JPS6219539A - アセチレンの精製法およびそれに用いる装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアセチレンの精製法およびそれに用いる装置に
関する。

〔従来の技術〕

従来よりアセチレンがアセチレン熔接の分野や化学工業
における原料などとして使用されている。

アセチレン熔接の分野や化学工業における原料などとし
て使用されるアセチレンは、カーバイドや石油を原料と
して製造されており、製造直後の粗なカーバイドアセチ
レンや石油アセチレンから、人体に有害であったり溶接
用に用いたばあいに強度を低下させたりする”３　、Ｈ
２Ｓ　。

８Ｎ３　、　ＡＳ１３などや、化学反応の触媒筒となる
Ｏｔ、ＰＨａ　、Ｈ２Ｓなどを除去し、ＪＩＳ　Ｋ　１
９０１．１９０２に規定されているように、９８容泄％
以上の純度になるように精製されている。

たとえば、通常市販のカーバイドを原料にした溶解アセ
チレンのばあいには、アセチレンが９８．０〜９９．５
容量％含有されており、空気からの不純物である’２　
、Ｏｔ　％　Ａｒなどが主要不純物として混入し、この
他に原料に起因するＮＨ３、ＰＨ３、）＋２Ｓｓ　Ｈ２
、ＣＨ４などが不純物として混入している。溶解アセチ
レンのガス組成の大阪環境技術センターでの測定データ
の一例として、アセチレン９９．４５容１％、Ｈ２０，
０１容吊％、Ｎ２０．２８４４容量％、Ｏｔ　Ｏ，０７
５６容量％、ＣＯＯ１０１容量％未満、ＣＯ２０，０１
容昂％未満、ＣＨ４０，１３容量％なる結果が報告され
ている。

また、石油を原料にした市販の石油アセチレンのばあい
には、回収されたアセチレンは約９９，５容量％含有さ
れており、不純物として０２Ｈ４や００２などが含まれ
ている。

最近の技術進歩にともなってアセチレンを原料として新
規材料が製造されるようになってきている。

たとえば導電性有機物であるポリアセチレンや感光性有
機物であるアセチレン誘導体などの原料としてアセチレ
ンが利用されるようになってきている。またファインセ
ラミックスと称される機能材料としての高純度の炭化物
の炭素源として、あるいは太陽電池の窓側半導体として
多く用いられている太陽光の変換効率の高いａ−３ｉＣ
：Ｈを製造するばあいの原料として、反応性の高いアセ
チレンが利用されるようになってきている。

これらの新規材料に要求される特性をつるためには新規
材料の組成などが厳密に制御される必要があり、それら
の原料となるアセチレンにも高純度のものが要求される
ようになってきている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

新規材料の製造に用いるような精製アセチレンをうる方
法としては、液化チッ素浴でアセチレンを約−１５０℃
以下に冷却して固体アセチレンをつくり、気相弁を真空
引きして充分蒸気分を除去したのち蒸発させて精製アセ
チレンをうるという、小規模で研究用に適した方法があ
るが、圧力が１．４ｋＯ／　ｃｄ　−ａｂｓ、以上にな
ると分解爆発の危険性があり、工業用に必要な量を安全
かつ経済的に供給しうるものではない。

本発明は安全かつ工業的に必要なｌのＩＩアセチレンを
うろことを目的としてなされたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、アセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレン
を吸収させ、温度差による溶解量の差を利用して回分的
または連続的に放散・回収し、精製アセチレンを製造す
る際に、溶剤温度−２０〜−８１，８℃でアセチレンを
吸収させたのち一１０〜＋２０℃に昇温し、放散したア
セチレンを−５０〜−８１．８℃に再冷却して溶剤など
を凝縮させ、さらに多孔質物質充填部を通すことによっ
て吸着により共存する溶剤などを除去することを特徴と
するアセチレンの精製法、および−２０〜−８１，８℃
でアセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレンを吸収せ
しめるアセチレン吸収塔、アセチレンを選択吸収する溶
剤に吸収せしめたアセチレンを一１０〜＋２０℃で放散
せしめるアセチレン放散塔、放散せしめられたアセチレ
ンを−５０〜−８１，８℃に再冷却する冷却塔および冷
却せしめられたアセチレン中の不純物を除去するための
多孔質物質を充填した吸着塔からなり、アセチレン吸収
塔内のアセチレンを吸収した前記溶剤をアセチレン放散
塔に送るための手段およびアセチレン放散塔でアセチレ
ンを放散した前記溶剤をアセチレン放散塔からアセチレ
ン吸収塔にもどすための手段が設けられていることを特
徴とするアセチレン精製装置に関する。

