(第7゜第8発明)、 がとりわけ有効であることも併せて究明し、この発明を
完成させるに至ったのである。
上記各発明の成功が導かれた具体的実験に従って、以下
説明を進める。
C: 0.042χ、Si : 3.36χ、Mn :
 0.066X、Se:0.021χ、Mo : 0.
025χおよ6sb : 0.025χを含み、かつN
を0.001〜0.015χの範囲において含有する種
々のけい素鋼スラブに熱間圧延を施して2,4龍厚の厚
の熱圧延としたのち、900°Cで3分間の均一化焼鈍
を施し、ついで950°C13分間の中間焼鈍を挟んで
2回の冷間圧延を施して最終板厚: 0.23鶴の冷延
板とした。その後露点を50〜10℃の範囲で種々に変
化させた820℃の湿水素中て脱炭を兼ねる1次再結晶
焼鈍を施したのち、鋼板表面上にAh03  :60χ
、MgO:25χ、Zr0z : 10χおよびTi0
z:5%の配合割合になる焼鈍分離剤を塗布してから、
850℃、50時間の2次再結晶焼鈍、ついで飽水素中
で1200℃、8時間の純化焼鈍を施した。
その後、各鋼板表面上の酸化物を酸洗により除去したの
ち、化学研磨により中心線平均粗さで0.01μmの鏡
面状態に仕上げ、ついで蒸着装置を用いて該鏡面仕上げ
表面上に0.7μm厚のTi蒸着層を被成してから、]
1□ガス中で750℃、3時間の焼鈍を施した。
上記の製造工程中、仕上げ焼鈍段階における鋼中Cおよ
びN量と磁気特性、ならびに最終製品のCおよびN量と
磁気特性との関係について調べた結果を表1に示す。
また表1には、H2ガス中での焼鈍後、さらにNZ+1
(2ガス−、Nz+Ar、 CH4”Hz、CH4+A
rおよびN2+C114+11□ガス雰囲気中で750
℃、5時間の焼鈍を施した後の鋼中C,N量および磁気
特性について調べた結果を併記する。
さらに各製品板の密着性について調べた結果も、表1に
併せて示す。
表1に示した結果から明らかなように、仕上げ焼鈍時に
おけるCおよびNfiがそれぞれ100 ppm以下の
試料を、鏡面研磨後、Tiを蒸着してから、H2ガス中
で焼鈍するか、あるいはさらに炭化性および/または窒
化性ガス雰囲気中で焼鈍を施した場合に、磁束密度B、
。が1 、90T以上で、かつ鉄損り、/、。が0.8
5W/kg以下の優れた特性が得られた。
ここに最終製品中のC,N量はいずれも、仕上げ焼鈍後
に比べて大幅に低減していることが注目される。
なお磁気特性が良好な製品はいずれも、密着性にも優れ
ていた。
次に上に述べた製造工程と同様にしてTiの蒸着層を被
成した鋼板に対し、N!+H2、Nz+Ar、 CHa
+H,、Ctl、 +ArおよびNz + CHa +
 Hzガス雰囲気中で800℃、5時間の焼鈍を施して
得た製品の、鋼中C,N量および磁気特性について調べ
た結果を、密着性の調査結果と共に、表2に示す。
表2から明らかなように、仕上げ焼鈍後のC3Nilが
それぞれ100 ppm以下の試料を、炭化性および/
または窒化性ガス雰囲気中で焼鈍した場合に、磁束密度
B1゜が1.90T以上で、かつ鉄損WI?/s11が
0.83W/kg以下の優れた特性が得られた。
また上記のC,N含有量のものはいずれも、密着性にも
優れたいた。
(作 用) 上に述べた磁気特性の向上は、Ti表面層被成後に、炭
化および/または窒化処理を施すことによって、m板表
面にTiC,TiNないしTi(C,N)からなる極薄
被膜が形成され、かかる被膜が鋼板に対し効果的に張力
を付与することによる。
またとくに、Ti表面膜の炭化および/または窒化処理
の際に、鋼板中のC,Nの拡散を利用することによって
、鋼板と該被膜の接合度が高まり、被膜密着性のより一
層の向上を図り得る。
次に、一方向性けい素鋼板の製造工程について一般的な
説明を含めてより詳しく説明する。
まず出発素材は、従来公知の一方向性けい素鋼素材、た
とえば ■c : o、oa〜0.050χ、 St : 2.
