JPS6227750B2 - - Google Patents

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JPS6227750B2
JPS6227750B2 JP56075444A JP7544481A JPS6227750B2 JP S6227750 B2 JPS6227750 B2 JP S6227750B2 JP 56075444 A JP56075444 A JP 56075444A JP 7544481 A JP7544481 A JP 7544481A JP S6227750 B2 JPS6227750 B2 JP S6227750B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は比較的大きな電力を取り扱うことので
きる樹脂封止形半導体装置に関する。
樹脂封止形半導体装置は、量産性ならびに低コ
ストといつた面では金属封止形半導体装置に勝つ
ているが、動作時に発生する熱を放散させる面で
は金属封止形半導体装置に劣つている。近年、半
導体装置の樹脂封止化が進み、たとえばかなり大
きな電力を取り扱うことのできるトランジスタも
樹脂封止構造とされるに至つている。この場合、
放熱の面で十分な配慮が払われている。
第1図は、樹脂封止構造を有する従来の電力用
トランジスタの構造例を示す断面図であり、トラ
ンジスタ素子1の接着される基板支持部2の裏面
を封止樹脂外殻3で覆うことなく露出させるとと
もに、放熱板への取り付けを可能にするためのね
じ止め用の貫通孔を形成した構造となつている。
なお、5は保護用樹脂、6は外部リードである。
このような構造の樹脂封止形電力用トランジスタ
の放熱板(図示せず)への取り付けに際しては、
露出する基板支持体1の裏面を放熱板に対して電
気的には絶縁して熱的に結合する。この電気的絶
縁はマイカ板などの絶縁板を両者間に介在させる
ことによつてなされる。
ところで、このような構造によれば、放熱効果
の点に関しては所期の目的が達成される。しかし
ながら、上記のように放熱板への取り付けに際し
て、絶縁板を介在させることが不可避であり、取
りつけ作業が煩雑となる。さらに、絶縁板は基板
支持体と放熱板との間に正しく位置しなければな
らないところであるが、両者を1体的に緊着する
際にともすると正しい位置関係が損われ、電気的
絶縁が保てなくなる。
このため、第2図で示すように、基板支持体2
の裏面側にも封止樹脂層7を薄く設け、絶縁板を
不要とするようにした構造の樹脂封止形電力用ト
ランジスタが提案されるに至つている。
第3図は、第1図および第2図で示した樹脂封
止形電力用トランジスタを組み立てるに際して、
通常用いられるリードフレームの平面図であり、
図示するように、移送ピツチの決定ならびに樹脂
封止時の位置決めをなす孔8が穿設された共通接
続細条9から同一方向へ向つてトランジスタの外
部リード6,10,11が延び、さらに外部リー
ド6の端部に基板支持体2が繋つた構造となつて
いる。トランジスタの組みたては、その左端部に
示したように、トランジスタ素子1の接着、トラ
ンジスタ素子電極と外部リード10,11との間
の金属細線12による接続ならびに保護用樹脂5
の形成を経てなされる。
以上のようなリードフレームを用いてトランジ
スタ組立構体を得、これを第2図で示した封止構
造とするには、第4図で示すように、上金型13
と下金型14の間に形成された空所の中にトラン
ジスタ組立構体の基板支持部2を浮かせて配置
し、こののち、空所内へ樹脂30を注入すること
が行われる。この注入により樹脂30は基板支持
部2の裏面直下の空所にも満たされ、第2図で示
すように封止成型がなされる。
ところで、第4図からも明らかなように、第2
図で示した封止構造を第3図で示したリードフレ
ームを用いて得ようとした場合、リードフレーム
の外部リードの形成側のみが上下の金型によつて
挾持された状態で樹脂の注入がなされるため、基
板支持部2が樹脂の圧力で空所内で屈曲するおそ
れが多分にあり、したがつて、樹脂内の正しい位
置に基板支持部2が位置する状態で封止を行うこ
とが極めて困難であつた。かかる基板支持板の屈
曲は、薄い樹脂層7の厚みにばらつきをもたら
し、さらに、この厚みのばらつきは、完成したト
ランジスタの放熱特性のばらつきに直結する。
なお、第2図で示した構造、すなわち、放熱板
を兼ねる基板支持体の一方の主面(半導体基板の
接着面とは反対側の面)の直下にも薄い樹脂の層
を形成した構造の樹脂封止形半導体装置を製造す
るにあたり、基板支持体直下の薄い樹脂層の厚み
を高い精度でしかも均一な厚みに制御することの
できる樹脂封止形半導体装置を製造する方法とし
て、出願人は第5図で示すようなリードフレーム
を用いる方法を特願昭56−32229号にて提案して
いる。
第5図aは出願人の提案したリードフレームの
平面図を、また、第5図bは第5図aのB−B線
に沿つて切断して示した断面図であり、図示する
ように、基板支持部2の外部リード6に繋る辺と
は反対側の辺から2本の細条15と16が延び、
これらが、第2の共通接続細条17に繋つた構造
となつている。なお、第2の共通接続細条に形成
された孔18は、樹脂封止工程で金型の一部と嵌
合し位置規正のために作用する。
ところで、第5図bで示すように、細条15と
16の厚みは基板支持体2よりも薄く選定され、
しかも、その下面と基板支持体2の下面との間に
所定の段差が形成されている。
第6図は、かかるリードフレームを用いて形成
したトランジスタ組立構体を樹脂で封止成型する
状態を示す図であり、上下の金型13と14の間
に形成される空所内へ樹脂30を注入して成型す
る点では、第3で示すリードフレームを用いる場
合と同じである。しかしながら、第5図で示すリ
ードフレームを使用した場合には、図示するよう
に、リードフレームの外部リード6が一方の側に
おいて上下の金型によつて挾持されるとともに、
他方の側でも、細条15,16ならびに第2の共
通接続細条17が上下の金型によつて挾持され
