JPS6228936B2

JPS6228936B2 -

Info

Publication number: JPS6228936B2
Application number: JP57182033A
Authority: JP
Inventors: Uenderu Kyuu Juniaa Baakurei; Shiiruzu Muua Baanaado
Original assignee: Pfizer Inc
Current assignee: Pfizer Inc
Priority date: 1981-10-16
Filing date: 1982-10-16
Publication date: 1987-06-23
Also published as: KR840001940A; ZA827556B; JPS5883644A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明や容易に入手出来る光学的に純品の出発
物質（Ｓ―乳酸エチル）から５―フエニル―2S
―ペンタノールを立体特異的に合成する方法にお
ける中間体に関する。この方法は同時にフエネチ
ルアルコール，３―フエニルプロピルアルコール
の如きアルコール類の混在のない、精製された生
成物が得られる。このような混在アルコールは除
去するのが困難で除去しないと、混在物は、レボ
ナントラドールのようなCNS活性剤：（Johnson，米国特許4260764；Johnson等、J.
Clin.Pharmaol.21，pp271S―282S，1981；
Milne，Johnson同pp.367S―374S）．の合成にお
〓〓〓〓〓
いて、５―フエニル―2S―ペンタノールを適合
出来なくする。これは混在アルコールがレボナン
トラドールの合成に関与して、CNS剤中に、対
応する混在物が出来てしまう、例えば５―フエニ
ル―２―ペンチロキシ側鎖の代りに２―フエニル
エトキシ側鎖のある化合物が混在してしまうため
である。５―フエニル―2S―ペンタノールから合成す
るレボナントラドールへ鎮痛剤として人間に臨床
的に使用出来る事が判明している。（Jain等，J.
Clin.Pharmacol.pp320S―326S，1981）又、ガン
化学療法における、制吐剤として使用出来る。
（Laszlo等，同pp.48S―53S；Penta等，同pp11S
―22S；Cronin等，同，pp43S―50S；Johnson.
Milne，米国特許4228169）従来、５―フエニル―2S―ペンタノールの最
良の立体特異的合成はフエネチルマグネシウムハ
ライドとＳ―プロピレンオキサイドとの反応を用
いていたが、この方法では、フエネチルアルコー
ルの混在しない５―フエニル―2S―ペンタノー
ルを製する事は、ほとんど不可能であつた。特
に、レボナントラドールのようなCNS剤の工業
的製造に必要な多量の製造において不可能であつ
た。本合成法で用いる中間体は既知化合物、すなわ
ち、メチル 2S―ベンジルオキシプロピオネー
ト（以下の式（）の化合物）及び以下の式
（）の2S―ベンジルオキシ―１―プロパノール
である。これらの化合物はMislow等により、J.
Am.chem.Soc，84，pp.1940―1944（1962）、中
に報告されており、後者の化合物は、このＤ化し
た形で報告されている。最初の化合物は、多量の
酸化白金の存在下、Ｓ―乳酸メチルをアルコール
中臭化ベンジルとの反応で製していた。この方法
は、高価な試薬を用いねばならず本方法において
は、この高価な酸化白金を用いない。Mislow等
は、メチル 2S―ベンジルオキシプロピオネー
トを重水素化リチウムアルミニウムで還元して
2S―ベンジルオキシ―１―プロパノール―１―
