JP3396097B2 - ４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法 - Google Patents
４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法Info
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【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、従来から香料分野で利
用され、また医薬、農薬、液晶等の合成中間体として有
用な下記式（１） 【化３】 ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基を示す］
で表される４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸
エステル誘導体の工業的に有利な新規製法に関する。 【０００２】 【従来の技術】４−アルキル置換シクロヘキサンカルボ
ン酸類がスィーティ様、オイル様、ウッディー様、スパ
イシー様の香気を有し、タバコ用香料として有用である
ことは知られている（特開昭５９−１３０１６２号公報
参照）。また、該カルボン酸類がステロイド製剤に代わ
る抗アレルギー剤として有用であることも開示されてい
る（特開昭５６−６８６１２号公報参照）。更に、該カ
ルボン酸類が血糖値降下剤として有用なＤ−フェニルア
ラニン誘導体の出発原料として利用しうることも知られ
ている（特公平４−１５２２１号公報参照）。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】従来、４−アルキルシ
クロヘキサンカルボン酸の低級アルキルエステル類を合
成する方法としては、一般的には、対応する４−アルキ
ルシクロヘキサンカルボン酸と対応する低級アルコール
類とを常法に従ってエステル化反応させるか、又は該カ
ルボン酸類のアルカリ金属塩とハロゲン化アルキルとの
脱塩反応によってエステルを形成せしめる方法等が採用
されている。 【０００４】しかしながら、上記のごとき従来提案の方
法においては、エステル製造に使用される４−アルキル
置換シクロヘキサンカルボン酸類の合成法自体に解決し
なければならない課題がある。例えば、対応する４−ア
ルキル安息香酸をアルカリ性条件下に水素添加する方法
が開示されているが［Proc.K.Ned.Akad.Westensch.ser.
B.62(3)147(1959)；特開昭５６−６８６１２号公報参
照］、この方法によれば高温、高圧で且つ長時間反応を
行う必要があるという問題がある。 【０００５】また、例えばクミン酸の水素添加による製
法（特公平４−１５２２１号公報参照）によれば、水素
添加反応の際に、クミン酸の結晶を溶解する溶媒（酢
酸）が必要であり、更に、反応終了後には溶媒（酢酸）
を除去しなければならない。上記公報によれば、酢酸は
蒸発乾固することによって除去されているが、この方法
は実験室的には可能であっても工業的な製法とは言いが
たい。 【０００６】 【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上述の課題を解決しうる４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸エステル誘導体の工業的に有利な新規製造
法を確立するため鋭意研究を行ってきた。その結果、今
回、出発原料として式（２） 【化４】 で表される２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸
エステル誘導体を選ぶことにより、高収率、高純度に且
つ安価に本発明の式（１） 【化５】 の化合物を製造できることを見出した。 【０００７】かくして、本発明によれば、式（１）の化
合物は、式（２）で表される２−アセトキシ−４−イソ
プロピル安息香酸エステル誘導体を有機溶媒中で接触水
素還元することにより式（１）で表される４−イソプロ
ピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体を高収
率、高純度に製造できる。 【０００８】上記反応に従って、式（２）の化合物の合
成法も含めて式（２）の化合物から式（１）の化合物を
合成する方法について、以下に詳細に説明する。 【０００９】出発原料である式（２）の化合物は、例え
ば、市場で安価に入手できる３−イソプロピルフェノー
ルをナトリウム塩にした後、炭酸ガスと反応させるコル
ベ−シュミット（Ｋｏｌｂｅ−Ｓｃｈｍｉｄｔ）反応に
より容易に合成することができる４−イソプロピルサリ
チル酸（亀谷哲治著「有機薬品製造化学（中）」参照）
を、酸の存在下に対応する低級アルコール（ＲＯＨ）と
エステル化反応を行い、４−イソプロピルサリチル酸エ