50〜4.5χ、Mn : 0.01〜0.2χ、  
Mo : 0.003〜0.1χ、Sb ? 0.00
5〜0.2χ、 N : 0.0005〜0.01χ、
SおよびSeの1種あるいは2種合計で、0.005〜
0.05%を含有する組成、 ■C: 0.03〜0.08χ、 Si : 2.0〜
4.0χ、S : 0.005〜0.05χ、N : 
0.001〜0.01χ、Al : 0.01〜0.0
6χ、 Sn : 0.01〜0.5χ、Cu : 0
.01〜0.3χ、  Mn : 0.01〜0.2χ
を含有する組成、 ■C70,03〜0.06χ、 St : 2.0〜4
.0χ、s : o、oos〜0.05χ、B : 0
.0QO3〜0.0040χ、N : 0.001〜0
.01χ、Mn : 0.01〜0.2Kを含有する組
成、 ■C: 0.03〜0.05X 、Si : 2.0〜
4.0!。
sb : o、oos〜0.2χ、 N : 0.00
05〜0.01χ、SおよびSeのうちいずれか1種ま
たは2種:0.005〜0.05χを含有する組成、■
C: 0.03〜0.05χ、 Si : 2.0〜4
.0χ、N : 0.0005〜0.01χ、Sおよび
Ssのうちいずれか1種または2種70.005〜0.
05χを含有する組成、 の如きにおいて適用可能である。
次に熱延板は800〜1100℃の均一化焼鈍を経て1
回の冷間圧延で最終板厚とする1回冷延法か又は、通常
850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する2回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は50
%から80%程度、最終の圧下率は50%から85%程
度で0.151mから0.35+n厚の最終冷延板厚と
する。
最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた綱板は表面脱脂後
750℃から850℃の湿水素中で脱炭1次再結晶焼鈍
を施す。
ここに脱炭処理は、通常後続の2次再結晶焼鈍において
ゴス方位に強く集積した2次再結晶粒を発達させると共
に、純化焼鈍における鋼中Cのより一層の低減のために
、C量をできる限り低くし、もって鉄損の低減を図るた
めに行われるものであるが、この発明ではすでに逮べた
ように、Tiを蒸着した後の焼鈍においてNと共にCの
純化が促進されることから、この脱炭焼鈍段階において
は従来はど厳しい脱炭を図る必要はなく、0.01%以
下程度(好ましくは0.001%以上)で充分である。
その後は通常、鋼板表面に九〇を主成分とする焼鈍分離
剤を塗布するが、この発明では、一般的には仕上げ焼鈍
後の形成を不可欠としていたフォルステライトをとくに
形成させない方がその後の鋼板の鏡面処理を簡便にする
のに有効であるので、焼鈍分離剤としてAIZO31Z
r0z+ TiOz等を50%以上をMgOに混入して
使用するのが好ましい。
その後2次再結晶焼鈍を行うが、この工程は(110)
 <001>方位の2次再結晶粒を充分発達させるため
に施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに1000
℃以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。
この場合(110) <001>方位に、高度に揃った
2次再結晶粒組織を発達させるためには820℃から9
00℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか
例えば0.5〜15°c / hの昇温速度の除熱焼鈍
でもよい。
ついで飽水素中で純化焼鈍を施すが、製品板における被
膜密着性の一層の改善のためには、鋼板中にc : o
、ooi〜0.01%およびN : 0.0005〜0
