JPS621820A - 熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents
熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法Info
- Publication number
- JPS621820A JPS621820A JP61036565A JP3656586A JPS621820A JP S621820 A JPS621820 A JP S621820A JP 61036565 A JP61036565 A JP 61036565A JP 3656586 A JP3656586 A JP 3656586A JP S621820 A JPS621820 A JP S621820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel sheet
- annealing
- silicon steel
- ultra
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/14766—Fe-Si based alloys
- H01F1/14775—Fe-Si based alloys in the form of sheets
- H01F1/14783—Fe-Si based alloys in the form of sheets with insulating coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/027—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0635—Carbides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5806—Thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0209—Pretreatment of the material to be coated by heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1283—Application of a separating or insulating coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
一方向性けい素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかで
も、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする
近年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつ
あるが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性け
い素鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちい
わゆるひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化
の随伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける
不利が指摘される。
も、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする
近年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつ
あるが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性け
い素鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちい
わゆるひずみ取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化
の随伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける
不利が指摘される。
この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱履歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を招くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を招くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。
さて一方向性けい素鋼板は、よく知られているとおり製
品の２次再結晶粒を（１１０） ［：００１）、すな
わちゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変
圧器その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気
的特性として製品の磁束密度（Ｂｌ。
品の２次再結晶粒を（１１０） ［：００１）、すな
わちゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変
圧器その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気
的特性として製品の磁束密度（Ｂｌ。
で代表される）が高く、鉄損（Ｌｔｚｓ。値で代表され
る）の低いことが要求される。
る）の低いことが要求される。
この一方向性けい素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て
製造されるが、今までにおびただしい発明・改善が加え
られ、今日では板厚０．３０＋ｎｍの製品の磁気特性が
Ｂｌｏ １．９０Ｔ以上、’Ａ＋ｙｓａ １． ０５１
’ｌ／ｋｇ以下、また板厚０。２３ｍｍの製品の磁気特
性が８１０１、 ８９Ｔ以上、Ｗ１７，’ｓｏ Ｏ．９
０１リ／ｋｇ以下の超低鉄損一方向性けい素鋼板が製造
されるようになって来ている。
製造されるが、今までにおびただしい発明・改善が加え
られ、今日では板厚０．３０＋ｎｍの製品の磁気特性が
Ｂｌｏ １．９０Ｔ以上、’Ａ＋ｙｓａ １． ０５１
’ｌ／ｋｇ以下、また板厚０。２３ｍｍの製品の磁気特
性が８１０１、 ８９Ｔ以上、Ｗ１７，’ｓｏ Ｏ．９
０１リ／ｋｇ以下の超低鉄損一方向性けい素鋼板が製造
されるようになって来ている。
特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を至上と
する要請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器
を作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格
に上積みする「ロス・エバリユエーション」 （鉄損評
価）制度が普及している。
する要請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器
を作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格
に上積みする「ロス・エバリユエーション」 （鉄損評
価）制度が普及している。
（従来の技術）
このような状況下において最近、一方向性けい素鋼板の
仕上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレ
ーザ照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された（特公昭
５７−２２５２号，特公昭５７−５３４１９号，特公昭
５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号各公
報参照）。
仕上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレ
ーザ照射により局部微小ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された（特公昭
５７−２２５２号，特公昭５７−５３４１９号，特公昭
５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号各公
報参照）。
この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として鉄心トランス材料にあっては、レ
ーザー照射によって折角に導入された局部微小ひずみが
焼鈍処理により解放されて磁区幅が広くなるため、レー
ザー照射効果がなくなるという欠点がある。
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として鉄心トランス材料にあっては、レ
ーザー照射によって折角に導入された局部微小ひずみが
焼鈍処理により解放されて磁区幅が広くなるため、レー
ザー照射効果がなくなるという欠点がある。
一方これより先に特公昭５２−２４４９９号公報におい
ては、一方向性けい素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっ
きやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによ
る、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法が提案され
ている。
ては、一方向性けい素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を
鏡面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっ
きやさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによ
る、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法が提案され
ている。
しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付し、さらに６００℃以上の
高温で長時間の歪み取り焼鈍を施した後に鋼板との密着
性に問題があるため、現在の製造工程において採用され
るに至ってはいない。また特公昭５６−４１５０号公報
においても鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラ
ミックス薄膜を蒸着する方法が提案されている。しかし
ながらこの方法も６００℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板
とセラミック層とが剥離するため、実際の製造工程では
採用できない。
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付し、さらに６００℃以上の
高温で長時間の歪み取り焼鈍を施した後に鋼板との密着
性に問題があるため、現在の製造工程において採用され
るに至ってはいない。また特公昭５６−４１５０号公報
においても鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラ
ミックス薄膜を蒸着する方法が提案されている。しかし
ながらこの方法も６００℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板
とセラミック層とが剥離するため、実際の製造工程では
採用できない。
（発明が解決しようとする問題点）
発明者らは上記した鏡面仕上による鉄損向上の実効をよ
り有利に引き出すことにより、特に今日の省エネ材料開
発の観点では上記のごときコストアップの不利を凌駕す
る特性、とくに高温処理でも特性劣化を伴うことのない
張力被膜層の密着性、耐久性の問題の克服こそが肝要と
考え、この基本認識に立脚し、とくにＰＶＤ処理におけ
る張力被膜形成条件に根本的改善を加えることによって
有利な超低鉄損化を達成することがこの発明の目的であ
る。
り有利に引き出すことにより、特に今日の省エネ材料開
発の観点では上記のごときコストアップの不利を凌駕す
る特性、とくに高温処理でも特性劣化を伴うことのない
張力被膜層の密着性、耐久性の問題の克服こそが肝要と
考え、この基本認識に立脚し、とくにＰＶＤ処理におけ
る張力被膜形成条件に根本的改善を加えることによって
有利な超低鉄損化を達成することがこの発明の目的であ
る。
（問題点を解決するための手段）
上記検討の結果、仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表
面上の非金属物質を除去した面あるいはさらに研磨によ
る平滑な仕上表面に、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈｆ。
面上の非金属物質を除去した面あるいはさらに研磨によ
る平滑な仕上表面に、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈｆ。
Ｖ、 Ｎｂ、 Ｔａ、 ！Ａｎ、 Ｃｒ、 Ｍｏ、 Ｗ
、 Ｃｏ、 Ｎｉ、 Ａｌ、 Ｂ及びＳｉの窒化物及び
／又は炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から主と
してなり、それらの地鉄との混合相を介し鋼板表面上へ
強固に被着した少なくとも１層の０．００５〜５μｍの
張力被膜を具備し、あるいはさらにこの張力被膜上に重
ねて被着した、絶縁性塗布焼付層とともに具備すること
を特徴とする熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板を
発明したものである。
、 Ｃｏ、 Ｎｉ、 Ａｌ、 Ｂ及びＳｉの窒化物及び
／又は炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から主と
してなり、それらの地鉄との混合相を介し鋼板表面上へ
強固に被着した少なくとも１層の０．００５〜５μｍの
張力被膜を具備し、あるいはさらにこの張力被膜上に重
ねて被着した、絶縁性塗布焼付層とともに具備すること
を特徴とする熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板を
発明したものである。
この発明の成功が導かれた具体的実験例に従って説明を
進める。
進める。
Ｃ： ０．０４６重量％（以下単に％で示す）、Ｓｉ：
３．３４％、 Ｍｎ ： ０．０６８％、 Ｓｅ ：０
．０２３％、ｓｂ ： ０．０２５％、Ｍｏ ： ０．
０２５％を含有するけい素鋼スラブを１３６０℃で４時
間加熱後熱間圧延して２．Ｏｍｍ厚の熱延板とした。
３．３４％、 Ｍｎ ： ０．０６８％、 Ｓｅ ：０
．０２３％、ｓｂ ： ０．０２５％、Ｍｏ ： ０．
０２５％を含有するけい素鋼スラブを１３６０℃で４時
間加熱後熱間圧延して２．Ｏｍｍ厚の熱延板とした。
その後９５０℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃で３
分間の中間燃焼をはさむ２回の冷間圧延を施して０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
分間の中間燃焼をはさむ２回の冷間圧延を施して０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
その後９００℃の湿水素雰囲気中で脱炭・−次回結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分
離剤を塗布し、８５０℃で５０時間の二次再結晶焼鈍と
、１２００℃で飽水素中５時間の純化焼鈍を施した。
鈍を施した後、鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分
離剤を塗布し、８５０℃で５０時間の二次再結晶焼鈍と
、１２００℃で飽水素中５時間の純化焼鈍を施した。
その後はまず８０℃のＨ２ＳＯ，液中で酸洗して鋼板表
面のフォルステライト質下地被膜を除去した。
面のフォルステライト質下地被膜を除去した。
次に３％ＨＦと８２０□の溶液中で化学研磨し鋼板表面
を中心線平均粗さ０．１ μの鏡面状態に仕上げた。
を中心線平均粗さ０．１ μの鏡面状態に仕上げた。
その後第１図に示したイオンプレーテング装置を使用し
て研磨表面に、膜厚０．５μｍでＴｉＮのイオンプレー
ティングを行った。
て研磨表面に、膜厚０．５μｍでＴｉＮのイオンプレー
ティングを行った。
なお第１図において１は鏡面研磨を施した供試用の基板
、２はシャッタ、３はるつぼ、４は電子銃、５はビーム
、６はイオン化電極、７は熱電子放射電極、８はＮ２．
Ｃ２１（２あるいは０□等の反応ガス導入口である。
、２はシャッタ、３はるつぼ、４は電子銃、５はビーム
、６はイオン化電極、７は熱電子放射電極、８はＮ２．
Ｃ２１（２あるいは０□等の反応ガス導入口である。
上記のイオンプレーティングについでりん酸塩とコロイ
ダルシリカとを主成分とするコーテイング液でコーティ
ング処理（絶縁性塗布焼付層の形成）を行った後８００
℃で５時間の歪み取り焼鈍を行った。
ダルシリカとを主成分とするコーテイング液でコーティ
ング処理（絶縁性塗布焼付層の形成）を行った後８００
℃で５時間の歪み取り焼鈍を行った。
これに対する比較のために従来の公知技術に従い１μｍ
の鋼めっき処理を同様の研磨表面に施した後、やはりり
ん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とするコーテイン
グ液でコーティング焼付処理を行った後、８００℃で５
時間の歪み取り焼鈍を行った。
の鋼めっき処理を同様の研磨表面に施した後、やはりり
ん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とするコーテイン
グ液でコーティング焼付処理を行った後、８００℃で５
時間の歪み取り焼鈍を行った。
このときの製品の磁気特性および密着性の実験結果をま
とめて表１に示す。
とめて表１に示す。
表１から明らかなように現在工程的に製造されている、
仕上げ焼鈍中、鋼板表面上に形成されるフォルステライ
ト質下地被膜の上に、コーティング処理を加えたのち８
００℃で５時間の歪み取り焼鈍後の通常処理製品（ａ）
の磁気特性はＢＮ）が１．９０５Ｔ、ＷＢ７５ｏが０．
８７Ｗ／ｋｇ程度であって絶縁被膜の密着性は一応良好
であるのに対し、仕上焼鈍後にフォルステライト質被膜
を酸洗で除去し、ついで表面を化学研磨して鏡面仕上し
、この研磨処理表面に銅 ２めっきを経て、コーティン
グ処理した製品ら）の磁気特性はＢ、０が１．９１３Ｔ
、 Ｌ７７ｓｏが０．７４１〜／ｋｇ程度にやや改善さ
れる反面、密着性が悪い。