〔実施例〕

本発明においては、アセチレンを選択吸収する溶剤（以
下、アセチレン吸収溶剤という）にアセチレンを吸収さ
せ、温度差による溶解量の差を利用して回分的または連
続的に放散せしめることにより精製アセチレンが取得さ
れる。

アセチレン吸収溶剤に吸収せしめられるアセチレンとは
、カーバイドや石油を分解して製造した粗なアセチレン
であってもよ＜、ＰＨ３、Ｈ２Ｓ　１ＮＨ３、ＡＳＨ３
などを除去してＪＩＳに１９０１．１９０２の規定に適
合するように精製したアセチレンでもよく、アセチレン
を運搬などする際にその分解爆発の危険性を低下せしめ
るために多孔質物質を溶剤に浸漬含浸させたものを入れ
た容器に溶解させた溶解アセチレンでもよく、その純度
、原料などによって限定されるものではない。しかし、
精製アセチレンを効率よくえられるという観点からする
と、カーバイドアセチレンのばあいには特許第２０３６
２２号明細書などのアセチレンの液体式精製法（通称「
エキセイ」という装置を用いた方法）により前処理した
ものであることが好ましい。

本明細書にいう精製アセチレンとは、合計不純物層が１
００ｐｐＩ１１以下のアセチレーンを意味し、たとえば
Ｈａ　０．５ｐｐｍ以下、ｏｔ　　１．０−２．５ｐｐ
ｍ　。

Ｎ２１．０〜２．５ｐｐｍ　、　ＣＯ０，５Ｄｐｍ以下
、ＣＯ２１，０ｐｐｍ以下、ＰＨ３、ＡＳＨ３および溶
剤はいずれも検出されず（０，ｌｐｐｍ検出限界）のご
とき組成のものである。

前記アセチレンを溶剤に吸収させる際の温度としては、
溶解量および溶解速度を増加させ、かつアセチレンを液
化させない（アセチレンのの液化温度−８１，８℃、７
６０ｍｍＨｇ）で経済的に吸収させるという点から−２
０〜−８１，８℃であることが必要であり、なかんずく
−４０〜−６０℃であることが好ましい。また吸収させ
る温度が一２０℃をこえるばあいには、えられるアセチ
レン純度が９９，９容量％程度のものしかえられなくな
る。

また前記−アセチレンを溶剤に吸収させる際の圧力とし
ては、溶剤と共存するときのアセチレンの分解爆発の危
険性の少ない７．０Ｋｇ　／　ｃｄ・ａｂｓ、以下であ
ればとくに限定はないが、アセチレンの供給源によりお
のずからその範囲はきまる。たとえばカーバイドアセチ
レンや石油アセチレンのばあいには１．０２〜１．５ｋ
（１／　ｃｄ−ａｂｓ。

程度、溶解アセチレンのばあいには１．２〜１．５ｋＬ
’　ｃｄ　−ａｂｓ、程度に圧力調整器で減圧して使用
するのが一般的である。

アセチレン吸収溶剤は前記のごとき条件下で液体として
存在し、アセチレンを選択吸収し、−１０〜＋２０℃好
ましくは一５〜＋５℃でアセチレンを放散してアセチレ
ンをＷｉ製することができ、アセチレンと反応したりす
ることのない溶剤であればとくに限定はない。このよう
な溶剤の具体例としては、アセチレンの選択吸収性の高
いアセトン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＨＦ）
、トメチルピロリドンなどがあげられ、これらは単独で
用いてもよく、２種以上併用してもよい。

