JPS62297800A - Ｘ線用多層膜反射鏡 - Google Patents
Ｘ線用多層膜反射鏡Info
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- JPS62297800A JPS62297800A JP13997786A JP13997786A JPS62297800A JP S62297800 A JPS62297800 A JP S62297800A JP 13997786 A JP13997786 A JP 13997786A JP 13997786 A JP13997786 A JP 13997786A JP S62297800 A JPS62297800 A JP S62297800A
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- 229910001361 White metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010969 white metal Substances 0.000 claims 1
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｘ線リングラフイー、Ｘ線顕微鏡、シンクロ
トロン放射分光、Ｘ線レーザーなどの軟Ｘ線用光学系と
して広範囲に用いられるＸ線用多層膜反射鏡に関し、特
に正人射に近いＸＮｊＡを高い反射率で反射すると同時
に、高い耐Ｘ線性をもつＸ線用多層膜反射鏡に関する。
トロン放射分光、Ｘ線レーザーなどの軟Ｘ線用光学系と
して広範囲に用いられるＸ線用多層膜反射鏡に関し、特
に正人射に近いＸＮｊＡを高い反射率で反射すると同時
に、高い耐Ｘ線性をもつＸ線用多層膜反射鏡に関する。
従来、かかるＸ線用多層膜反射鏡は、１８０人の軟Ｘ線
に対してＡ ｕ／ ＣあるいはＲｅ ／（：の組み合わ
せで（昭和５９年度科学研究費補助金研究結果報告書（
研究課題番号５８３５０００１） ） 、 Ｉｆｉｏ、
１人、１７０．４人、２２８人の軟Ｘ線に対してＭｏ／
Ｓｉの組み合わせて（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃｓ２
４（＋９８５）、８８３） 、また、その他にもＭｏ／
Ｃ，Ｔａ／Ｃ，Ｗ／Ｃ，ＡｕＰｄ／Ｃ，ＲｅＷ、＃：の
組み合わせなどが報告されている。
に対してＡ ｕ／ ＣあるいはＲｅ ／（：の組み合わ
せで（昭和５９年度科学研究費補助金研究結果報告書（
研究課題番号５８３５０００１） ） 、 Ｉｆｉｏ、
１人、１７０．４人、２２８人の軟Ｘ線に対してＭｏ／
Ｓｉの組み合わせて（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃｓ２
４（＋９８５）、８８３） 、また、その他にもＭｏ／
Ｃ，Ｔａ／Ｃ，Ｗ／Ｃ，ＡｕＰｄ／Ｃ，ＲｅＷ、＃：の
組み合わせなどが報告されている。
しかし、屈折率の異なる２つの物質の組み合わせとして
、上述の従来知られているものを用いた場合、１００人
近傍の軟Ｘ線に対しては、２つの物質の屈折率の差が大
きくならないばかりでなく、吸収率も大きいため、入射
角が０°〜４０°という正人射に近い軟Ｘ線に対して数
％から２０％の反射率しか得られず、また同様の条件で
８０人程度の軟Ｘ線に対しては、数％〜１０％程度の反
射率しか得られない。
、上述の従来知られているものを用いた場合、１００人
近傍の軟Ｘ線に対しては、２つの物質の屈折率の差が大
きくならないばかりでなく、吸収率も大きいため、入射
角が０°〜４０°という正人射に近い軟Ｘ線に対して数
％から２０％の反射率しか得られず、また同様の条件で
８０人程度の軟Ｘ線に対しては、数％〜１０％程度の反
射率しか得られない。
反射鏡による結像系を作成する場合、反射鏡を数枚必要
とするものもある。そのため結像系全体としでは、１枚
の反射鏡の反射率の何乗かで効いて来ることになる。そ
のため多層膜反射鏡の反射率か小さいことは非常に問題
である。
とするものもある。そのため結像系全体としでは、１枚
の反射鏡の反射率の何乗かで効いて来ることになる。そ
のため多層膜反射鏡の反射率か小さいことは非常に問題
である。
また、吸収が大きいことは、反射率の低下を招くばかり
でなく、軟Ｘ線を入射することによる熱の発生を大きく
し劣化を招くため耐Ｘ線性の低下の原因ともなる。さら
に、Ａｕなどをその一方の物質とした場合、融点の低さ
からも耐Ｘ線性が十分とはいえない。
でなく、軟Ｘ線を入射することによる熱の発生を大きく
し劣化を招くため耐Ｘ線性の低下の原因ともなる。さら
に、Ａｕなどをその一方の物質とした場合、融点の低さ
からも耐Ｘ線性が十分とはいえない。
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み成されたものであ
り、その目的は上記従来例の問題点を解決し波長８０〜
１２０人の軟Ｘ線に対しても反射率が大きくかつ吸収係