仕上げ焼鈍中、鋼板表面上に形成されるフォルステライ
ト質下地被膜の上に、コーティング処理を加えたのち８
００℃で５時間の歪み取り焼鈍後の通常処理製品（ａ）
の磁気特性はＢＮ）が１．９０５Ｔ、ＷＢ７５ｏが０．
８７Ｗ／ｋｇ程度であって絶縁被膜の密着性は一応良好
であるのに対し、仕上焼鈍後にフォルステライト質被膜
を酸洗で除去し、ついで表面を化学研磨して鏡面仕上し
、この研磨処理表面に銅 ２めっきを経て、コーティン
グ処理した製品ら）の磁気特性はＢ、０が１．９１３Ｔ
、 Ｌ７７ｓｏが０．７４１〜／ｋｇ程度にやや改善さ
れる反面、密着性が悪い。
ところがこの発明に従い、仕上焼鈍後フォルステライト
質被膜を除去し、表面を化学研磨して鏡面仕上した上で
とくにイオンプレーティング処理を経て同様なコーティ
ング処理をした製品（Ｃ）の磁気特性はＢ、Ｏが１．９
２０’ｒ、 １１１．７１５０が０．６８Ｗ／ｋｇとき
わだった特性改善のみならず、張力被膜はもちろん絶性
塗布焼付層の密着性もきわめて良好であった。
質被膜を除去し、表面を化学研磨して鏡面仕上した上で
とくにイオンプレーティング処理を経て同様なコーティ
ング処理をした製品（Ｃ）の磁気特性はＢ、Ｏが１．９
２０’ｒ、 １１１．７１５０が０．６８Ｗ／ｋｇとき
わだった特性改善のみならず、張力被膜はもちろん絶性
塗布焼付層の密着性もきわめて良好であった。
（作 用）
この発明に従う磁気特性と密着性の向上は、第２図の模
式図で示すように、基板１としてのけい素鋼板の研磨処
理表面上に加速イオン１と蒸着原子ａとの混合相８が張
力被膜９との間に形成されることによってその密着性が
格段に強められることにあわせ、その結果強い珪素鋼板
の面上に働いて従来比類のない超低鉄損が実現される。
式図で示すように、基板１としてのけい素鋼板の研磨処
理表面上に加速イオン１と蒸着原子ａとの混合相８が張
力被膜９との間に形成されることによってその密着性が
格段に強められることにあわせ、その結果強い珪素鋼板
の面上に働いて従来比類のない超低鉄損が実現される。
ここに塑性的な微少ひずみの働きを利用するわけではな
いので、熱安定性に何らの問題なく、歪み取り焼鈍の如
き高温の熱履歴の下に電気・磁気的特性に影響されると
ころがない。
いので、熱安定性に何らの問題なく、歪み取り焼鈍の如
き高温の熱履歴の下に電気・磁気的特性に影響されると
ころがない。
ここに仕上表面の中心線平均粗さを、Ｒａ≦０．４μｍ
の鏡面状態とすることが最良であり、Ｒａ＞０．４μｍ
のときは表面が粗いために、著しい鉄損低減は期待薄に
なる。
の鏡面状態とすることが最良であり、Ｒａ＞０．４μｍ
のときは表面が粗いために、著しい鉄損低減は期待薄に
なる。
次に張力被膜の膜厚は０．００５〜５μｍの範囲で適合
し、０．００５μｍに満たないときは、必要な張力付与
に寄与し得ない一方、５μｍをこえると、占積率及び密
着性の不利が生じる。
し、０．００５μｍに満たないときは、必要な張力付与
に寄与し得ない一方、５μｍをこえると、占積率及び密
着性の不利が生じる。
この張力被膜の混合相を介した鏡面状態の仕上表面上に
おける強固な被着は、イオンプレーティング、イオンイ
ンプランテーションによるＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ） あるいはＣＶ
Ｄ （Ｃｈｅ−ｍｉｃａｌＶａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ）の何れによっても有利にもたらされる。
おける強固な被着は、イオンプレーティング、イオンイ
ンプランテーションによるＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ
Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ） あるいはＣＶ
Ｄ （Ｃｈｅ−ｍｉｃａｌＶａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ）の何れによっても有利にもたらされる。
次にこの発明による、一方向性けい素鋼板の製造工程に
ついて説明する。
ついて説明する。
出発素材は従来公知の一方向性けい素鋼素材成分、例え
ば ■Ｃ：０．旧〜０．０５０％、Ｓｉ：２．５０〜４．５
％、Ｍｎ ： ０．０ｆ 〜０．２ ％、 Ｍｏ
： ０．００３ 〜０． ］ ％、Ｓｂ ： ０．０
０５〜０．２ ％、 ＳまたはＳｅの１種あるい２種合
計で、０．００５〜０．０５％を含有する組成■Ｃ：０
．旧〜０．０８％、 Ｓｉ：２．Ｑ〜４．０％、Ｓｏｌ
Ａｌ ： Ｑ、００５〜０．０６％、Ｓ：０．００５
〜０．０５％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、Ｓｎ ：
０．０１〜０．５％、 Ｃｕ ： ０．０１〜０．３
％、Ｍｎ ： ０．０１〜０．２％を含有する組成■Ｃ
：０．０１〜０．０６％、 Ｓｉ：２．０〜４．０％、
Ｓ：０．００５ 〜０．０５％、Ｂ ： ０．０００３
〜０．０２０ ％、Ｎ ：０．００１−０゜旧％、！
、４ｎ ： ０．０１〜０．２％を含有する組成 の如きにおいて適用可能である 次に熱延板は８００〜・１１００℃の均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で＠終板厚とする１回冷延法か又は、通
常８５０℃から１０５０℃の中間焼鈍をはさんでさらに
冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５
０％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％
程度で０．１５ｍｍから０．３５ｍｍ厚の最終冷延板厚
とする。
ば ■Ｃ：０．旧〜０．０５０％、Ｓｉ：２．５０〜４．５
％、Ｍｎ ： ０．０ｆ 〜０．２ ％、 Ｍｏ
： ０．００３ 〜０． ］ ％、Ｓｂ ： ０．０
０５〜０．２ ％、 ＳまたはＳｅの１種あるい２種合
計で、０．００５〜０．０５％を含有する組成■Ｃ：０
．旧〜０．０８％、 Ｓｉ：２．Ｑ〜４．０％、Ｓｏｌ
Ａｌ ： Ｑ、００５〜０．０６％、Ｓ：０．００５
〜０．０５％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、Ｓｎ ：
０．０１〜０．５％、 Ｃｕ ： ０．０１〜０．３
％、Ｍｎ ： ０．０１〜０．２％を含有する組成■Ｃ
：０．０１〜０．０６％、 Ｓｉ：２．０〜４．０％、
Ｓ：０．００５ 〜０．０５％、Ｂ ： ０．０００３
〜０．０２０ ％、Ｎ ：０．００１−０゜旧％、！
、４ｎ ： ０．０１〜０．２％を含有する組成 の如きにおいて適用可能である 次に熱延板は８００〜・１１００℃の均一化焼鈍を経て
１回の冷間圧延で＠終板厚とする１回冷延法か又は、通
常８５０℃から１０５０℃の中間焼鈍をはさんでさらに
冷延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５
０％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％
程度で０．１５ｍｍから０．３５ｍｍ厚の最終冷延板厚
とする。
最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は表面脱脂後
７５０℃から８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結晶焼
鈍処理を施す。
７５０℃から８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結晶焼
鈍処理を施す。
このような処理を行った後鋼板表面に焼鈍分離剤を塗布
する。この際一般的には仕上げ焼鈍後の成形を不可欠と
していたフォルステライトをとくに形成させない方がそ
の後の鋼板の鏡面処理を簡便にするのに有効であるので
、焼鈍分離剤としてＭｇＯ主体のものを用いる場合のほ
か、とくにＡｌ２Ｏ，、ＺｒＯ□、 Ｔｉｎ、などを、
５０％以上）４ｇＯに混入するのが好ましい。
する。この際一般的には仕上げ焼鈍後の成形を不可欠と
していたフォルステライトをとくに形成させない方がそ
の後の鋼板の鏡面処理を簡便にするのに有効であるので
、焼鈍分離剤としてＭｇＯ主体のものを用いる場合のほ
か、とくにＡｌ２Ｏ，、ＺｒＯ□、 Ｔｉｎ、などを、
５０％以上）４ｇＯに混入するのが好ましい。
その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１１０）
＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるため
に施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００
℃以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。
＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるため
に施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００
℃以上に昇温し、その温度に保持することによって行わ
れる。
この場合（１１０） ＜ｏｏｉ＞方位に、高度に揃った
２次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９
００℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか
例えば０．５〜ｂ 鈍でもよい。
２次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９
００℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか
例えば０．５〜ｂ 鈍でもよい。
２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、飽水素中で１１００℃
以上で１〜２０時間焼鈍を行って、鋼板の純化を達成す
ることが必要である。
以上で１〜２０時間焼鈍を行って、鋼板の純化を達成す
ることが必要である。
この純化焼鈍後に鋼板表面の非金属物質例えばフォルス
テライト被膜ないしは酸化物被膜を公知の酸洗などの化
学除去法や切削、研削などの機械的除去法またはそれら
の組合せにより除去する。
テライト被膜ないしは酸化物被膜を公知の酸洗などの化
学除去法や切削、研削などの機械的除去法またはそれら
の組合せにより除去する。
この酸化物除去処理の後、必要に応じて化学研摩、電解
研磨などの化学的研摩や、パフ研磨などの機械的研摩あ
るいはそれらの組合せなど従来の手法により鋼板表面を
鏡面状態（中心線平均粗さで０．４ μｍ以下）に仕上
げる。
研磨などの化学的研摩や、パフ研磨などの機械的研摩あ
るいはそれらの組合せなど従来の手法により鋼板表面を
鏡面状態（中心線平均粗さで０．４ μｍ以下）に仕上
げる。
非金属物質除去後又は鏡面研磨後、ＣＶＤ 、イオンプ
レーティングまたはイオンインプランテーシＥ７により
、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈｆ、 Ｖ、 Ｎｂ、 Ｔａ、 Ｍ
ｎ、 Ｃｒ。
レーティングまたはイオンインプランテーシＥ７により
、Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈｆ、 Ｖ、 Ｎｂ、 Ｔａ、 Ｍ
ｎ、 Ｃｒ。
Ｍｏ、 Ｗ、 Ｃｏ、 Ｎｉ、 Ａｌ、 Ｂ およ
びＳｉの窒化物および／または炭化物のうちから選んだ
少なくとも１種から主としてなる少なくとも一層の極薄
張力被膜を形成させる。
びＳｉの窒化物および／または炭化物のうちから選んだ
少なくとも１種から主としてなる少なくとも一層の極薄
張力被膜を形成させる。
またこの極薄張力被膜は０．００５〜５μｍ程度の厚み
で形成させるのが効果的である。０．００５μｍ以下の
被膜は張力効果が小さいため鉄損低下させる効果が小さ
く、また５μｍ以上では膜厚が厚くなるため占積率が低
下するのと経済的ではないので張力被膜の膜厚は０．０
０５〜５μｍが好適である。
で形成させるのが効果的である。０．００５μｍ以下の
被膜は張力効果が小さいため鉄損低下させる効果が小さ
く、また５μｍ以上では膜厚が厚くなるため占積率が低
下するのと経済的ではないので張力被膜の膜厚は０．０
０５〜５μｍが好適である。
さらにこのように生成した極薄張力被膜上にコロイダル
シリカあるいはりん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
する絶縁被膜の塗布焼付を行ない、さらに６００℃以上
の高温での長時間の歪み取り焼鈍を施しても磁気特性の
劣化がなく、かつ密着性が良好であることがトランスの
使途に当然に必要であり、この絶縁性焼付層の形成およ
びその後の歪み取り焼鈍方法は、従来公知の手法をその
まま用いて良い。
シリカあるいはりん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
する絶縁被膜の塗布焼付を行ない、さらに６００℃以上
の高温での長時間の歪み取り焼鈍を施しても磁気特性の
劣化がなく、かつ密着性が良好であることがトランスの
使途に当然に必要であり、この絶縁性焼付層の形成およ
びその後の歪み取り焼鈍方法は、従来公知の手法をその
まま用いて良い。
さらに加えてこの発明により磁歪の圧縮特性の改善も達
成し得る。
成し得る。
（実施例）
実施例Ｉ
Ｃ：０．０４７％、Ｓｉ：３．４％、Ｍｎ ： ０．０
６２％、Ｍｏ ： ０．０２５％、Ｓｅ ： ０．０２
２％、Ｓｂ ： ０．０２０％を含有する熱延板を、９
００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍を
はさんで２回の冷間圧延を行って０．２３ｍｍ厚の最終
冷延板としまた。
６２％、Ｍｏ ： ０．０２５％、Ｓｅ ： ０．０２
２％、Ｓｂ ： ０．０２０％を含有する熱延板を、９
００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍を
はさんで２回の冷間圧延を行って０．２３ｍｍ厚の最終
冷延板としまた。
その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面にＭｇ
Ｏを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃で５
０時間の２次再結晶焼鈍し、１２００℃で８時間飽水素
中で純化焼鈍を行った。
Ｏを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃で５
０時間の２次再結晶焼鈍し、１２００℃で８時間飽水素
中で純化焼鈍を行った。
その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去後、３
％ＨＦとＨ，０□液中で化学研磨して鏡面仕上げした。
％ＨＦとＨ，０□液中で化学研磨して鏡面仕上げした。
その後第１図の装置を用いてｌ０ＫＶのイオン化電圧で
３分間イオンプレーティングし膜厚０．５μｍのＴｉＮ
張力被膜を形成させた。
３分間イオンプレーティングし膜厚０．５μｍのＴｉＮ
張力被膜を形成させた。
次にりん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁
性塗布焼付層を形成し、その後８００℃で２時間のひず
み取り焼鈍を行った。
性塗布焼付層を形成し、その後８００℃で２時間のひず
み取り焼鈍を行った。
そのときの製品の磁気特性および密着性は次のとおりで
あった。
あった。
磁気特性： Ｂ＋ｏ＝１．９１Ｔ 、 Ｗ＋ｔ７ｓｏ
＝０．６９１１／ｋｇ密着性： 曲げ半径３０順で１８
０°曲げてもはく離せず密着性は良好であった。
＝０．６９１１／ｋｇ密着性： 曲げ半径３０順で１８
０°曲げてもはく離せず密着性は良好であった。
実施例２
Ｃ：０．０６２％、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ ： ０．０
９０％、Ａｌ ：０．０２５％、Ｓ：０．０３０％、
Ｎ ： ０．００６８％を含有する熱延板を、１１５０
℃で３分間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後３０
０℃の温間圧延を施して０．２０ｍｍ厚の最終冷延板と
した。
９０％、Ａｌ ：０．０２５％、Ｓ：０．０３０％、
Ｎ ： ０．００６８％を含有する熱延板を、１１５０
℃で３分間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後３０
０℃の温間圧延を施して０．２０ｍｍ厚の最終冷延板と
した。
その後８５０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にＭｇＯ
を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃から１
１５０℃まで８℃／ｈｒで昇温しで２次再結晶させた後
、１２００℃で８時間吃水素中で純化焼鈍を行った０ その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去し、つ
いで３％ＨＦと８２０□液中で化学研磨して鏡面仕上げ
した。
を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃から１
１５０℃まで８℃／ｈｒで昇温しで２次再結晶させた後
、１２００℃で８時間吃水素中で純化焼鈍を行った０ その後酸洗によりフォルステライト質被膜を除去し、つ
いで３％ＨＦと８２０□液中で化学研磨して鏡面仕上げ
した。
その後イオンインプランテーション法によりイオン加速
電圧４９ＫＶで３分間窒素イオンを注入して膜厚０．２
μｍにてＳｉＮ極薄の張力被膜を形成させ、次にりん酸
塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁性塗布焼付
層を形成させた後、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を
行った。
電圧４９ＫＶで３分間窒素イオンを注入して膜厚０．２
μｍにてＳｉＮ極薄の張力被膜を形成させ、次にりん酸
塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁性塗布焼付
層を形成させた後、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を
行った。
そのときの製品の磁気特性および密着性は次のとおりで
あった。
あった。
磁気特性： Ｂ＋ｏ＝１．９３Ｔ 、 Ｗ＋ｔｚｓｏ
＝０．６８Ｗ／ｋｇ密着性： 曲げ半径３０ｍｍで１８
０°曲げてもはく離せず密着性は良好であった。
＝０．６８Ｗ／ｋｇ密着性： 曲げ半径３０ｍｍで１８