なお前記アセチレンを選択吸収するとは、不純物として
存在するＣｈｓ　　Ｎ２　、Ｃ０１Ｈ２などとアセチレ
ンとの溶解度に著しい差があること、たとえばＤＨＦに
ついては第１表に示すように溶解度に著しい差があるこ
とを意味し、アセチレンを放散するとは、吸収されたア
セチレンのうちの少なくとも溶剤１ｐ当りアセチレンを
標準状態で約７０ｐ以上を一１０〜＋２０℃で放散する
ことを意味する。なおりＨＦ１ｊｌ当り　−４０℃で標
準状態で約２３８４１、−６０℃で標準状態で約３８２
ｐ程度のアセチレンが吸収される。

［以下余白］ 第　　１　　表 １気圧下でのＤＨＦに対する各種ガスの溶解性カタログ
記載のデータ 溶剤に吸収されたアセチレンが放散される温度が一１０
〜＋２０℃のばあいには、吸収時との温度差による溶解
度差が大きいため、回収効率が高く、経済的に好ましい
。とくに熱エネルギー効率の点からは一１０〜θ℃程度
が好ましく、ア。

セチレンの精［１の点からはＯ〜＋１０℃が好ましい。

また放散時のアセチレンの圧力は、純粋なアセチレンの
みで取扱うばあいには空気を吸込まず、かつまちがって
点火可能なエネルギーが加わっても分解が伝播しない１
．０〜１．２ｋｏ／　ｃｄ・ａｂｓ、であることが好ま
しい。

このよう−にして精製されたアセチレンには精製に用い
た溶剤などが混入しているため、アセチレンが液化せず
、しかも共存する溶剤などの蒸気の含有量をできるだけ
低下させるために−５０〜−８１，８℃に冷却させ、溶
剤やその凝縮物を吸着除去するために多孔質物質充填部
を通過させられる。

前記多孔質物質充填部とは、活性炭、モレキュラーシー
ブ、シリカゲルなどから形成された孔径が５人程度で４
〜１４メツシュ程度の多孔体を、たとえば円筒形の筒に
入れた通常の冷却可能な充填塔に入れたようなものであ
る。

多孔質物質充填部に通すアセチレンの量や滞留時間など
は目的とするアセチレンの純度や精製効率などを考慮し
て適宜選択すればよいが、通常使用されるのは多孔質吸
着剤単位容積当り、吸着ガス容積が１時間当り１０，０
００倍以下が適当である。

このような方法により、たとえば９８〜９９．５容量％
のアセチレンを９９．９９〜９９．９９９９容］％程度
まで精製することができる。

精製したアセチレンはそのまま使用されたり、ボンベな
どに充填されたり、さらには一層端製するため再度本発
明の方法を適用して、従来えられなかった９７　（セブ
ンナイン）以上というような精製アセチレンをうること
ができる。

本発明の方法は、第２図に示すように同一の槽中でアセ
チレンの吸収および放散を行なわしむる回分的方法であ
ってもよく、また第１図に示すように１つの槽中でアセ
チレンの吸収を行なわしめ、アセチレンを吸収した溶剤
を連続的に他の槽に移し、該他の槽でアセチレンの放散
を行なわしむる連続的な方法であってもよい。

つぎに本発明の方法を第１図にもとづき説明する。

（吸収工程） １　冷却槽（６）でアセチレン吸収塔（１）内のアセチ
レン吸収溶剤（ａを−２０〜−８１，８℃に冷却し、ア
セチレン吸収塔（１）内のアセチレン吸収溶剤（２１に
アセチレンを吸収させる。またアセチレンが吸収される
ときに発熱するため、冷却槽（６）はこの熱を除去し、
アセチレン吸収溶剤（２）の温度を−２０〜−８１，８
℃の所定の温度に保つようにする。