る。また、第1の共通接続細条に設けた孔8に金
型の突出部が嵌合(図示せず)するばかりでな
く、第2の共通接続細条17の孔18にも金型の
突出部19が嵌合する。なお、20はねじ止め用
の孔を形成するべく樹脂を部分的に排除する突起
である。
このように、リードフレームの基板支持部2
は、上下の金型13と14によつて挾持される外
部リード6と細条15,16とにより支持されて
金型内の空所内に浮いた状態で位置する。また、
第1、第2の共通接続細条の双方は、金型によつ
て単に挾持されるだけではなく、これらに穿設し
た孔と金型の突起との嵌合によつて水平方向の動
きが完全に阻止されるため、上記の浮いた状態は
極めて正確に制御される。
第7図は上記の封止成型過程を経たのちの状態
を示す斜視図であり、図示するように封止外殻に
は、ねじ止め用の孔4の形成を有する肉薄部21
と肉厚部22が形成されているが、両者間に段差
が形成されていることにより、放熱板への取りつ
け時にねじの頂部が突出することのない状態が成
立する。
次いで、X−X線ならびにX′−X′線に沿つた
切断処理を施し、第1の共通接続細条9ならびに
細条15,16を切断することによつて、第8図
で示す構造の樹脂封止形トランジスタが完成す
る。
このようにして形成された第8図で示す封止構
造のトランジスタでは、成型樹脂内に埋入されて
いる基板支持部の裏面を覆う樹脂の厚みが薄く、
しかも均一となるため、これを放熱板へ直接とり
つけて良好な結果を得ることできる。
ところで、第8図からも明らかなように、この
トランジスタでは、外部リードの導出される側と
は反対側の成型樹脂側面に細条15と16の切り
口が露出する。この切り口は、成型樹脂内へ埋入
されている基板支持体と電気的に繋つており、実
装時にはこの切り口の部分で短絡事故が生じるこ
とのないよう十分な注意を払う必要があつた。こ
のため、実装面での作業性を高める面でなお改善
の余地が残されていた。
本発明は、かかる問題に鑑みなされたものであ
り、成型樹脂の一部に凹所もしくは切欠部を設
け、この部分から細条を成型樹脂外へ導出させる
とともに、この細条の切断を凹所内もしくは切欠
部内でなしたところに本発明の特徴がある。
以下に第9図〜第11図を参照して本発明の樹
脂封止形半導体装置について説明する。
第9図は、成型樹脂よりなる封止外殻の一部に
切欠部を設けた構造例であり、図示するように、
封止外殻の肉薄部21の2隅23と24が切欠部
とされ、この部分で細条15と16が切断されて
いる。この構造でも、細条15と16の切り口は
封止外殻へ露呈してはいるが、切欠された部分2
3と24の内におさまつているため、実装に際し
て、仮りにA−A線で示す位置に短絡事故を招く
原因となる導電体の面が位置したとしてもこれに
当接することはない。すなわち、封止外殻の側面
25〜26が細条15,16の短絡防止面として
作用する。
かかる封止構造のトランジスタは、特に、放熱
体の放熱翼がトランジスタの取付面から直立し、
しかも、この取付面が直立する放熱翼によつて囲
まれる放熱板へ装置する場合に特に好適である。
第10図および第11図は第9図で示した切欠
部にかえて凹所を設けて形成した本発明の樹脂封
止型半導体装置の他の例を示す図であり、第10
図は細条15と16のそれぞれの導出部に凹所2
8,29を設けた構造、第11図は細条15と1
6の導出部の双方が位置しうる凹所30を設けた
構造を示す。これらの構造でも、第9図で示した
切欠部と同様の効果が奏されるところとなる。
なお、第9図〜第11図で例示した本発明のト
ランジスタでは、封止外殻の側面を実装時の位置
規正部として利用しても何等支障をきたすことが
なく、したがつて、実装時の作業性を著るしく高
めることができる。
ところで、本発明の樹脂封止形半導体装置にお
いて下可欠となる凹所あるいは切欠部の形成は、
金型内に設けるキヤビテイの形状変更によつて可
能であることはあえて詳しく説明するまでもな
い。
以上説明したところから明らかなように、本発
明によれば、放熱板を兼ねる基板支持体の直下に
薄い樹脂層をもち、かつ、極めて高い封止精度の
付与された樹脂封止形半導体装置の実装性を飛躍
的に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来の樹脂封止形電力用
トランジスタの構造を示す断面図、第3図は従来
のリードフレームを示す平面図、第4図は第3図
で示すリードフレームを用いて第2図で示す樹脂
封止形電力用トランジスタを形成するときの封止
成形の状態を示す図、第5図a,bは本発明が適
用される樹脂封止形半導体装置で用いるリードフ
レームの形状を示す図、第6図〜第8図は樹脂封
止形半導体装置の封止成型から完成までの状態を
示す図、第9図〜第11図は本発明の実施例にか
かる樹脂封止形半導体装置の形状を示す平面図で
ある。 1……トランジスタ素子、2……基板支持部、
3……封止樹脂外殻、5……保護用樹脂、6,1
0,11……外部リード、15,16……細条、
21……封止樹脂外殻肉薄部、22……封止樹脂
外殻肉厚部、23,24……切欠部、25,2
6,27……封止外殻の側面、28,29,30
……凹所。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 成型樹脂内に埋入される基板支持体に繋り、
    導出方向が外部リードの導出方向とは異る細条の
    導出される成型樹脂部品に切欠き部もしくは凹所
    が形成され、同切欠部もしくは凹所内で前記細条
    が切断されていることを特徴とする樹脂封止形半
    導体装置。
JP56075444A 1981-05-18 1981-05-18 Plastic molded type semiconductor device Granted JPS57188858A (en)

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JP56075444A JPS57188858A (en) 1981-05-18 1981-05-18 Plastic molded type semiconductor device