d₂を得ており、これを更にｐ―ブロモベンゼンス
ルホニウムエステルを経て、2S―ベンジルオキ
シ―１―プロパノール―１―d₃に変換している。
以下の式（）と比較せよ。本発明は式：の５―フエニル―2S―ペンタノールのキラル
（chiral）アルコールの立体特異的な、有利な製
法における中間体（）および（）に関してい
る。上記製法の最終工程は、式の貴金属触媒による水素添加の特徴としている。式（）のキラル（chiral）ケトンは式：のキラル（chiral）エステルの加水分解、脱炭酸
により製する。（式中のＲは（C₁―C₄）アルキル
であり、〓は紙面より前方へ結合していることを
示し、点線は紙面より下に向つて結合しているこ
とを示す）。式（）のキラル（chiral）ベンジルエーテル
―エステルは（C₁―C₄）アルキルベンゾイルアセ
テートのアルカリ金属塩、例えば、式：を式：（式中、ＸはＩ，Br，Cl，OSO₂CH₃，又は

【式】）の化合物と、場合によりヨウ化物イオンの存在下で反応せしめて製す
る。式（）でＸがCl，Br，又はＩのハライド
〓〓〓〓〓
は、式（）の化合物でＸがOSO₂CH₃又は

【式】の化合物をハロゲン化アルカリ金属と反応せしめて製する。良好なスルホ
ネートエステルはメシレートエステルである。式（）の化合物でＸがOSO₂CH₃又は

【式】のメシレート又はトシレートは式：のキラル（chiral）化合物である2S―ベンジルオ
キシートプロパノールをメタンスルホニル―又
は、ｐ―トルエンスルホニルクロライドと反応せ
しめて製造する。式（）の化合物は式：（式中、Ｒは（C₁―C₄）アルキル）のベンジル
化乳酸エステルをMislow等の方法の如くハイド
ライド還元して製する。又、一方、式（）の化合物でＸがCl，Br，
又はＩのハライドは、アルコール（）の化合物
をSOCl₂，PBr₃，PI₃の如き、ハロゲン化剤と反
応せしめて製する。式（）のベンジル化乳酸エステルは、対応す
る式：（式中Ｒは（C₁―C₄）アルキル）の化合物を、
Mislowの方法に従つて多量酸化白金の存在下Ｓ
―乳酸メチルをエチルエーテル中臭化ベンジルと
反応せしめて製する事が出来る。安価な塩基、例
えば水酸化ナトリウムを、酸化白金の代りに用い
ると、広範な、又は完全なラセミ化をともなつ
て、反応を行う事が出来る。興味ある事には、ベ
ンジルメシレートを過剰の乳酸エステルを溶媒と
して用い、（約、３モル当量を用いるのが良い）
触媒を使用せず、約110―140℃（120―130℃が良
好）に加熱して反応せしめると、式（）のキラ
ル（chiral）ベンジルエステルが高収率で得られ
る。この方法では、ほとんどラセミ化が起きな
い。５―フエニル―2S―ペンタノールは、米国特
許4206225；4232018；4235913；4243674；
4260764；4263438；4270005；4283569に記載され
ている如く、レボナントラドールの如きCNS剤
の合成に用いる方法も記載している。式（）のキラル（chiral）ケトンを５―フエ
ニル―2S―ペンタノールに変換するために、前
者のキラル（chiral）ケトンを（溶媒を用いず、
そのまま、又は反応不活性溶媒に溶かすか、懸濁
して用いる）貴金属触媒の存在下、適当とする温
度で、カルボニル基がメチレンに変換され、ベン
ジル基が水素添加分解（もし必要なら）されるま
で水素で接触還元する。目的物の５―フエニル―
2S―ペンタノールは常法により単離する。一般
に触媒の過、適当な溶媒で洗浄、過液と洗浄
液の合併、洗浄、留去が含まれる。必要なら、更
に減圧蒸留により精製するが、この工程は、ふつ
う必要がない。本発明の顕著な形態は、単純な単
離／精製法によりアルコール類の混在しない５―
フエニル―2S―ペンタノールが得られる事であ