アセチレンの吸込みはアセチレン吸収塔（１）の底に近
い部分で行ない、アセチレンはアセチレン吸収溶剤（２
）の中を上昇する際に吸収される。

２　アセチレン吸収溶剤（２）として、とくにアセチレ
ンを溶解するものが使用され、混入している０２、Ｎ２
　、Ｃｏ、Ｎ２などの不純物ガスの多くはアセチレン吸
収溶剤（２）に吸収されずアセチレン吸収塔（１）の上
部にたまる。これは、一部のアセチレンとともに排出弁
（１１）の操作により排出口（１０）より排出される。

３　アセチレン吸収溶剤（２の冷却は、冷却槽（６）に
メタノールにドライアイスを加えるとか、液化窒素をエ
チレングリコール水溶液に滴下するなどして冷却した低
温液をつくり、アセチレン吸収塔（１）の壁を介して冷
却してもよく、またアセチレン吸収塔（１）内に冷却管
を設置して、これに上述の低温液を通して冷却してもよ
い。

４−２０〜−８１．８℃においてアセチレンを充分吸収
溶解したアセチレン吸収溶剤（２はアセチレン吸収塔（
１）の上部気相に存在する不純物ガスが混入しないよう
に、たとえばアセチレン吸収溶剤（２の液中の下部まで
達している配管および定員ポンプ（９）よりなる手段、
あるいは前記配管および流量調整弁を用い、アセチレン
吸収塔（１）内の圧力〉アセチレン放散塔（３）内の圧
力になるようにした手段などを用い、アセチレン放散塔
（３）内に移送される。

（放散工程） １　アセチレン放散塔（３）に移送されたアセチレン吸
収溶剤（２１は一１０〜＋２０℃程度の範囲まで加温さ
れ、この温度差により生ずるアセチレンの溶解度差の分
に当るアセチレンがアセチレン吸収溶剤（２Ｊから放散
せしめられる。

２　前記加温の１部は、アセチレン吸収塔（１）からア
セチレン放散塔（３）内に導入された−２０〜−８１．
８℃のアセチレン吸収溶剤とアセチレン放散塔（３）の
底部液溜部で一１０〜＋２０℃となりアセチレンを放散
したものから定量ポンプ（８）により吸い上げられたア
セチレン吸収塔へもどされるアセチレン吸収溶剤とをア
セチレン放散塔（３）内の上部に熱交換部を設け、要す
れば充填材などを併用して熱交換させるようにすると熱
効率の点から好ましい。

３　アセチレン吸収溶剤からのアセチレンの放散は徐々
に定常的に行なうのが内部圧力の上昇を抑え、安全性の
点から重要であるとともに、熱経済上効率がよい。この
熱交換はアセチレン放散塔（３）内で行なわれ、アセチ
レン吸収溶剤（ａの温度上昇により放散されるアセチレ
ンは、冷却塔（４）、吸着塔（５１を経由して回収され
る。

４　好ましくはアセチレンの放散塔内の上部に設けられ
た熱交換部を経由して底部にためられたアセチレン吸収
溶剤には、要すれば１０％エチレングリコール液などの
凍結しない液を加熱用熱交換器（１５）に通して熱交換
し、−１０〜＋２０℃の所定の温度まで昇温し、アセチ
レンを放散させる。

５　アセチレン放散塔（３）の液溜部の底部にまで達す
る配管から１部のアセチレン吸収溶剤を定量ポンプ（８
）により吸い上げ、好ましくは前記熱交換部を経由して
アセチレン吸収塔（１）の上部、好ましくは充填物を充
填して冷却効率をよくした上部に導入し、アセチレン吸
収塔（１）内のアセチレン吸収溶剤（２Ｊの量を一定に
保ち、継続して吸収工程、放散工程が行なえるようにす
る。

（溶剤蒸気等除去工程） アセチレン放散塔（３）で放散せしめられたアセチレン
には溶剤蒸気などが約３０〜１８０ｐｐｍ含まれている
ため、該アセチレンを冷却槽（刀で−５０〜−８１，８
℃に冷却中の冷却塔（４）、好ましくはシリカゲルある
いはＳｕＳの細線などを充填して冷却効率をよくした冷
却塔（４）に導き、含まれている溶剤蒸気などの除去が
はかられる。さらにアセチレン中の溶剤蒸気などの除去
をさらに完全にするため、活性炭、モレキュラーシーブ
、シリカゲルなどの多孔質物質を充填した−５０〜−８
１．８℃に冷却せしめられた吸着塔（５）を通される。

