JPS6239533A - 芳香族ジアルキルジアミン類の製造方法 - Google Patents
芳香族ジアルキルジアミン類の製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B43/00—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen
- C07B43/04—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen of amino groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/24—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds
- C07C209/26—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds by reduction with hydrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の対象は、分散染料の製造用のカンプリング成分
としておよびカチオン染料の合成用の力・ノブリング成
分として重要である芳香族ジアルキルアミン類を製造す
る産業衛生面、生物環境面および経済性を改善した方法
である。
としておよびカチオン染料の合成用の力・ノブリング成
分として重要である芳香族ジアルキルアミン類を製造す
る産業衛生面、生物環境面および経済性を改善した方法
である。
従来には、一般に一般式（１）
〔式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基を、Ｘおよ
びＹはそれぞれ水素原子、弗素原子、塩素原子、水酸基
、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４の
アルコキシ基、カルボキシ基、炭素原子数１〜５のカル
ボアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−ＣＯ−ＮＨ−基
Ｃ，−Ｃ４アルコキシ基 スルホン酸基、スルホン酸Ｃ９〜ｃ４アルキル−エステ
ル、スルホアモイル基、ｃＩ〜Ｃ，アルキル−スルホン
基、ヒドロキシ−Ｃ，−Ｃ４アルキレンスルホン基、フ
ェニルスルホン基、ヒドロキシフェニルスルホン基、Ｃ
Ｉ〜ｃ４アルキル−フェニルスルホン基または０１〜ｃ
４アルコキシ−フェニルスルホン基を意味する。〕で表
される芳香族ジアルキルアミン類の工業的な製造方法は
、−ｉ式（２）のニトロ化合物（後記参照）から出発す
る。このニトロ化合物は式（３）の相応するアミノ化合
物に還元され、次に一般式Ｒ−ＣＨｚ−Ｚ （式中、Ｒ
は前述の意味を有しており、２は塩素または臭素または
基−０３０２−ＱＣＨ２−Ｒ〜式中、Ｒは再び上述の意
味を有する−である。）のアルキル化剤、例えばアルキ
ル−ハロゲン化物またはアルキルサルフェートにて、下
記の化学反応式に従って化学量論量の酸受容体の存在下
に反応して上記の式（１）の目的化合になる。
びＹはそれぞれ水素原子、弗素原子、塩素原子、水酸基
、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４の
アルコキシ基、カルボキシ基、炭素原子数１〜５のカル
ボアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル−ＣＯ−ＮＨ−基
Ｃ，−Ｃ４アルコキシ基 スルホン酸基、スルホン酸Ｃ９〜ｃ４アルキル−エステ
ル、スルホアモイル基、ｃＩ〜Ｃ，アルキル−スルホン
基、ヒドロキシ−Ｃ，−Ｃ４アルキレンスルホン基、フ
ェニルスルホン基、ヒドロキシフェニルスルホン基、Ｃ
Ｉ〜ｃ４アルキル−フェニルスルホン基または０１〜ｃ
４アルコキシ−フェニルスルホン基を意味する。〕で表
される芳香族ジアルキルアミン類の工業的な製造方法は
、−ｉ式（２）のニトロ化合物（後記参照）から出発す
る。このニトロ化合物は式（３）の相応するアミノ化合
物に還元され、次に一般式Ｒ−ＣＨｚ−Ｚ （式中、Ｒ
は前述の意味を有しており、２は塩素または臭素または
基−０３０２−ＱＣＨ２−Ｒ〜式中、Ｒは再び上述の意
味を有する−である。）のアルキル化剤、例えばアルキ
ル−ハロゲン化物またはアルキルサルフェートにて、下
記の化学反応式に従って化学量論量の酸受容体の存在下
に反応して上記の式（１）の目的化合になる。
しかしこれらの方法段階は、生産衛生面、生物環境面お
よび経済性の観点から最適でない。何故ならば １）上記の一般式Ｒ−ＣＨ！−Ｚのアルキル化剤（原料
化合物の一種類）生理学的に危険のあるものであり、 ２） このアルキル化剤を過剰に用いなければならず、 ３）副反応としてのエステル形成を決して避けることが
できず、 ４） 塩化ナトリウム／硫酸ナトリウムでの廃水の著し
い塩汚染が、アルキル化剤が過剰（２参照）であること
から生じ、 ５） 四級化による収率損失（更に廃水の汚染にも結び
つく）を伴い、 ６）大抵は低い選択性しか得られずそして７） アルキ
ル化されるアミン（Ｂ）（原料）をニトロ化合物（Ａ）
から別の反応段階で製造しなければならない。
よび経済性の観点から最適でない。何故ならば １）上記の一般式Ｒ−ＣＨ！−Ｚのアルキル化剤（原料
化合物の一種類）生理学的に危険のあるものであり、 ２） このアルキル化剤を過剰に用いなければならず、 ３）副反応としてのエステル形成を決して避けることが
できず、 ４） 塩化ナトリウム／硫酸ナトリウムでの廃水の著し
い塩汚染が、アルキル化剤が過剰（２参照）であること
から生じ、 ５） 四級化による収率損失（更に廃水の汚染にも結び
つく）を伴い、 ６）大抵は低い選択性しか得られずそして７） アルキ
ル化されるアミン（Ｂ）（原料）をニトロ化合物（Ａ）
から別の反応段階で製造しなければならない。
それ故に、上記の欠点を回避する芳香族ジアミン類の適
切な製造方法を求める要求がある。
切な製造方法を求める要求がある。
適当な溶液の方向を探究した場合には、カルボニル化合
物での芳香族ニトロ−または−アミノ化合物の原理的に
公知の還元的アルキル化が詳細に試験された。しかしこ
の場合従来技術によると、カルボニル化合物としてホル
ムアルデヒドを用いる場合にのみ広い範囲でジアルキル
化□必然的にジメチル化に限定される□が可能であり、
その際にアルキル化するべきニトロ−または−アミノ化
合物次第で収率が変動することが判っている〔ホーベン
・ウニイル（ＨＯＵＢＥＮ−匈ＥＹＬ）１１／１ 、第
６４２頁以降〕。この場合・しかし場合によっては工業
的に実現が困難な条件の下で−例えば腐蝕性の酸性媒体
中で還元的にジメチル化することによって一収率および
生成物品質に関して妥当な結果を達成できるＣＪＡｃｓ
互 、８６４（１９５１）；ベルギー特許第８３２
．２９６号明細書〕。
物での芳香族ニトロ−または−アミノ化合物の原理的に
公知の還元的アルキル化が詳細に試験された。しかしこ
の場合従来技術によると、カルボニル化合物としてホル
ムアルデヒドを用いる場合にのみ広い範囲でジアルキル
化□必然的にジメチル化に限定される□が可能であり、
その際にアルキル化するべきニトロ−または−アミノ化
合物次第で収率が変動することが判っている〔ホーベン
・ウニイル（ＨＯＵＢＥＮ−匈ＥＹＬ）１１／１ 、第
６４２頁以降〕。この場合・しかし場合によっては工業
的に実現が困難な条件の下で−例えば腐蝕性の酸性媒体
中で還元的にジメチル化することによって一収率および
生成物品質に関して妥当な結果を達成できるＣＪＡｃｓ