ステル誘導体を生成させ、該誘導体を酸性触媒の存在下
又は不存在下に酢酸誘導体と反応させることにより容易
に合成できる。 【００１０】上記反応の４−イソプロピルサリチル酸エ
ステル誘導体と酢酸誘導体を反応させる反応温度および
反応時間は特別に制約されることはなく、例えば、約０
℃〜約１２０℃程度の範囲内の温度で約０．５時間〜約
８時間程度の条件を採用できる。反応に用いる酢酸誘導
体としては、例えば酢酸、無水酢酸、酢酸クロリド等が
例示される。これらの酢酸誘導体の使用量は、４−イソ
プロピルサリチル酸エステル誘導体１モルに対して、通
常約１モル〜約１．５モルの範囲内を例示できる。 【００１１】また、酸性触媒としては、例えばリン酸、
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸などを挙げることがで
き、これらの触媒の使用量は、例えば、４−イソプロピ
ルサリチル酸エステル誘導体１モルに対して約０．１〜
約１０ミリモルの範囲内で十分である。反応終了後、通
常の分離、精製手段、例えば蒸留、洗浄、抽出、乾燥、
カラムクロマトグラフィーなどの処理を適宜に採用し
て、高収率、高純度で式（２）の２−アセトキシ−４−
イソプロピル安息香酸エステル誘導体を得ることができ
る。 【００１２】本発明の目的化合物である式（１）の化合
物は、式（２）の化合物を有機溶媒中で還元触媒の存在
下に接触水素還元することにより容易に合成できる。 【００１３】この反応は、通常オートクレーブなどの加
圧装置内に、式（２）の化合物、還元触媒および有機溶
媒を仕込み、水素ガスを導入して行われる。反応は通常
用いられている接触還元の反応条件下で行うことがで
き、例えば、オートクレーブに式（２）の化合物とルテ
ニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）、パラジウム−カーボン
（Ｐｄ−Ｃ）、ラネー−ニッケル（Ｒａｎｅｙ−Ｎ
ｉ）、ロジウム−カーボン（Ｒｈ−Ｃ）などの還元触媒
および有機溶媒を加えて、反応温度約０〜約２００℃及
び水素圧約１〜約１００Ｋｇ／ｃｍ2において０．５〜
２０時間程度の反応時間で実施される。 【００１４】還元触媒の使用量は、式（２）の化合物に
対して、例えば約０．００１重量％〜約１０重量％の範
囲内が例示される。また有機溶媒としては、例えば、ヘ
キサン、シクロヘキサン、トルエン、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、プロ
ピルアルコール等が例示される。その使用量は、例え
ば、式（２）の化合物１重量部に対して約０．５〜約５
重量部の範囲内で十分である。反応終了後、通常の分
離、精製手段、例えば蒸留、洗浄、抽出、乾燥、カラム
クロマトグラフィーなどの処理を適宜に採用して、高収
率、高純度で式（１）の４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸エステル誘導体を得ることができる。 【００１５】このようにして得られる式（１）の化合物
の具体例としては、４−イソプロピルシクロヘキサンカ
ルボン酸メチル、４−イソプロピルシクロヘキサンカル
ボン酸エチル、４−イソプロピルシクロヘキサンカルボ
ン酸イソプロピル、４−イソプロピルシクロヘキサンカ
ルボン酸プロピルを挙げることができる。式（１）の化
合物は、それ自体調合香料素材として利用できるほか、
医薬、農薬、液晶等の合成中間体としても有用である。 【００１６】以下、参考例及び実施例により本発明の態
様を更に具体的に説明する。以下の各例において、
「部」および「％」は特に断りの無い限りそれぞれ重量
部および重量％を意味する。 【実施例】 参考例１ ２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸
メチル［式（２）の化合物］の合成。 １００ｍｌの反応フラスコに、無水酢酸２４．５ｇ
（０．２４モル）、８５％燐酸１．２ｇ（５％ｗ／ｗ）
を仕込み撹拌を行った。同温度で４−イソプロピルサリ
チル酸メチル３８．８ｇ（０．２モル）を滴下反応し
た。この時、内温は２４〜３０℃に上昇した。更に８０
℃に加温し５時間反応を続けた。水３０ｇを加え３０分
加熱還流し、過剰の無水酢酸を分解した。反応液を冷却
し、エーテル１００ｍｌを加えて抽出し、エーテル層を
ソーダ灰水洗（１００ｍｌ×２回）、食塩水水洗（１０
０ｍｌ×１回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥処理を
行った。溶媒を回収し粗製物４５ｇを得た。減圧下に蒸
留し、沸点１３２℃〜１４３℃／３ｍｍＨｇの留分３
７．２５ｇ（収率：７９％）を得た。 【００１７】参考例２ 各種の２−アセトキシ−４−イ
ソプロピル安息香酸エステル［式（２）の化合物］の合