冷却塔（４）や吸着塔（Ｓは２組並列に設け、切換つる
ようにするのが好ましい。

前記のような操作によりアセチレン吸収溶剤１ｊ！当り
標準状態で約５５〜６５０ｐのアセチレンを精製するこ
とができる。

えられたアセチレンは９９．９９〜９９．９９９９容量
％の精製アセチレンである。

前記冷却塔、吸着塔としては、−５０〜−８１，８℃に
効率よく冷却することができ、ガス中の溶剤蒸気を捕集
することができるものであればとくに限定はなく、たと
えばエチレングリコールあるいはメタノールにドライア
イスあるいは液体窒素を滴下するなどの方法により冷却
される。

上記説明においては、連続法による精製アセチレンの製
法についてのべたが、第２図に示すような回分式の装置
を用いても同様にして高純度アセチレンが製造される。

第２図に示すような装置を用いたばあいには、温度調節
管（１３）によりアセチレン吸収分離塔（１２）内のア
セチレン吸収溶剤（ａを冷却してアセチレンを吸収せし
めたのち、あるいは吸収せしめながらアセチレン吸収溶
剤上の不純物ガスおよびアセチレンをバルブ（１１）の
操作により排出口（１０）から排出し、さらに真空ポン
プ（１４）により排気し、気相中の不純物ガスを除去す
る。ついで温度調節管（１３）によりアセチレンを吸収
させたアセチレン吸収溶剤の温度を上昇せしめ、放散し
たアセチレンを冷却塔（４１および吸着塔（５）を通す
ことにより精製アセチレンがえられる。

つぎに本発明の方法および装置を実施例にもとづき説明
する。

実施例１ 第１図に示すごとき装置を用いた。

アセチレン吸収塔は直径１０α、高さ５ＧＣＩｉ、内容
積３９２５α３の円筒状のステンレススチール製の塔で
、アセチレン吹込みラインの開口、アセチレン放散塔か
らアセチレン吸収溶剤をもどすラインの開口およびアセ
チレン放散塔へアセチレン吸収溶剤を送るラインの開口
がそれぞれ底から　１１：ＩＩ、４９αおよび１αのと
ころにあった。

またアセチレン放散塔は直径１０Ｇ、高さ５０１、内容
積３９２５ｚ３の円筒状のステンレススチール製の塔で
、アセチレン吸収塔からアセチレン吸収溶剤を送るライ
ンの間口およびアセチレン吸収塔へアセチレン吸収溶剤
をもどすラインの開口がそれぞれ底から４９ＯＲおよび
１αのところにあった。さらに冷却塔は直径２．Ｓ、、
、古さ５０　Ｃｒｔｒの円筒状のものの内部にシリカゲ
ルを充填したステンレススチール製の塔で、吸着塔は直
径２．５α、高さ５Ｑｃ、の円筒状のものの内部に活性
炭を充填したステンレススチール製の塔であった。

アセチレン吸収塔およびアセチレン放散塔にアセチレン
吸収溶剤であるＤＨＦをそれぞれ５００ｄ入れて圧力０
．５ｋ（１／Ｃｊ　Ｇ、流量５００Ｊ　／ｈｒテアセチ
レンを吹込み、５０分後アセチレン吸収塔内圧〉アセチ
レン放散塔内圧になり定常的になったのでアセチレン吸
収塔からアセチレン放散塔へアセチレンを吸収した溶剤
が微量流量調整弁を通って５５ｄ／ｇｉｎづつ定量的に
流れるように弁を開いた。またアセチレン放散塔からア
セチレン吸収塔にアセチレンを放散したアセチレン吸収
溶剤が４０ａｅ／ｗｉｎづつ定量ポンプによりもどるよ
うにした。