互 、８６４（１９５１）；ベルギー特許第８３２
．２９６号明細書〕。
これに対して、式
〔式中、Ｒは上記の意味を有する。〕
で表される高級アルデヒド類にて芳香族ニトロ−または
アミン化合物を還元的にジアルキル化することは、文献
によれば□そこに、もし少し記載されているとしても□
実用的でない工業的条件下であり且つ不満足な収率しか
可能でない。例えば、標準圧での水素化においてＰｔ０
ｚにより酢酸／エタノール中でニトロベンゼンとで表さ
れる脂肪族アルデヒド類とを反応させる場合には、ジア
ルキルアニリン類が９６時間後に３４〜７０χの収率で
得られるＣＪＡＣＳ 川、７４９（１９４１）。
アミン化合物を還元的にジアルキル化することは、文献
によれば□そこに、もし少し記載されているとしても□
実用的でない工業的条件下であり且つ不満足な収率しか
可能でない。例えば、標準圧での水素化においてＰｔ０
ｚにより酢酸／エタノール中でニトロベンゼンとで表さ
れる脂肪族アルデヒド類とを反応させる場合には、ジア
ルキルアニリン類が９６時間後に３４〜７０χの収率で
得られるＣＪＡＣＳ 川、７４９（１９４１）。
同様にまた、１−アミノ−２−ヒドロキシ−１，２−ジ
フェニルエタンとアセトアルデヒドとのＰｔ／Ｂａ５Ｏ
，による還元的ジエチル化反応は塩化アルミニウムの存
在下でのみ５０χの収率で成功している。塩化アルミニ
ウムの不存在下では殆ど専らモノエチル化合物が生じる
（Ｂｅｒ、８３．６６（１９５０）〕。
フェニルエタンとアセトアルデヒドとのＰｔ／Ｂａ５Ｏ
，による還元的ジエチル化反応は塩化アルミニウムの存
在下でのみ５０χの収率で成功している。塩化アルミニ
ウムの不存在下では殆ど専らモノエチル化合物が生じる
（Ｂｅｒ、８３．６６（１９５０）〕。
本発明者は驚くべきことに、引用した上記の各文献の記
載によって生じる先入観に反して、前述の一般式（１）
の芳香族ジアルキルアミン類が、一般式（２） 〔式中、Ｒ１はニトロ基または第一アミノ基であり、Ｘ
およびＹは上記の意味を有している。〕で表される化合
物を一般式（３） 〔式中、Ｒは上記の意味を有している。〕で表される少
なくとも等モル量のアルデヒドにて、アルコール類、例
えば炭素原子数１〜６のアルコール、例えばメタノール
、エタノール、プロパツールの各異性体、ブタノールの
各異性体またはこれらの更に高級な同属体；アルキルペ
ンゾール類、例えばトルエン、エチルベンゼン、キシロ
ールの各異性体またはそれらの混合物；グリコールエー
テル類、例えばメチル−、エチル−またはブチルグリコ
ール、メチル−、エチル−またはブチルジグリコール、
メチル−、エチル−またはブチルトリグリコール、メチ
ル−、エチル−またはブチルテトラグリコール；脂肪酸
ジアルキルアミド ルホルムアミド；または殊に脂肪酸アルキルエステルま
たは一グリコールエステル類、例えば酢酸、プロピオン
酸または酪酸のメチル−、エチル−またはブチルエステ
ル中で、そして接触的に活性化された水素にて周期律表
第８族の貴金属触媒、例えば白金または特にパラジウム
ーー好ましくは適当な担体（炭または硫酸バリウム）に
担持した担持触媒−、更には変化させた白金触媒、例え
ば二酸化白金またはスルフィド化−またはスルフイツト
化白金□但し触媒は、上記式（２）の原料を基準として
１〜２０ｇ１モル、殊に５〜１０ｇ１モルの量で用いる
□の存在下に、場合によっては触媒量、例えば上記式（
２）の原料を基準として１〜２０モルχ、殊に５〜１０
モルχの量のトリー〇１〜Ｃ６アルキルーアミン類、例
えばトリエチル−またはトリブチルアミンの存在下に５
０〜１５０℃、殊に８０〜１２０℃の温度および２０〜
１００ｂａｒ、殊に４０〜６０ｂａｒの圧力のもとて還
元的にジアルキル化することによって高収率および高選
択率で製造できることを見出した。
載によって生じる先入観に反して、前述の一般式（１）
の芳香族ジアルキルアミン類が、一般式（２） 〔式中、Ｒ１はニトロ基または第一アミノ基であり、Ｘ
およびＹは上記の意味を有している。〕で表される化合
物を一般式（３） 〔式中、Ｒは上記の意味を有している。〕で表される少
なくとも等モル量のアルデヒドにて、アルコール類、例
えば炭素原子数１〜６のアルコール、例えばメタノール
、エタノール、プロパツールの各異性体、ブタノールの
各異性体またはこれらの更に高級な同属体；アルキルペ
ンゾール類、例えばトルエン、エチルベンゼン、キシロ
ールの各異性体またはそれらの混合物；グリコールエー
テル類、例えばメチル−、エチル−またはブチルグリコ
ール、メチル−、エチル−またはブチルジグリコール、
メチル−、エチル−またはブチルトリグリコール、メチ
ル−、エチル−またはブチルテトラグリコール；脂肪酸
ジアルキルアミド ルホルムアミド；または殊に脂肪酸アルキルエステルま
たは一グリコールエステル類、例えば酢酸、プロピオン
酸または酪酸のメチル−、エチル−またはブチルエステ
ル中で、そして接触的に活性化された水素にて周期律表
第８族の貴金属触媒、例えば白金または特にパラジウム
ーー好ましくは適当な担体（炭または硫酸バリウム）に
担持した担持触媒−、更には変化させた白金触媒、例え
ば二酸化白金またはスルフィド化−またはスルフイツト
化白金□但し触媒は、上記式（２）の原料を基準として
１〜２０ｇ１モル、殊に５〜１０ｇ１モルの量で用いる
□の存在下に、場合によっては触媒量、例えば上記式（
２）の原料を基準として１〜２０モルχ、殊に５〜１０
モルχの量のトリー〇１〜Ｃ６アルキルーアミン類、例
えばトリエチル−またはトリブチルアミンの存在下に５
０〜１５０℃、殊に８０〜１２０℃の温度および２０〜
１００ｂａｒ、殊に４０〜６０ｂａｒの圧力のもとて還
元的にジアルキル化することによって高収率および高選
択率で製造できることを見出した。
本発明の方法の実施は酸性媒体中では不都合であるのに
、驚くべきことに塩基性媒体中で実施するのがしばしば
有利であることが判っている。文献には、従来、塩基性
媒体中で実施した場合には選択的にモノアルキル化だけ
であることが記載されている〔“オーガニック・リアク
ション（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｎｓど’４，
１７４；特開昭５７−１２３、 １４８号公報〕。
、驚くべきことに塩基性媒体中で実施するのがしばしば
有利であることが判っている。文献には、従来、塩基性
媒体中で実施した場合には選択的にモノアルキル化だけ
であることが記載されている〔“オーガニック・リアク
ション（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｎｓど’４，
１７４；特開昭５７−１２３、 １４８号公報〕。
本発明の条件下ではホルムアルデヒドによる式（２）の
原料のジメチル化に注目に値する程の成功が達成されて
いなかったので、上記式（３）のアルデヒドを用いた場
合の滑らかな反応は極めて驚くべきものであり且つ全く
予期できなったことである。本発明の新規の方法は芳香
族ジアルキルアミン類を優れた収率で且つ非常に高い選
択率（〈１χのモノアルキル化合物）でもたらす。
原料のジメチル化に注目に値する程の成功が達成されて
いなかったので、上記式（３）のアルデヒドを用いた場
合の滑らかな反応は極めて驚くべきものであり且つ全く
予期できなったことである。本発明の新規の方法は芳香
族ジアルキルアミン類を優れた収率で且つ非常に高い選
択率（〈１χのモノアルキル化合物）でもたらす。
本発明の方法の場合には酸、固体助剤、例えば塩化アル
ミニウムまたは酸性の重合体および触媒錯体の添加が省
略されるので、あらゆる水素化装置、特に芳香族アミン
