JPS6227750B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6227750B2 JPS6227750B2 JP56075444A JP7544481A JPS6227750B2 JP S6227750 B2 JPS6227750 B2 JP S6227750B2 JP 56075444 A JP56075444 A JP 56075444A JP 7544481 A JP7544481 A JP 7544481A JP S6227750 B2 JPS6227750 B2 JP S6227750B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- substrate support
- strips
- sealing
- transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 20
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12033—Gunn diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は比較的大きな電力を取り扱うことので
きる樹脂封止形半導体装置に関する。
きる樹脂封止形半導体装置に関する。
樹脂封止形半導体装置は、量産性ならびに低コ
ストといつた面では金属封止形半導体装置に勝つ
ているが、動作時に発生する熱を放散させる面で
は金属封止形半導体装置に劣つている。近年、半
導体装置の樹脂封止化が進み、たとえばかなり大
きな電力を取り扱うことのできるトランジスタも
樹脂封止構造とされるに至つている。この場合、
放熱の面で十分な配慮が払われている。
ストといつた面では金属封止形半導体装置に勝つ
ているが、動作時に発生する熱を放散させる面で
は金属封止形半導体装置に劣つている。近年、半
導体装置の樹脂封止化が進み、たとえばかなり大
きな電力を取り扱うことのできるトランジスタも
樹脂封止構造とされるに至つている。この場合、
放熱の面で十分な配慮が払われている。
第1図は、樹脂封止構造を有する従来の電力用
トランジスタの構造例を示す断面図であり、トラ
ンジスタ素子1の接着される基板支持部2の裏面
を封止樹脂外殻3で覆うことなく露出させるとと
もに、放熱板への取り付けを可能にするためのね
じ止め用の貫通孔を形成した構造となつている。
なお、5は保護用樹脂、6は外部リードである。
このような構造の樹脂封止形電力用トランジスタ
の放熱板(図示せず)への取り付けに際しては、
露出する基板支持体1の裏面を放熱板に対して電
気的には絶縁して熱的に結合する。この電気的絶
縁はマイカ板などの絶縁板を両者間に介在させる
ことによつてなされる。
トランジスタの構造例を示す断面図であり、トラ
ンジスタ素子1の接着される基板支持部2の裏面
を封止樹脂外殻3で覆うことなく露出させるとと
もに、放熱板への取り付けを可能にするためのね
じ止め用の貫通孔を形成した構造となつている。
なお、5は保護用樹脂、6は外部リードである。
このような構造の樹脂封止形電力用トランジスタ
の放熱板(図示せず)への取り付けに際しては、
露出する基板支持体1の裏面を放熱板に対して電
気的には絶縁して熱的に結合する。この電気的絶
縁はマイカ板などの絶縁板を両者間に介在させる
ことによつてなされる。
ところで、このような構造によれば、放熱効果
の点に関しては所期の目的が達成される。しかし
ながら、上記のように放熱板への取り付けに際し
て、絶縁板を介在させることが不可避であり、取
りつけ作業が煩雑となる。さらに、絶縁板は基板
支持体と放熱板との間に正しく位置しなければな
らないところであるが、両者を1体的に緊着する
際にともすると正しい位置関係が損われ、電気的
絶縁が保てなくなる。
の点に関しては所期の目的が達成される。しかし
ながら、上記のように放熱板への取り付けに際し
て、絶縁板を介在させることが不可避であり、取
りつけ作業が煩雑となる。さらに、絶縁板は基板
支持体と放熱板との間に正しく位置しなければな
らないところであるが、両者を1体的に緊着する
際にともすると正しい位置関係が損われ、電気的
絶縁が保てなくなる。
このため、第2図で示すように、基板支持体2
の裏面側にも封止樹脂層7を薄く設け、絶縁板を
不要とするようにした構造の樹脂封止形電力用ト
ランジスタが提案されるに至つている。
の裏面側にも封止樹脂層7を薄く設け、絶縁板を
不要とするようにした構造の樹脂封止形電力用ト
ランジスタが提案されるに至つている。
第3図は、第1図および第2図で示した樹脂封
止形電力用トランジスタを組み立てるに際して、
通常用いられるリードフレームの平面図であり、
図示するように、移送ピツチの決定ならびに樹脂
封止時の位置決めをなす孔8が穿設された共通接
続細条9から同一方向へ向つてトランジスタの外
部リード6,10,11が延び、さらに外部リー
ド6の端部に基板支持体2が繋つた構造となつて
いる。トランジスタの組みたては、その左端部に
示したように、トランジスタ素子1の接着、トラ
ンジスタ素子電極と外部リード10,11との間
の金属細線12による接続ならびに保護用樹脂5
の形成を経てなされる。
止形電力用トランジスタを組み立てるに際して、
通常用いられるリードフレームの平面図であり、
図示するように、移送ピツチの決定ならびに樹脂
封止時の位置決めをなす孔8が穿設された共通接
続細条9から同一方向へ向つてトランジスタの外
部リード6,10,11が延び、さらに外部リー
ド6の端部に基板支持体2が繋つた構造となつて
いる。トランジスタの組みたては、その左端部に
示したように、トランジスタ素子1の接着、トラ
ンジスタ素子電極と外部リード10,11との間
の金属細線12による接続ならびに保護用樹脂5