数が小さく、なおかつ融点の高いＸ線用多層膜反射鏡を
提供することにある。
り、その目的は上記従来例の問題点を解決し波長８０〜
１２０人の軟Ｘ線に対しても反射率が大きくかつ吸収係
数が小さく、なおかつ融点の高いＸ線用多層膜反射鏡を
提供することにある。
本発明の」−記目的は、白金属の金属の一種以上よりな
る膜厚１０人以」−の第１の層と、Ｂｅ、 Ｂ、 Ｃ及
びＳｉのうち一種以上の元素からなるｎ莫厚１０Ａ以上
の第２の層とが交互に積層されているＸ線用多層膜反射
鏡によって達成される。
る膜厚１０人以」−の第１の層と、Ｂｅ、 Ｂ、 Ｃ及
びＳｉのうち一種以上の元素からなるｎ莫厚１０Ａ以上
の第２の層とが交互に積層されているＸ線用多層膜反射
鏡によって達成される。
第１図は、この発明の原理説明図である。
図中において本発明のＸ線用多層膜反射鏡は、平面ある
いは曲面の基板ｉ上に、第１の層２および第２の層３が
交互に積層されてなる。
いは曲面の基板ｉ上に、第１の層２および第２の層３が
交互に積層されてなる。
各々の層の膜厚ｄ、、ｄ、・・・は１０人以」二であり
、交互に等しい膜厚であって（ｄ＋ ＝ｄ３−・・・、
ｄ２＝ｄ４＝・・・）も、全ての膜厚を変えても差しつ
かえないが、それぞれの層中における軟Ｘ線の吸収によ
る振幅の減少およびそれぞれの層の界面における反射光
の位相の重なりによる反射光の強め合いの両者を考慮し
、多層膜反射鏡全体として最も高い反射率が得られるよ
うな厚さとすることが好ましい。各層の厚さは１０人よ
り小さい場合は界面における２つの物質の拡散の効果に
より、反射鏡として高い反射率が得られず好ましくない
。また、積層数は数層から数１０層とされる。
、交互に等しい膜厚であって（ｄ＋ ＝ｄ３−・・・、
ｄ２＝ｄ４＝・・・）も、全ての膜厚を変えても差しつ
かえないが、それぞれの層中における軟Ｘ線の吸収によ
る振幅の減少およびそれぞれの層の界面における反射光
の位相の重なりによる反射光の強め合いの両者を考慮し
、多層膜反射鏡全体として最も高い反射率が得られるよ
うな厚さとすることが好ましい。各層の厚さは１０人よ
り小さい場合は界面における２つの物質の拡散の効果に
より、反射鏡として高い反射率が得られず好ましくない
。また、積層数は数層から数１０層とされる。
第１の層２は白金属の金属の一種以上からなり、Ｒｕ、
Ｒｈ、’ Ｐｄが好ましく用いられる。第２の層３は
Ｂｅ、 Ｂ、 Ｃ及びＳｉの一種以上が用いられる。
Ｒｈ、’ Ｐｄが好ましく用いられる。第２の層３は
Ｂｅ、 Ｂ、 Ｃ及びＳｉの一種以上が用いられる。
交互に積層された層の最」一層を第１の層にしたほうが
、交互層の最上層を第２の層にした場合よりも真空と第
１の層の界面における反射率の方が、真空と第２の層の
界面における反射率より大であるため大きな反射率が得
られ、より好ましい。
、交互層の最上層を第２の層にした場合よりも真空と第
１の層の界面における反射率の方が、真空と第２の層の
界面における反射率より大であるため大きな反射率が得
られ、より好ましい。
） 交互に積層された層の最上層の上に更に
保護膜を積層してもよく、保護層をなす物質としては高
融点を有する酸化物、硼化物、炭化物、窒化物あるいは
Ｂ、Ｃ，Ｓｉなどである。
保護膜を積層してもよく、保護層をなす物質としては高
融点を有する酸化物、硼化物、炭化物、窒化物あるいは
Ｂ、Ｃ，Ｓｉなどである。
以下に本発明の具体的実施例を挙げ本発明を更に詳細に
説明する。
説明する。
〈波長１１４．０人のＸ線に対する多層膜反射鏡〉実施
例１ 第１図の第１物質なＲｕ、第２物質をＳｉとして、それ
ぞれの膜厚を３６．４人、２３．５人として、４１層積
層することにより入射角Ｏ°で、３８．６％の反射率が
得られた。保護膜としてＣを５人最ト層に積層した結果
、入射角Ｏ°で３７．９％の反射率が得られた。それぞ
れの膜厚を３９．１人、２５．２人として、４１層積層
することにより、入射角２０°で４０．１％の反射率が
得られた。保護面としてＣを５人最上層に積層した結果
、入射角２０°で３９．４％の反射率が得られた。
例１ 第１図の第１物質なＲｕ、第２物質をＳｉとして、それ
ぞれの膜厚を３６．４人、２３．５人として、４１層積
層することにより入射角Ｏ°で、３８．６％の反射率が
得られた。保護膜としてＣを５人最ト層に積層した結果
、入射角Ｏ°で３７．９％の反射率が得られた。それぞ
れの膜厚を３９．１人、２５．２人として、４１層積層
することにより、入射角２０°で４０．１％の反射率が
得られた。保護面としてＣを５人最上層に積層した結果
、入射角２０°で３９．４％の反射率が得られた。
実施例２
第１物質なＰｄ、第２物質をＳｉとして、それぞのの膜
厚を３１．３人、２８．０人として、４１層積層するこ
とにより入射角０°で２６．１％の反射率が得られた。
厚を３１．３人、２８．０人として、４１層積層するこ
とにより入射角０°で２６．１％の反射率が得られた。
それぞれの膜厚を３３．３人、３０．１ 人とすること
により入射角２０°で２６．７％の反射率が得られた。