をそれのニトロ化前駆体から製造する工業界に導入され
ている水素化装置において工業的に最適に実施できる。
ミニウムまたは酸性の重合体および触媒錯体の添加が省
略されるので、あらゆる水素化装置、特に芳香族アミン
をそれのニトロ化前駆体から製造する工業界に導入され
ている水素化装置において工業的に最適に実施できる。
更に、芳香族ジアルキルアミンを製造する為の従来技術
の方法の前述の欠点を完全に避けることができ且つ式（
２）においてＲ１がニトロ基であるニトロ化合物をワン
ボンド法で芳香族ジアルキルアミン類に直接的に転化す
ることができる。
の方法の前述の欠点を完全に避けることができ且つ式（
２）においてＲ１がニトロ基であるニトロ化合物をワン
ボンド法で芳香族ジアルキルアミン類に直接的に転化す
ることができる。
従って本発明の方法は顕著な技術的進歩を示している。
本発明の方法は、詳細には、アミンあるいはニトロ化合
物（式（２））の溶液を≧２モルの式（３）のアルデヒ
ドと、上述の溶剤中で場合によっては触媒量の第三アミ
ンの存在下に前述の触媒によって水素の受容が終了する
まで水素化するようにして実施する。
物（式（２））の溶液を≧２モルの式（３）のアルデヒ
ドと、上述の溶剤中で場合によっては触媒量の第三アミ
ンの存在下に前述の触媒によって水素の受容が終了する
まで水素化するようにして実施する。
この場合、実検条件は以下の通りである二弐（２）のア
ミン−あるいはニトロ化合物を上記の溶剤、殊にｎ−ブ
チルアセテート中で１０〜５０χ濃度の溶液として（ア
ミンの場合には５０χ濃度、ニトロ化合物の場合には２
０部濃度の溶液が特に有利であることが判っている）、
場合によっては触媒量の第三アミン、特に反応するべき
出発化合物を基準として１０モルχのトリエチルアミン
の存在下で２．０〜ｌＯ４０モル、殊に２．５〜３．５
モルの式（３）のアルデヒドと７０〜１２０℃、殊に８
０〜１００℃そして２０〜１００ｂａｒ、殊に４０〜６
０ｂａｒの水素圧のもとて上述の貴金属触媒、特に炭に
パラジウムを担持させた担持触媒によって２〜８時間水
素化する。触媒に分離および溶剤の留去の後に式（１）
のジアルキルジアミノ化合物が高収率且つ高純度で得ら
れる。
ミン−あるいはニトロ化合物を上記の溶剤、殊にｎ−ブ
チルアセテート中で１０〜５０χ濃度の溶液として（ア
ミンの場合には５０χ濃度、ニトロ化合物の場合には２
０部濃度の溶液が特に有利であることが判っている）、
場合によっては触媒量の第三アミン、特に反応するべき
出発化合物を基準として１０モルχのトリエチルアミン
の存在下で２．０〜ｌＯ４０モル、殊に２．５〜３．５
モルの式（３）のアルデヒドと７０〜１２０℃、殊に８
０〜１００℃そして２０〜１００ｂａｒ、殊に４０〜６
０ｂａｒの水素圧のもとて上述の貴金属触媒、特に炭に
パラジウムを担持させた担持触媒によって２〜８時間水
素化する。触媒に分離および溶剤の留去の後に式（１）
のジアルキルジアミノ化合物が高収率且つ高純度で得ら
れる。
本方法に従って製造された化合物の同一性は’Ｈ−ＮＭ
Ｒ−および’ ”Ｃ−ＮＭＲ−スペクトルによって確認
する。
Ｒ−および’ ”Ｃ−ＮＭＲ−スペクトルによって確認
する。
大衡拠」
６８．５部のｐ−タレシブイン、６８．５部のトルエン
および５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担
持触媒）をオートクレーブ中に最初に導入する。オート
クレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入
管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的に添加
する。還元的アルキル化反応を３時間の間に１００ ’
Ｃおよび４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで
触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。９９
部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノーｐ−クレシルメチルエ
ーテル（純度９８．５χ（ＨＰＬＣ）） □即ち、理
論値の９２．７χ□が得られる。
および５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担
持触媒）をオートクレーブ中に最初に導入する。オート
クレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入
管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的に添加
する。還元的アルキル化反応を３時間の間に１００ ’
Ｃおよび４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで
触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。９９
部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノーｐ−クレシルメチルエ
ーテル（純度９８．５χ（ＨＰＬＣ）） □即ち、理
論値の９２．７χ□が得られる。
トルエンをキシレン、メチルグリコール、エチルアセテ
ートまたはブタノールに替えた場合にも、収率および純
度に関して匹敵する結果が得られる。
ートまたはブタノールに替えた場合にも、収率および純
度に関して匹敵する結果が得られる。
叉隻五」
ｓｓ、ｓｓの３−二トロー４−メトキシトルエンを３５
２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、５部のトリエチルアミン並びに
５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒
）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄
する。次いで加圧搬入管によって１３２部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２
時間の間に１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の
下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下
に留去する。９９部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノーｐ−
タレシルメチルエーテル（純度９０．８χ（ＨＰＬＣ）
）−即ち、理論値の９３．２χ□が得られる。
２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、５部のトリエチルアミン並びに
５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒
）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄
する。次いで加圧搬入管によって１３２部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２
時間の間に１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の
下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下