.01%を残存させることが肝要である。このためには
純化焼鈍において、1100℃以上、1〜20時間とい
う条件の中から適切な焼鈍条件を選択すればよい。
その後、鋼板表面の酸化物被膜を、公知の酸洗などの化
学的除去や切削、研削などの機械的除去法またはそれら
の組合わせより除去する。
この酸化物除去処理の後、化学研磨、電解研磨などの化
学的研磨や、パフ研磨などの機械的研磨あるいはそれら
の組合せなど従来の手法により鋼板表面を鏡面状態つま
り中心線平均粗さ0.4μm以下に仕上げる。
その後、鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成するが
、このときのTi表面層厚は0.1〜2.0μm程度と
するのが好ましい。
またTiの表面層の被成方法は、これまで述べてきた蒸
着の他にCVD法、イオンブレーティング法あるいはイ
オンインプランテーション法等の方法であっても良い。
ついでTi表面層付き方向性けい素鋼板に、非酸化性雰
囲気、また炭化性および/または窒化性雰囲気、さらに
は非酸化性雰囲気ついで炭化性および/または窒化性雰
囲気中で焼鈍を施すわけであるが、これらの焼鈍処理は
次の要領で行う。
i)非酸化性雰囲気中での焼鈍 雰囲気ガスとしては、■2ガスやArガスがとりわけ有
利に適合し、かかる雰囲気中において500℃以上の温
度で焼鈍を行い、鋼板中のC,Hの表面への拡散を促進
させるのである。このとき鋼中C量がN量に比べて多い
場合には、鋼板表面には主としてTiCよりなる極薄被
膜が、一方送の場合には主としてTiNよりなる極薄被
膜が形成されることになる。
ii )炭化性および/または窒化性ガス雰囲気中での
焼鈍 炭化性ガスとしては、CH,やC2H4などの炭化水素
系ガスおよびCOガス、さらにはこれらのガスとN2や
Arガスとの混合ガスが、また窒化性ガスとしては、N
2ガスやNlhガスならびにこれらのガスとN2やAr
ガスとの混合ガスが有利に適合し、かかる雰囲気中にお
いて500℃以上の温度で焼鈍を行うことによって、鋼
中C,Nの純化促進ならびに雰囲気ガスからの浸炭およ
び/または浸窒を図ることにより、鋼板表面に炭化物お
よび/または窒化物からなる混合薄膜を形成させる。
さらにこのようにして形成した極薄張力被膜上に、りん
酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜の塗布
焼付を行うことが、100万KV^にも上る大容量トラ
ンスの使途において当然に必要であり、この絶縁性塗布
焼付層の形成の如きは、従来公知の手法をそのまま用い
て良い。
(実施例) (A) C: 0.041χ、St : 3.48χ9
、Mn : 0.062χ、Mo : 0.025X、
 Se : 0.022χ、Sb : 0.025χお
よびN:0.0038χ (B) C: 0.053X、St : 3.32χ、
Mn : 0.072χ、S:0.018χ、Al :
 0.025χおよびN : 0.0066χ(C) 
 C: 0.039χ、Si : 3.31χ 、Mn
 : 0.059χ、S:0.030χ、B : 0.
0019χ、N : 0.0068χおよびCu:0.
15χ (D)  C: 0.046χ、Si : 3.09χ
 、Mn : 0.063χ、Se:0.019χおよ
びSb : 0.025χ(E)  C: 0.038
χ、St : 3.08χ 、Mn : 0.071χ
、S :0.019% を含有する組成になるけい素鋼熱延板を用いた。
まず熱延板(A) 、 (C) 、 (D) 、 (E
)については900℃で均一化焼鈍を行った。他方熱延
板(B)は、1050℃で3分間の均一化焼鈍後、90
0℃から急冷した。
その後(A) 、 (D) 、 ([りについては、9
50℃の中間焼鈍を挟んで2回の冷間圧延を行って0.