成。 参考例１の製造方法に準じて、各種の式（２）の化合物
を合成した。その結果を表１に示す。 表１ 式（２）化合物 酸性触媒 収率（％） 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸エチル ８５％リン酸 ９２．１ 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸イソフ゜ロヒ゜ル 硫酸 ８２．９ 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸フ゜ロヒ゜ル p-トルエンスルホン酸 ８８．６ 【００１８】実施例１ ４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチル［式（１）の化合物］の合成。 ３００ｍｌのオートクレーブに２−アセトキシ−４−イ
ソプロピル安息香酸メチル９．５ｇ（０．０４モル）及
び５％のルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）０．４５ｇ
を全容量が３０ｍｌになるようにヘキサンとともに仕込
んだ。窒素置換処理後、初水素圧５０Ｋｇ／ｃｍ2、反
応温度１４℃で水素添加反応を行い、水素の吸収が止ま
った時点を反応の終了とした。反応終了後、触媒を濾過
分離し、濾液から溶媒のヘキサンをエバポレーターで除
去して得た粗製物を減圧蒸留して、沸点７５℃／２ｍｍ
Ｈｇの４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸メチ
ル５．２６ｇを得た（収率：７１．１％）。 【００１９】実施例２ 各種の４−イソプロピルシクロ
ヘキサンカルボン酸エステル［式（１）の化合物］の合
成。 実施例１の製造方法に準じて、各種の式（１）の化合物
を合成した。その結果を表２に示す。 表２ 式（１）化合物 還元触媒 収率（％） 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸エチル Ｒｕ−Ｃ ７８．６ 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸イソフ゜ロヒ゜ル Ｒａ−Ｎｉ ６９．２ 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸フ゜ロヒ゜ル Ｐｄ−Ｃ ６５．６ 【００２０】 【発明の効果】本発明は、従来から香料分野で利用さ
れ、また医薬、農薬、液晶等の合成中間体として有用な
４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘
導体の新規な製法を提供する。本発明の製法によれば、
２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸エステル誘
導体を接触還元反応することにより、目的化合物が容易
に製造される。
用され、また医薬、農薬、液晶等の合成中間体として有
用な下記式（１） 【化３】 ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基を示す］
で表される４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸
エステル誘導体の工業的に有利な新規製法に関する。 【０００２】 【従来の技術】４−アルキル置換シクロヘキサンカルボ
ン酸類がスィーティ様、オイル様、ウッディー様、スパ
イシー様の香気を有し、タバコ用香料として有用である
ことは知られている（特開昭５９−１３０１６２号公報
参照）。また、該カルボン酸類がステロイド製剤に代わ
る抗アレルギー剤として有用であることも開示されてい
る（特開昭５６−６８６１２号公報参照）。更に、該カ
ルボン酸類が血糖値降下剤として有用なＤ−フェニルア
ラニン誘導体の出発原料として利用しうることも知られ
ている（特公平４−１５２２１号公報参照）。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】従来、４−アルキルシ
クロヘキサンカルボン酸の低級アルキルエステル類を合
成する方法としては、一般的には、対応する４−アルキ
ルシクロヘキサンカルボン酸と対応する低級アルコール
類とを常法に従ってエステル化反応させるか、又は該カ
ルボン酸類のアルカリ金属塩とハロゲン化アルキルとの
脱塩反応によってエステルを形成せしめる方法等が採用
されている。 【０００４】しかしながら、上記のごとき従来提案の方
法においては、エステル製造に使用される４−アルキル
置換シクロヘキサンカルボン酸類の合成法自体に解決し
なければならない課題がある。例えば、対応する４−ア
ルキル安息香酸をアルカリ性条件下に水素添加する方法
が開示されているが［Proc.K.Ned.Akad.Westensch.ser.