アセチレン吸収塔の冷却は冷却槽（６）の冷媒を一６０
℃に冷し、溶解アセチレン容器中のアセチレンをｏ１ｋ
ｇ／ｃＩｉＧに減圧し、５００Ｍ／ｈｒの割合で吸収さ
せたばあいにアセチレン吸収塔の上部液で約−５０℃に
なるように冷却した。

アセチレンの溶解速度は非常に速く、最初の約５０分は
ほぼすべてのアセチレンが溶解し、アセチレン吸収塔の
内圧が０．２ｋａ／７Ｇになるように排出弁（１１）を
調整し、昇圧した余分なガスは積算流量計を通して大気
中へ放出した。

アセチレン放散塔に送られた約−５０℃のアセチレン吸
収溶剤は、咳塔の上部からアセチレン吸収塔にもどす際
の温度が約Ｏ℃になるようにアセチレン放散塔内にメタ
ノール１０％水溶液（液温的１５℃）を流して加温し、
その際放散したアセチレンを冷媒としてメタノールにド
ライアイスを加えて一７５℃に冷却した冷却塔に送り、
含有されている溶剤蒸気などを凝縮除去し、さらに吸着
塔を通して精製アセチレンをえた。

えられた精製アセチレンは、島津ＧＣＱＡ型ガスクロマ
トグラフＴＣＤおよびＦＩＤ自動切換検出器を用いた分
析の結果、検出′限界３．０ｐｐｍにおいてＮ２３ｐｐ
ｍ以下、ｏ２２ｐｐｍ以下、ＣＯ２３ｐＤ−以下でＣＯ
は検出されず、検出限界１．０ｐｐｍにおいてＰＨ３、
ＨａＳ　、　ＡｓＨ，が検出サレない純度９９．９９９
Ｘの精製アセチレンであった。

なお定常状態に達したのちのアセチレン精製量は４２５
４１　／　ｈｒ　（ＥｊＡ準状！ｌりであり、原料アセ
チレンに対する収率は８５％であった。

実施例２ 第２図に示すごとき装置を用いた。

アセチレン吸収放散塔は直径１０ｃ１１、高さ５０ｃＩ
Ｒ１内容積３９２５．３の円筒状のステンレススチール
製の塔で、アセチレン吸収溶剤の入る部分には温度調節
管が取付けられており、アセチレン吹込みラインの開口
はアセチレン吸収放散塔の底から１０の位置にあった。

また冷却塔および吸着塔として直径２．５１、高さ３０
ｃＩｉの円筒状のものの内部に活性炭を充填したステン
レススチール製の塔を２段直列に接続したものを用いた
。

アセチレン吸収放散塔にアセチレン吸収溶剤であるＤＨ
Ｆを１１入れて、冷媒を用いて［ｌＨＦを一５０℃にな
るように冷Ｗしながら、ＮＨ３、Ｈ２Ｓ　。

ＰＨ３、ＡｓＨ３などを前記「エキセイ」を通した前処
理によって除去した溶解アセチレンを圧力０．５ｋｇ／
ｄ　ａで流ｆｆｉ　３００４１　／ｈｒで吹込んだ。こ
のときアセチレン吸収放散塔内の気相の圧力を０．２に
！Ｉｔ／ＣｉＧに保持するようにパルプ（１１）を調整
して、昇圧した余分なガスを積算流量計を通して大気中
へ放出した。

約１時間アセチレンを吹込むとアセチレン吸収溶剤はほ
ぼ飽和した。アセチレン吸収放散塔の気相部にはアセチ
レン吸収剤に吸収されに≦いアセチレン中の不純物ガス
が多くたまっているため、これを除去するためにアセチ
レン吸収溶剤を約−６０℃までさらに冷却したのち真空
ポンプ（１４）を用いて１０−Ｉ　Ｔｏｒｒになるまで
真空引きした。ひきつづき高純度Ａｒの注入および頁空
引きを１０回になるまで繰返し、気相の不純物ガスを排
気した。そののちアセチレン吸収溶剤を温度調節管を空
にして徐々に昇温しで溶解しているアセチレンを放散さ
せた。