０°曲げてもはく離せず密着性は良好であった。
実施例３
Ｃ：０．０４４％、Ｓｉ：３．４５％、Ｍｎ ： ０．
０６６％、Ｓｅ：０．０２３ ％、Ｓｂ ： ０．０
２５ ％、ＭＯ： ０．０２６ ％を含有する一方
向性けい素鋼板を１３６０℃で４時間加熱した後、熱間
圧延して２．２０ａｕｎ厚の熱延板とした。その後９０
０℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃で３分間の中間
焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を施して０．２３＋ｎｍ
厚の最終冷延板とした。
０６６％、Ｓｅ：０．０２３ ％、Ｓｂ ： ０．０
２５ ％、ＭＯ： ０．０２６ ％を含有する一方
向性けい素鋼板を１３６０℃で４時間加熱した後、熱間
圧延して２．２０ａｕｎ厚の熱延板とした。その後９０
０℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃で３分間の中間
焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を施して０．２３＋ｎｍ
厚の最終冷延板とした。
その後８２０℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼
鈍を施した後、Ａ１□０３（６０％）、 Ｍｇ０（３０
％）。
鈍を施した後、Ａ１□０３（６０％）、 Ｍｇ０（３０
％）。
２ｒＯ□（５％）、 ＴｉＯ□（５％）を主成分とする
焼鈍分離剤を塗布した後、８５０℃で５０時間の２次再
結晶焼鈍後、１２００℃で８時間乾Ｈ２ガス中で純化焼
鈍を行った。
焼鈍分離剤を塗布した後、８５０℃で５０時間の２次再
結晶焼鈍後、１２００℃で８時間乾Ｈ２ガス中で純化焼
鈍を行った。
その後軽酸洗により鋼板表面上の酸化物を除去した後、
電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
その後（ａ）マグネトロンスパッタリング法、（５）［
Ｂ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ） ＋ ＲＦ（Ｒａｄ
ｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）法、（Ｃ）ＨＣＤ（ＨｐＨ
ｏｗ Ｃａｔｈｏｄｅ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）および（
ｄ）ＭｕｌｔｉＡｒｃ法によるイオンプレーティング装
置を用いてＴｉＮの張力被膜を形成させた後、８００℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行って製品とした。そのとき
の製品の磁気特性値とＴｉＮ被膜のＸ線回折結果を表２
に示す。
Ｂ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ） ＋ ＲＦ（Ｒａｄ
ｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）法、（Ｃ）ＨＣＤ（ＨｐＨ
ｏｗ Ｃａｔｈｏｄｅ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）および（
ｄ）ＭｕｌｔｉＡｒｃ法によるイオンプレーティング装
置を用いてＴｉＮの張力被膜を形成させた後、８００℃
で３時間の歪み取り焼鈍を行って製品とした。そのとき
の製品の磁気特性値とＴｉＮ被膜のＸ線回折結果を表２
に示す。
表 ２
表２から明らかなように４種類のイオンプレーティング
法によるＴｉＮ薄膜を形成させたときの磁気特性は８１
０が１．９１〜１．９２７５１１１７／Ｓｏが０．６９
〜０．７２Ｗ／ｋｇのように何れもきわめて良好である
。また表面の薄膜のＸ線回折結果では（ａ）および（ｄ
）の条件ではＴｉＮ ｐｅａｋｓのみ、ら）の条件では
ＴｉＮ ｐｅａｋｓが主であるが、Ｔｉ ｐｅａｋｓ若
干、また（Ｃ）の条件ではＴｉＮｐｅａｋｓが主である
が、Ｔｉ２ＮとＴｉＮ ｐｅａｋｓがわずかに検出され
たが、ＴｉＮ以外のこの程度のピークは磁気特性に大き
な影響を与えない。なおこのときの製品の密着性はすべ
て曲げ半径２５ｎ＋ｍ以下で１８０゜曲げてもはく離が
なく良好であった。
法によるＴｉＮ薄膜を形成させたときの磁気特性は８１
０が１．９１〜１．９２７５１１１７／Ｓｏが０．６９
〜０．７２Ｗ／ｋｇのように何れもきわめて良好である
。また表面の薄膜のＸ線回折結果では（ａ）および（ｄ
）の条件ではＴｉＮ ｐｅａｋｓのみ、ら）の条件では
ＴｉＮ ｐｅａｋｓが主であるが、Ｔｉ ｐｅａｋｓ若
干、また（Ｃ）の条件ではＴｉＮｐｅａｋｓが主である
が、Ｔｉ２ＮとＴｉＮ ｐｅａｋｓがわずかに検出され
たが、ＴｉＮ以外のこの程度のピークは磁気特性に大き
な影響を与えない。なおこのときの製品の密着性はすべ
て曲げ半径２５ｎ＋ｍ以下で１８０゜曲げてもはく離が
なく良好であった。
実施例４
Ｃ：０．０４２％、Ｓｉ：３．３２％、Ｍｎ ： ０．
０６２ ％、Ｍｏ ： ０．０２２％、 Ｓｅ：０．０
２１％およびＳｂ ： ０．０２５％を含有する熱延板
に９００℃で３分間の均−化焼鈍後、９５０℃で３分間
の中間焼鈍をはさんで２１回の冷間圧延を施して０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
０６２ ％、Ｍｏ ： ０．０２２％、 Ｓｅ：０．０
２１％およびＳｂ ： ０．０２５％を含有する熱延板
に９００℃で３分間の均−化焼鈍後、９５０℃で３分間
の中間焼鈍をはさんで２１回の冷間圧延を施して０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
その後８２０℃の湿水素中で脱炭を兼ねた１次再結晶焼
鈍を施したのち、鋼板表面にＡｌ２Ｏ３（７０％）、
Ｍｇ０（２５％）、 ＺｒＯ□（５％）からなる焼鈍分
離剤を塗布したしてから、８５０℃で５０時間の２次再
結晶焼鈍、ついで乾水素中で１２００℃で７時間の純化
焼鈍を施した。
鈍を施したのち、鋼板表面にＡｌ２Ｏ３（７０％）、
Ｍｇ０（２５％）、 ＺｒＯ□（５％）からなる焼鈍分
離剤を塗布したしてから、８５０℃で５０時間の２次再
結晶焼鈍、ついで乾水素中で１２００℃で７時間の純化
焼鈍を施した。
その後（ａ）は酸洗により鋼板表面上の酸化被膜を除去
、（ｂ）は酸洗により酸化被膜を除去後、電解研摩を施
して中心線平均粗さ０．０４μｍ以下の鏡面状態に仕上
げた。しかるのちにイオンプレーティングにより１．２
μｍ厚のＴｉＮ被膜を形成した。
、（ｂ）は酸洗により酸化被膜を除去後、電解研摩を施
して中心線平均粗さ０．０４μｍ以下の鏡面状態に仕上
げた。しかるのちにイオンプレーティングにより１．２
μｍ厚のＴｉＮ被膜を形成した。
その後１部はさらにりん酸塩とコロイダルシリカを主成
分とするコーティング被膜を被成した後８００℃で５時
間の歪み取り焼鈍を施して製品とした。それときの製品
の磁気特性を現行のフォルステライト被膜を有する製品
と比較して表３に示す。
分とするコーティング被膜を被成した後８００℃で５時
間の歪み取り焼鈍を施して製品とした。それときの製品
の磁気特性を現行のフォルステライト被膜を有する製品
と比較して表３に示す。
なお現行製品は８２０℃の湿水素中で脱炭を兼ねた１次
再結晶焼鈍を施したのち、鋼板表面にＭｇＯを主成分と
する焼鈍分離剤を塗布したから、８５０℃で５０時間の
２次再結晶焼鈍、ついで乾水素中で１２００℃で７時間
の純化焼鈍を施した。その後ホオルステライト被膜を焼
付処理した後、８００℃で５時間の歪み取り焼鈍を行っ
て製品としたものである。
再結晶焼鈍を施したのち、鋼板表面にＭｇＯを主成分と
する焼鈍分離剤を塗布したから、８５０℃で５０時間の
２次再結晶焼鈍、ついで乾水素中で１２００℃で７時間
の純化焼鈍を施した。その後ホオルステライト被膜を焼
付処理した後、８００℃で５時間の歪み取り焼鈍を行っ
て製品としたものである。
なお、このときの製品の密着性は、すべて曲げ半径２５
ｍｍ以下で、１８０°曲げてもはく離がなく良好であっ
た。
ｍｍ以下で、１８０°曲げてもはく離がなく良好であっ
た。
表 ３
実施例５
Ｃ：０．０４３％、 Ｓｉ ：３．３２％、 Ｍｎ ：
０．０６６％。
０．０６６％。
Ｓｅ ： ０．０１９％、 Ｓｂ ：０．０２５％およ
びＭＯ二０．０２３％を含有するけい素鋼熱延板（２，
０ｍｍ厚）を９５０℃で３分間の中間焼鈍をはさんで２
回の冷間圧延を施して０．２３ｍｍ厚の冷間圧延板とし
た。その後８２０℃で３分間の脱炭を兼ねた１次再結晶
焼鈍を施したのち、Ａｌ２Ｏ３（６０％＞、 Ｍｇ０（
３５％）、ＺｒＯ□（３％）、 ＴＩ［］２（２％）を
主成分とする焼鈍分離剤をスラリー状に塗布した。
びＭＯ二０．０２３％を含有するけい素鋼熱延板（２，
０ｍｍ厚）を９５０℃で３分間の中間焼鈍をはさんで２
回の冷間圧延を施して０．２３ｍｍ厚の冷間圧延板とし
た。その後８２０℃で３分間の脱炭を兼ねた１次再結晶
焼鈍を施したのち、Ａｌ２Ｏ３（６０％＞、 Ｍｇ０（
３５％）、ＺｒＯ□（３％）、 ＴＩ［］２（２％）を
主成分とする焼鈍分離剤をスラリー状に塗布した。
その後８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍を行った後
、さらにその後１２００℃で６時間乾水素萎えて純化焼
鈍を行なった後、酸洗により表面酸化物を除去し、電解
研摩により鋼板表面を鏡面状態にした。その後ＣＶＤ