り、レボナントラドール及び他のCNS活性剤の
合成に適当である。ここで用いる「反応不活性溶媒」は、反応物、
試薬生成物のための溶媒、懸濁用の溶媒で、上述
の反応物、試薬、生成物と反応して目的生成物の
収率を減少しない物の事を意味する。本発明の化合物の水素添加を溶媒中で行う場合
は低沸点溶媒が良い。これは、これらの溶媒を留
去して生成物を容易に得る事が出来、生成物の蒸
留に必要な多くの操作を必要としないためであ
る。適当な溶媒としては、（C₁―C₄）アルカノー
ル、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソピロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、１，２―ジメトキシエタンの如きもの）、炭
化水素（トルエンの如きもの）、ハロゲン化脂肪
族炭化水素（エチレンクロライド）を包含する。
少くとも、プロトン性溶媒（例えば水又は（C₁
―C₄）アルカノール）を一部加えるのが良好であ
〓〓〓〓〓
る。又、式：のベンジル基の接触水添分解による除去、アルコ
ール中間体の水素添加を促進するために、強酸
（例えば塩酸）を一部加えると良い。水素添加に
用いた溶媒は、過、触媒の回収に適当である。水素添加の温度と圧は、限定されない。広範囲
の温度、（例えば０―75℃）と圧（常圧に近辺か
ら100気圧以上）を用いた触媒系に依存して用い
ると良い。一般には、水素添加には複雑な装置が
必要でないため、低圧（例えば１―７気圧）で行
うと良い。常温（例えば15―25℃）が一般に良好
である。触媒レベルが低いと高温を必要とするが
経済的立場において、高温条件を用いる。活性の
低い触媒を使用すると、良好な反応速度を得るた
めに高圧（すなわち７気圧以上）、高温（25℃以
上）が必要である事は理解されよう。水素添加に
用いる貴金属触媒は白金、パラジウム、レニウ
ム、ロジウム、ルテニウムであり、支持体と共に
支持体を用いないで又は、オキサイドやロライド
の如き既知の化合物の形で用いる。適当な触媒支
持体は炭素、ケイ素、硫酸バリウムである。触媒
は、そのまゝ用いるか又は、触媒化合物の塩を、
あらかじめ還元して用いる。この場合、触媒前駆
体を還元溶媒中で懸濁し、基質を加える前に還元
し、続いて接触還元を行つて簡単に行う事が出来
る。又は、全てを混合し、水素を吸収させる事も
出来る。前者の方法は、触媒を、あらかじめ還元
し、基質の還元を行うため水素吸収量を別々に決
定する事が出来るので有利である。本方法におけ
る良好な貴金属触媒はパラジウムで支持体を用い
たものが良い。良好な支持体は炭素である。支持
体中のパラジウムの量は限定されないが一般に５
―10％重量を用いる。あるいは、それ以上、それ
以下を用いる。操作の便宜上、触媒調製物は、一
般に貴金属及び支持体の重量とほゞ等しい量の
（例えば50％湿潤）水を含有する「水―湿潤」で
ある。良好な触媒は低圧、低温度で機能するが特
に、一部にプロトン性溶媒を用い、少量の強酸を
用いると容易に機能する。式（）のキラルケトンは、対応する式（）
のエステルを加水分解、脱炭酸反応して製する。
加水分解、脱炭酸の触媒は塩基、酸の両者を用い
る。極性プロトン性の溶媒、例えば水、（C₁―
C₄）低級アルカノール、又はその混合物を用い塩
基触媒が良好である。水酸化アルカリ金属が良好
な塩基触媒であり水酸化カリウムが最も良好であ
る。温度一般に、例えば60―100℃に加熱し、反
応物又は生成物が分解する事なく良好な反応速度
が得られるようにする。良好な溶媒系は、水：エ
タノール、50：50容量で、79―80℃で環流下、反
応を行う。この反応条件下で加水分解、脱炭酸の
両者が完了するまで反応を行う。すなわち式：の酸中間体は単離しない。式（）のエステルは式（）の化合物のＸ