B.62(3)147(1959)；特開昭５６−６８６１２号公報参
照］、この方法によれば高温、高圧で且つ長時間反応を
行う必要があるという問題がある。 【０００５】また、例えばクミン酸の水素添加による製
法（特公平４−１５２２１号公報参照）によれば、水素
添加反応の際に、クミン酸の結晶を溶解する溶媒（酢
酸）が必要であり、更に、反応終了後には溶媒（酢酸）
を除去しなければならない。上記公報によれば、酢酸は
蒸発乾固することによって除去されているが、この方法
は実験室的には可能であっても工業的な製法とは言いが
たい。 【０００６】 【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上述の課題を解決しうる４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸エステル誘導体の工業的に有利な新規製造
法を確立するため鋭意研究を行ってきた。その結果、今
回、出発原料として式（２） 【化４】 で表される２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸
エステル誘導体を選ぶことにより、高収率、高純度に且
つ安価に本発明の式（１） 【化５】 の化合物を製造できることを見出した。 【０００７】かくして、本発明によれば、式（１）の化
合物は、式（２）で表される２−アセトキシ−４−イソ
プロピル安息香酸エステル誘導体を有機溶媒中で接触水
素還元することにより式（１）で表される４−イソプロ
ピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体を高収
率、高純度に製造できる。 【０００８】上記反応に従って、式（２）の化合物の合
成法も含めて式（２）の化合物から式（１）の化合物を
合成する方法について、以下に詳細に説明する。 【０００９】出発原料である式（２）の化合物は、例え
ば、市場で安価に入手できる３−イソプロピルフェノー
ルをナトリウム塩にした後、炭酸ガスと反応させるコル
ベ−シュミット（Ｋｏｌｂｅ−Ｓｃｈｍｉｄｔ）反応に
より容易に合成することができる４−イソプロピルサリ
チル酸（亀谷哲治著「有機薬品製造化学（中）」参照）
を、酸の存在下に対応する低級アルコール（ＲＯＨ）と
エステル化反応を行い、４−イソプロピルサリチル酸エ
ステル誘導体を生成させ、該誘導体を酸性触媒の存在下
又は不存在下に酢酸誘導体と反応させることにより容易
に合成できる。 【００１０】上記反応の４−イソプロピルサリチル酸エ
ステル誘導体と酢酸誘導体を反応させる反応温度および
反応時間は特別に制約されることはなく、例えば、約０
℃〜約１２０℃程度の範囲内の温度で約０．５時間〜約
８時間程度の条件を採用できる。反応に用いる酢酸誘導
体としては、例えば酢酸、無水酢酸、酢酸クロリド等が
例示される。これらの酢酸誘導体の使用量は、４−イソ
プロピルサリチル酸エステル誘導体１モルに対して、通
常約１モル〜約１．５モルの範囲内を例示できる。 【００１１】また、酸性触媒としては、例えばリン酸、
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸などを挙げることがで
き、これらの触媒の使用量は、例えば、４−イソプロピ
ルサリチル酸エステル誘導体１モルに対して約０．１〜
約１０ミリモルの範囲内で十分である。反応終了後、通
常の分離、精製手段、例えば蒸留、洗浄、抽出、乾燥、
カラムクロマトグラフィーなどの処理を適宜に採用し
て、高収率、高純度で式（２）の２−アセトキシ−４−
イソプロピル安息香酸エステル誘導体を得ることができ
る。 【００１２】本発明の目的化合物である式（１）の化合
物は、式（２）の化合物を有機溶媒中で還元触媒の存在
下に接触水素還元することにより容易に合成できる。 【００１３】この反応は、通常オートクレーブなどの加
圧装置内に、式（２）の化合物、還元触媒および有機溶
媒を仕込み、水素ガスを導入して行われる。反応は通常
用いられている接触還元の反応条件下で行うことがで
き、例えば、オートクレーブに式（２）の化合物とルテ
ニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）、パラジウム−カーボン
（Ｐｄ−Ｃ）、ラネー−ニッケル（Ｒａｎｅｙ−Ｎ
ｉ）、ロジウム−カーボン（Ｒｈ−Ｃ）などの還元触媒
および有機溶媒を加えて、反応温度約０〜約２００℃及
び水素圧約１〜約１００Ｋｇ／ｃｍ2において０．５〜
２０時間程度の反応時間で実施される。 【００１４】還元触媒の使用量は、式（２）の化合物に
対して、例えば約０．００１重量％〜約１０重量％の範
囲内が例示される。また有機溶媒としては、例えば、ヘ
キサン、シクロヘキサン、トルエン、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、プロ
ピルアルコール等が例示される。その使用量は、例え
ば、式（２）の化合物１重量部に対して約０．５〜約５
重量部の範囲内で十分である。反応終了後、通常の分
離、精製手段、例えば蒸留、洗浄、抽出、乾燥、カラム
クロマトグラフィーなどの処理を適宜に採用して、高収
率、高純度で式（１）の４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸エステル誘導体を得ることができる。 【００１５】このようにして得られる式（１）の化合物
の具体例としては、４−イソプロピルシクロヘキサンカ
ルボン酸メチル、４−イソプロピルシクロヘキサンカル
ボン酸エチル、４−イソプロピルシクロヘキサンカルボ
ン酸イソプロピル、４−イソプロピルシクロヘキサンカ
ルボン酸プロピルを挙げることができる。式（１）の化
合物は、それ自体調合香料素材として利用できるほか、
医薬、農薬、液晶等の合成中間体としても有用である。 【００１６】以下、参考例及び実施例により本発明の態
様を更に具体的に説明する。以下の各例において、
「部」および「％」は特に断りの無い限りそれぞれ重量
部および重量％を意味する。 【実施例】 参考例１ ２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸
メチル［式（２）の化合物］の合成。 １００ｍｌの反応フラスコに、無水酢酸２４．５ｇ
（０．２４モル）、８５％燐酸１．２ｇ（５％ｗ／ｗ）
を仕込み撹拌を行った。同温度で４−イソプロピルサリ
チル酸メチル３８．８ｇ（０．２モル）を滴下反応し
た。この時、内温は２４〜３０℃に上昇した。更に８０
℃に加温し５時間反応を続けた。水３０ｇを加え３０分
加熱還流し、過剰の無水酢酸を分解した。反応液を冷却
し、エーテル１００ｍｌを加えて抽出し、エーテル層を
ソーダ灰水洗（１００ｍｌ×２回）、食塩水水洗（１０
０ｍｌ×１回）し、無水硫酸マグネシウムで乾燥処理を
行った。溶媒を回収し粗製物４５ｇを得た。減圧下に蒸
留し、沸点１３２℃〜１４３℃／３ｍｍＨｇの留分３
７．２５ｇ（収率：７９％）を得た。 【００１７】参考例２ 各種の２−アセトキシ−４−イ
ソプロピル安息香酸エステル［式（２）の化合物］の合
成。 参考例１の製造方法に準じて、各種の式（２）の化合物
を合成した。その結果を表１に示す。 表１ 式（２）化合物 酸性触媒 収率（％） 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸エチル ８５％リン酸 ９２．１ 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸イソフ゜ロヒ゜ル 硫酸 ８２．９ 2-アセトキシ-4-イソフ゜ロヒ゜ル安息香酸フ゜ロヒ゜ル p-トルエンスルホン酸 ８８．６ 【００１８】実施例１ ４−イソプロピルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチル［式（１）の化合物］の合成。 ３００ｍｌのオートクレーブに２−アセトキシ−４−イ
ソプロピル安息香酸メチル９．５ｇ（０．０４モル）及
び５％のルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）０．４５ｇ
を全容量が３０ｍｌになるようにヘキサンとともに仕込
んだ。窒素置換処理後、初水素圧５０Ｋｇ／ｃｍ2、反
応温度１４℃で水素添加反応を行い、水素の吸収が止ま
った時点を反応の終了とした。反応終了後、触媒を濾過
分離し、濾液から溶媒のヘキサンをエバポレーターで除
去して得た粗製物を減圧蒸留して、沸点７５℃／２ｍｍ
Ｈｇの４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸メチ
ル５．２６ｇを得た（収率：７１．１％）。 【００１９】実施例２ 各種の４−イソプロピルシクロ
ヘキサンカルボン酸エステル［式（１）の化合物］の合
成。 実施例１の製造方法に準じて、各種の式（１）の化合物
を合成した。その結果を表２に示す。 表２ 式（１）化合物 還元触媒 収率（％） 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸エチル Ｒｕ−Ｃ ７８．６ 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸イソフ゜ロヒ゜ル Ｒａ−Ｎｉ ６９．２ 4-イソフ゜ロヒ゜ルシクロヘキサンカルホ゛ン酸フ゜ロヒ゜ル Ｐｄ−Ｃ ６５．６ 【００２０】 【発明の効果】本発明は、従来から香料分野で利用さ
れ、また医薬、農薬、液晶等の合成中間体として有用な
４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘
導体の新規な製法を提供する。本発明の製法によれば、
２−アセトキシ−４−イソプロピル安息香酸エステル誘
導体を接触還元反応することにより、目的化合物が容易
に製造される。
フロントページの続き
(72)発明者 高木 恵一
神奈川県川崎市中原区苅宿335 長谷川
香料株式会社技術研究所内
(56)参考文献 特開 平７−330681（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−149694（ＪＰ，Ａ)
特表 平８−511776（ＪＰ，Ａ)
特表 平８−511775（ＪＰ，Ａ)
特表 平８−511531（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 67/303
C07C 67/327
C07C 69/75
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 下記式（２） 【化１】 ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基を示し、
Ａｃはアセチル基を示す、］で表される２−アセトキシ
−４−イソプロピル安息香酸エステル誘導体を有機溶媒
中で接触水素還元することを特徴とする下記式（１） 【化２】 ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基を示
す、］で表される４−イソプロピルシクロヘキサンカル
ボン酸エステル誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26844394A JP3396097B2 (ja) | 1994-10-06 | 1994-10-06 | ４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26844394A JP3396097B2 (ja) | 1994-10-06 | 1994-10-06 | ４−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08104666A JPH08104666A (ja) | 1996-04-23 |
| JP3396097B2 true JP3396097B2 (ja) | 2003-04-14 |
Family
ID=17458581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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1994
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