JPH0587800B2 - - Google Patents
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- JPH0587800B2 JPH0587800B2 JP63192158A JP19215888A JPH0587800B2 JP H0587800 B2 JPH0587800 B2 JP H0587800B2 JP 63192158 A JP63192158 A JP 63192158A JP 19215888 A JP19215888 A JP 19215888A JP H0587800 B2 JPH0587800 B2 JP H0587800B2
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- Japan
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- rays
- refractive index
- lithium
- reflector
- soft
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明はＸ線の中で特に軟Ｘ線領域における
光学素子用多層膜反射鏡に関するものである。
光学素子用多層膜反射鏡に関するものである。
（従来の技術）
従来、軟Ｘ線領域では多層膜反射鏡として第６
図に示すように基板１の上に低屈折率層としてニ
ツケル２、高屈折率層としてベリリウム３を用い
る組合せのものが広く知られていた。
図に示すように基板１の上に低屈折率層としてニ
ツケル２、高屈折率層としてベリリウム３を用い
る組合せのものが広く知られていた。
（発明が解決しようとする課題）
説明するまでもなく、ベリリウムの蒸気、塵埃
等は有毒であり、薄膜化のための真空蒸着等を行
う際には排気処理を含めその環境作りの配慮およ
び経費が問題となつていた。
等は有毒であり、薄膜化のための真空蒸着等を行
う際には排気処理を含めその環境作りの配慮およ
び経費が問題となつていた。
この発明は上述のような特別な作業環境を設け
る要のない材料を用い、かつ従来品に比して性能
的に遜色のないもしくはそれ以上の反射率を有す
る多層膜反射鏡を提供することを目的としてなさ
れたものである。
る要のない材料を用い、かつ従来品に比して性能
的に遜色のないもしくはそれ以上の反射率を有す
る多層膜反射鏡を提供することを目的としてなさ
れたものである。
（課題を解決するための手段・作用）
周知の如く、軟Ｘ線領域では全ての物質の屈折
率が１に近く、有効な光学系を形成するのが極め
て難しい。そこでごく僅かに屈折率の異なる物質
を多数重ねて、その境界で起こるほんの僅かの反
射波の位相をうまくコントロールして比較的効率
のよい光学系を得ようとしている。従つてこの分
野ではいかに効率の良い物質の組合せを見出すか
が重要な要素の一つであり、本発明も従来この分
野で最も高効率の反射が得られるとされている
Be／Niの組合せを越える効率をもたらす組合せ
を得ようとするものである。
率が１に近く、有効な光学系を形成するのが極め
て難しい。そこでごく僅かに屈折率の異なる物質
を多数重ねて、その境界で起こるほんの僅かの反
射波の位相をうまくコントロールして比較的効率
のよい光学系を得ようとしている。従つてこの分
野ではいかに効率の良い物質の組合せを見出すか
が重要な要素の一つであり、本発明も従来この分
野で最も高効率の反射が得られるとされている
Be／Niの組合せを越える効率をもたらす組合せ
を得ようとするものである。
各々の屈折率には波長依存性があり、各組合せ
について反射率をコンピユータシミユレーシヨン
により確認し、膜厚、および層数等共々決定され
る。
について反射率をコンピユータシミユレーシヨン
により確認し、膜厚、および層数等共々決定され
る。
本願において提供する多層膜反射鏡は低屈折率
物質としてニツケル、高屈折率物質としてリチウ
ムをベースとした物質との組合せを挙げ、実施例
において、上記高屈折率物質にリチウム、水素化
リチウムおよび酸化リチウムを用いた場合の反射
率の線図を示した。特に生体顕微鏡光学素子（波
長域2.33〜4.4nm）用の酸化リチウムとニツケル
との組合せにつき説明を補足する。
物質としてニツケル、高屈折率物質としてリチウ
ムをベースとした物質との組合せを挙げ、実施例
において、上記高屈折率物質にリチウム、水素化
リチウムおよび酸化リチウムを用いた場合の反射
率の線図を示した。特に生体顕微鏡光学素子（波
長域2.33〜4.4nm）用の酸化リチウムとニツケル
との組合せにつき説明を補足する。
第５図は軟Ｘ線領域の中の3nm前後のＸ線に対
する各物質の透過率を示したものであるが、図か
らも明らかな通り、この領域では水とたん白質の
Ｘ線に対する吸収が他に比較して１桁程度異な
る。その為、たん白質等による生体の構造を水の
吸収に邪魔されることなく、像の濃淡としてとら
えることができる。これは水分子を構成する酸素
の光学吸収端（2.37nm）の近傍の長波長側で酸
素によるＸ線の吸収が小さくなる為である。すな