（Cl，Br，Ｉ，OSO₂CH₃，

【式】）を（C₁―C₄）アルキルベンゾイルアセテート（（C₁―C₄）アルキルベン
ゾイルアセテートのアルカリ金属塩、特にナトリ
ウム塩の形で用いる）のアニオンにより求核置換
反応を行つて製する。本反応にはアルコール類、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、等の溶
媒が適当であるが、反応物及び生成物に対して不
活性で、反応物がある程度溶ける必要がある。こ
れらの溶媒は、置換するアニオンの濃度に高濃度
に保つため、ベンゾイルアセテートエステルより
も酸性度の低いものでなければならない。本反応
に用いる温度は限定されない（例えば０―140
℃）。良好な反応速度が得られるのに十分高温で
ある必要があるが、分解を起す程高くてはならな
い。周知の如く、反応速度は、Ｘの性質（例えば
Ｉ＞Br＞Cl）、溶媒、Ｒの種類、用いたアルカリ
金属塩により変化する。反応時間は、反応がほゞ
完了し（例えば、当量の化合物（）とアルキル
ベンゾイルアセテート塩を用いた場合＞95％）収
率が最高になるようにすべきである（例えば、温
度に依存して１時間から数日間）。これらの反応
は、市販で入手できる紫外線指示薬を含むシリカ
ゲル板を用いた薄層クロマトグラフイーで容易に
〓〓〓〓〓
チエツクする。適当な展開剤はヘキサン―酢酸エ
チル混合物；例えば６：１、ヘキサン；酢酸エチ
ルである。反応が進行するに従い、当量の強塩基
を中和する。これはPHが反応をチエツクする手段
であるからである。求核置換反応は、すみやか
で、きれいに起きるため、良好なＸはＩである。
この場合、ジメチルホルムアミドが溶媒として良
好であり、120―126℃で約２時間反応させる。Ｘ
がＩ以外の場合、ヨウ化物イオンを用いると反応
の進行を促進する。これは反応系中で、中間体と
して有機ヨウ化物を形成する効果があるためであ
る。ＸがCl，Br又はＩである式（）のキラル
（chiral）ハライドは、ＸがOSO₂CH₃または

【式】である式（）のスルホネートエステルの求核置換反応により製する。前
述の反応条件を、この場合に適合出来る。良好な
メシレートから有機ヨウ化物を製する場合、アセ
トン中メシレートエステルを過剰のヨウ化ナトリ
ウム（1.5〜2.5当量）と20〜24時間還流する事が
本工程の収率を高める条件である。ＸがOSO₂CH₃又は

【式】である式（）のキラル（chiral）スルホネートエ
ステルはアルコールのスルホン化における常法に
より、例えば、当量の有機スルホニルクロライド
を式（）のキラル（chiral）アルコールと、少
くとも一当量の、例えばトリエチルアミンの如き
三級アミンの存在下、不活性溶媒中室温又は低温
（−10℃〜５℃）で反応せしめて製する。良好な
溶媒は留去により容易に除去出来るような低沸点
物である（例えばメチレンクロライド）。式（）のキラル（chiral）アルコールは以下
の参考例３に記述する如く、式（）のＯ―ベン
ジル乳酸エステルをハイドライド還元して製する
が、同様に、Mislow等の行つた如く、Ｏ―ベン
ジル乳酸メチルの重水素化リチウムアルミニウム
による還元で製する。式（）のエステルのハイ
ドライド還元は種々のハイドライド還元剤、例え
ば水素化リチウムアルミニウム（それ自体そのま
まで、又は油中50％懸濁液で）、「Red―al」（ベ
ンゼン中、水素化ビス（２―メトキシエトキシ）
アルミニウム70％溶液）、水素化ホウ素ナトリウ
ム又はリチウムである。水素化リチウムアルミニ
ウムを用いる場合、本質的に溶媒は、非プロトン
性で、還元される基（カルボニル基、ニトリル、
ニトロ、脂肪族ハロゲン、スルホネート等）がな
