JP3101694B2 - 軟x線多層膜反射鏡 - Google Patents

軟x線多層膜反射鏡

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JP3101694B2
JP3101694B2 JP08075668A JP7566896A JP3101694B2 JP 3101694 B2 JP3101694 B2 JP 3101694B2 JP 08075668 A JP08075668 A JP 08075668A JP 7566896 A JP7566896 A JP 7566896A JP 3101694 B2 JP3101694 B2 JP 3101694B2
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智士 平山
和彦 伊藤
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はX線リソグラフィ
ーなどに用いられるX線反射鏡に関し、特にX線リソグ
ラフィーで使用される125Å〜135Åの波長領域の
軟X線に対し、高い反射率を示す多層膜反射鏡に関す
る。
【0002】
【従来の技術】X線リソグラフィーでは125Å〜13
5Åの波長領域の軟X線が使用されている。ところが、
このような波長領域においては、全ての物質の屈折率は
1に近いため、単一の物質だけでは反射率の高い反射鏡
を構成することができず、そこでごくわずかに屈折率が
異なる物質を層状に交互に多数重ねて多層膜構造を形成
し、この多層膜構造における各層の厚さを適切に設定す
ることにより、各層の境界で起こるほんのわずかな反射
波の位相を互いに一致させて比較的高い反射率の反射鏡
を得ている。
【0003】この多層膜構造における反射率は多層膜を
構成する高屈折率物質と低屈折率物質とをどのように組
み合わせるかに依存し、比較的高い反射率が得られる物
質の組み合わせが種々提案されている。それらのうちの
一つに、高屈折率物質としてSi,低屈折率物質として
Moをそれぞれ用いるMo/Siの組み合わせがあり、
このMo/Si多層膜反射鏡は広く利用されている。
【0004】図3はそのMo/Si多層膜反射鏡を示す
断面図であり、基板11上にMo層12とSi層13と
が交互に積層されて多層膜構造が形成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したM
o/Si多層膜反射鏡では、Mo層12とSi層13と
の界面において、Si化合物が形成され、そのSi化合
物の存在によって反射率が低下してしまうという問題が
ある。このSi化合物の形成は、多層膜反射鏡の作製時
にMo層12とSi層13とが反応して生じ、またMo
層12とSi層13とが高温になることによっても生じ
るものであり、通常の使用状態においても、入射したX
線の一部が吸収されて熱エネルギに変換され、その発熱
によってSi化合物が生成されてしまうため、反射率の
低下は避けられず、よって従来使用されているMo/S
i多層膜反射鏡は高い反射率を安定して得ることができ
ず、つまり熱的耐久性に劣るものとなっていた。
【0006】この発明の目的は従来の欠点を除去し、熱
的耐久性に優れ、かつ高い反射率を得ることができる軟
X線多層膜反射鏡を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、X線
に対して互いに屈折率が異なる高屈折率層と低屈折率層
とが交互に積層されてなる軟X線多層膜反射鏡におい
て、高屈折率層がSi層により構成され、低屈折率層が
ZrMo2 層により構成される。
【0008】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を実施例に
より説明する。図1はこの発明の実施例を示したもので
ある。基板11上にZrMo2 層14とSi層13とが
交互に積層されて多層膜構造が形成される。これらZr
Mo2層14及びSi層13は例えばスパッタリングに
より順次積層されて形成され、この例では合計101層
形成されている。ZrMo2 層14は低屈折率層をな
し、Si層13は高屈折率層をなす。
【0009】軟X線はこれらZrMo2 層14及びSi
層13のわずかな屈折率の差により、それら両層の各界
面でわずかに反射される。ZrMo2 層14及びSi層
13の各厚さは各界面で反射された軟X線の位相が揃
い、それら反射波が互いに強め合う値に選定され、軟X
線の波長とその入射角に応じて設定される。この発明で
は多層膜構造における低屈折率層を構成する物質とし
て、ZrMo 2 を用いる。このZrMo2 は金属間化合
物であり、予め化合物を形成している。従って、ZrM
2 層14とSi層13との界面におけるSi化合物の
形成を抑えることができ、即ち高温下においてもZrM
2 層14及びSi層13はその物性が変化しないた
め、熱的耐久性に優れたものとなる。
【0010】図2はこの実施例によるZrMo2 /Si
多層膜反射鏡と、図3に示した従来のMo/Si多層膜
反射鏡について、数値計算により得られた波長と反射率
との関係を比較して示したものである。なお、計算はX
線が反射面に対し80°の角度で入射するものとし、ま
た従来のMo/Si多層膜反射鏡においても積層数は上
記したZrMo2 /Si多層膜反射鏡と同じく101層
として計算した。
【0011】図2から明らかなように、ZrMo2 /S
i多層膜反射鏡は130Å前後の波長領域で従来のMo
/Si多層膜反射鏡よりも高い反射率を得ることがで
き、実際の使用時においてはSi化合物の形成により従
来のMo/Si多層膜反射鏡はこの図2に示した反射率
より例えば10%以上低下するため、反射率の差はさら
に拡大する。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
軟X線用反射鏡として従来知られているMo/Si多層
膜反射鏡より高い反射率を得ることができ、しかも優れ
た熱的耐久性を有する多層膜反射鏡を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例を示す断面図。
【図2】図1の実施例及び従来の軟X線多層膜反射鏡に
おける波長と反射率との関係を示す特性図。
【図3】従来の軟X線多層膜反射鏡の一例を示す断面
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−167599(JP,A) 特開 平8−62393(JP,A) 特開 平5−249297(JP,A) 特開 平5−203798(JP,A) 特開 平6−273596(JP,A) 特開 平6−230195(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G21K 1/06 G02B 5/08 G02B 5/26 G02B 5/28

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線に対し互いに屈折率が異なる高屈折
    率層と低屈折率層とが交互に積層されてなる軟X線多層
    膜反射鏡において、 上記高屈折率層がSi層よりなり、上記低屈折率層がZ
    rMo2 層よりなることを特徴とする軟X線多層膜反射
    鏡。
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