放散によりえられたアセチレンをメタノールにドライア
イスを加えて冷媒とした冷却槽を用いて約−７５℃に冷
却した２段の吸着塔を通して精製アセチレンをえた。

えられた精製アセチレンは、島津ＧＣＱＡ型ガスクＯマ
ドグラフＴＣＤおよびＦＩＤ自動切換分析器を用いた分
析の結果、検出限界３ｐｐｍにおいて’２　％　Ｏｌ　
ｓ　ＣＯ２、Ｈ２はいずれも３ｐｐｍ未満、検出限界ｌ
ｐｐｍにおいてＣ０１ＰＨ３、ＮＨ３、ＡＳＨ３、Ｈ２
Ｓは検出されない純度９９．９９９％のへ純度アセチレ
ンであった。

なおアセチレンの精製量は２時間を要する１バッチ当り
　１８ＯＮ　　（標準状態）であり、原料アセチレンに
対する収率は約６０％であった。

〔発明の効果〕

本発明の方法によると従来研究室規模でしかえられなか
った高純度のアセチレンのみならず、従来えられていな
かった９７以上のアセチレンをも工業的規模で経済的に
うろことができる。

また本発明の方法では溶解アセチレンのごとき市販のア
セチレンを原料として使用することができるため、高純
度アセチレンを使用する場所に本発明の装置を設置し、
本発明の方法により高純度アセチレンを製造すると、輸
送比の低減をはかりつる、ボンベ詰などのばあいに生ず
る純度の低下を防止しうる、必要な量のアセチレンを精
製して使用しうるなどの効果がえられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法に用いる本発明の装置の一実施例
態様に関する説明図、第２図は本発明の方法に用いる装
置の他の実施Ｓ様に関する説明図である。 （図面の主要符号） （１）：アセチレン吸収塔 （２）：アセチレン吸収溶剤 （３）：アセチレン放散塔 （４）：冷　却　塔 （Ｓ：吸　着　塔

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　アセチレンを選択吸収する溶剤にアセチレンを吸収
   させ、温度差による溶解量の差を利用して回分的または
   連続的に放散・回収し、精製アセチレンを製造する際に
   、溶剤温度 −２０〜−８１．８℃でアセチレンを吸収させたのち−
   １０〜＋２０℃に昇温し、放散したアセチレンを−５０
   〜−８１．８℃に再冷却し、さらに多孔質物質充填部を
   通すことを特徴とするアセチレンの精製法。 ２　前記溶剤がアセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
   ド、Ｎ−メチルピロリドンまたはこれらの混合物である
   特許請求の範囲第１項記載の精製法。 ３　前記吸収時のアセチレンの圧力が０．１〜７．０Ｋ
   ｇ／ｃｍ＾２・ａｂｓ．である特許請求の範囲第１項記
   載の精製法。 ４　前記放散時のアセチレンの圧力が０．１〜１．４ｋ
   ｇ／ｃｍ＾２・ａｂｓ．である特許請求の範囲第１項記
   載の精製法。 ５　前記多孔質物質が活性炭、モレキユラーシーブまた
   はシリカゲルである特許請求の範囲第１項記載の精製法
   。 ６　−２０〜−８１．８℃でアセチレンを選択吸収する
   溶剤にアセチレンを吸収せしめるアセチレン吸収塔、ア
   セチレンを選択吸収する溶剤に吸収せしめたアセチレン
   を−１０〜＋２０℃で放散せしめるアセチレン放散塔、
   放散せしめられたアセチレンを−５０〜−８１．８℃に
   再冷却する冷却塔および冷却せしめられたアセチレン中
   の不純物を除去するための多孔質物質を充填した吸着塔
   からなり、アセチレン吸収塔内のアセチレンを吸収した
   前記溶剤をアセチレン放散塔に送るための手段およびア
   セチレン放散塔でアセチレンを放散した前記溶剤をアセ
   チレン放散塔からアセチレン吸収塔にもどすための手段
   が設けられていることを特徴とするアセチレン精製装置
   。