い溶媒を用いる。良好なものは、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、１，２―ジメトキシエタン、
ビス（２―メトキシエチル）エーテル、等であ
る。Red―alを用いる場合、ベンゼン又はトルエ
ンの如き芳香族炭化水素が溶媒として良好であ
る。水素化ホウ素ナトリウムはエタノールの如き
プロトン性溶媒を一般に用いる必要がある。式（）のキラル（chiral）（C₁―C₄）アルキル
乳酸エステルを、ラセミ化を起さず、高価な酸化
白金を触媒として用いないで、そのＯ―ベンジル
誘導体に変換する。興味ある事には、本反応はベ
ンジルメシレートを過剰のキラル（chiral）（C₁
―C₄）アルキル乳酸エステル中（例えば約三当
量）80―110℃で、用いた反応温度に依存して１
―４時間加熱して行う。過剰の乳酸エステルは蒸
留で分離出来るがこの混在物は、次の工程で水に
易溶のプロピレングリコールに変換するのが良
く、２―ベンジルオキシ―１―プロパノール
（）から、抽出により容易に除去できる。ベンジルメシレートはベンジルアルコールとメ
タンスルホニルクロライドを上述の方法で反応せ
しめて製する。本発明は次の実施例で例示する。しかしながら
本発明は、これらの実施例の細部に限定されるも
のではない事を理解されたい。参考例１ベンジルメタンスルホネート窒素ガス下、メチレンクロライド（1.4リツト
ル）中でベンジルアルコール（129.6ｇ，1.2モ
ル）及びトリエチルアミン（182ｇ，1.8モル）を
混合する。これを撹拌下、氷―水―アセトン浴中
で−５℃に冷却する。100mlのメチレンクロライ
ドに溶かしたメタンスルホニルクロライド（150
ｇ，1.31モル）の溶液を−５℃〜２℃に保ちなが
ら49分以上かけて加える。０―２℃で10分間撹拌
後、500mlの、あらかじめ５℃に冷却した水で希
釈する。有機層を分離し、冷水で洗浄し（２×
500ml）、MgSO₄で乾燥後過して真空下留去し
〓〓〓〓〓
表記化合物を淡黄色油状物として得る。〔190ｇ，
85％，Ｈ―NMR（CPCl₃）デルタ（ppm）；2.9
（Ｓ，3H）、5.2（Ｓ，2H）、7.4（ｍ，5H）；
Rf0.75（CH₂Cl₂）〕本生成物は次の工程で用いる
まで冷蔵庫に保存する。参考例２エチル 2S―ベンジロキシプロピオネート窒素ガス下、ベンジルメタンスルホネート
（181.5ｇ），0.975モル）を撹拌下Ｓ乳酸エチル
（エチル 2S―ヒドロキシプロピオネート；393
ｇ，3.33モル）と混合する。溶液を水蒸気浴上で
15分間94℃に加熱し、1.5時間、この温度を保
つ。反応混合物を45℃に冷却し、２リツトルの冷
却トルエン中に注ぎ入れる。水（500ml）を加
え、５分間撹拌する。水層を分離し、200の新
たなトルエンで抽出する。有機層を合併し、連続
的に、２×500mlの水、１×500mlの飽和
NaHCO₃，２×500mlの水、１×500mlの飽和
NaCl，でそれぞれ洗浄し、MgSO₄で乾燥後過
し真空下留去して粗生成物を油状物として得る
〔228ｇ，112％，〔アルフア〕^２５ _Ｄ−60.8℃，Ｃ＝1.
11
（CHCl₃）〕、Ｈ―NMRでは、乳酸エステルが混入
している事を示す。真空蒸留により初期の溶媒留
去後、分画１〔25ml，ｄ_p．79゜／1.2mm；〔アル
フア〕_D−6.9゜；Ｃ＝1.13（CHCl₃）；分画２―８
〔74ml，ｂ_p．82℃／1.3mm―114℃／３mm；〔アル
フア〕_D−42.1゜−76.2゜，Ｃ＝1.09−1.16
（CHCl₃）〕Ｓ乳酸エチル及び表記化合物の混合
物；分画９―12〔57ml；ｂ_p．115℃／３mm，98―
100℃／0.75mm，102―106℃／1.0mm；〔アルフ
ア〕_D−80.8゜〜−83.7℃，Ｃ＝1.01―1.17