わち水の様に何らかの酸化物を多層の高屈折率層
に用いる事により吸収の少ない多層反射膜を形成
できる可能性が有る。そこで様々な酸化物につい
て原子散乱因子を用いたシミユレーシヨンを繰り
返した結果得られた組合せが酸化リチウムとニツ
ケルである。
する各物質の透過率を示したものであるが、図か
らも明らかな通り、この領域では水とたん白質の
Ｘ線に対する吸収が他に比較して１桁程度異な
る。その為、たん白質等による生体の構造を水の
吸収に邪魔されることなく、像の濃淡としてとら
えることができる。これは水分子を構成する酸素
の光学吸収端（2.37nm）の近傍の長波長側で酸
素によるＸ線の吸収が小さくなる為である。すな
わち水の様に何らかの酸化物を多層の高屈折率層
に用いる事により吸収の少ない多層反射膜を形成
できる可能性が有る。そこで様々な酸化物につい
て原子散乱因子を用いたシミユレーシヨンを繰り
返した結果得られた組合せが酸化リチウムとニツ
ケルである。
（実施例）
第１図に本発明を平面ミラーに適用した例を示
す。従来例（第６図）と同様な構成で基板１、低
屈折率層としてのニツケル２までは全く同じで、
高屈折率層としてのベリリウム３の代りにリチウ
ムをベースとした物質４を用い、最外部にSiO2
等の保護膜５を形成したものである。
す。従来例（第６図）と同様な構成で基板１、低
屈折率層としてのニツケル２までは全く同じで、
高屈折率層としてのベリリウム３の代りにリチウ
ムをベースとした物質４を用い、最外部にSiO2
等の保護膜５を形成したものである。
第２，３，４図は、高屈折率層にリチウム４′、
水素化リチウム４″および酸化リチウム４を用
いた多層膜反射鏡の波長に対する反射率を、従来
のベリリウム・ニツケルの組合せのものとの比較
の形で各々示したものである。なお、設定条件と
しては従来例も含めて入射角70°、積層数199層と
した。
水素化リチウム４″および酸化リチウム４を用
いた多層膜反射鏡の波長に対する反射率を、従来
のベリリウム・ニツケルの組合せのものとの比較
の形で各々示したものである。なお、設定条件と
しては従来例も含めて入射角70°、積層数199層と
した。
第２図のリチウム／ニツケル（実線）とベリリ
ウム／ニツケル（一点鎖線）では前者が後者より
反射率が20〜30％、第３図の水素化リチウム／ニ
ツケル（実線）とベリリウム／ニツケル（一点鎖
線）では前者が後者より約15〜25％、第４図の酸
化リチウム／ニツケルとベリリウム（実線）／ニ
ツケル（一点鎖線）では、生体顕微鏡で問題にし
ている酸素の吸収端（2.37nm）より長波長側に
おいて約10％それぞれ上まわつていることが示さ
れている。
ウム／ニツケル（一点鎖線）では前者が後者より
反射率が20〜30％、第３図の水素化リチウム／ニ
ツケル（実線）とベリリウム／ニツケル（一点鎖
線）では前者が後者より約15〜25％、第４図の酸
化リチウム／ニツケルとベリリウム（実線）／ニ
ツケル（一点鎖線）では、生体顕微鏡で問題にし
ている酸素の吸収端（2.37nm）より長波長側に
おいて約10％それぞれ上まわつていることが示さ
れている。
（発明の効果）
以上説明したように、軟Ｘ線の波長領域におけ
る光学素子用多層膜反射鏡の高屈折率物質とし
て、リチウムをベースとした物質を低屈折率物質
であるニツケルと組合せることにより、従来のベ
リリウムとニツケルの組合せより反射率において
大巾に上まわり、かつその作業過程における毒性
等の環境問題も改善され得られる効果は大であ
る。
る光学素子用多層膜反射鏡の高屈折率物質とし
て、リチウムをベースとした物質を低屈折率物質
であるニツケルと組合せることにより、従来のベ
リリウムとニツケルの組合せより反射率において
大巾に上まわり、かつその作業過程における毒性
等の環境問題も改善され得られる効果は大であ
る。
第１図は本発明の多層膜反射鏡の断面図、第２
図から第４図までは本発明の多層膜反射鏡と従来
例の反射鏡との波長に対する反射率の線図で、第
２図は高屈折率物質としてリチウム、第３図は水
素化リチウム、第４図は酸化リチウムを各々用い
たもの、第５図は波長3nm前後のＸ線に対する各
物質の吸収率を示したもの、第６図は従来例多層
膜反射鏡の断面図である。 １……ベース、２……低屈折率物質（ニツケ
ル）、３……高屈折率物質（ベリリウム）、４……
高屈折率物質（リチウムをベースとした物質）、
４′……リチウム、４″……水素化リチウム、４
……酸化リチウム。
図から第４図までは本発明の多層膜反射鏡と従来
例の反射鏡との波長に対する反射率の線図で、第
２図は高屈折率物質としてリチウム、第３図は水
素化リチウム、第４図は酸化リチウムを各々用い
たもの、第５図は波長3nm前後のＸ線に対する各
物質の吸収率を示したもの、第６図は従来例多層
膜反射鏡の断面図である。 １……ベース、２……低屈折率物質（ニツケ
ル）、３……高屈折率物質（ベリリウム）、４……
高屈折率物質（リチウムをベースとした物質）、
４′……リチウム、４″……水素化リチウム、４
……酸化リチウム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｘ線に対する屈折率の異なる物質を交互に積