23mの最終板厚とし、また(B) 、 (C)は1回
の強冷延によって0.23mm厚の最終冷延板に仕上げ
たが、冷延途中に300℃の温間圧延を挟んだ。
づいでこれらの冷延板表面を脱脂したのち、露点25℃
の湿水素中における830℃の脱炭焼鈍後、A1zO3
ニア0! 、MgO:25χ、zrOt=5%からなる
焼鈍分離剤を塗布した。
その後、(八)、(D)は850℃で50時間の2次再
結晶焼鈍を行ったのち、飽水素中で1200℃、6時間
の純化焼鈍を施した。一方(B) 、 (C) 、 (
E)は850℃から5℃/hで1050℃まで昇温しで
2次再結晶させたのち、飽水素中で1200℃、8時間
の純化焼鈍を施した。
その後得られた各鋼板を酸洗処理して、表面の酸化被膜
を除去してから、化学研磨によって中心線平均粗さ0.
03μm以下の鏡面に仕上げた。
ついで鏡面仕上げ表面上に、0.7μm厚のTiの蒸着
層を被成した。
その後(A) 、 (B) 、 (C)については、N
2ガス雰囲気中で800℃、5時間の焼鈍を施し、一部
の試料についてはさらにNZおよび/またはCH,ガス
を含有する雰囲気中で700℃、3時間の焼鈍を施した
また(D) 、 (E)については、直ちにN2および
/またはCH,ガスを含有する雰囲気中で800℃、5
時間の焼鈍を施した。
かくして得られたTiC、TiNないしTi(C,N)
からなる極薄被膜をそなえる方向性けい素鋼板の鋼中C
,N量、磁気特性および密着性について調べた結果を、
仕上げ焼鈍後の鋼中C,N量および磁気特性と比較して
、表3に示す。
また表3には、上記の極薄被膜付き方向性けい素鋼板の
表面に、さらにりん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
するコーティング被膜を被成した製品の磁気特性につい
ての調査結果も併せて示す。
ン ;1 “: )、5 表3に示した成績から明らかなように、この発明に従い
、仕上げ焼鈍後の一方向性けい素鋼板につき、その表面
酸化物除去後、鏡面に仕上げてからTiの薄膜を被成し
たのち、非酸化性雰囲気中、または炭化性および/また
は窒化性ガス雰囲気中、さらには非酸化性雰囲気中つい
で炭化性および/または窒化性ガス雰囲気中において焼
鈍を施し、鋼板表面上にTiC,TiNないしTi(C
,N)の極薄被膜を形成させることによって、良好な被
膜密着性の下に磁気特性とくに鉄損特性の著しい向上が
達成された。
(発明の効果) かくしてこの発明によれば、巻鉄心向はトランス材料と
しての使途におけるような高温でのひずみ取り焼鈍の如
き高温処理の適用の有無にかかわらず、磁気特性とくに
鉄損特性の大幅な改善を被膜密着性の向上に併せて実現
することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素鋼板につき、その
    表面酸化物を除去してから、研磨を施して中心線平均粗
    さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上げ、ついで該鏡面
    仕上げ表面上にTiの表面層を被成したのち、該Ti表
    面層を炭化および/または窒化させることにより、鋼板
    表面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張
    力被膜を形成させることを特徴とする超低鉄損一方向性
    けい素鋼板の製造方法。 2、仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素鋼板につき、その
    表面酸化物を除去してから、研磨を旋して中心線平均粗
    さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上げ、ついで該鏡面
    仕上げ表面上にTiの表面層を被成したのち、該Ti表
    面層を炭化および/または窒化させることにより、鋼板
    表面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張
    力被膜を形成し、しかるのちりん酸塩とコロイダルシリ
    カを主成分とする絶縁被膜を形成させることを特徴とす
    る超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。 3、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
    たのち、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施して鋼板中のCお
    よびNの純化促進を図ることにより、鋼板表面上にTi
    C、TiNないしTi(C、N)の極薄張力被膜を形成
    させることを特徴とする超低鉄損一方向性けい素鋼板の
    製造方法。 4、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡仕上げ表面上にTiの表面層を破戒した
    のち、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施して鋼板中のCおよ
    びNの純化促進を図ることにより、鋼板表面上にTiC
    、TiNないしTi(C、N)の極薄張力被膜を形成し
    、しかるのちりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とす
    る絶縁被膜を形成させることを特徴とする超低鉄損一方
    向性けい素鋼板の製造方法。 5、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
    たのち、炭化性および/または窒化性ガス雰囲気中で焼
    鈍を施して、鋼板中のCおよびNの純化促進ならびに該
    雰囲気からの浸炭および/または浸窒作用により、鋼板
    表面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張
    力被膜を形成させることを特徴とする超低鉄損一方向性
    けい素鋼板の製造方法。 6、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
    たのち、炭化性および/または窒化性ガス雰囲気中で焼
    鈍を施して、鋼板中のCおよびNの純化促進ならびに該
    雰囲気からの浸炭および/または浸窒作用により、鋼板
    表面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張
    力被膜を形成し、しかるのちりん酸塩とコロイダルシリ
    カを主成分とする絶縁被膜を形成させることを特徴とす
    る超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。 7、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
    たのち、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施して鋼板中のCお
    よびNの純化促進を図り、さらに炭化性および/または
    窒化性ガス雰囲気中で焼鈍を施して該雰囲気からの浸炭
    および/または浸窒作用を加味することにより、鋼板表
    面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張力
    被膜を形成させることを特徴とする超低鉄損一方向性け
    い素鋼板の製造方法。 8、C:0.001〜0.010wt%およびN:0.
    0005〜0.0100wt% を含有する組成になる仕上げ焼鈍済みの一方向性けい素
    鋼板につき、その表面酸化物を除去してから、研磨を施
    して中心線平均粗さで0.4μm以下の鏡面状態に仕上
    げ、ついで該鏡面仕上げ表面上にTiの表面層を被成し
    たのち、非酸化性雰囲気中で焼鈍を施して鋼板中のCお
    よびNの純化促進を図り、さらに炭化性および/または
    窒化性ガス雰囲気中で焼鈍を施して該雰囲気からの浸炭
    および/または浸窒作用を加味することにより、鋼板表
    面上にTiC、TiNないしTi(C、N)の極薄張力
    被膜を形成し、しかるのちりん酸塩とコロイダルシリカ
    を主成分とする絶縁被膜を形成させることを特徴とする
    超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。
JP18016385A 1985-02-22 1985-08-16 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 Pending JPS6240703A (ja)

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DE8686301071T DE3666229D1 (en) 1985-02-22 1986-02-17 Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets
EP86301071A EP0193324B1 (en) 1985-02-22 1986-02-17 Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets
AU53747/86A AU570835B2 (en) 1985-02-22 1986-02-19 Metal nitride/carbide coated grain oriented silicon steel sheet
CA000502337A CA1297070C (en) 1985-02-22 1986-02-20 Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets
DE8686904726T DE3673290D1 (de) 1985-02-22 1986-02-21 Herstellungsverfahren fuer unidirektionale siliziumstahlplatte mit aussergewoehnlichem eisenverlust.
EP86904726A EP0215134B1 (en) 1985-02-22 1986-02-21 Process for producing unidirectional silicon steel plate with extraordinarily low iron loss
US06/832,172 US4698272A (en) 1985-02-22 1986-02-21 Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets
PCT/JP1986/000087 WO1986004929A1 (en) 1985-02-22 1986-02-21 Process for producing unidirectional silicon steel plate with extraordinarily low iron loss
US06/907,734 US4713123A (en) 1985-02-22 1986-02-21 Method of producing extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets
KR1019860001259A KR910006011B1 (ko) 1985-02-22 1986-02-22 극저철손 결정 방향성 규소 강판

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0819241A (ja) * 1994-06-24 1996-01-19 Fuji Elelctrochem Co Ltd ステータヨークの製造方法及びステータヨーク

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0819241A (ja) * 1994-06-24 1996-01-19 Fuji Elelctrochem Co Ltd ステータヨークの製造方法及びステータヨーク

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