に留去する。９９部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノーｐ−
タレシルメチルエーテル（純度９０．８χ（ＨＰＬＣ）
）−即ち、理論値の９３．２χ□が得られる。
実施例３
７６．５部のアミノハイドロキノンジメチルエーテル、
７６．５部のエタノール、５部のトリエチルアミンおよ
び５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触
媒）をオートクレーブに最初に導入する。オートクレー
ブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によ
って１１０部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。
７６．５部のエタノール、５部のトリエチルアミンおよ
び５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触
媒）をオートクレーブに最初に導入する。オートクレー
ブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によ
って１１０部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。
還元的アルキル化反応を２時間の間に１００℃および４
０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去
し、易揮発性成分を減圧下に留去する。１０５．６部の
粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−ハイドロキノンジメチルエ
ーテル（純度８９．９Ｘ（ＨＰＬＣ）） −即ち、理
論値の９０．８χ□が得られる。
０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去
し、易揮発性成分を減圧下に留去する。１０５．６部の
粗Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−ハイドロキノンジメチルエ
ーテル（純度８９．９Ｘ（ＨＰＬＣ）） −即ち、理
論値の９０．８χ□が得られる。
去適斑」
８３．５部の４−二トロ安息香酸を３３４部のｎ−ブチ
ルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に
導入し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（炭
に５χのパラジウムを担持した担持触媒）を混入する。
ルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に
導入し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（炭
に５χのパラジウムを担持した担持触媒）を混入する。
オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加
圧搬入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的
に添加する。還元的アルキル化反応を２時間の間に１０
０℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次い
で触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。１
００部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルーアミノ安息香酸（純度７
４．０Ｘ（ＨＰＬＣ）） −ｆｌｕ チ、理論４Ｍ
ノア６．７５２□が得られる。
圧搬入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的
に添加する。還元的アルキル化反応を２時間の間に１０
０℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次い
で触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。１
００部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルーアミノ安息香酸（純度７
４．０Ｘ（ＨＰＬＣ）） −ｆｌｕ チ、理論４Ｍ
ノア６．７５２□が得られる。
ブチルアセテートをグリコールジアセテートに替えそし
てその他は同様に実施した場合には、目的生成物が匹敵
する収率および品質で得られる。
てその他は同様に実施した場合には、目的生成物が匹敵
する収率および品質で得られる。
次Ｗ糺Ｊ
５２．５部の２−ニトロ−４−アセトアミノアニソール
を２１０部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、２．５部のトリエチルア
ミン並びに２．５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担
持した担持触媒）を混入する。
を２１０部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、２．５部のトリエチルア
ミン並びに２．５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担
持した担持触媒）を混入する。
オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。
次いで加圧搬入管によって６６部のアセトアルデヒドを
回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２時間の間
に１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う
。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去す
る。６４．１部の粗２−ジエチルアミノ〜４−アセトア
ミノアニソール（純度８８．５χ（ＨＰＬＣ） ）□即
ち、理論値の９２．９χ□が得られる。
回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２時間の間
に１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う
。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去す
る。６４．１部の粗２−ジエチルアミノ〜４−アセトア
ミノアニソール（純度８８．５χ（ＨＰＬＣ） ）□即
ち、理論値の９２．９χ□が得られる。
ｌＪｕ生ｊ
１８．３部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを
１６４．７部のキシレンに溶解した溶液をオートクレー
ブに最初に導入し、５８部プロピオンアルデヒド並びに
１部の触媒（炭に５ｚのパラジウムを担持した担持触媒
）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄
する。還元的アルキル化反応を３時間、１００℃および
４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾
去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。２５部の粗Ｎ