（表４中無印）、イオンプレーティング（表４中の○印
）およびイオンインプランテーション（表４中のΔ印）
により種々の薄膜（約０６７〜１．５μ厚）を形成させ
た後、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分とするコー
ティング被膜の焼付処理の後８００℃で５時間の歪み取
り焼鈍を行った。そのときの製品の磁気特性を表４にま
とめて示す。
、さらにその後１２００℃で６時間乾水素萎えて純化焼
鈍を行なった後、酸洗により表面酸化物を除去し、電解
研摩により鋼板表面を鏡面状態にした。その後ＣＶＤ
（表４中無印）、イオンプレーティング（表４中の○印
）およびイオンインプランテーション（表４中のΔ印）
により種々の薄膜（約０６７〜１．５μ厚）を形成させ
た後、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分とするコー
ティング被膜の焼付処理の後８００℃で５時間の歪み取
り焼鈍を行った。そのときの製品の磁気特性を表４にま
とめて示す。
なお、このときの製品の密着性は、すべて曲げ半径２５
＋ｎｍ以下で１８０°曲げてはく離がなく良好であった
。
＋ｎｍ以下で１８０°曲げてはく離がなく良好であった
。
実施例６
Ｃ：０．０４３ ％、 Ｓｉ：３．３７％、Ｍｎ ：
０．０６３ ％、Ｍｏ ： ０．０２５％、Ｓｅ
： ０．０２２％、Ｓｂ ： ０．０２５％を含有する
熱延板を用意した。
０．０６３ ％、Ｍｏ ： ０．０２５％、Ｓｅ
： ０．０２２％、Ｓｂ ： ０．０２５％を含有する
熱延板を用意した。
この熱延板は９００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０
℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って０．２
３ｍｍ厚の最終冷延板とした。
その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、鋼板表面にＡ
”２０３ （７５％）、 Ｍｇ口（２０％）、Ｚｒ０２
（５％）を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０
℃で５０時間の２次再結晶焼鈍および１２００℃で８時
間のＨ２中での純化焼鈍を行った。
”２０３ （７５％）、 Ｍｇ口（２０％）、Ｚｒ０２
（５％）を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５０
℃で５０時間の２次再結晶焼鈍および１２００℃で８時
間のＨ２中での純化焼鈍を行った。
その後酸洗により鋼板表面上の酸化被膜を除去し、次い
で３％ＨＦ（！：８２０２液中で化学研磨して鏡面仕上
げした。その後ＣＶＤ （表５中無印）イオンプレーテ
ィング（表５中の○印）およびイオンインプランテーシ
ョン（表５中のΔ印）により種々の化合物薄膜を０．７
〜０．９μｍ厚で形成させた。
で３％ＨＦ（！：８２０２液中で化学研磨して鏡面仕上
げした。その後ＣＶＤ （表５中無印）イオンプレーテ
ィング（表５中の○印）およびイオンインプランテーシ
ョン（表５中のΔ印）により種々の化合物薄膜を０．７
〜０．９μｍ厚で形成させた。
その後これらの処理をした試料は表面にりん酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理した後
、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を行った。
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理した後
、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を行った。
そのときの製品の磁気特性および磁歪の圧縮応力特性、
（圧縮応力σが０．４および０．６ ｋｔｒ／ｍｍ２で
の磁気歪みの値λｐｐ）を表５にまとめて示す。
（圧縮応力σが０．４および０．６ ｋｔｒ／ｍｍ２で
の磁気歪みの値λｐｐ）を表５にまとめて示す。
実施例７
Ｃ：０．０５６％、Ｓｉ：３．２９％、Ｍｎ ＋ ０．
０７８％、Ａｌ：０．０２５％、Ｓ：０．０３０％、Ｃ
ｕ：０．１％。
０７８％、Ａｌ：０．０２５％、Ｓ：０．０３０％、Ｃ
ｕ：０．１％。
Ｓｎ：０．０５％を含有する一方向性けい素鋼を１４４
０℃で５時間加熱した後、熱間圧延して１．６〜２．７
ｍｍ厚の熱延板とした。
０℃で５時間加熱した後、熱間圧延して１．６〜２．７
ｍｍ厚の熱延板とした。
その後１１００℃で３分間の均一化焼鈍を施した後急冷
処理した。その後３５０℃での温間圧延を施して０．２
Ｑ、 ０．２３．０．２７および（］、 ３０叩厚の最
終冷延板とした。
処理した。その後３５０℃での温間圧延を施して０．２
Ｑ、 ０．２３．０．２７および（］、 ３０叩厚の最
終冷延板とした。
その後８５０℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼
鈍を施した後、”２０３ （７０％）、 Ｍｇ０（２０
％）。
鈍を施した後、”２０３ （７０％）、 Ｍｇ０（２０
％）。
ＴｌＯ□（５％）、 Ｚｒ０３（５豹の焼鈍分離剤を塗
布した後、８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍後、１
２００℃で５時間乾Ｈ２ガス中で純化焼鈍を行った。
布した後、８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍後、１
２００℃で５時間乾Ｈ２ガス中で純化焼鈍を行った。
そのあと酸洗により鋼板表面上の酸化被膜を除去した後
、電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
、電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
その後ＰＶＤ（イオンプレーティング装置）を用いてＣ
ｒ２Ｎの薄膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした後、８０
０℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。
ｒ２Ｎの薄膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした後、８０
０℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。
そのときの製品の板厚側磁気特性、Ｃｒ、Ｎ薄膜の膜厚
および磁歪の圧縮応力特性（圧縮能力σが０．４ｋｇ／
ｍｆｆ１２および０．６ ｋｇ／ １ｎｎ２での磁気歪
みの値λす）表を表６６にまとめて示す。
および磁歪の圧縮応力特性（圧縮能力σが０．４ｋｇ／
ｍｆｆ１２および０．６ ｋｇ／ １ｎｎ２での磁気歪
みの値λす）表を表６６にまとめて示す。
実施例８
（ａ） Ｃ：０．０４２％、Ｓｉ：３．３６％、Ｍｎ
＋ ０．０６２％、Ｍｏ ： ０．０２４％、Ｓｅ
： ０．０２１％、Ｓｂ：０．０２５％（ｂ） Ｃ：
０．０５６％、Ｓｉ：３．３６％、Ｍｎ ： ０．０６
８％、Ａｔ： ０．０２６％、 Ｓ ：０．０２９％
、 Ｎ ： ０．００６９％。
＋ ０．０６２％、Ｍｏ ： ０．０２４％、Ｓｅ
： ０．０２１％、Ｓｂ：０．０２５％（ｂ） Ｃ：
０．０５６％、Ｓｉ：３．３６％、Ｍｎ ： ０．０６
８％、Ａｔ： ０．０２６％、 Ｓ ：０．０２９％
、 Ｎ ： ０．００６９％。
Ｃｕ：０．１％、 Ｓｎ ：０．０５％をそれぞれ含有
する熱延板を用意した。
する熱延板を用意した。
まず（ａ）の熱延板は９００℃で３分間の均一化焼鈍後
９５０℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って
０．２０ａｔ＋ｎ厚の最終冷延板とした。
９５０℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って
０．２０ａｔ＋ｎ厚の最終冷延板とした。
一方ら）の熱延板は１０８０℃で３分間の均−化焼鈍後
急冷処理を行い、その後３００℃の温間圧延を施して０
．２０ｍｍ厚の最終冷延板とした。
急冷処理を行い、その後３００℃の温間圧延を施して０
．２０ｍｍ厚の最終冷延板とした。
その後回れの冷延板についても８３０℃の湿水素中で脱
炭焼鈍後、鋼板表面にＡｌ２Ｏ３（７５％）、 Ｍｇ０
（２０℃、 ＺｒＯ□（５％）を主成分とする焼鈍分離
剤を塗布した後、（ａ）の素材による試料は８５０℃で
５０時間の２次再結晶焼鈍後、１２００℃で５時間の吃
水素中で純化焼鈍、（ｂ）の素材による試料は８５０℃
から５℃／ｈｒで１０５０℃まで昇温しで２次再結晶さ
せた後、１２００℃で８時間吃水素中で純化焼鈍をそれ
ぞれ行った。
炭焼鈍後、鋼板表面にＡｌ２Ｏ３（７５％）、 Ｍｇ０
（２０℃、 ＺｒＯ□（５％）を主成分とする焼鈍分離
剤を塗布した後、（ａ）の素材による試料は８５０℃で
５０時間の２次再結晶焼鈍後、１２００℃で５時間の吃
水素中で純化焼鈍、（ｂ）の素材による試料は８５０℃
から５℃／ｈｒで１０５０℃まで昇温しで２次再結晶さ
せた後、１２００℃で８時間吃水素中で純化焼鈍をそれ
ぞれ行った。
その後酸洗により酸化物被膜を除去し、次いで３％ＨＦ
と１１２０□液中で化学研磨して鏡面仕上げした。
と１１２０□液中で化学研磨して鏡面仕上げした。
その後ＣＶＤ装置を用１ｔ”’Ｃ（ｉ＞ＴｉＣｌ４とＨ
