JPS5883644A - キラルケトン類 - Google Patents
キラルケトン類Info
- Publication number
- JPS5883644A JPS5883644A JP57182033A JP18203382A JPS5883644A JP S5883644 A JPS5883644 A JP S5883644A JP 57182033 A JP57182033 A JP 57182033A JP 18203382 A JP18203382 A JP 18203382A JP S5883644 A JPS5883644 A JP S5883644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- chiral
- ester
- ketone
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C31/00—Saturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C31/13—Monohydroxylic alcohols containing saturated rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は容易に入手出来る光学的に純品の出発物質(S
−乳酸エチル)から5−フ王ニルー28−ペンタノール
を立体特異的に合成する方法に関する。この方法は同時
に7エネチルアルコール。
−乳酸エチル)から5−フ王ニルー28−ペンタノール
を立体特異的に合成する方法に関する。この方法は同時
に7エネチルアルコール。
3−フェニルゾロビルアルコールの如キアルコール類の
混在のない、精製された生成物が得られる。
混在のない、精製された生成物が得られる。
このような混在アルコールは除去するのが困難で除去し
ないと、混在物は、レポナントラドールの(Johns
on、米国特許4 、260.764 ”、 John
son等、J、 Cl1n、 Pharmaeol、
21 、 pp271 S −2822Lw 198
1 :Milne、 Johnaon 同 p
p−367S−3748)、め合成において、5−フェ
ニル−28−ペンタノールを適合出来なくする。
ないと、混在物は、レポナントラドールの(Johns
on、米国特許4 、260.764 ”、 John
son等、J、 Cl1n、 Pharmaeol、
21 、 pp271 S −2822Lw 198
1 :Milne、 Johnaon 同 p
p−367S−3748)、め合成において、5−フェ
ニル−28−ペンタノールを適合出来なくする。
これは混在アルコールがレポナントラドールの合成に関
与して、cNS剤中に、対応する混在物が出来てしまう
、例えば5−フェニル−2−ペンチロキシ側鎖の代りに
2−フェニルエトキシ側鎖のある化合物が混在してしま
うためである。
与して、cNS剤中に、対応する混在物が出来てしまう
、例えば5−フェニル−2−ペンチロキシ側鎖の代りに
2−フェニルエトキシ側鎖のある化合物が混在してしま
うためである。
5−フェニル−28−ペンタノ−、ルから合成するしが
ナントラドールは鎮痛剤として人間に臨床的に使用出来
る事が判明している。(Jain等。
ナントラドールは鎮痛剤として人間に臨床的に使用出来
る事が判明している。(Jain等。
J、 Cl1n、 Pharmaeol、 pp 32
08−3268 。
08−3268 。
1981)又、ガン化学療法における、制吐剤として使
用出来るe (Lassie等、同PP、48S−5
3S ; Penta等、同pp11s−228:Cr
onin等、同e PP 43 S −50S : J
ohnson。
用出来るe (Lassie等、同PP、48S−5
3S ; Penta等、同pp11s−228:Cr
onin等、同e PP 43 S −50S : J
ohnson。
Milne、米国特許4.228 、169 )従来、
5−フェニル−28−ペンタノールの最良の立体特異的
合成はフエネチルマグネシウムノ・ライドとS−プロピ
レンオキサイドとの反応を用いていたが、この方法では
、フェネチルアルコールの混在しない5−フェニル−2
8−ペンタノールを製する事は、はとんど不可能であっ
た0特に、レポナントラドールのようなGJS剤の工業
的製造に必要な多量の製造においては不吋能であった0
本合成法で用いる中間体は既知化合物、すなわち、メチ
ル 2S−ベンジルオキシゾロビオネート (以下の式
(IV)の化合物)及び以下の式(V)の28−ベンジ
ルオキシ−1−プロパツールである。これらの化合物は
Mislowa4により、J。
5−フェニル−28−ペンタノールの最良の立体特異的
合成はフエネチルマグネシウムノ・ライドとS−プロピ
レンオキサイドとの反応を用いていたが、この方法では
、フェネチルアルコールの混在しない5−フェニル−2
8−ペンタノールを製する事は、はとんど不可能であっ
た0特に、レポナントラドールのようなGJS剤の工業
的製造に必要な多量の製造においては不吋能であった0
本合成法で用いる中間体は既知化合物、すなわち、メチ
ル 2S−ベンジルオキシゾロビオネート (以下の式
(IV)の化合物)及び以下の式(V)の28−ベンジ
ルオキシ−1−プロパツールである。これらの化合物は
Mislowa4により、J。
Am、 chew、 Soe、 84 、 PP−19
40−1944(1962)、中に報告されており、後
者の化合物は、そのD化した形で報告されている。最初
の化合物は、多量の酸化白金の存在下、S−乳酸メチル
をアルコール中臭化ベンジルとの反応で製していた。こ
の方法は、高価な試薬を用いねばならず本方法において
は、この高価な酸化白金を用いなら。Mialov等ハ
、メチル 2S−ベンジルオキシゾロビオネートを重水
素化リチウムアルミニウムで還元して2S−ペン、ゾル
オキシ−1−プロパノ−ルー1−d2を得ており、これ
を更にp−プロモベンゼンスルホニウムエステルヲ経て
、28−ペンシルオキシ−1−プロパツール−1−d3
に変換している。以下の式(IV)と比較せよ。
40−1944(1962)、中に報告されており、後
者の化合物は、そのD化した形で報告されている。最初
の化合物は、多量の酸化白金の存在下、S−乳酸メチル
をアルコール中臭化ベンジルとの反応で製していた。こ
の方法は、高価な試薬を用いねばならず本方法において
は、この高価な酸化白金を用いなら。Mialov等ハ
、メチル 2S−ベンジルオキシゾロビオネートを重水
素化リチウムアルミニウムで還元して2S−ペン、ゾル
オキシ−1−プロパノ−ルー1−d2を得ており、これ
を更にp−プロモベンゼンスルホニウムエステルヲ経て
、28−ペンシルオキシ−1−プロパツール−1−d3
に変換している。以下の式(IV)と比較せよ。
本発明は式:
05−フェニル−28−ペンタノールのキラル(ehi
ral )アルコールの立体特異的な、有利な製法に関
している。最終工程は、式 の貴金属触媒による水嵩添加を特徴としている0式(n
)のキラル(ehiral )ケトンは式:h
Uυυに のキラル(chi ral )エステルの加水分解、脱
炭酸により製する。(式中のR社C,−C4)アルキル
)0式(III)のキラル(chtral )ベンジル
エーテル−エステルは(C□−C4) アルキルベン
ゾイルアセテートのアルカリ金属塩、例えば、式:を式
: CH3 C,HsCH2−0−C−OH,X −IV)
(式中、XはI、Brt CI、08O2CH3を璽
り化物イオンの存在下で反応せしめて製する。
ral )アルコールの立体特異的な、有利な製法に関
している。最終工程は、式 の貴金属触媒による水嵩添加を特徴としている0式(n
)のキラル(ehiral )ケトンは式:h
Uυυに のキラル(chi ral )エステルの加水分解、脱
炭酸により製する。(式中のR社C,−C4)アルキル
)0式(III)のキラル(chtral )ベンジル
エーテル−エステルは(C□−C4) アルキルベン
ゾイルアセテートのアルカリ金属塩、例えば、式:を式
: CH3 C,HsCH2−0−C−OH,X −IV)
(式中、XはI、Brt CI、08O2CH3を璽
り化物イオンの存在下で反応せしめて製する。
式(IV)でXがCI、 Br、又はIOハライドは、
式(mV)の化合−でXがOSO□CR,又は金属と反
応せしめて製する。喪好なスルホネートエステルはメシ
レートエステルである。
式(mV)の化合−でXがOSO□CR,又は金属と反
応せしめて製する。喪好なスルホネートエステルはメシ
レートエステルである。
式(IV)の化合物でXが080.CH,又紘のキラル
(ehiral)化合物である2S−ベンジルオキシ−
トゲpパノールをメタンスルホニル−又は、p−)ルエ
ンスルホニルクロライドと反応せしめて製する。式(V
)の化合物は式:CH3 C,H,CH,QC:C0OR・・・閏)(式中、Rは
(C1−04)アルキル) のベンジル化乳酸エステル
をMislov等の方法の如くハイド2イド還元して製
する。
(ehiral)化合物である2S−ベンジルオキシ−
トゲpパノールをメタンスルホニル−又は、p−)ルエ
ンスルホニルクロライドと反応せしめて製する。式(V
)の化合物は式:CH3 C,H,CH,QC:C0OR・・・閏)(式中、Rは
(C1−04)アルキル) のベンジル化乳酸エステル
をMislov等の方法の如くハイド2イド還元して製
する。
又、一方、式(■)の化合物でXがCI、 Br。
又はIのパライトは、アルコール(V)の化合物を80
01.2 、 PBrl * PI H(D 如き、/
’Orン(IJL!:反応せしめて製する0 式(VI)のベンジル化乳酸エステルL1対応する式: %式%) (式中Rは(C1−C4) アルキル)の化合物を、
Ml s l ovの方法に従って多量の酸化白金の存
在下S−乳酸メチルをエチルエーテル中実化ベンジルオ
キシせしめて製する事が出来る。安価な塩基、例えば水
酸化ナトリウムを、酸化白金の代シに用いると、広範な
、又は完牟なラセミ化をともなって、反応を行う事が出
来る。興味ある事には、ベンジルメシレートを過剰の乳
酸エステルを溶媒として用い、(約、3モル尚量を用い
るのが良い)触媒をν用せず、約110−140℃(1
20−160℃が良好)に加熱して反応せしめると、式
(VI)のキラル(ehiral )ベンジルエステル
が高収率で得られる。この方法では、はとんどラセミ化
が起きない。
01.2 、 PBrl * PI H(D 如き、/
’Orン(IJL!:反応せしめて製する0 式(VI)のベンジル化乳酸エステルL1対応する式: %式%) (式中Rは(C1−C4) アルキル)の化合物を、
Ml s l ovの方法に従って多量の酸化白金の存
在下S−乳酸メチルをエチルエーテル中実化ベンジルオ
キシせしめて製する事が出来る。安価な塩基、例えば水
酸化ナトリウムを、酸化白金の代シに用いると、広範な
、又は完牟なラセミ化をともなって、反応を行う事が出
来る。興味ある事には、ベンジルメシレートを過剰の乳
酸エステルを溶媒として用い、(約、3モル尚量を用い
るのが良い)触媒をν用せず、約110−140℃(1
20−160℃が良好)に加熱して反応せしめると、式
(VI)のキラル(ehiral )ベンジルエステル
が高収率で得られる。この方法では、はとんどラセミ化
が起きない。
本発明は又、式(n) 、 (m) 、 (IV
)のキラル(chiral )中間体化合物をも包含す
る05−フェニル−28−ペンタノ−ルミl:国!許4
,206,225 ; 4,232,018 ; 4,
235.913 ;4.243,674 : 4.26
0,764 ; 4.263.438 ;4.270,
005 : 4,283,569に記載されている如く
、しざナントラドールの如きCNS剤の合成に用いる方
法も記載している。
)のキラル(chiral )中間体化合物をも包含す
る05−フェニル−28−ペンタノ−ルミl:国!許4
,206,225 ; 4,232,018 ; 4,
235.913 ;4.243,674 : 4.26
0,764 ; 4.263.438 ;4.270,
005 : 4,283,569に記載されている如く
、しざナントラドールの如きCNS剤の合成に用いる方
法も記載している。
本発明における種々の工程は容易に入手出来比較的安価
な出発物質及び試薬を用いて行う事が出来る。
な出発物質及び試薬を用いて行う事が出来る。
式(If)のキラ#(ehiral)ケトンを5−7エ
ールー28−ペンタノールに変換するために、前者の中
ラル(ehiril )ケトンを(溶媒を用いず、その
まま、又は反応不活性溶媒に溶かすか、懸濁 5して用
いる)貴金属触媒の存在下、適尚とする温度で、カルボ
ニル基がメチレンに変換され、ベンジル基が水素添加分
解(もし必要なら)されるまで水素で接触還元する。目
的物の5−フェニル−28−ペンタノールは常法によシ
単離する。一般に触媒の濾過、適当な溶媒で洗浄、f過
液と洗浄液の合併、洗浄、留去が含まれる。必要なら、
史に減圧蒸留により精製するが、この工程は、ふつう必
要がない。本発明の顕著な形態は、単純な単離/精製法
によりアルコール類の混在しない5−フェニル−28−
ペンタノールが得られる事てあり、しざナントラドール
及び他のCNS活性剤の合成に適当である。
ールー28−ペンタノールに変換するために、前者の中
ラル(ehiril )ケトンを(溶媒を用いず、その
まま、又は反応不活性溶媒に溶かすか、懸濁 5して用
いる)貴金属触媒の存在下、適尚とする温度で、カルボ
ニル基がメチレンに変換され、ベンジル基が水素添加分
解(もし必要なら)されるまで水素で接触還元する。目
的物の5−フェニル−28−ペンタノールは常法によシ
単離する。一般に触媒の濾過、適当な溶媒で洗浄、f過
液と洗浄液の合併、洗浄、留去が含まれる。必要なら、
史に減圧蒸留により精製するが、この工程は、ふつう必
要がない。本発明の顕著な形態は、単純な単離/精製法
によりアルコール類の混在しない5−フェニル−28−
ペンタノールが得られる事てあり、しざナントラドール
及び他のCNS活性剤の合成に適当である。
ζこで用いる「反応不活性溶媒」は、反応物、試薬生成
物のための溶媒、懸濁用の溶媒で、上述の反応物、試薬
、生成物と反応して目的生成物の収率を減少しない物の
事を意味する。
物のための溶媒、懸濁用の溶媒で、上述の反応物、試薬
、生成物と反応して目的生成物の収率を減少しない物の
事を意味する。
水素添加を溶媒中で行う場合は低沸点溶媒が良い。これ
は、これらの溶媒を留去して生成物を答易に得る事が出
来、生成物の蒸留に必要な多くの操作を必要としないた
めである。適当な溶媒として祉、 (C,−C,)
アルカノール、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソ
グロビルエーテル、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン、
1,2−ジメトキシエタンの如きもの)、炭化水嵩(ト
ルエンの如きもの) 、ハロダン化脂肪族炭化水素(エ
チレンクロライド)を包含する。少くとも、プロトン性
溶媒(例えば水又は(C□−C41アルカノール)を一
部加えるのが良好である。又、式:のベンジル基の接触
水添分解による除去、アルコール中間体の水素添加を促
進するために、強酸(例えば塩酸)を一部加えると良い
。水素添加に用いた溶媒は、濾過、触媒の回収に適当で
ある。
は、これらの溶媒を留去して生成物を答易に得る事が出
来、生成物の蒸留に必要な多くの操作を必要としないた
めである。適当な溶媒として祉、 (C,−C,)
アルカノール、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソ
グロビルエーテル、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン、
1,2−ジメトキシエタンの如きもの)、炭化水嵩(ト
ルエンの如きもの) 、ハロダン化脂肪族炭化水素(エ
チレンクロライド)を包含する。少くとも、プロトン性
溶媒(例えば水又は(C□−C41アルカノール)を一
部加えるのが良好である。又、式:のベンジル基の接触
水添分解による除去、アルコール中間体の水素添加を促
進するために、強酸(例えば塩酸)を一部加えると良い
。水素添加に用いた溶媒は、濾過、触媒の回収に適当で
ある。
水素添加の温度と圧は、限定されない。広範囲の温1、
(例えば0−75℃)と圧(常圧に近辺から100気圧
以上)を用いた触媒系に依存して用いると良い。一般に
は、水素添加には複雑な装置が必要でない丸め、低圧(
例えば1−7気圧)で行うと良い。常温(例えtf15
−25℃)が一般KJIL好である。触媒し來ルが低い
と高温を必要とするが経済的立場において、高温条件を
用いる。
(例えば0−75℃)と圧(常圧に近辺から100気圧
以上)を用いた触媒系に依存して用いると良い。一般に
は、水素添加には複雑な装置が必要でない丸め、低圧(
例えば1−7気圧)で行うと良い。常温(例えtf15
−25℃)が一般KJIL好である。触媒し來ルが低い
と高温を必要とするが経済的立場において、高温条件を
用いる。
活性の低い触媒を使用すると、良好な反応速度を得るた
めに高圧(すなわち7気圧以上)、高温(25℃以上)
が必要である事は理解されよう。
めに高圧(すなわち7気圧以上)、高温(25℃以上)
が必要である事は理解されよう。
本発明に用いる貴金属触媒は白金、パラジウム、レニウ
ム、ロジウム、ルテニウムであシ、支持体と共に支持体
を用いないで又は、オキサイドやクロライドの如き既知
の化合物の形で用いる。適当な触媒支持体は炭素、ケイ
素、硫酸バリウムである。触媒は、そのま\用いるか又
社、触媒化合物の塩を、あらかじめ還元して用いる。こ
の場合、触媒前駆体を還元溶媒中で懸濁し、基質を加え
る前に還元し、続いて接触還元を行って簡単に行う事が
出来る。又は、全てを混合し、水嵩を吸収させる事も出
来る。前者の方法は、触媒を、あらかじめ還元し、基質
の還元を行うため水素吸収量を別々に決定する事が出来
るので有利である。本方法における良好な貴金属触媒は
パラジウムで支持体を用いたものが良い。良好な支持体
は炭素である。支持体中のパラジウムの量は限定されな
いが一般に5−10%重量を用いる0あるいは、それ以
上、それ以下を用いる0操作の便宜上、触媒調製物は、
一般に貴金属及び支持体の重量とはソ等しい量の(例え
ば50チ湿潤)水を含有する「水−湿潤」である。良好
な触媒は低圧、低温度で機能する□が特に、一部にプロ
トン性溶媒を用い、少量の強酸を用いると容謁に機能す
る。
ム、ロジウム、ルテニウムであシ、支持体と共に支持体
を用いないで又は、オキサイドやクロライドの如き既知
の化合物の形で用いる。適当な触媒支持体は炭素、ケイ
素、硫酸バリウムである。触媒は、そのま\用いるか又
社、触媒化合物の塩を、あらかじめ還元して用いる。こ
の場合、触媒前駆体を還元溶媒中で懸濁し、基質を加え
る前に還元し、続いて接触還元を行って簡単に行う事が
出来る。又は、全てを混合し、水嵩を吸収させる事も出
来る。前者の方法は、触媒を、あらかじめ還元し、基質
の還元を行うため水素吸収量を別々に決定する事が出来
るので有利である。本方法における良好な貴金属触媒は
パラジウムで支持体を用いたものが良い。良好な支持体
は炭素である。支持体中のパラジウムの量は限定されな
いが一般に5−10%重量を用いる0あるいは、それ以
上、それ以下を用いる0操作の便宜上、触媒調製物は、
一般に貴金属及び支持体の重量とはソ等しい量の(例え
ば50チ湿潤)水を含有する「水−湿潤」である。良好
な触媒は低圧、低温度で機能する□が特に、一部にプロ
トン性溶媒を用い、少量の強酸を用いると容謁に機能す
る。
式(II)のキ2ルケトンは、対応する式(m)のエス
テルを加水分解、脱炭酸反応して製する。
テルを加水分解、脱炭酸反応して製する。
加水分解、脱炭酸の触媒は塩基、酸の両者を用いる。極
性プロトン性の溶媒、例えば水’% (CI−C,)
低級アルカノール、又はその混合物を用い塩基触媒
が良好である。水酸化アルカリ金属が良好な塩基触媒で
あり水酸化カリウムが最も良好である0温置は一般に、
例えば60−100℃に加熱し、反応物又は生成物が分
解する事なく良好な反応速度が得られるようにする。良
好な溶媒系は、水:エタノール、50:50容量で;7
9−80℃で還流下、反応を行う。この反応条件下で加
水分解、脱炭酸の両者が完了するまで反応を行う。
性プロトン性の溶媒、例えば水’% (CI−C,)
低級アルカノール、又はその混合物を用い塩基触媒
が良好である。水酸化アルカリ金属が良好な塩基触媒で
あり水酸化カリウムが最も良好である0温置は一般に、
例えば60−100℃に加熱し、反応物又は生成物が分
解する事なく良好な反応速度が得られるようにする。良
好な溶媒系は、水:エタノール、50:50容量で;7
9−80℃で還流下、反応を行う。この反応条件下で加
水分解、脱炭酸の両者が完了するまで反応を行う。
すなわち式:
の酸中量体は単離しない。
式(m)のエステルは式(IV)の化合物のX(CI
、 Br、 I 、 080.CH3,0803−C)
−CH3>を (C,−C4) アルキルベンゾイルア
セテート((C1−C4> アルキルベンゾイルアセテ
ートのアルカリ金属塩、特にナトリウム塩の形で用いる
)のアニオンにより求核置換反応を行って製する。
、 Br、 I 、 080.CH3,0803−C)
−CH3>を (C,−C4) アルキルベンゾイルア
セテート((C1−C4> アルキルベンゾイルアセテ
ートのアルカリ金属塩、特にナトリウム塩の形で用いる
)のアニオンにより求核置換反応を行って製する。
本反応にはアルコール類、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、等の溶媒が適当である力寛、反応物及び生
成物に対して不活性で、反応物がある1128ける必要
がある0これらの溶媒は、置換するアニオンの濃度を高
濃度に保つため、ベンゾイルアセテートエステルよシも
酸性度の低いものでな轄ればならな10本反応に用いる
1i度は限定されない(例えば0−140℃)。良好な
反応速度が得られるのに十分高銀である必要があるが、
分解を起す程高くて社ならないO周知の如く、反応速度
は、Xの性質 (例えばI ) Br >CI )、溶
媒、Rの種類、用いたアルカリ金属塩によシ変化する。
ルムアミド、等の溶媒が適当である力寛、反応物及び生
成物に対して不活性で、反応物がある1128ける必要
がある0これらの溶媒は、置換するアニオンの濃度を高
濃度に保つため、ベンゾイルアセテートエステルよシも
酸性度の低いものでな轄ればならな10本反応に用いる
1i度は限定されない(例えば0−140℃)。良好な
反応速度が得られるのに十分高銀である必要があるが、
分解を起す程高くて社ならないO周知の如く、反応速度
は、Xの性質 (例えばI ) Br >CI )、溶
媒、Rの種類、用いたアルカリ金属塩によシ変化する。
反応時間は、反応がはy完了しく例えば、当量の化合物
(IV)とアルキルベンゾイルアセテート塩を用いた場
合>95 %)収率が最高になるようにすべきである(
例えば、温度に依存して1時間から数日間)。これらの
反応は、市販で入手できる紫外線指示薬を含むシリカゲ
ル板を用いた薄層クロマトグラフィーで答易にチェック
する。適当な展開剤はヘキサン−酢酸エチル混合物;例
えば6:1、ヘキサン:酢酸エチルである。反応が進行
するに従い、当量の強塩基を中和する。これはpHが反
応をチェックする手段であるからである。
(IV)とアルキルベンゾイルアセテート塩を用いた場
合>95 %)収率が最高になるようにすべきである(
例えば、温度に依存して1時間から数日間)。これらの
反応は、市販で入手できる紫外線指示薬を含むシリカゲ
ル板を用いた薄層クロマトグラフィーで答易にチェック
する。適当な展開剤はヘキサン−酢酸エチル混合物;例
えば6:1、ヘキサン:酢酸エチルである。反応が進行
するに従い、当量の強塩基を中和する。これはpHが反
応をチェックする手段であるからである。
求核置換反応は、すみやかで、きれいに起きるため、良
好なXはIである0この場合、ジメチルホルムアミドが
溶媒として良好であL120−126℃で約2時間反応
させる。XがI以外の場合、ヨク化物イオンを用いると
反応の進行を促進する0これは反応系中で、中間体とし
てWllヨウ化物を形成する効果があるためである。
好なXはIである0この場合、ジメチルホルムアミドが
溶媒として良好であL120−126℃で約2時間反応
させる。XがI以外の場合、ヨク化物イオンを用いると
反応の進行を促進する0これは反応系中で、中間体とし
てWllヨウ化物を形成する効果があるためである。
XがCI 、 Br又は!である式(IV) のキラル
エステルの求核置換反応により製する。前述の反応条件
を、この場合に適合出来る。良好なメシレートから有機
ヨウ化物を製する場合、アセトン中メシレートエステル
を過剰のヨウ化ナトリウム(15〜2.5当量)と20
〜24時間還流する事(IV)のキラル(ehiral
)スルホネートエステルはアルコールのスルホン化に
おける常法により、例えば、当量の有機スルホ二ルクp
ライドを式(V)のキラル(ehiral )アルコー
ルと、少くとも一当量の、例えとトリエチルアミンの如
き三級アミンの存在下、不活性溶媒中室温又は低温(−
10℃〜5℃)で反応せしめて製するO良好な溶媒は留
去によシ容易に除去出来るような低沸点物である(例え
ばメチレンクロライド)0式(V)のキラル(ehir
al )アルコールは以下の実施例6に記述する如く、
式(VI)のO−ベンジル乳酸エステルをハイドライド
還元して製するが、同様に、Mislov等の行った如
く、0−ペンシル乳酸メチルの重水素化リチウムアルミ
ニウムによる還元で製する。式(VI)のエステルのハ
イドライド還元は種々のハイドライド還元剤、例えば水
嵩化リチウムアルミニウム(それ自体そのままで、又は
油中50チ懸濁液で) 、rRed−al J(ベンゼ
ン中、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウ
ム70チ溶液)、水嵩化ホウ票ナトリウム又はリチウム
である。水素化リチウムアルミニウムを用いる場合、本
質的に溶媒は、非グートン性で、還元される基(カルボ
ニル基、ニトリル、ニトロ、脂肪族ハロゲノ、スルホネ
ート等)が危い溶媒を用いる。良好なものは、ナト2ヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、
ビス(2−メトキシエチル)エーテル、勢である。Re
d−alt用いる場合、ベンゼン又はトルエンの如き芳
香族炭化水素が溶媒として良好である。水素化ホウ素ナ
トリウム祉エタノールの如きグロトン性溶媒を一般に用
いる必要がある。
エステルの求核置換反応により製する。前述の反応条件
を、この場合に適合出来る。良好なメシレートから有機
ヨウ化物を製する場合、アセトン中メシレートエステル
を過剰のヨウ化ナトリウム(15〜2.5当量)と20
〜24時間還流する事(IV)のキラル(ehiral
)スルホネートエステルはアルコールのスルホン化に
おける常法により、例えば、当量の有機スルホ二ルクp
ライドを式(V)のキラル(ehiral )アルコー
ルと、少くとも一当量の、例えとトリエチルアミンの如
き三級アミンの存在下、不活性溶媒中室温又は低温(−
10℃〜5℃)で反応せしめて製するO良好な溶媒は留
去によシ容易に除去出来るような低沸点物である(例え
ばメチレンクロライド)0式(V)のキラル(ehir
al )アルコールは以下の実施例6に記述する如く、
式(VI)のO−ベンジル乳酸エステルをハイドライド
還元して製するが、同様に、Mislov等の行った如
く、0−ペンシル乳酸メチルの重水素化リチウムアルミ
ニウムによる還元で製する。式(VI)のエステルのハ
イドライド還元は種々のハイドライド還元剤、例えば水
嵩化リチウムアルミニウム(それ自体そのままで、又は
油中50チ懸濁液で) 、rRed−al J(ベンゼ
ン中、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウ
ム70チ溶液)、水嵩化ホウ票ナトリウム又はリチウム
である。水素化リチウムアルミニウムを用いる場合、本
質的に溶媒は、非グートン性で、還元される基(カルボ
ニル基、ニトリル、ニトロ、脂肪族ハロゲノ、スルホネ
ート等)が危い溶媒を用いる。良好なものは、ナト2ヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、
ビス(2−メトキシエチル)エーテル、勢である。Re
d−alt用いる場合、ベンゼン又はトルエンの如き芳
香族炭化水素が溶媒として良好である。水素化ホウ素ナ
トリウム祉エタノールの如きグロトン性溶媒を一般に用
いる必要がある。
式(■)のキラル(ehira口 (C1−C4)アル
キル乳酸エステルを、ラセミ化を起さず、高価な酸化白
金を触媒として用いないで、その0−ベンジル誘導体に
変換する事は本発明の顕著な形態内に包含する。興味あ
る事には、本反応はベンジルメシレートを過剰のキラ#
(ehiral ) (CI C4)アルキル乳酸
エステル中(例えば約三当量)8〇−110℃で、用い
た反応温度に依存して1−4時間加熱して行う。過剰の
乳酸エステルは蒸留で分離出来るが、この混在物は、次
の工程で水に易溶のプルピレングリコールに変換するの
が良く、2−ペンシルオキシ−1−fロバノール(V)
から、抽出により容易に除去できる〇 ベンジルメシレートはベンジルアルコールとメタンスル
ホニルクロライドを上述の方法で反応せしめて製する。
キル乳酸エステルを、ラセミ化を起さず、高価な酸化白
金を触媒として用いないで、その0−ベンジル誘導体に
変換する事は本発明の顕著な形態内に包含する。興味あ
る事には、本反応はベンジルメシレートを過剰のキラ#
(ehiral ) (CI C4)アルキル乳酸
エステル中(例えば約三当量)8〇−110℃で、用い
た反応温度に依存して1−4時間加熱して行う。過剰の
乳酸エステルは蒸留で分離出来るが、この混在物は、次
の工程で水に易溶のプルピレングリコールに変換するの
が良く、2−ペンシルオキシ−1−fロバノール(V)
から、抽出により容易に除去できる〇 ベンジルメシレートはベンジルアルコールとメタンスル
ホニルクロライドを上述の方法で反応せしめて製する。
本発明は次の実施例で例示する0しかしながら本発明は
、これらの実施例の細部に限定されるものではない事を
理解されたい。
、これらの実施例の細部に限定されるものではない事を
理解されたい。
実施例1
ベンシル メタンスルホネート
窒素ガス下、メチレンクロライド(14リツトル)中で
ベンジルアルコール(129,6r、1.2モル)及ヒ
ドリエチルアミン(182F、’L8モル)を混合する
。これを攪拌下、氷−水−アセトン浴中で一5℃に冷却
する。100−のメチシンク05イドに溶かしたメタン
スルホニルクロ2イド(15(1,131モル)の溶液
を一5℃〜2℃に保ちながら49分以上かけて加える。
ベンジルアルコール(129,6r、1.2モル)及ヒ
ドリエチルアミン(182F、’L8モル)を混合する
。これを攪拌下、氷−水−アセトン浴中で一5℃に冷却
する。100−のメチシンク05イドに溶かしたメタン
スルホニルクロ2イド(15(1,131モル)の溶液
を一5℃〜2℃に保ちながら49分以上かけて加える。
0−2℃て10分間攪拌後%500mの、あらかじめ5
℃に冷却した水で希釈する。有機層を分離し、冷水で洗
浄しく2×500m/) 、Mg田、で乾燥後r過して
真空下留去し表記化合物を淡黄色油状物として得る。(
190F、85チ、H−鳩侃(CDCl2)デルタ (
PPm) : 2.9 (8、3H) 。
℃に冷却した水で希釈する。有機層を分離し、冷水で洗
浄しく2×500m/) 、Mg田、で乾燥後r過して
真空下留去し表記化合物を淡黄色油状物として得る。(
190F、85チ、H−鳩侃(CDCl2)デルタ (
PPm) : 2.9 (8、3H) 。
5.2 (8、2H) 、7.4 (m 、5H)
;RfO,75(CH2Cl、) )本生成物□は
次の工程で用いるまで冷蔵庫に保存する。
;RfO,75(CH2Cl、) )本生成物□は
次の工程で用いるまで冷蔵庫に保存する。
実施例2
エチル 28−ペンジロキシグロビオネート窒素ガス下
、ベンジルメタンスルホネート。
、ベンジルメタンスルホネート。
(1B1.5y 、0.975モル)を攪拌下S乳酸エ
チル(エチル 2S−ヒドロキシプロピオネート;59
5f、3.55モルンと混合jる。溶液を水蒸気浴上で
15分間94℃に加熱し、1.5時間、との温匿を保つ
0区応混合物を45℃に冷却し、2リツトルの冷却トル
エン中に注ぎ入れる。水(500sd)を加え、5分間
攪拌する0水層を分離し、2001の新たなトルエンで
抽出する0有機層を合併し、連続的に、2×50ローの
水、1×500−の飽和NaHCO3,2x 500w
tの水、1×508−の飽和NaCL でそれぞれ洗
浄し、Mg5O,で乾燥後r過し真空下留去して粗生成
物を油状物として得る(228r 、112嘔、〔アす
。真空蒸留により初期の溶媒留去稜、分1ii1(25
m、b、、79°/12■;〔アルファ〕D−6,9’
:C=1.13 (CHCl3) :分m2m2−8(
74,b、、82℃/1.6■−114℃/6■:〔ア
ルファ)D−42,10−−76,20,C= 1.0
9−1、16 (CHCl3) ) S乳酸エチル及び
表記化合物の混倉物;分画9−12(57/:bp、1
15V3■、98−100℃10.75■、102−1
06℃/1.0箇:〔アルファ)D−80,8°〜−8
3,7℃、C1,01−1,17(CHCl3))純粋
な表記化合物を、それぞれ得る。さらに高沸点物が49
f得られる。分画10を100mgのヘキサンに溶かし
30−のH,Oで分画して少量の乳酸エチルを除く0ヘ
キサン層を分離し、6×3o11dのH2Oで洗浄しM
g5o4 で乾燥後f過し濃縮して油状物を得る。(
2,4y ;Rf O,!12 (6:1ヘキサン:酢
酸エチル);〔アルファ)D −Eu2O。
チル(エチル 2S−ヒドロキシプロピオネート;59
5f、3.55モルンと混合jる。溶液を水蒸気浴上で
15分間94℃に加熱し、1.5時間、との温匿を保つ
0区応混合物を45℃に冷却し、2リツトルの冷却トル
エン中に注ぎ入れる。水(500sd)を加え、5分間
攪拌する0水層を分離し、2001の新たなトルエンで
抽出する0有機層を合併し、連続的に、2×50ローの
水、1×500−の飽和NaHCO3,2x 500w
tの水、1×508−の飽和NaCL でそれぞれ洗
浄し、Mg5O,で乾燥後r過し真空下留去して粗生成
物を油状物として得る(228r 、112嘔、〔アす
。真空蒸留により初期の溶媒留去稜、分1ii1(25
m、b、、79°/12■;〔アルファ〕D−6,9’
:C=1.13 (CHCl3) :分m2m2−8(
74,b、、82℃/1.6■−114℃/6■:〔ア
ルファ)D−42,10−−76,20,C= 1.0
9−1、16 (CHCl3) ) S乳酸エチル及び
表記化合物の混倉物;分画9−12(57/:bp、1
15V3■、98−100℃10.75■、102−1
06℃/1.0箇:〔アルファ)D−80,8°〜−8
3,7℃、C1,01−1,17(CHCl3))純粋
な表記化合物を、それぞれ得る。さらに高沸点物が49
f得られる。分画10を100mgのヘキサンに溶かし
30−のH,Oで分画して少量の乳酸エチルを除く0ヘ
キサン層を分離し、6×3o11dのH2Oで洗浄しM
g5o4 で乾燥後f過し濃縮して油状物を得る。(
2,4y ;Rf O,!12 (6:1ヘキサン:酢
酸エチル);〔アルファ)D −Eu2O。
C=t 13 (CHCl3) )。
実施例6
2S−ベンジロキシ−1−プロパツール実施例20分画
2−9及び12 (全量105.1f。
2−9及び12 (全量105.1f。
Q、45モルのエチル 2S−ベンシルオキシfaビオ
ネート及び0.25モルのS乳酸エチル)を100−の
無水エタノールに溶かす。500−の無水エタノールと
N1■4(3z85f、10モル)の混合物中に窒素ガ
ス下、1時間以上かけて、上記溶液を加える。滴下の間
、20℃の水浴中で25−30℃に保つ。室温で20時
間攪拌後、反応混合物を10℃に冷却し95−の12N
HC1(114モル)を窒素ガス下15分間以上かけて
−滴下する。出来たスラリーを濾過し100−のエタ
ノールで洗浄する。r液と洗浄液を合併し、真空下15
0mgにまで濃縮する。これを200−の水で希釈し、
更に600−の酢酸エチルを加えも4 N NaOR,
50wtにてpH90に調節しく沈澱した固形物が溶け
る)、層を分離する。水層を1×100m、lX50−
の酢酸エチルで2同抽出する。有機層を合併して2X1
50−のH,0tIX150−の飽和食塩水、で洗浄し
MgSO4で乾燥後、濾過して留去し、表記化合物を油
状物として得る。
ネート及び0.25モルのS乳酸エチル)を100−の
無水エタノールに溶かす。500−の無水エタノールと
N1■4(3z85f、10モル)の混合物中に窒素ガ
ス下、1時間以上かけて、上記溶液を加える。滴下の間
、20℃の水浴中で25−30℃に保つ。室温で20時
間攪拌後、反応混合物を10℃に冷却し95−の12N
HC1(114モル)を窒素ガス下15分間以上かけて
−滴下する。出来たスラリーを濾過し100−のエタ
ノールで洗浄する。r液と洗浄液を合併し、真空下15
0mgにまで濃縮する。これを200−の水で希釈し、
更に600−の酢酸エチルを加えも4 N NaOR,
50wtにてpH90に調節しく沈澱した固形物が溶け
る)、層を分離する。水層を1×100m、lX50−
の酢酸エチルで2同抽出する。有機層を合併して2X1
50−のH,0tIX150−の飽和食塩水、で洗浄し
MgSO4で乾燥後、濾過して留去し、表記化合物を油
状物として得る。
(cHcI3):+27.736 (=−ト);Rf
o、1(CH,Cl2) )。
o、1(CH,Cl2) )。
冥施例4
28−をンゾロキシー1−グロビル メシレート窒素ガ
ス下、2S−ベンジロキシ−1−グロパノール(49,
8f、0.!tモル)、400−のCH,Cl2t
) 9 工fk7ミン(40,5t 、 0.4v−ル
)、を混合し、氷−水−アセトン浴中で一5℃に冷却し
ながら攪拌する。−5℃に保ちながら、メタンスルホニ
ルクロライド(37,8F、166%ル)ノ30117
ICH,CI2溶液を1時間以上かけて加える◎−5℃
で0.5時間攪拌後、H,0(5℃で200mg)を加
える。層を分離し、水層を、1×100−のcH2C1
□で洗浄する。合併した有機層を順々に、IXllXl
oOsのH,0,lX100−のlNHCl、lX10
0mgのN20.lX100−の飽和NaH■、e
lX100−のN20でそれぞれ洗浄し、Mg8o4で
乾燥後、濾過して真空下留去すると、表記生成物を油状
物として得るo(72,2r。
ス下、2S−ベンジロキシ−1−グロパノール(49,
8f、0.!tモル)、400−のCH,Cl2t
) 9 工fk7ミン(40,5t 、 0.4v−ル
)、を混合し、氷−水−アセトン浴中で一5℃に冷却し
ながら攪拌する。−5℃に保ちながら、メタンスルホニ
ルクロライド(37,8F、166%ル)ノ30117
ICH,CI2溶液を1時間以上かけて加える◎−5℃
で0.5時間攪拌後、H,0(5℃で200mg)を加
える。層を分離し、水層を、1×100−のcH2C1
□で洗浄する。合併した有機層を順々に、IXllXl
oOsのH,0,lX100−のlNHCl、lX10
0mgのN20.lX100−の飽和NaH■、e
lX100−のN20でそれぞれ洗浄し、Mg8o4で
乾燥後、濾過して真空下留去すると、表記生成物を油状
物として得るo(72,2r。
98.5チ、〔アルファ)D+7.7 、C=100(
cHcI3) ;RfO,6(cH2C12) )。
cHcI3) ;RfO,6(cH2C12) )。
実施例5
ヨウ化 2S−ベンゾルキシー1−グロビル窒素ガス下
、ヨウ化ナトリウム<909゜α6モル)を1リツトル
の乾燥アセトンに、攪拌しながら溶かす。62℃で28
−ベンシロキシ−1−プロピル メシレー) (71
5F、0.29・3モル)を加える。反応混合物を59
−60℃に加温する(緩和な還流)。これを20時間保
持し、この後tleでチェックすると約205Gの出発
物質が残留している。更にヨウ化ナトリウム(!tOf
。
、ヨウ化ナトリウム<909゜α6モル)を1リツトル
の乾燥アセトンに、攪拌しながら溶かす。62℃で28
−ベンシロキシ−1−プロピル メシレー) (71
5F、0.29・3モル)を加える。反応混合物を59
−60℃に加温する(緩和な還流)。これを20時間保
持し、この後tleでチェックすると約205Gの出発
物質が残留している。更にヨウ化ナトリウム(!tOf
。
12モル)を加え、還流を6時間続ける。室温にまで冷
却し、濾過してアセトンで洗浄する◎P液と洗浄液を合
併し、濃縮して波状固形物を得る。
却し、濾過してアセトンで洗浄する◎P液と洗浄液を合
併し、濃縮して波状固形物を得る。
これを600−のトルエン及び200−のH,0で希釈
し、層を分離して水層を2X100stのトルエンで抽
出する。有機層を合併し、2×200wl OH,Oで
洗浄後Mg5O,で゛乾燥する。これを濾過し、留去し
て表記生成物を油状物として得る。
し、層を分離して水層を2X100stのトルエンで抽
出する。有機層を合併し、2×200wl OH,Oで
洗浄後Mg5O,で゛乾燥する。これを濾過し、留去し
て表記生成物を油状物として得る。
(79f、9696:(アルファ)D+8.0°、c=
t 08 (cHcI ) −H−幅化−(CD
Cl a ) チルfi(Ppfll) 、 14 (
d、 3H) 、3−3゜6 (m、 5H) 。
t 08 (cHcI ) −H−幅化−(CD
Cl a ) チルfi(Ppfll) 、 14 (
d、 3H) 、3−3゜6 (m、 5H) 。
4.6 (S、2H) 、7.55 (S、5H) )
実施例6 エチル 2−ベンゾイル−48−ペンシロキシバレレー
ト窒素ガス下、水素ナトリウム(油中50%。
実施例6 エチル 2−ベンゾイル−48−ペンシロキシバレレー
ト窒素ガス下、水素ナトリウム(油中50%。
13.6F、0.283%ル)tr5X2DDwのtf
Jlヘキサンで洗浄する0ヘキサン中のNaHII濁液
に、130−のジメチルホルムアミドを加える。次に、
エチルペンブイルア七テート(54,4F 、 0.2
83モル)を45分間以上かけて、10℃の水浴中28
−52℃に保ちながら% N2ガスで、発生したN3を
排出しながら滴下する025℃で8分間攪拌後、ヨウ化
2S−ベンシロキシ−1−プロピル<78?、0.28
5モル)を加え、4o−のゾメチルホルムア゛電ドを加
える。反応混合物を122−126℃で2時間加熱攪拌
する。 (この間に固形物が沈澱する)これを70℃に
冷却し、65゜−のトルエン及び560−の氷水で希釈
し、層を分離する。水層を3X150−のトルエンで抽
出し、有機層を合併して、3X 150−のH,0゜1
X150−の飽和NaC1で洗浄後Mg5o4で乾燥す
る。これをf過し、真空下留去し表記生成物を油状物と
して得るo (90f、905G(アルファ〕D+
15.80.C=112 (CHCI、 ) : R
f O,35(6:1.ヘキサン:酢酸エチル)〕 実施例7 48ヘンシロキシ−1−フェニル−1−ペンタノンエチ
ル 2−ベンゾイル−48−ベンシロキシバレレート
(89f 、 0.26モル) 、エタノール(175
mg)、水(175+d) 、 KOH(85% 。
Jlヘキサンで洗浄する0ヘキサン中のNaHII濁液
に、130−のジメチルホルムアミドを加える。次に、
エチルペンブイルア七テート(54,4F 、 0.2
83モル)を45分間以上かけて、10℃の水浴中28
−52℃に保ちながら% N2ガスで、発生したN3を
排出しながら滴下する025℃で8分間攪拌後、ヨウ化
2S−ベンシロキシ−1−プロピル<78?、0.28
5モル)を加え、4o−のゾメチルホルムア゛電ドを加
える。反応混合物を122−126℃で2時間加熱攪拌
する。 (この間に固形物が沈澱する)これを70℃に
冷却し、65゜−のトルエン及び560−の氷水で希釈
し、層を分離する。水層を3X150−のトルエンで抽
出し、有機層を合併して、3X 150−のH,0゜1
X150−の飽和NaC1で洗浄後Mg5o4で乾燥す
る。これをf過し、真空下留去し表記生成物を油状物と
して得るo (90f、905G(アルファ〕D+
15.80.C=112 (CHCI、 ) : R
f O,35(6:1.ヘキサン:酢酸エチル)〕 実施例7 48ヘンシロキシ−1−フェニル−1−ペンタノンエチ
ル 2−ベンゾイル−48−ベンシロキシバレレート
(89f 、 0.26モル) 、エタノール(175
mg)、水(175+d) 、 KOH(85% 。
51F、0.8モル)を窒素がス下攪拌しながら混合す
る。この間に反応温度が45℃に上昇する0反応混合物
を79℃で加熱還流し18時間この温度を保つ。反応混
合物を25℃に冷却し、65〇−の水及び、300−の
トルエンで希釈する。層を分離し、水層をlX2005
g、2X150stのトルエンで洗浄する。有機層を合
併し、2X200−〇H,0,lX200−の飽和Na
C1で洗浄し、Mg5o4で乾燥後、r過して真空下濃
縮すると、表記化合物を油状物として得る。(45,5
F、65−〔アルファ) +21.92°、 C=
1.20(CHCI3) ;Rfo、55 (6:
1ヘ−Vサン:酢酸エチル)。
る。この間に反応温度が45℃に上昇する0反応混合物
を79℃で加熱還流し18時間この温度を保つ。反応混
合物を25℃に冷却し、65〇−の水及び、300−の
トルエンで希釈する。層を分離し、水層をlX2005
g、2X150stのトルエンで洗浄する。有機層を合
併し、2X200−〇H,0,lX200−の飽和Na
C1で洗浄し、Mg5o4で乾燥後、r過して真空下濃
縮すると、表記化合物を油状物として得る。(45,5
F、65−〔アルファ) +21.92°、 C=
1.20(CHCI3) ;Rfo、55 (6:
1ヘ−Vサン:酢酸エチル)。
実施例8
5−フェニル−28−ペンタノール
150−のトルエン、15mの無水アルコール中に溶か
した4S−ベンジルキシ−1−フニニルー1−ペンタノ
ン(45f、0.168モル)の溶液に6滴の濃塩酸を
加え、4tの5〇−湿潤p4/Cを用い、50 pai
g、25℃で水素添加する06時間後、更に4tの触媒
を加え、2.5時間水票添加する。この時点て3当量の
水素が消費され、最後の1.51iIf間では水素の吸
収は無い。触媒をr過して取り、r液を攪拌下、固形N
aHα)15 cc にて中和する。Mg804 で
乾燥後、r過し真空下濃縮して表記生成物を油状物とし
て得る。(22t t(CHCI、) :Rf=0.2
(6: 1ヘキサン:酢酸エチル> )oもし必要な
ら、表記生成物を更に蒸留して、こん静置のtie原点
物質を除く。
した4S−ベンジルキシ−1−フニニルー1−ペンタノ
ン(45f、0.168モル)の溶液に6滴の濃塩酸を
加え、4tの5〇−湿潤p4/Cを用い、50 pai
g、25℃で水素添加する06時間後、更に4tの触媒
を加え、2.5時間水票添加する。この時点て3当量の
水素が消費され、最後の1.51iIf間では水素の吸
収は無い。触媒をr過して取り、r液を攪拌下、固形N
aHα)15 cc にて中和する。Mg804 で
乾燥後、r過し真空下濃縮して表記生成物を油状物とし
て得る。(22t t(CHCI、) :Rf=0.2
(6: 1ヘキサン:酢酸エチル> )oもし必要な
ら、表記生成物を更に蒸留して、こん静置のtie原点
物質を除く。
bp、90−94℃/ Q、 7 wm s (はソ定
量的)0特許出願人 ファイデー・インコーホレーテ
ッド外4名 第1頁の続き oInt、 C1,3識別記号 庁内整理番号C0
7C1411087162−4H //B 01 J 23/40
7624−4GC07D 221/10
6675−4C優先権主張 01982年8
月5日■米国(US)■404075 0発 明 者 パーナート・シールズ・ムーアアメリカ
合衆国コネチカット州 ウォーターフォード・サヴイ・ アベニュー39
量的)0特許出願人 ファイデー・インコーホレーテ
ッド外4名 第1頁の続き oInt、 C1,3識別記号 庁内整理番号C0
7C1411087162−4H //B 01 J 23/40
7624−4GC07D 221/10
6675−4C優先権主張 01982年8
月5日■米国(US)■404075 0発 明 者 パーナート・シールズ・ムーアアメリカ
合衆国コネチカット州 ウォーターフォード・サヴイ・ アベニュー39
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式: のキラル(ehiral) ケトンを貴金属触媒存在
下水素添加せしめる事を特徴とする式: の2Sキラル(ehiral ) アルコールの製法
。 の化合物の貴金属触媒による水素添加;及び(b)式: (式中のRは(C□−C,)アルキル〉のキラル(eh
iral ) エステルの加水分解及び脱炭酸による
式■のキラル(chiral)ケトンの製造;を特徴と
する式: の2Sキラル(ehiral )アルコールの製法。 3、 (a)式: のキラル(ehiral)ケトンの貴金属触媒による水
素添加: 伽)式: (式中、Rは(C1−C,)アルキル)のキラル(ch
iral )エステルの加水分解及び脱炭酸による式■
のキラル(ehiral) ケトンの製造:(c)
(CI−04’アルキルベンゾイルアセテートのアル
カリ金属塩と式: %式% (式中、XはI 、 Brt C1t 08O1CH3
又はとを、場合によショウ素化物イオンの存在下で反応
せしめることによる式(m)のキラル(chiral)
エステルの製造: スルホネートエステル化合物とハロダン化物イオンとの
反応による、XがI、Brz又はCIである式(I%’
)のキラル(chlral)ハライド化合物の製造; (e) メタンスルホニルクロ2イド又はP−トルエ
ンスルホニルクロライトド式: %式%() のキラル(chiral)化合物との反応による、Xが
スルホネートエステルの製造; (0式: %式%() : (式中8は(C□−d4) アルキル)のキラル(ch
iral )エステルの水素化物による還元による式(
V)のキラk (ehiral)化合物の製造;−)
ベンジルメタンスルホネートそのtまと過剰の式 %式%(2) (式中、Rは(C,−C,)7A4ル)のキラル(eh