により入射角２０°で２６．７％の反射率が得られた。
く波長１１２．７人のＸ線に対する多層膜反射鏡〉実施
例３ 第１物質をＲｕ、第２物質をＢｅとしてそれぞれの膜厚
を２６．６人、３０．６人として、４］ｉ１１層するこ
とにより入射角０°で７７．２％の反射率が得られた。
例３ 第１物質をＲｕ、第２物質をＢｅとしてそれぞれの膜厚
を２６．６人、３０．６人として、４］ｉ１１層するこ
とにより入射角０°で７７．２％の反射率が得られた。
それぞれの膜厚を２７．４人、３３．４人として４１層
積層することにより入射角２０°で７９．９％の反射率
が得られた。
積層することにより入射角２０°で７９．９％の反射率
が得られた。
〈波長１０８．７人のＸ線に対する多層膜反射鏡〉実施
例４ 第１物質を１（ｈ、第２物質をＳｉとして、それぞれの
膜厚を３３．４人、２３．４人として、４１層積層する
ことにより入射角０°で３３．２％の反射率が得られた
。それぞ゛れの膜厚な４８．２人、２８．８人として４
１層積層することにより入射角２０°で３８．７％の反
射率が得られた。
例４ 第１物質を１（ｈ、第２物質をＳｉとして、それぞれの
膜厚を３３．４人、２３．４人として、４１層積層する
ことにより入射角０°で３３．２％の反射率が得られた
。それぞ゛れの膜厚な４８．２人、２８．８人として４
１層積層することにより入射角２０°で３８．７％の反
射率が得られた。
〈波長８２．１人のＸ線に対する多層膜反射鏡〉実施例
５ 第１物質をＲｕ、第２物質をＢとして、それぞれの膜厚
を２０．１人、２１．８人として４１層積層することに
より入射角Ｏ°で１８．０％の反射率が得られた。
５ 第１物質をＲｕ、第２物質をＢとして、それぞれの膜厚
を２０．１人、２１．８人として４１層積層することに
より入射角Ｏ°で１８．０％の反射率が得られた。
それぞれの膜厚な２１．３人、２３．４人として４１層
積層することにより入射角２０°で２１．６％の反射率
が得られた。
積層することにより入射角２０°で２１．６％の反射率
が得られた。
実施例６
第１物質をＲｈ、第２物質をＢとして、それぞれの膜厚
を２０．０人、２］ 、９人として４１層積層すること
により入射角０°で１５．７％の反射率が得られた。
を２０．０人、２］ 、９人として４１層積層すること
により入射角０°で１５．７％の反射率が得られた。
ぞぞれの膜厚を２１．０人、 ２３．６人として４１層
積層することにより入射角２０°で１８．８％の反射率
が得られた。
積層することにより入射角２０°で１８．８％の反射率
が得られた。
実施例７
第１物質なＰｄ、第２物質なりとして、それぞれの膜厚
を１９．４人、２２．４人として４１層積層することに
より入射角Ｏ°で１３．２％の反射率が得られた。
を１９．４人、２２．４人として４１層積層することに
より入射角Ｏ°で１３．２％の反射率が得られた。
それぞれの膜厚を２０．６人、２４．０人として４１層
積層することにより入射角２０°で１５．７％の反射率
が得られた。
積層することにより入射角２０°で１５．７％の反射率
が得られた。
以上のように本発明のＸ線用多層膜反射鏡は８０〜１２
０人の波長のＸ線に対しても反射率が大きく、従来のＸ
線用多層膜反射鏡では反射率が小さいため適用されなか
った波長領域のＸ線レーザーを用いる分野にも好適に使
用できる。
０人の波長のＸ線に対しても反射率が大きく、従来のＸ
線用多層膜反射鏡では反射率が小さいため適用されなか
った波長領域のＸ線レーザーを用いる分野にも好適に使
用できる。
また本発明のＸ線用多層膜反射鏡は吸収率が小さいため
昇温蓄熱も小さく、また各層の構成材料の融点が高いた
め高い耐Ｘ線性を有する。このためにも、Ｘ線レーザー
の共振器用反射鏡として好適である。
昇温蓄熱も小さく、また各層の構成材料の融点が高いた
め高い耐Ｘ線性を有する。このためにも、Ｘ線レーザー
の共振器用反射鏡として好適である。
第１図は本発明のＸ線用多層膜反射鏡の模式的断面図で
ある。 １：基板 ２：第１の層 ３：第２の層 ４：保護層
ある。 １：基板 ２：第１の層 ３：第２の層 ４：保護層
Claims (2)
- （１）、白金属の金属の一種以上を含む第１の層と、Ｂ
ｅ、Ｂ、Ｃ及びＳｉのうち一種以上の元素を含む第２の
層とが交互に積層されていることを特徴とするＸ線用多
層膜反射鏡。 - （２）、前記第１の層及び第２の層の層厚が１０Å以上
である特許請求の範囲第１項記載のＸ線用多層膜反射鏡
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61139977A JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61139977A JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62297800A true JPS62297800A (ja) | 1987-12-24 |