２とＮ２（７）混合ガスによりＴｉＮの薄膜、（ｉｉ）
ＴｉＣ１，とＨ２とＮ２とＣＨ４混合ガスにより、Ｔｉ
（ＣＮ）の薄膜および（ｉｉｉ）ＴＩＣ１４とＨ２とＮ
２とＣＨ，の混合ガスによりＴｉＣの薄膜を、いずれも
０．７ μｍ厚で形成させた。またイオンプレーティン
グおよびイオンインプランテーション装置を用いて（ｉ
ｖ） Ｔｉ（ＣＮ）および（ｖ）Ｔｉｃの０．７〜０．
９ μｍ厚の薄膜を形成させた。
２とＮ２（７）混合ガスによりＴｉＮの薄膜、（ｉｉ）
ＴｉＣ１，とＨ２とＮ２とＣＨ４混合ガスにより、Ｔｉ
（ＣＮ）の薄膜および（ｉｉｉ）ＴＩＣ１４とＨ２とＮ
２とＣＨ，の混合ガスによりＴｉＣの薄膜を、いずれも
０．７ μｍ厚で形成させた。またイオンプレーティン
グおよびイオンインプランテーション装置を用いて（ｉ
ｖ） Ｔｉ（ＣＮ）および（ｖ）Ｔｉｃの０．７〜０．
９ μｍ厚の薄膜を形成させた。
その後これらの処理をした試料は表面にりん酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした
後、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を行った。
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした
後、８００℃で２時間の歪み取り焼鈍を行った。
そのときの製品の磁気特性および磁歪の圧縮応力特性（
圧縮応力σが０．４および０．６ ｋｇ／ｍｍ’下での
磁気歪みλ、Ｐの値）を表７に示す。
圧縮応力σが０．４および０．６ ｋｇ／ｍｍ’下での
磁気歪みλ、Ｐの値）を表７に示す。
実施例９
Ｃ：０．０４３％、 Ｓｉ：３．４２％、 Ｍｌｌ：０
．０６９％、 Ｓｅ： ０．０２１％。
．０６９％、 Ｓｅ： ０．０２１％。
３ｂ：Ｑ、 ０２５％、 Ｍｏ＋０．０２５％を含有す
る一方向性けい素鋼を１４００℃で３時間加熱した後、
熱間圧延して１．８〜２，７ｎ＋ｍの熱延板とした。そ
の後９００℃で３分間の均−焼鈍後、９５０℃で３分間
の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を施して０．２０
．０．２３．０．２７＋＋＋ｍおよび０．３０＋ｎｍ厚
の最終冷延板とした。
る一方向性けい素鋼を１４００℃で３時間加熱した後、
熱間圧延して１．８〜２，７ｎ＋ｍの熱延板とした。そ
の後９００℃で３分間の均−焼鈍後、９５０℃で３分間
の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を施して０．２０
．０．２３．０．２７＋＋＋ｍおよび０．３０＋ｎｍ厚
の最終冷延板とした。
その後８３０℃の湿水素中で脱炭を兼ねる１次再結晶焼
鈍を施した後、ＭｇＯ（２０％）、Ａ１□０３（７０％
）。
鈍を施した後、ＭｇＯ（２０％）、Ａ１□０３（７０％
）。
ＴｉＯ，（５％）、 ＺｒＯ□（５％）の焼鈍分離剤を
塗布した後、８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍後、
１２００℃で５時間の乾Ｈ２ガス中で純化焼鈍を行った
。その後軽酸洗により鋼板表面上の酸化物を除去した後
、電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
塗布した後、８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍後、
１２００℃で５時間の乾Ｈ２ガス中で純化焼鈍を行った
。その後軽酸洗により鋼板表面上の酸化物を除去した後
、電解研磨を行って鋼板表面を鏡面状態に仕上げた。
その後ＰＶＤ装置（イオンプレーティング装置）を用い
てＴｉＮの薄膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダル
シリカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした後、８
００℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。そのときの製
品の板厚側磁気特性、ＴｉＮ薄膜の膜厚および磁歪の圧
縮応力特性（圧縮応力σが０．４ ｋｇ／ｍｍ”および
０．６ ｋｇ／ｍｍ”での磁気歪みλ１．の値）を表８
に示す。
てＴｉＮの薄膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダル
シリカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理をした後、８
００℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。そのときの製
品の板厚側磁気特性、ＴｉＮ薄膜の膜厚および磁歪の圧
縮応力特性（圧縮応力σが０．４ ｋｇ／ｍｍ”および
０．６ ｋｇ／ｍｍ”での磁気歪みλ１．の値）を表８
に示す。
（発明の効果）
第１〜第４各発明により、歪み取り焼鈍のような、高温
熱履歴を経ることとなる一方向性けい素鋼板の使途で何
ら高温処理に由来する性能劣化を来すことなく、熱安定
性にすぐれた、一方向性けい素鋼板が与えられ、第５発
明の方法により、上記の卓抜した超低鉄損特性を、高温
処理を経た場合になお持続発現することができる一方向
性けい素鋼板を適切に得ることができる。
熱履歴を経ることとなる一方向性けい素鋼板の使途で何
ら高温処理に由来する性能劣化を来すことなく、熱安定
性にすぐれた、一方向性けい素鋼板が与えられ、第５発
明の方法により、上記の卓抜した超低鉄損特性を、高温
処理を経た場合になお持続発現することができる一方向
性けい素鋼板を適切に得ることができる。
第１図はイオンプレーテングの模式図、第２図は加速イ
オンおよび蒸着原子の被着挙動を示す説明図である。 第１図 （フィプメフト） 第２図 １・・・刀ロシ蓼、イオン
オンおよび蒸着原子の被着挙動を示す説明図である。 第１図 （フィプメフト） 第２図 １・・・刀ロシ蓼、イオン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表面上、の非金
属物質を除去した面に、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、
Ｔａ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ及
びＳｉの窒化物及び／又は炭化物のうちから選んだ少な
くとも１種から主としてなり、それらの地鉄との混合相
を介し鋼板表面と強固に被着した少なくとも１層の０．
００５〜５μｍの張力被膜を具備することを特徴とする
熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板。 ２、仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ及びＳｉの窒化物及び／又は
炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から主としてな
り、それらの地鉄との混合相を介し鋼板表面上へ強固に
被着した少なくとも１層の０．００５〜５μｍの張力被
膜を具備することを特徴とする熱安定性、超低鉄損一方
向性けい素鋼板。 ３、仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表面上の非金属
物質を除去した面に、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ及び
Ｓｉの窒化物及び／又は炭化物のうちから選んだ少なく
とも１種から主としてなり、それらの地鉄との混合相を
介し鋼板表面上へ強固に被着した少なくとも１層の０．
００５〜５μｍの張力被膜を具備し、この張力被膜上に
重ねて被着した、絶縁性塗布焼付層とともに具備するこ
とを特徴とする熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板
。 ４、仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表面上の非金属
物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ及びＳｉの窒化物及び／又は
炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から主としてな
り、それらの地鉄との混合相を介し鋼板表面上へ強固に
被着した少なくとも１層の０．００５〜５μｍの張力被
膜を具備し、この張力被膜上に重ねて被着した、絶縁性
塗布焼付層とともに具備することを特徴とする熱安定性
、超低鉄損一方向性けい素鋼板。 ５、含けい素スラブを熱間圧延して得られた熱延板に１
回または中間焼鈍をはさむ２回の、冷間圧延を施して最
終板厚としたのち、脱炭・１次再結晶焼鈍を施し、つい
で鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布し
てから最終仕上げ焼鈍を施す常法に従いフォルステライ
ト質下地被膜を形成する工程と、その後該フォルステラ
イト質下地被膜を除去し、ついで該表面を研磨処理して
平滑に仕上げる工程および該仕上げ表面上に、イオンプ
レーティング若しくはイオンインプランテーションによ
って、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｎ、Ｃｒ
、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｂ及びＳｉの窒化物及
び／又は炭化物のうちから選んだ少なくとも１種から主
として成る、０．００５〜５μｍの張力被膜を形成する
工程の結合に成ることを特徴とする磁気特性の熱安定性
に優れる超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3293585 | 1985-02-22 | ||
| JP60-32935 | 1985-02-22 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63024001A Division JPS63278209A (ja) | 1985-02-22 | 1988-02-05 | 熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS621820A true JPS621820A (ja) | 1987-01-07 |
| JPS6354767B2 JPS6354767B2 (ja) | 1988-10-31 |
Family
ID=12372789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61036565A Granted JPS621820A (ja) | 1985-02-22 | 1986-02-21 | 熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS621820A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3239321A4 (en) * | 2014-12-24 | 2018-01-03 | JFE Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method for manufacturing same |
| EP3770290A4 (en) * | 2018-03-22 | 2021-09-01 | Nippon Steel Corporation | GRAIN ORIENTED ELECTRIC STEEL SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING GRAIN ORIENTED ELECTRIC STEEL SHEET |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104024474A (zh) | 2011-12-28 | 2014-09-03 | 杰富意钢铁株式会社 | 具有涂层的取向性电磁钢板及其制造方法 |
| RU2706940C1 (ru) * | 2016-10-18 | 2019-11-21 | ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН | Текстурированная электромагнитная листовая сталь и способ производства текстурированной электромагнитной листовой стали |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4996920A (ja) * | 1973-01-22 | 1974-09-13 |
-
1986
- 1986-02-21 JP JP61036565A patent/JPS621820A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4996920A (ja) * | 1973-01-22 | 1974-09-13 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3239321A4 (en) * | 2014-12-24 | 2018-01-03 | JFE Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method for manufacturing same |
| US10626474B2 (en) | 2014-12-24 | 2020-04-21 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method of manufacturing same |
| US11174526B2 (en) | 2014-12-24 | 2021-11-16 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method of manufacturing same |
| EP3770290A4 (en) * | 2018-03-22 | 2021-09-01 | Nippon Steel Corporation | GRAIN ORIENTED ELECTRIC STEEL SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING GRAIN ORIENTED ELECTRIC STEEL SHEET |
| US11441215B2 (en) | 2018-03-22 | 2022-09-13 | Nippon Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method for producing grain-oriented electrical steel sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6354767B2 (ja) | 1988-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR910006011B1 (ko) | 극저철손 결정 방향성 규소 강판 | |
| EP0215134B1 (en) | Process for producing unidirectional silicon steel plate with extraordinarily low iron loss | |
| JPS61235514A (ja) | 熱安定性、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPS6332849B2 (ja) | ||
| JPS621820A (ja) | 熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JP4300604B2 (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板およびその製造方法 | |
| JPS6230302A (ja) | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPH11310882A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板およびその製造方法 | |
| JPH11236682A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板およびその製造方法 | |
| JPS621822A (ja) | 熱安定性、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPS63278209A (ja) | 熱安定性、超低鉄損一方向性けい素鋼板 | |
| JPH0220710B2 (ja) | ||
| JPS6269501A (ja) | 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPH0375354A (ja) | 歪取り焼鈍によって特性の劣化しない超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| WO2024111568A1 (ja) | 方向性電磁鋼板とその製造方法 | |
| JPH0453084B2 (ja) | ||
| JPH0577749B2 (ja) | ||
| JPH0335377B2 (ja) | ||
| JPH01159322A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPS63293112A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPS62192581A (ja) | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPS6270520A (ja) | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPS6263408A (ja) | 超低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
| JPS63227719A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JP2000129357A (ja) | 磁気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 |