。
１６４．７部のキシレンに溶解した溶液をオートクレー
ブに最初に導入し、５８部プロピオンアルデヒド並びに
１部の触媒（炭に５ｚのパラジウムを担持した担持触媒
）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄
する。還元的アルキル化反応を３時間、１００℃および
４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾
去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。２５部の粗Ｎ
。
Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノハイドロキノンジメチルエ
ーテル（純度９１．０χ（Ｉ（ＰＬＣ）） □即ち、
理論値の９６．０χ□が得られる。
ーテル（純度９１．０χ（Ｉ（ＰＬＣ）） □即ち、
理論値の９６．０χ□が得られる。
パラジウム触媒を同じ量の白金／Ｂａ５Ｏａに替えそし
てその他は同様に実施した場合にも、同様な結果が得ら
れる。
てその他は同様に実施した場合にも、同様な結果が得ら
れる。
大１桝」
７６．５部のＩ−ニトロアニソールを３０６部のｎ−ブ
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（
炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）を混入する
。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで
加圧搬入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分
的に添加する。還元的アルキル化反応を３時間、１００
℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで
触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。８９
．１部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルーｍ−アニシジン（純度９
２．５２（ＩＩＰＬｃ）） −ｆｆｒＪチ、理論値（
７）７８．１χ□が残留する。
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（
炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）を混入する
。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで
加圧搬入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分
的に添加する。還元的アルキル化反応を３時間、１００
℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで
触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。８９
．１部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチルーｍ−アニシジン（純度９
２．５２（ＩＩＰＬｃ）） −ｆｆｒＪチ、理論値（
７）７８．１χ□が残留する。
大施炭」
８９部の３−アミノ−ブチルアニリド、８９部のｎ−ブ
チルアセテート、５部のトリエチルアミンおよび５部の
触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）をオ
ートクレーブに最初に導入する。オートクレーブを封じ
そして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって１３
２部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的ア
ルキル化反応を２時間、７０〜８０℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１１５．４部の粗３−Ｎ
、Ｎ−ジエチルアミノーブチルアニリド（純度９１．２
χ（ｌ（ＰＬ（１：） ） □即ち、理論値の９０χ
□が得られる。
チルアセテート、５部のトリエチルアミンおよび５部の
触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）をオ
ートクレーブに最初に導入する。オートクレーブを封じ
そして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって１３
２部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的ア
ルキル化反応を２時間、７０〜８０℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１１５．４部の粗３−Ｎ
、Ｎ−ジエチルアミノーブチルアニリド（純度９１．２
χ（ｌ（ＰＬ（１：） ） □即ち、理論値の９０χ
□が得られる。
人新ｌＬｕ
１８．３部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを
１６４１部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、７２部のトリエチルアミ
ン並びに１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した
担持触媒ンを混入する。
１６４１部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、７２部のトリエチルアミ
ン並びに１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した
担持触媒ンを混入する。
オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。
還元的アルキル化反応を３時間、１００℃および４０〜
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。２８部の粗Ｎ、Ｎ−
ジ−ブチルアミノハイドロキノンジメチルエーテル（８
６，１χの純度（ＩＩＰＬｃ）） −即ち、理論値の
９１．０χ□が得られる。
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。２８部の粗Ｎ、Ｎ−
ジ−ブチルアミノハイドロキノンジメチルエーテル（８
６，１χの純度（ＩＩＰＬｃ）） −即ち、理論値の
９１．０χ□が得られる。
皇止伍■
９１．５部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを
３６６部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオー
トクレーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５χのパ
ラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレ
ーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管に
よって１５４部のアセトアルデヒドを回分的に添加する
。
３６６部のｎ〜ブチルアセテートに溶解した溶液をオー
トクレーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５χのパ
ラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレ
ーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管に
よって１５４部のアセトアルデヒドを回分的に添加する
。
還元的アルキル化反応を３時間、１００℃および４０〜
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。１０５．８部の粗Ｎ
、ＩＪ−ジ−エチルアミノ−ハイドロキノンジメチルｘ
−チル（９６，０Ｃ）純度（ＨＰＬＣ） ）□即ち、
理論値の９７．２χ□が得られる。
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。１０５．８部の粗Ｎ
、ＩＪ−ジ−エチルアミノ−ハイドロキノンジメチルｘ
−チル（９６，０Ｃ）純度（ＨＰＬＣ） ）□即ち、
理論値の９７．２χ□が得られる。
尖侮斑旦
９０部の３−ニトロアセトアミリドを２７０部のｎ−ブ
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持し
た担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして
窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって１５４部の
アセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキル
化反応を３時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水
素圧の下で行う。次いで触媒を吸引濾去し、易揮発性成
分を減圧下に留去する。１０７．４部の粗３−Ｎ。
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持し
た担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして
窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって１５４部の
アセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキル
化反応を３時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水
素圧の下で行う。次いで触媒を吸引濾去し、易揮発性成
分を減圧下に留去する。１０７．４部の粗３−Ｎ。
Ｎ−ジエチルアミノ−アセトアニリド（９０，５χ の
純度（ＨＰＬＣ））□即ち、理論値の９４．４χ□が得
られる。
純度（ＨＰＬＣ））□即ち、理論値の９４．４χ□が得
られる。
スＪＬｌｕヱ
１３．９部の０−二トロフェノールを１２５部のｎ−ブ
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持し
た担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして
窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって４４部のア
セトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化
反応を４時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素
圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減
圧下に留去する。１７．５部の粗２−Ｎ、Ｎ−ジエチル
アミノーフェノール（７Ｂ、８χの純度（ＨＰＬＣ））
−−即ち、理論値の８８．４χ□が得られる。
チルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、１部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持し
た担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして
窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって４４部のア
セトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化
反応を４時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素
圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減
圧下に留去する。１７．５部の粗２−Ｎ、Ｎ−ジエチル
アミノーフェノール（７Ｂ、８χの純度（ＨＰＬＣ））
−−即ち、理論値の８８．４χ□が得られる。
去践１
５７、ＨＩＳの３−ニトロフェニル−β−オキシエチル
スルホンを１１５部のｎ−ブチルアセテートに溶解した
溶液をオートクレーブに最初に導入し、２．５部の触媒
（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）と混合す
る。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次い
で加圧搬入管によって７７部のアセトアルデヒドを回分
的に添加する。還元的アルキル化反応を４時間、１００
℃および４０〜５Ｑｂａｒの水素圧の下で行う。次し）
で触媒を濾去し、揮発性成分を減圧下に留去する。
スルホンを１１５部のｎ−ブチルアセテートに溶解した
溶液をオートクレーブに最初に導入し、２．５部の触媒
（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）と混合す
る。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次い
で加圧搬入管によって７７部のアセトアルデヒドを回分
的に添加する。還元的アルキル化反応を４時間、１００
℃および４０〜５Ｑｂａｒの水素圧の下で行う。次し）
で触媒を濾去し、揮発性成分を減圧下に留去する。
５９．８部の粗３−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノフェニル−
β−オキシエチルスルホン（９７，０χの純度（ＨＰＬ
Ｃ））□即ち、理論値の９０．３χ□が得られる。
β−オキシエチルスルホン（９７，０χの純度（ＨＰＬ
Ｃ））□即ち、理論値の９０．３χ□が得られる。
実施例１４
７５．５ 部の４−二トロエチルベンゼンを３０２部の
キシレンに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持
触媒）並びに１１６部のプロピオンアルデヒドと混合す
る。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。還元
的アルキル化反応を４時間、１００℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１０５部の粗４−Ｎ、Ｎ
−ジ〜ｎ−プロピルアミノエチルベンゼン（９２，７％
の純度（ＩＩＰＬｃ））□即ち、理論値の９５χ□が得
られる。
キシレンに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持