| JPH0634107B2 JPH0634107B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=15258072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61139977A Expired - Lifetime JPH0634107B2 (ja) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Ｘ線用多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634107B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62261051A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-13 | オボニツク・シンセテイツク・マテイリアルズ・カンパニ−・インコ−ポレ−テツド | 高反射能、高分解能のｘ線分散性反射性構造体とそれを用いた分光分析方法 |
| JPS63191951A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Jeol Ltd | Ｘ線分光素子 |
| JPH0338602A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Olympus Optical Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| US5505805A (en) * | 1992-03-05 | 1996-04-09 | Industrieanlagen-Betriebsgesellschaft Gmbh | Method for the production of reflectors |
| US5825565A (en) * | 1992-03-05 | 1998-10-20 | Industrieanlagen-Betriebsgesellschaft Gmbh | Reflector |
| JP2004363570A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-12-24 | Hoya Corp | 反射多層膜付き基板及び反射型マスクブランクス並びに反射型マスク |
| JP2009052998A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 多層膜反射鏡、多層膜反射マスク及びそれらを用いたｅｕｖ露光装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3887261A (en) * | 1973-03-23 | 1975-06-03 | Ibm | Low-loss reflection coatings using absorbing materials |
| JPS607400A (ja) * | 1983-06-06 | 1985-01-16 | オボニック・シンセティック・マティリアルズ・カンパニ−・インコ−ポレ−テッド | Ｘ線分散性構造体 |
-
1986
- 1986-06-18 JP JP61139977A patent/JPH0634107B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3887261A (en) * | 1973-03-23 | 1975-06-03 | Ibm | Low-loss reflection coatings using absorbing materials |
| JPS607400A (ja) * | 1983-06-06 | 1985-01-16 | オボニック・シンセティック・マティリアルズ・カンパニ−・インコ−ポレ−テッド | Ｘ線分散性構造体 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4521696B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2010-08-11 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射多層膜付き基板及び反射型マスクブランクス並びに反射型マスク |
| JP2009052998A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 多層膜反射鏡、多層膜反射マスク及びそれらを用いたｅｕｖ露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0634107B2 (ja) | 1994-05-02 |
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