iral )2 S乳酸エステルとの反応による式(V
I)のキラル(chiral )エステルの製造;を特
徴とする式: の2Sキラル(chiral )アルコールの製法。 4、ベンジルメタンスルホネートそのttと過剰の式: %式% (式中Rは(C,−C4)アルキル) のキラル(eh
iral )2 S乳酸エステルを反応せしめる事を特
徴とする、式: %式% (式中Rは(C□−C4) アルキル)のキシル(c
hiral )エステルの製法。 5、式: (式中Yは水素又は−COOR”t’ありLRは(C。 −C4)アルキル)のキラル(ehiral )ケトン
。 6、 Yが水素である特許請求の範囲第5項のキラル
(chiral )ケトン。 7、 Yが−COORであシ、Rがエチルである特許
請求の範囲第5項のキラル(chn畠1)ケトン08、
式: %式% : (式中XはI 、Br、CI、 又1iO8O2cH3
) のキラル(ehiral )化合物。 9、 XがIである特許請求の範囲第8項のキシル(
chiral )化合物。 10、 X カ0802CH3f 4る特許請求の範
囲WJ8項のキラル(chiral)化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US31201281A | 1981-10-16 | 1981-10-16 | |
US312012 | 1981-10-16 | ||
US404075 | 1982-08-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5883644A true JPS5883644A (ja) | 1983-05-19 |
JPS6228936B2 JPS6228936B2 (ja) | 1987-06-23 |
Family
ID=23209477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57182033A Granted JPS5883644A (ja) | 1981-10-16 | 1982-10-16 | キラルケトン類 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5883644A (ja) |
KR (1) | KR840001940A (ja) |
ZA (1) | ZA827556B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010522078A (ja) * | 2007-03-23 | 2010-07-01 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | パラジウム触媒 |
JP4822649B2 (ja) * | 2000-08-04 | 2011-11-24 | インヴィスタ テクノロジーズ エスアエルエル | 3−ヒドロキシアルカンニトリルおよびヒドロキシアミノアルカンの製造方法 |
-
1982
- 1982-10-15 KR KR1019820004649A patent/KR840001940A/ko unknown
- 1982-10-15 ZA ZA827556A patent/ZA827556B/xx unknown
- 1982-10-16 JP JP57182033A patent/JPS5883644A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4822649B2 (ja) * | 2000-08-04 | 2011-11-24 | インヴィスタ テクノロジーズ エスアエルエル | 3−ヒドロキシアルカンニトリルおよびヒドロキシアミノアルカンの製造方法 |
JP2010522078A (ja) * | 2007-03-23 | 2010-07-01 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | パラジウム触媒 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR840001940A (ko) | 1984-06-07 |
ZA827556B (en) | 1983-08-31 |
JPS6228936B2 (ja) | 1987-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0344354A (ja) | ジアルキルカーボネートの製造方法 | |
JPH01160965A (ja) | イソキノリン誘導体 | |
US4412958A (en) | Stereospecific synthesis of 5-phenyl-2S-pentanol | |
CN103058872A (zh) | 相转移催化合成柳酸苄酯的工艺 | |
CN109796368B (zh) | 一种n′-[(2s,3s)-2-(苄氧基)戊-3-基]甲酰肼的合成方法 | |
JPS5883644A (ja) | キラルケトン類 | |
JP3285391B2 (ja) | 2−フェノキシ安息香酸の製造法 | |
US20100222613A1 (en) | Method for producing halogen-substituted benzenedimethanol | |
JPH0534346B2 (ja) | ||
CN114315866B (zh) | 一种盐酸左旋咪唑的合成方法 | |
JPH03130246A (ja) | 1―インダノン誘導体の製造法 | |
JPH0710813A (ja) | α−フェネチルアミン化合物の光学分割法 | |
JP4090658B2 (ja) | アリールエーテルの製造方法 | |
WO2008001985A1 (en) | Method of preparing dialkylcarbonates | |
EP0005280B1 (en) | A process for the reduction of carboxylic acid halides to corresponding aldehydes | |
CA2294014C (en) | Process for the preparation of 1-(3,4-dimethoxyphenyl)ethanol | |
JP2680683B2 (ja) | ソラネシルアミン誘導体の製造方法 | |
JPS62155243A (ja) | α―d―プロポキシフェン塩酸塩の製造方法 | |
JP3959178B2 (ja) | ヒドラジン誘導体の製造方法、その中間体および中間体の製造方法 | |
JPH02212469A (ja) | N―ベンジルピロリジン誘導体又はその塩の製造方法 | |
JPS6219413B2 (ja) | ||
JPH0610164B2 (ja) | イソプレニル安息香酸エステル誘導体及びその製法 | |
WO2011150950A1 (en) | 2-methyl-5-vinylpyridinium salts | |
JPS62263140A (ja) | α−フエニルプロピオン酸誘導体の製造法 | |
JPH03176463A (ja) | ピロリジノール誘導体およびその製法 |