（CHCl₃）〕純粋な表記化合物を、それぞれ得る。
さらに高沸点物が49ｇ得られる。分画10を100ml
のヘキサンに溶かし30mlのH₂Oで分画して少量の
乳酸エチルを除く。ヘキサン層を分離し、３×30
mlのH₂Oで洗浄しMgSO₄で乾燥後過し濃縮し
て油状物を得る。〔2.4ｇ；Rf0.32（６：１ヘキサ
ン：酢酸エチル）；〔アルフア〕^２５ _Ｄ−83.3゜，Ｃ
＝1.13（CHCl₃）〕。参考例３ 2S―ベンジロキシ―１―プロパノール参考例２の分画２―９及び12（全量106.1ｇ，
0.45モルのエチル 2S―ベンジルオキシプロピオ
ネート及び0.25モルのＳ乳酸エチル）を100mlの
無水エタノールに溶かす。500mlの無水エタノー
ルとNaBH₄（37.85ｇ，1.0モル）の混合物中に窒
素ガス下、１時間以上かけて、上記溶液を加え
る。滴下の間、20℃の水浴中で25―30℃に保つ、
室温で20時間撹拌後、反応混合物を10℃に冷却し
95mlの12NHCl（1.14モル）を窒素ガス下15分間
以上かけて滴下する。出来たスラリーを過し
100mlのエタノールで洗浄する。液と洗浄液を
合併し、真空下150mlにまで濃縮する。これを200
mlの水で希釈し、更に300mlの酢酸エチルを加え
る。4NNaOH，50mlにてPH9.0に調節し、（沈澱し
た固形物が溶ける）、層を分離する。水層を１×
100ml，１×50mlの酢酸エチルで２回抽出する。
有機層を合併して２×150mlのH₂O，１×150mlの
飽和食塩水、で洗浄しMgSO₄で乾燥後、過し
て留去し、表記化合物を油状物として得る。
〔50.5ｇ〔アルフア〕^２５ _Ｄ＋47.9゜，Ｃ＝1.08
（CHCl₃）；＋27.736（ニート）；Rf0.1
（CH₂Cl₂）〕。参考例４ 2S―ベンジロキシ―１―プロピルメシレー
ト窒素ガス下、2S―ベンジロキシ―１―プロパ
ノール（49.8ｇ，0.3モル）、400mlのCH₂Cl₂，ト
リエチルアミン（40.5ｇ，0.4モル）、を混合し、
氷―水―アセトン浴中で−５℃に冷却しながら撹
拌する。−５℃に保ちながら、メタンスルホニル
クロライド（37.8ｇ，0.33モル）の30mlCH₂Cl₂溶
液を１時間以上かけて加える。−５℃で0.5時間撹
拌後、H₂O（５℃で200ml）を加える。層を分離
し、水層を、１×100mlのCH₂Cl₂で洗浄する。合
併した有機層を順々に、１×100mlのH₂O，１×
100mlの1NHCl，１×100mlのH₂O，１×100mlの
飽和NaHCO₃，１×100mlのH₂Oでそれぞれ洗浄
し、MgSO₄で乾燥後、過して真空下留去する
と、表記生成物を油状物として得る。〔72.2ｇ，
98.5％，〔アルフア〕^２５ _Ｄ＋7.7，Ｃ＝1.00
（CHCl₃）；Rf0.6（CH₂Cl₂）〕。参考例５ヨウ化2S―ベンジロキシ―１―プロピル窒素ガス下、ヨウ化ナトリウム（90ｇ，0.6モ
ル）を１リツトルの乾燥アセトンに、撹拌しなが
ら溶かす。32℃で2S―ベンジロキシ―１―プロ
ピルメシレート（71.5ｇ，0.293モル）を加え
〓〓〓〓〓
る。反応混合物を59―60℃に加温する（緩和な還
流）。これを20時間保持し、この後tlcでチエツク
すると約20％の出発物質が残留している。更にヨ
ウ化ナトリウム（30ｇ，0.2モル）を加え、還流
を３時間続ける。室温にまで冷却し、過してア
セトンで洗浄する。液とと洗浄液を合併し、濃
縮して油状固形物を得る。これを300mlのトルエ
ン及び200mlのH₂Oで希釈し、層を分離して水層
を２×100mlのトルエンで抽出する。有機層を合
併し、２×200mlのH₂Oで洗浄後MgSO₄で乾燥す
る。これを過し、留去して表記生成物を油状物