触媒）並びに１１６部のプロピオンアルデヒドと混合す
る。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。還元
的アルキル化反応を４時間、１００℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１０５部の粗４−Ｎ、Ｎ
−ジ〜ｎ−プロピルアミノエチルベンゼン（９２，７％
の純度（ＩＩＰＬｃ））□即ち、理論値の９５χ□が得
られる。
犬１１肌到
９０．５ 部の３−ニトロフェニル−ｎ−プロピルエー
テルを３６２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液
をオートクレーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５
％のパラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オー
トクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬
入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的に添
加する。
テルを３６２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液
をオートクレーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５
％のパラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オー
トクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬
入管によって１３２部のアセトアルデヒドを回分的に添
加する。
還元的アルキル化反応を４時間、１００℃および４０〜
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。１０８部の粗３−Ｎ
、Ｎ−ジエチルアミノフェニル−ロープロビルエーテル
（８９，５の純度（ＨＰＬＣ） ）□即ち、理論値の９
３．４χ□が得られる。
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。１０８部の粗３−Ｎ
、Ｎ−ジエチルアミノフェニル−ロープロビルエーテル
（８９，５の純度（ＨＰＬＣ） ）□即ち、理論値の９
３．４χ□が得られる。
パラジウム触媒の替わりに同じ量のＰｔ０ｚ／炭を用い
そして他は同じように実施した場合にも、匹敵する結果
が得られる。
そして他は同じように実施した場合にも、匹敵する結果
が得られる。
大施拠用
２４．６部のニトロベンゼンを９８．４部のドブチルア
セテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、１００．８部のｎ−プチルアセテ−ト並びに２部の
触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）と混
合する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。
セテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、１００．８部のｎ−プチルアセテ−ト並びに２部の
触媒（炭に５χのパラジウムを担持した担持触媒）と混
合する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。
還元的アルキル化反応を３時間、１００℃および４０〜
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。４３部の粗Ｎ、Ｎ−
ジーｎ−ブチルアニリン（８５，２の純度（ＩＩＰＬｃ
）） −即ち、理論値の８９．７χ□が得られる。
６０ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、
易揮発性成分を減圧下に留去する。４３部の粗Ｎ、Ｎ−
ジーｎ−ブチルアニリン（８５，２の純度（ＩＩＰＬｃ
）） −即ち、理論値の８９．７χ□が得られる。
大１拠Ｈ
１０４部の４−ニトロ安息香酸−ｎ−プロピルエステル
を４１８部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、１７４部のプロピルアル
デヒド並びに５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持
させた担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそ
して窒素で洗浄する。還元的アルキル化反応を３時間、
１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。
を４１８部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、１７４部のプロピルアル
デヒド並びに５部の触媒（炭に５χのパラジウムを担持
させた担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそ
して窒素で洗浄する。還元的アルキル化反応を３時間、
１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で行う。
次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する
。１３５部の粗Ｎ、Ｎ−ジーｎ−プロピルアミノ安息香
酸−ｎ−プロピルエステル（８４，３χの純度（ＩＩＰ
ＬＣ））□即ち、理論値の８６．５χ□が得られる。
。１３５部の粗Ｎ、Ｎ−ジーｎ−プロピルアミノ安息香
酸−ｎ−プロピルエステル（８４，３χの純度（ＩＩＰ
ＬＣ））□即ち、理論値の８６．５χ□が得られる。
尖血開則
９０．５部の３−ニトロ−４−エトキシトルエンを３６
２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５ｚのパラジ
ウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレーブ
を封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によっ
て８８部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元
的アルキル化反応を２時間、１００℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１０４部の粗Ｎ、 Ｎ−
ジエチルアミノ−ｐ−タレシルエチルエーテル（９８，
５χの純度（ＨＰＬＣ））□即ち、理論値の９０．０χ
□が得られる。
２部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５ｚのパラジ
ウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレーブ
を封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によっ
て８８部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元
的アルキル化反応を２時間、１００℃および４０〜６０