の形成を経てなされる。
以上のようなリードフレームを用いてトランジ
スタ組立構体を得、これを第2図で示した封止構
造とするには、第4図で示すように、上金型13
と下金型14の間に形成された空所の中にトラン
ジスタ組立構体の基板支持部2を浮かせて配置
し、こののち、空所内へ樹脂30を注入すること
が行われる。この注入により樹脂30は基板支持
部2の裏面直下の空所にも満たされ、第2図で示
すように封止成型がなされる。
スタ組立構体を得、これを第2図で示した封止構
造とするには、第4図で示すように、上金型13
と下金型14の間に形成された空所の中にトラン
ジスタ組立構体の基板支持部2を浮かせて配置
し、こののち、空所内へ樹脂30を注入すること
が行われる。この注入により樹脂30は基板支持
部2の裏面直下の空所にも満たされ、第2図で示
すように封止成型がなされる。
ところで、第4図からも明らかなように、第2
図で示した封止構造を第3図で示したリードフレ
ームを用いて得ようとした場合、リードフレーム
の外部リードの形成側のみが上下の金型によつて
挾持された状態で樹脂の注入がなされるため、基
板支持部2が樹脂の圧力で空所内で屈曲するおそ
れが多分にあり、したがつて、樹脂内の正しい位
置に基板支持部2が位置する状態で封止を行うこ
とが極めて困難であつた。かかる基板支持板の屈
曲は、薄い樹脂層7の厚みにばらつきをもたら
し、さらに、この厚みのばらつきは、完成したト
ランジスタの放熱特性のばらつきに直結する。
図で示した封止構造を第3図で示したリードフレ
ームを用いて得ようとした場合、リードフレーム
の外部リードの形成側のみが上下の金型によつて
挾持された状態で樹脂の注入がなされるため、基
板支持部2が樹脂の圧力で空所内で屈曲するおそ
れが多分にあり、したがつて、樹脂内の正しい位
置に基板支持部2が位置する状態で封止を行うこ
とが極めて困難であつた。かかる基板支持板の屈
曲は、薄い樹脂層7の厚みにばらつきをもたら
し、さらに、この厚みのばらつきは、完成したト
ランジスタの放熱特性のばらつきに直結する。
なお、第2図で示した構造、すなわち、放熱板
を兼ねる基板支持体の一方の主面(半導体基板の
接着面とは反対側の面)の直下にも薄い樹脂の層
を形成した構造の樹脂封止形半導体装置を製造す
るにあたり、基板支持体直下の薄い樹脂層の厚み
を高い精度でしかも均一な厚みに制御することの
できる樹脂封止形半導体装置を製造する方法とし
て、出願人は第5図で示すようなリードフレーム
を用いる方法を特願昭56−32229号にて提案して
いる。
を兼ねる基板支持体の一方の主面(半導体基板の
接着面とは反対側の面)の直下にも薄い樹脂の層
を形成した構造の樹脂封止形半導体装置を製造す
るにあたり、基板支持体直下の薄い樹脂層の厚み
を高い精度でしかも均一な厚みに制御することの
できる樹脂封止形半導体装置を製造する方法とし
て、出願人は第5図で示すようなリードフレーム
を用いる方法を特願昭56−32229号にて提案して
いる。
第5図aは出願人の提案したリードフレームの
平面図を、また、第5図bは第5図aのB−B線
に沿つて切断して示した断面図であり、図示する
ように、基板支持部2の外部リード6に繋る辺と
は反対側の辺から2本の細条15と16が延び、
これらが、第2の共通接続細条17に繋つた構造
となつている。なお、第2の共通接続細条に形成
された孔18は、樹脂封止工程で金型の一部と嵌
合し位置規正のために作用する。
平面図を、また、第5図bは第5図aのB−B線
に沿つて切断して示した断面図であり、図示する
ように、基板支持部2の外部リード6に繋る辺と
は反対側の辺から2本の細条15と16が延び、
これらが、第2の共通接続細条17に繋つた構造
となつている。なお、第2の共通接続細条に形成
された孔18は、樹脂封止工程で金型の一部と嵌
合し位置規正のために作用する。
ところで、第5図bで示すように、細条15と
16の厚みは基板支持体2よりも薄く選定され、
しかも、その下面と基板支持体2の下面との間に
所定の段差が形成されている。
16の厚みは基板支持体2よりも薄く選定され、
しかも、その下面と基板支持体2の下面との間に
所定の段差が形成されている。
第6図は、かかるリードフレームを用いて形成
したトランジスタ組立構体を樹脂で封止成型する
状態を示す図であり、上下の金型13と14の間
に形成される空所内へ樹脂30を注入して成型す
る点では、第3で示すリードフレームを用いる場
合と同じである。しかしながら、第5図で示すリ
ードフレームを使用した場合には、図示するよう
に、リードフレームの外部リード6が一方の側に
おいて上下の金型によつて挾持されるとともに、
他方の側でも、細条15,16ならびに第2の共
通接続細条17が上下の金型によつて挾持され
る。また、第1の共通接続細条に設けた孔8に金
型の突出部が嵌合(図示せず)するばかりでな
く、第2の共通接続細条17の孔18にも金型の
突出部19が嵌合する。なお、20はねじ止め用
の孔を形成するべく樹脂を部分的に排除する突起
である。
したトランジスタ組立構体を樹脂で封止成型する
状態を示す図であり、上下の金型13と14の間
に形成される空所内へ樹脂30を注入して成型す
る点では、第3で示すリードフレームを用いる場
合と同じである。しかしながら、第5図で示すリ
ードフレームを使用した場合には、図示するよう
に、リードフレームの外部リード6が一方の側に
おいて上下の金型によつて挾持されるとともに、
他方の側でも、細条15,16ならびに第2の共
通接続細条17が上下の金型によつて挾持され
る。また、第1の共通接続細条に設けた孔8に金
型の突出部が嵌合(図示せず)するばかりでな
く、第2の共通接続細条17の孔18にも金型の
突出部19が嵌合する。なお、20はねじ止め用
の孔を形成するべく樹脂を部分的に排除する突起
である。