として得る。〔79ｇ，96％；〔アルフア〕_D＋8.0
゜，Ｃ＝1.08（CHCl₃），Ｈ―NMR.（CDCl₃）デ
ルタ（ppm），1.4（d.3H），３―3.6（ｍ，3H），
4.6（Ｓ，2H），7.35（Ｓ，5H）〕実施例１エチル２―ベンゾイル―4S―ベンジロキシバ
レレート窒素ガス下、水素ナトリウム（油中50％、13.6
ｇ、0.283モル）を３×200mlの乾燥へキサンで洗
浄する。ヘキサン中のNaH懸濁液に、130mlのジ
メチルホルムアミドを加える。次に、エチルベン
ゾイルアセテート（54.4ｇ，0.283モル）を45分
間以上かけて、10℃の水浴中28―32℃に保ちなが
ら、N₂ガスで、発生したH₂を排出しながら滴下
する。25℃で８分間撹拌後、ヨウ化2S―ベンジ
ロキシ―１―プロピル（78ｇ，0.283モル）を加
え、40mlのジメチルホルムアミドを加える。反応
混合物を122―126℃で２時間加熱撹拌する。（こ
の間に固形物が沈澱する）これを70℃に冷却し、
350mlのトルエン及び560mlの氷水で希釈し、層を
分離する。水層を３×150mlのトルエンで抽出
し、有機層を合併して、３×150mlにH₂O，１×
150mlの飽和NaClで洗浄後MgSO₄で乾燥する。こ
れを過し、真空下留去し表記生成物を油状物と
して得る。（90ｇ，90％〔アルフア〕^２５ _Ｄ＋15.8゜，
Ｃ＝1.12（CHCl₃）：Rf0.35（６：１，ヘキサ
ン：酢酸エチル）〕実施例２ 4S―ベンジロキシ―１―フエニル―１―ペン
タノンエチル２―ベンゾイル―4S―ベンジロキシバ
レレート（89ｇ，0.26モル），エタノール（175
ml），水（175ml），KOH（85％，51ｇ，0.8モ
ル）を窒素ガス下撹拌しながら混合する。この間
に反応温度が45℃に上昇する。反応混合物を79℃
で加熱還流し18時間この温度を保つ。反応混合物
を25℃に冷却し、350mlの水及び、300mlのトルエ
ンで希釈する。層を分離し、水層を１×200ml，
２×150mlのトルエンで洗浄する。有機層を合併
し、２×200mlのH₂O，１×200mlの飽和NaClで
洗浄し、MgSO₄で乾燥後、過して真空下濃縮
すると、表記化合物を油状物として得る。〔45.5
ｇ，65％〔アルフア〕^２５ _Ｄ＋21.92゜，Ｃ＝1.20
（CHCl₃）；Rf0.55（６：１ヘキサン：酢酸エチ
ル）。参考例６５―フエニル―2S―ペンタノール 150mlのトルエン、15mlの無水アルコール中に
溶かした4S―ベンジロキシ―１―フエニル―１
―ペンタノン（45ｇ，0.168モル）の溶液に３滴
の濃縮酸を加え、４ｇの50％湿潤pd／Ｃを用
い、50psig，25℃で水素添加する。６時間後、更
に４ｇの触媒を加え、2.5時間水素添加する。こ
の時点で３当量の水素が消費され、最後の1.5時
間では水素の吸収は無い。触媒を過して取り、
液を撹拌下、固形NaHCO₃5ccにて中和する。
MgSO₄で乾燥後、過し真空下濃縮して表記生
成物を油状物として得る。〔22ｇ，80％，〔アルフ
ア〕^２５ _Ｄ＋8.63，Ｃ＝1.02（CHCl₃）；Rf＝0.2（６：
１ヘキサン：酢酸エチル）〕。もし必要なら、表記
生成物を更に蒸留して、こん跡量のtlc原点物質
を除く。ｂ_p．90―94℃／0.7mm．（ほゞ定量的）。〓〓〓〓〓

Claims

【特許請求の範囲】１式：（式中Ｙは水素又は―COORであり；Ｒは
（C₁―C₄）アルキルであり、〓は紙面より前面に
結合していることを示し、点線は水素またはメチ
ル基がこの紙面下に向つて結合していることを示
す。）のキラルケトン。２Ｙが水素である特許請求の範囲第１項のキラ
ルケトン。３Ｙが―COORであり、Ｒがエチルである特許
請求の範囲第１項のキラルケトン。