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EP (1) EP0066188B1 (ja)
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59130449A (ja) * 1983-01-17 1984-07-27 Nec Corp 絶縁型半導体素子用リードフレーム
JPS59135753A (ja) * 1983-01-25 1984-08-04 Toshiba Corp 半導体装置とその製造方法
JPS60128646A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPS60128645A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPS60229352A (ja) * 1984-04-26 1985-11-14 Fuji Electric Co Ltd 樹脂封止形半導体装置および樹脂封止方法
DE3535605C1 (de) * 1985-10-05 1986-12-04 Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn Halbleiteranordnung
EP0257681A3 (en) * 1986-08-27 1990-02-07 STMicroelectronics S.r.l. Method for manufacturing plastic encapsulated semiconductor devices and devices obtained thereby
US4884125A (en) * 1986-10-15 1989-11-28 Sanyo Electic Co., Ltd. Hybrid integrated circuit device capable of being inserted into socket
JP2602234B2 (ja) * 1987-07-10 1997-04-23 株式会社日立製作所 樹脂封止半導体装置
KR930004237B1 (ko) * 1988-02-20 1993-05-22 도이취 아이티티 인더스트리스 게젤샤프트 미트 베쉬랭크터 하프퉁 반도체장치, 그 제조방법, 그 방법 수행장치 및 조립체설비
EP0336173A3 (en) * 1988-04-05 1990-04-25 Siemens Aktiengesellschaft Molded component package isolating interior substrate by recesses containing exposed breakoffs
US5011256A (en) * 1988-10-28 1991-04-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Package for an opto-electronic component
US5521427A (en) * 1992-12-18 1996-05-28 Lsi Logic Corporation Printed wiring board mounted semiconductor device having leadframe with alignment feature
US5886400A (en) * 1995-08-31 1999-03-23 Motorola, Inc. Semiconductor device having an insulating layer and method for making
US5977630A (en) * 1997-08-15 1999-11-02 International Rectifier Corp. Plural semiconductor die housed in common package with split heat sink
US6255722B1 (en) * 1998-06-11 2001-07-03 International Rectifier Corp. High current capacity semiconductor device housing
JP2010073841A (ja) * 2008-09-18 2010-04-02 Sony Corp 光学パッケージ素子、表示装置、および電子機器
DE102013220880B4 (de) * 2013-10-15 2016-08-18 Infineon Technologies Ag Elektronisches Halbleitergehäuse mit einer elektrisch isolierenden, thermischen Schnittstellenstruktur auf einer Diskontinuität einer Verkapselungsstruktur sowie ein Herstellungsverfahren dafür und eine elektronische Anordung dies aufweisend
DE102015118245A1 (de) * 2015-10-26 2017-04-27 Infineon Technologies Austria Ag Thermisches Schnittstellenmaterial mit definierten thermischen, mechanischen und elektrischen Eigenschaften
JP1646470S (ja) * 2019-05-14 2019-11-25