このように、リードフレームの基板支持部2
は、上下の金型13と14によつて挾持される外
部リード6と細条15,16とにより支持されて
金型内の空所内に浮いた状態で位置する。また、
第1、第2の共通接続細条の双方は、金型によつ
て単に挾持されるだけではなく、これらに穿設し
た孔と金型の突起との嵌合によつて水平方向の動
きが完全に阻止されるため、上記の浮いた状態は
極めて正確に制御される。
は、上下の金型13と14によつて挾持される外
部リード6と細条15,16とにより支持されて
金型内の空所内に浮いた状態で位置する。また、
第1、第2の共通接続細条の双方は、金型によつ
て単に挾持されるだけではなく、これらに穿設し
た孔と金型の突起との嵌合によつて水平方向の動
きが完全に阻止されるため、上記の浮いた状態は
極めて正確に制御される。
第7図は上記の封止成型過程を経たのちの状態
を示す斜視図であり、図示するように封止外殻に
は、ねじ止め用の孔4の形成を有する肉薄部21
と肉厚部22が形成されているが、両者間に段差
が形成されていることにより、放熱板への取りつ
け時にねじの頂部が突出することのない状態が成
立する。
を示す斜視図であり、図示するように封止外殻に
は、ねじ止め用の孔4の形成を有する肉薄部21
と肉厚部22が形成されているが、両者間に段差
が形成されていることにより、放熱板への取りつ
け時にねじの頂部が突出することのない状態が成
立する。
次いで、X−X線ならびにX′−X′線に沿つた
切断処理を施し、第1の共通接続細条9ならびに
細条15,16を切断することによつて、第8図
で示す構造の樹脂封止形トランジスタが完成す
る。
切断処理を施し、第1の共通接続細条9ならびに
細条15,16を切断することによつて、第8図
で示す構造の樹脂封止形トランジスタが完成す
る。
このようにして形成された第8図で示す封止構
造のトランジスタでは、成型樹脂内に埋入されて
いる基板支持部の裏面を覆う樹脂の厚みが薄く、
しかも均一となるため、これを放熱板へ直接とり
つけて良好な結果を得ることできる。
造のトランジスタでは、成型樹脂内に埋入されて
いる基板支持部の裏面を覆う樹脂の厚みが薄く、
しかも均一となるため、これを放熱板へ直接とり
つけて良好な結果を得ることできる。
ところで、第8図からも明らかなように、この
トランジスタでは、外部リードの導出される側と
は反対側の成型樹脂側面に細条15と16の切り
口が露出する。この切り口は、成型樹脂内へ埋入
されている基板支持体と電気的に繋つており、実
装時にはこの切り口の部分で短絡事故が生じるこ
とのないよう十分な注意を払う必要があつた。こ
のため、実装面での作業性を高める面でなお改善
の余地が残されていた。
トランジスタでは、外部リードの導出される側と
は反対側の成型樹脂側面に細条15と16の切り
口が露出する。この切り口は、成型樹脂内へ埋入
されている基板支持体と電気的に繋つており、実
装時にはこの切り口の部分で短絡事故が生じるこ
とのないよう十分な注意を払う必要があつた。こ
のため、実装面での作業性を高める面でなお改善
の余地が残されていた。
本発明は、かかる問題に鑑みなされたものであ
り、成型樹脂の一部に凹所もしくは切欠部を設
け、この部分から細条を成型樹脂外へ導出させる
とともに、この細条の切断を凹所内もしくは切欠
部内でなしたところに本発明の特徴がある。
り、成型樹脂の一部に凹所もしくは切欠部を設
け、この部分から細条を成型樹脂外へ導出させる
とともに、この細条の切断を凹所内もしくは切欠
部内でなしたところに本発明の特徴がある。
以下に第9図〜第11図を参照して本発明の樹
脂封止形半導体装置について説明する。
脂封止形半導体装置について説明する。
第9図は、成型樹脂よりなる封止外殻の一部に
切欠部を設けた構造例であり、図示するように、
封止外殻の肉薄部21の2隅23と24が切欠部
とされ、この部分で細条15と16が切断されて
いる。この構造でも、細条15と16の切り口は
封止外殻へ露呈してはいるが、切欠された部分2
3と24の内におさまつているため、実装に際し
て、仮りにA−A線で示す位置に短絡事故を招く
原因となる導電体の面が位置したとしてもこれに
当接することはない。すなわち、封止外殻の側面
25〜26が細条15,16の短絡防止面として
作用する。
切欠部を設けた構造例であり、図示するように、
封止外殻の肉薄部21の2隅23と24が切欠部
とされ、この部分で細条15と16が切断されて
いる。この構造でも、細条15と16の切り口は
封止外殻へ露呈してはいるが、切欠された部分2
3と24の内におさまつているため、実装に際し
て、仮りにA−A線で示す位置に短絡事故を招く
原因となる導電体の面が位置したとしてもこれに
当接することはない。すなわち、封止外殻の側面
25〜26が細条15,16の短絡防止面として
作用する。
かかる封止構造のトランジスタは、特に、放熱
体の放熱翼がトランジスタの取付面から直立し、
しかも、この取付面が直立する放熱翼によつて囲
まれる放熱板へ装置する場合に特に好適である。
体の放熱翼がトランジスタの取付面から直立し、
しかも、この取付面が直立する放熱翼によつて囲
まれる放熱板へ装置する場合に特に好適である。
第10図および第11図は第9図で示した切欠
部にかえて凹所を設けて形成した本発明の樹脂封
止型半導体装置の他の例を示す図であり、第10
図は細条15と16のそれぞれの導出部に凹所2
8,29を設けた構造、第11図は細条15と1
6の導出部の双方が位置しうる凹所30を設けた
構造を示す。これらの構造でも、第9図で示した
切欠部と同様の効果が奏されるところとなる。
部にかえて凹所を設けて形成した本発明の樹脂封
止型半導体装置の他の例を示す図であり、第10
図は細条15と16のそれぞれの導出部に凹所2
8,29を設けた構造、第11図は細条15と1