ｂａｒの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮
発性成分を減圧下に留去する。１０４部の粗Ｎ、 Ｎ−
ジエチルアミノ−ｐ−タレシルエチルエーテル（９８，
５χの純度（ＨＰＬＣ））□即ち、理論値の９０．０χ
□が得られる。
去ＵＮ町Ｊ
４７．２ 部のｍ−ニトロクロロベンゼンを４２５部の
ｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブ
に最初に導入し、４．５部の触媒（５χの白金／硫黄／
炭）と混合する。オートクレーブを封じそして窒素で洗
浄する。次いで加圧搬入管によって４４部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を５
時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で
行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留
去する。５３部の粗３−クロロ〜Ｎ、Ｎ−ジエチルアニ
リン（９２，５の純度（ＩＩＰＬＣ））□即ち、理論値
の８９、Ｉχ□が得られる。
ｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブ
に最初に導入し、４．５部の触媒（５χの白金／硫黄／
炭）と混合する。オートクレーブを封じそして窒素で洗
浄する。次いで加圧搬入管によって４４部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を５
時間、１００℃および４０〜６０ｂａｒの水素圧の下で
行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留
去する。５３部の粗３−クロロ〜Ｎ、Ｎ−ジエチルアニ
リン（９２，５の純度（ＩＩＰＬＣ））□即ち、理論値
の８９、Ｉχ□が得られる。
大施叢並
４０．４部の３−二トロベンゼンスルホンアミドを８．
０８部のジメチルホルムアミドに溶解した溶液をオート
クレーブに最初に導入し、４部の触媒（炭に５χのパラ
ジウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレー
ブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によ
って８８部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還
元的アルキル化反応を６時間、１４０℃および４０〜６
０ｂａｒの水素圧の下で行う。触媒の濾去の後に易揮発
性成分を減圧下に留去する。４４部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアミノベンゼンスルホンアミド（８８χの純度（ＨＰ
ＬＣ））−即ち、理論値の８４．８χ−が得られる。
０８部のジメチルホルムアミドに溶解した溶液をオート
クレーブに最初に導入し、４部の触媒（炭に５χのパラ
ジウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレー
ブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によ
って８８部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還
元的アルキル化反応を６時間、１４０℃および４０〜６
０ｂａｒの水素圧の下で行う。触媒の濾去の後に易揮発
性成分を減圧下に留去する。４４部の粗Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアミノベンゼンスルホンアミド（８８χの純度（ＨＰ
ＬＣ））−即ち、理論値の８４．８χ−が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基を、Ｘおよ
びＹはそれぞれ水素原子、弗素原子、塩素原子、水酸基
、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４の
アルコキシ基、カルボキシ基、炭素原子数１〜５のカル
ボアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル−ＣＯ−ＮＨ
−基、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコキシ基 スルホン酸基、スルホン酸Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル−エ
ステル基、スルホアモイル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル
−スルホン基、ヒドロキシ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキレン
スルホン基、フェニルスルホン基、ヒドロキシフェニル
スルホン基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル−フェニルスルホ
ン基またはＣ＿１〜Ｃ＿４アルコキシ−フェニルスルホ
ン基を意味する。〕 で表される芳香族ジアルキルアミン類を製造するに当た
って、一般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（２） 〔式中、Ｒ＾１はニトロ基または第一アミノ基であり、
ＸおよびＹは上記の意味を有している。〕で表される化
合物を、一般式（３） ▲数式、化学式、表等があります▼（３） 〔式中、Ｒは上記の意味を有している。〕 で表される少なくとも等モル量のアルデヒドにて、アル
コール類、アルキルベンゾール類、グリコールエーテル
類、脂肪酸ジアルキルアミド類または脂肪酸アルキルエ
ステル類または−グリコールエステル類中で、そして接
触的に活性の水素にて、周期律表第８族の貴金属触媒の
存在下に、場合によっては触媒量のトリ−Ｃ＿１〜Ｃ＿
６アルキル−アミンの存在下に５０〜１５０℃の温度お
よび２０〜１００ｂａｒの圧力のもとで還元的にジアル
キル化することを特徴とする、上記芳香族ジアルキルア
ミン類の製造方法。 ２）還元的ジアルキル化反応を炭素原子数１〜６のアル
コール類、トルエン、エチルベンゼン、キシロールの各
異性体またはこれらの芳香族炭化水素化合物の混合物、
メチル−、エチル−またはブチルジグリコール、メチル
、エチル−またはブチルトリグリコール、メチル−、エ
チル−またはブチルテトラグリコール；酢酸、プロピオ
ン酸または酪酸のメチル−、エチル−、ブチル−または
グリコールエステル、またはジメチルホルムアミド中で
実施する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３）還元的ジアルキル化反応を触媒としての白金、パラ
ジウム、二酸化白金またはスルフィド化−またはスルフ
ィット化白金の存在下に実施する特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ４）還元的ジアルキル化反応を触媒量のトリエチルアミ
ンまたはトリブチルアミンの存在下に実施する特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ５）還元的ジアルキル化反応を８０〜１２０℃の温度お
よび４０〜６０ｂａｒの圧力の下で実施する特許請求の
範囲再１項記載の方法。
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