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51137376A (en) * 1975-05-22 1976-11-27 Mitsubishi Electric Corp Manufacturing method for plastic seal type semi conductor
JPS5380969A (en) * 1976-12-27 1978-07-17 Hitachi Ltd Manufacture of resin shield type semiconductor device and lead frame used for the said process
JPS54159177A (en) * 1978-06-07 1979-12-15 Hitachi Ltd Resin sealed semiconductor device
JPS5563854A (en) * 1978-11-08 1980-05-14 Nec Kyushu Ltd Method of manufacturing semiconductor device
JPS5587468A (en) * 1978-12-25 1980-07-02 Nec Corp Lead frame
JPS5596663A (en) * 1979-01-16 1980-07-23 Nec Corp Method of fabricating semiconductor device
JPS55108755A (en) * 1979-02-14 1980-08-21 Nec Corp Resin seal type semiconductor device

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3716764A (en) * 1963-12-16 1973-02-13 Texas Instruments Inc Process for encapsulating electronic components in plastic
NL6903229A (ja) * 1969-03-01 1970-09-03
US3611250A (en) * 1969-09-10 1971-10-05 Amp Inc Integrated circuit module and assembly
US3793709A (en) * 1972-04-24 1974-02-26 Texas Instruments Inc Process for making a plastic-encapsulated semiconductor device
IT993429B (it) * 1973-09-26 1975-09-30 Sgs Ates Componenti Perfezionamento di una cassa per dispositivo a semiconduttori
JPS54111766A (en) * 1978-02-22 1979-09-01 Hitachi Ltd Coupling construction of lead and heat sink in semiconductor device
US4224637A (en) * 1978-08-10 1980-09-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Leaded mounting and connector unit for an electronic device
JPS5619646A (en) * 1979-07-27 1981-02-24 Hitachi Ltd Resin sealing type semiconductor device
JPS5662344A (en) * 1979-10-26 1981-05-28 Hitachi Ltd Resin sealed semiconductor device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51137376A (en) * 1975-05-22 1976-11-27 Mitsubishi Electric Corp Manufacturing method for plastic seal type semi conductor
JPS5380969A (en) * 1976-12-27 1978-07-17 Hitachi Ltd Manufacture of resin shield type semiconductor device and lead frame used for the said process
JPS54159177A (en) * 1978-06-07 1979-12-15 Hitachi Ltd Resin sealed semiconductor device
JPS5563854A (en) * 1978-11-08 1980-05-14 Nec Kyushu Ltd Method of manufacturing semiconductor device
JPS5587468A (en) * 1978-12-25 1980-07-02 Nec Corp Lead frame
JPS5596663A (en) * 1979-01-16 1980-07-23 Nec Corp Method of fabricating semiconductor device
JPS55108755A (en) * 1979-02-14 1980-08-21 Nec Corp Resin seal type semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57188858A (en) 1982-11-19
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DE3267996D1 (en) 1986-01-30
EP0066188A1 (en) 1982-12-08

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