6の導出部の双方が位置しうる凹所30を設けた
構造を示す。これらの構造でも、第9図で示した
切欠部と同様の効果が奏されるところとなる。
なお、第9図〜第11図で例示した本発明のト
ランジスタでは、封止外殻の側面を実装時の位置
規正部として利用しても何等支障をきたすことが
なく、したがつて、実装時の作業性を著るしく高
めることができる。
ランジスタでは、封止外殻の側面を実装時の位置
規正部として利用しても何等支障をきたすことが
なく、したがつて、実装時の作業性を著るしく高
めることができる。
ところで、本発明の樹脂封止形半導体装置にお
いて下可欠となる凹所あるいは切欠部の形成は、
金型内に設けるキヤビテイの形状変更によつて可
能であることはあえて詳しく説明するまでもな
い。
いて下可欠となる凹所あるいは切欠部の形成は、
金型内に設けるキヤビテイの形状変更によつて可
能であることはあえて詳しく説明するまでもな
い。
以上説明したところから明らかなように、本発
明によれば、放熱板を兼ねる基板支持体の直下に
薄い樹脂層をもち、かつ、極めて高い封止精度の
付与された樹脂封止形半導体装置の実装性を飛躍
的に高めることができる。
明によれば、放熱板を兼ねる基板支持体の直下に
薄い樹脂層をもち、かつ、極めて高い封止精度の
付与された樹脂封止形半導体装置の実装性を飛躍
的に高めることができる。
第1図および第2図は従来の樹脂封止形電力用
トランジスタの構造を示す断面図、第3図は従来
のリードフレームを示す平面図、第4図は第3図
で示すリードフレームを用いて第2図で示す樹脂
封止形電力用トランジスタを形成するときの封止
成形の状態を示す図、第5図a,bは本発明が適
用される樹脂封止形半導体装置で用いるリードフ
レームの形状を示す図、第6図〜第8図は樹脂封
止形半導体装置の封止成型から完成までの状態を
示す図、第9図〜第11図は本発明の実施例にか
かる樹脂封止形半導体装置の形状を示す平面図で
ある。 1……トランジスタ素子、2……基板支持部、
3……封止樹脂外殻、5……保護用樹脂、6,1
0,11……外部リード、15,16……細条、
21……封止樹脂外殻肉薄部、22……封止樹脂
外殻肉厚部、23,24……切欠部、25,2
6,27……封止外殻の側面、28,29,30
……凹所。
トランジスタの構造を示す断面図、第3図は従来
のリードフレームを示す平面図、第4図は第3図
で示すリードフレームを用いて第2図で示す樹脂
封止形電力用トランジスタを形成するときの封止
成形の状態を示す図、第5図a,bは本発明が適
用される樹脂封止形半導体装置で用いるリードフ
レームの形状を示す図、第6図〜第8図は樹脂封
止形半導体装置の封止成型から完成までの状態を
示す図、第9図〜第11図は本発明の実施例にか
かる樹脂封止形半導体装置の形状を示す平面図で
ある。 1……トランジスタ素子、2……基板支持部、
3……封止樹脂外殻、5……保護用樹脂、6,1
0,11……外部リード、15,16……細条、
21……封止樹脂外殻肉薄部、22……封止樹脂
外殻肉厚部、23,24……切欠部、25,2
6,27……封止外殻の側面、28,29,30
……凹所。
Claims (1)
- 1 成型樹脂内に埋入される基板支持体に繋り、
導出方向が外部リードの導出方向とは異る細条の
導出される成型樹脂部品に切欠き部もしくは凹所
が形成され、同切欠部もしくは凹所内で前記細条
が切断されていることを特徴とする樹脂封止形半
導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56075444A JPS57188858A (en) | 1981-05-18 | 1981-05-18 | Plastic molded type semiconductor device |
US06/378,435 US4503452A (en) | 1981-05-18 | 1982-05-14 | Plastic encapsulated semiconductor device and method for manufacturing the same |
CA000403080A CA1180469A (en) | 1981-05-18 | 1982-05-17 | Plastic encapsulated semiconductor device and method for manufacturing the same |
EP82104364A EP0066188B1 (en) | 1981-05-18 | 1982-05-18 | Plastic encapsulated semiconductor device and method for manufacturing the same |
DE8282104364T DE3267996D1 (en) | 1981-05-18 | 1982-05-18 | Plastic encapsulated semiconductor device and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56075444A JPS57188858A (en) | 1981-05-18 | 1981-05-18 | Plastic molded type semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57188858A JPS57188858A (en) | 1982-11-19 |
JPS6227750B2 true JPS6227750B2 (ja) | 1987-06-16 |
Family
ID=13576421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56075444A Granted JPS57188858A (en) | 1981-05-18 | 1981-05-18 | Plastic molded type semiconductor device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4503452A (ja) |
EP (1) | EP0066188B1 (ja) |
JP (1) | JPS57188858A (ja) |
CA (1) | CA1180469A (ja) |
DE (1) | DE3267996D1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59130449A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-27 | Nec Corp | 絶縁型半導体素子用リードフレーム |
JPS59135753A (ja) * | 1983-01-25 | 1984-08-04 | Toshiba Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JPS60128646A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-09 | Hitachi Ltd | 絶縁型パワートランジスタの製造方法 |
JPS60128645A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-09 | Hitachi Ltd | 絶縁型パワートランジスタの製造方法 |
JPS60229352A (ja) * | 1984-04-26 | 1985-11-14 | Fuji Electric Co Ltd | 樹脂封止形半導体装置および樹脂封止方法 |
DE3535605C1 (de) * | 1985-10-05 | 1986-12-04 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Halbleiteranordnung |
EP0257681A3 (en) * | 1986-08-27 | 1990-02-07 | STMicroelectronics S.r.l. | Method for manufacturing plastic encapsulated semiconductor devices and devices obtained thereby |
US4884125A (en) * | 1986-10-15 | 1989-11-28 | Sanyo Electic Co., Ltd. | Hybrid integrated circuit device capable of being inserted into socket |
JP2602234B2 (ja) * | 1987-07-10 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | 樹脂封止半導体装置 |
KR930004237B1 (ko) * | 1988-02-20 | 1993-05-22 | 도이취 아이티티 인더스트리스 게젤샤프트 미트 베쉬랭크터 하프퉁 | 반도체장치, 그 제조방법, 그 방법 수행장치 및 조립체설비 |
EP0336173A3 (en) * | 1988-04-05 | 1990-04-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Molded component package isolating interior substrate by recesses containing exposed breakoffs |
US5011256A (en) * | 1988-10-28 | 1991-04-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Package for an opto-electronic component |
US5521427A (en) * | 1992-12-18 | 1996-05-28 | Lsi Logic Corporation | Printed wiring board mounted semiconductor device having leadframe with alignment feature |
US5886400A (en) * | 1995-08-31 | 1999-03-23 | Motorola, Inc. | Semiconductor device having an insulating layer and method for making |
US5977630A (en) * | 1997-08-15 | 1999-11-02 | International Rectifier Corp. | Plural semiconductor die housed in common package with split heat sink |
US6255722B1 (en) * | 1998-06-11 | 2001-07-03 | International Rectifier Corp. | High current capacity semiconductor device housing |
JP2010073841A (ja) * | 2008-09-18 | 2010-04-02 | Sony Corp | 光学パッケージ素子、表示装置、および電子機器 |
DE102013220880B4 (de) * | 2013-10-15 | 2016-08-18 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Halbleitergehäuse mit einer elektrisch isolierenden, thermischen Schnittstellenstruktur auf einer Diskontinuität einer Verkapselungsstruktur sowie ein Herstellungsverfahren dafür und eine elektronische Anordung dies aufweisend |
DE102015118245A1 (de) * | 2015-10-26 | 2017-04-27 | Infineon Technologies Austria Ag | Thermisches Schnittstellenmaterial mit definierten thermischen, mechanischen und elektrischen Eigenschaften |
JP1646470S (ja) * | 2019-05-14 | 2019-11-25 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51137376A (en) * | 1975-05-22 | 1976-11-27 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacturing method for plastic seal type semi conductor |
JPS5380969A (en) * | 1976-12-27 | 1978-07-17 | Hitachi Ltd | Manufacture of resin shield type semiconductor device and lead frame used for the said process |
JPS54159177A (en) * | 1978-06-07 | 1979-12-15 | Hitachi Ltd | Resin sealed semiconductor device |
JPS5563854A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-14 | Nec Kyushu Ltd | Method of manufacturing semiconductor device |
JPS5587468A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-02 | Nec Corp | Lead frame |
JPS5596663A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-23 | Nec Corp | Method of fabricating semiconductor device |
JPS55108755A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-21 | Nec Corp | Resin seal type semiconductor device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3716764A (en) * | 1963-12-16 | 1973-02-13 | Texas Instruments Inc | Process for encapsulating electronic components in plastic |
NL6903229A (ja) * | 1969-03-01 | 1970-09-03 | ||
US3611250A (en) * | 1969-09-10 | 1971-10-05 | Amp Inc | Integrated circuit module and assembly |
US3793709A (en) * | 1972-04-24 | 1974-02-26 | Texas Instruments Inc | Process for making a plastic-encapsulated semiconductor device |
IT993429B (it) * | 1973-09-26 | 1975-09-30 | Sgs Ates Componenti | Perfezionamento di una cassa per dispositivo a semiconduttori |
JPS54111766A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Coupling construction of lead and heat sink in semiconductor device |
US4224637A (en) * | 1978-08-10 | 1980-09-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Leaded mounting and connector unit for an electronic device |
JPS5619646A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Ltd | Resin sealing type semiconductor device |
JPS5662344A (en) * | 1979-10-26 | 1981-05-28 | Hitachi Ltd | Resin sealed semiconductor device |
-
1981
- 1981-05-18 JP JP56075444A patent/JPS57188858A/ja active Granted
-
1982
- 1982-05-14 US US06/378,435 patent/US4503452A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-05-17 CA CA000403080A patent/CA1180469A/en not_active Expired
- 1982-05-18 EP EP82104364A patent/EP0066188B1/en not_active Expired
- 1982-05-18 DE DE8282104364T patent/DE3267996D1/de not_active Expired
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51137376A (en) * | 1975-05-22 | 1976-11-27 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacturing method for plastic seal type semi conductor |
JPS5380969A (en) * | 1976-12-27 | 1978-07-17 | Hitachi Ltd | Manufacture of resin shield type semiconductor device and lead frame used for the said process |
JPS54159177A (en) * | 1978-06-07 | 1979-12-15 | Hitachi Ltd | Resin sealed semiconductor device |
JPS5563854A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-14 | Nec Kyushu Ltd | Method of manufacturing semiconductor device |
JPS5587468A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-02 | Nec Corp | Lead frame |
JPS5596663A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-23 | Nec Corp | Method of fabricating semiconductor device |
JPS55108755A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-21 | Nec Corp | Resin seal type semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57188858A (en) | 1982-11-19 |
US4503452A (en) | 1985-03-05 |
CA1180469A (en) | 1985-01-02 |
EP0066188B1 (en) | 1985-12-18 |
DE3267996D1 (en) | 1986-01-30 |
EP0066188A1 (en) | 1982-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6220705B2 (ja) | ||
JPS6227750B2 (ja) | ||
US4451973A (en) | Method for manufacturing a plastic encapsulated semiconductor device and a lead frame therefor | |
EP0069390B1 (en) | Lead frame for plastic encapsulated semiconductor device | |
JPH03108744A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
GB2151845A (en) | A semiconductor memory | |
JPS6244815B2 (ja) | ||
JPH0512857B2 (ja) | ||
JPH0325934B2 (ja) | ||
JPH0244147B2 (ja) | ||
JP2939094B2 (ja) | 電力用半導体装置の製造方法 | |
JPH0135478Y2 (ja) | ||
JPH0210572B2 (ja) | ||
JPS6057654A (ja) | 樹脂封止形半導体装置 | |
JPS5926604Y2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS63211638A (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JPH0318741B2 (ja) | ||
JP2710207B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0213461B2 (ja) | ||
JPS6246268Y2 (ja) | ||
JP2917556B2 (ja) | 絶縁物封止型電子部品の製造方法 | |
CA1213678A (en) | Lead frame for plastic encapsulated semiconductor device | |
JPS607750A (ja) | 絶縁型半導体装置 | |
JP2506933Y2 (ja) | 樹脂密封型半導体装置 | |
JPH0341476Y2 (ja) |