層し、その境界における反射波が互いに強めあう
ようにそれぞれの層の厚さを調整して高反射率を
得るように構成されたＸ線反射鏡において、高屈
折率層（軽元素系）にリチウムを用いたことを特
徴とする軟Ｘ線用多層膜反射鏡。 ２ Ｘ線に対する屈折率の異なる物質を交互に積
層し、その境界における反射波が互いに強めあう
ようにそれぞれの層の厚さを調整して高反射率を
得るように構成されたＸ線反射鏡において、高屈
折率層（軽元素系）に水素化リチウムを用いたこ
とを特徴とする軟Ｘ線用多層膜反射鏡。 ３ Ｘ線に対する屈折率の異なる物質を交互に積
層し、その境界における反射波が互いに強めあう
ようにそれぞれの層の厚さを調整して高反射率を
得るように構成されたＸ線反射鏡において、高屈
折率層（軽元素系）に酸化リチウムを用いたこと
を特徴とする軟Ｘ線用多層膜反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19215888A JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19215888A JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242399A JPH0242399A (ja) | 1990-02-13 |
| JPH0587800B2 true JPH0587800B2 (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=16286661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19215888A Granted JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242399A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0434400A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 軟ｘ線多層膜反射鏡 |
| JP2906118B2 (ja) * | 1995-01-19 | 1999-06-14 | 理化学研究所 | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| JP3476052B2 (ja) * | 1997-09-01 | 2003-12-10 | 信越ポリマー株式会社 | 輸送容器 |
| NL1018139C2 (nl) * | 2001-05-23 | 2002-11-26 | Stichting Fund Ond Material | Meerlagenspiegel voor straling in het XUV-golflengtegebied en werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
| DE10134267B4 (de) * | 2001-07-18 | 2007-03-01 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Einrichtung zur Reflexion von Röntgenstrahlen |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273099A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Nec Corp | 分光素子 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6481909A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481911A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481907A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481910A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481908A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP19215888A patent/JPH0242399A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273099A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Nec Corp | 分光素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0242399A (ja) | 1990-02-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |