JPH0228539A - 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 - Google Patents
原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物Info
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- JPH0228539A JPH0228539A JP17798788A JP17798788A JPH0228539A JP H0228539 A JPH0228539 A JP H0228539A JP 17798788 A JP17798788 A JP 17798788A JP 17798788 A JP17798788 A JP 17798788A JP H0228539 A JPH0228539 A JP H0228539A
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Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、原子吸光、原子発光分析を、高感度、かつ、
高精度で行うことのできる高純度アセチレンガス組成物
に関するものである。
高精度で行うことのできる高純度アセチレンガス組成物
に関するものである。
〔従来の技術及び発明が解決すべき課題〕従来、溶解ア
セチレン（容器に多孔質充填剤を充填し、これに例えば
アセトン等のアセチレンガスの吸収能力の高い溶剤を含
浸させてアセチレンガスを溶解させたもの）は、溶接及
び溶断を主なる目的として製造されており、本発明者ら
の測定によれば、溶解アセチレンより放出されるアセチ
レンガスはその純度が９６，０％以下であり、アセチレ
ンガス中のリン化合物が１０ｐｐｍ以上、硫化物が２５
０ｐｐｍ以上、炭素数３以上の炭化水素が６００ｐｐｍ
以上であり、しかも、これら不純物濃度は、アセチレン
ガスの放出に伴い経時変化することが判明した。又、ア
セトンＧ、１ｍ 関シＴ ハ、「高圧Ｊｆ ス、ＶＯ，
Ｌ、１７． Ｎｏ、１０ 。
セチレン（容器に多孔質充填剤を充填し、これに例えば
アセトン等のアセチレンガスの吸収能力の高い溶剤を含
浸させてアセチレンガスを溶解させたもの）は、溶接及
び溶断を主なる目的として製造されており、本発明者ら
の測定によれば、溶解アセチレンより放出されるアセチ
レンガスはその純度が９６，０％以下であり、アセチレ
ンガス中のリン化合物が１０ｐｐｍ以上、硫化物が２５
０ｐｐｍ以上、炭素数３以上の炭化水素が６００ｐｐｍ
以上であり、しかも、これら不純物濃度は、アセチレン
ガスの放出に伴い経時変化することが判明した。又、ア
セトンＧ、１ｍ 関シＴ ハ、「高圧Ｊｆ ス、ＶＯ，
Ｌ、１７． Ｎｏ、１０ 。
（１９８０） ： ５０１−５０３Ｐ、 Ｊに記載され
ているごとく、アセトン浸潤多孔物質を内蔵する容器に
充填された溶解アセチレンより放出されるアセチレンガ
ス中のアセトン蒸気含有量は、容器の残圧が低くなると
１０％以上にも達することが知られている。
ているごとく、アセトン浸潤多孔物質を内蔵する容器に
充填された溶解アセチレンより放出されるアセチレンガ
ス中のアセトン蒸気含有量は、容器の残圧が低くなると
１０％以上にも達することが知られている。
溶接及び溶断用として使用する場合、従来の溶解アセチ
レンでも使用できたが、原子吸光、原子発光分析に用い
た場合、アセチレンガス中に含まれる不純物の影響によ
り、分析感度及び分析精度が悪化すると同時に分析デー
タの再現性に問題があった。
レンでも使用できたが、原子吸光、原子発光分析に用い
た場合、アセチレンガス中に含まれる不純物の影響によ
り、分析感度及び分析精度が悪化すると同時に分析デー
タの再現性に問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、原子吸光
、原子発光分析における信号の抑制現象のない、高感度
かつ高精度な分析を行うことのできる高純度アセチレン
ガスを提供することを目的とするものである。
、原子発光分析における信号の抑制現象のない、高感度
かつ高精度な分析を行うことのできる高純度アセチレン
ガスを提供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記の問題を解決する方法について鋭意
検討した結果、リン化合物がｉ ｐｐｍ以下、硫化物が
１０ｐｐｍ以下、炭素数３以上の炭化水素が１００ｐｐ
ｍ以下であり、かつ、アセチレンガス純度が９９．０％
以下であるアセチレンガスを原子吸光、原子発光分析に
使用することにより、被測定物である金属元素の分析感
度及び分析精度を向上できることを見出し、本発明を完
成した。本発明の目的に必要とするアセチレンガスは、
粗アセチレンガスを固体清浄剤、Ａ型ゼオライト、活性
炭で処理し、Ｎ−Ｎ’ジメチルホルムアミド（以下ＤＭ
Ｆと略す）浸潤多孔物質を内蔵する容器に充填した後、
一部放出することにより容易に得られる。
検討した結果、リン化合物がｉ ｐｐｍ以下、硫化物が
１０ｐｐｍ以下、炭素数３以上の炭化水素が１００ｐｐ
ｍ以下であり、かつ、アセチレンガス純度が９９．０％
以下であるアセチレンガスを原子吸光、原子発光分析に
使用することにより、被測定物である金属元素の分析感
度及び分析精度を向上できることを見出し、本発明を完
成した。本発明の目的に必要とするアセチレンガスは、
粗アセチレンガスを固体清浄剤、Ａ型ゼオライト、活性
炭で処理し、Ｎ−Ｎ’ジメチルホルムアミド（以下ＤＭ
Ｆと略す）浸潤多孔物質を内蔵する容器に充填した後、
一部放出することにより容易に得られる。
以下、本発明の内容について詳細な説明を行う。
原子吸光、原子発光分析に使用するアセチレンガスは、
溶解アセチレンから放出されるアセチレンガス中の不純
物濃度が、リン化合物が１ｐｐｍ以下、好ましくは０．
１ｐｐｍ以下、硫化物が１０ｐｐｍ以下、好ましくは”
＋ ｐｐｍ以下、炭素数３以上の炭化水素が１１００ｐ
ｐ以下、好ましくは５０ｐｐｍ以下であり、アセチレン
ガス純度は９９．０％以上、好ましくは９９．５％以上
であることが必要である。
溶解アセチレンから放出されるアセチレンガス中の不純
物濃度が、リン化合物が１ｐｐｍ以下、好ましくは０．
１ｐｐｍ以下、硫化物が１０ｐｐｍ以下、好ましくは”
＋ ｐｐｍ以下、炭素数３以上の炭化水素が１１００ｐ
ｐ以下、好ましくは５０ｐｐｍ以下であり、アセチレン
ガス純度は９９．０％以上、好ましくは９９．５％以上
であることが必要である。
このアセチレンガスを原子吸光、原子発光分析に使用す
ることにより、信号の抑制現象が認められず、又、信号
強度の経時変化がなく、全金属元素に対して、高感度か
つ高精度な分析が可能となるが、特にカルシウム、スト
ロンチウム、リチウム、カリウム、ナトリウム、モリブ
デンに対して有効である。アセチレンガス中の不純物が
、上記記載の濃度より多いとリン化合物では原子信号の
抑制現象があり、分析感度が低下し、又、硫化物及び炭
素数３以上の炭化水素では信号ノイズが大きくなり、分
析精度が低下する。アセチレンガス純度に関しては、上
記記載の純度より低いと、原子信号の抑制現象が認めら
れ、又、溶解アセチレンからのアセチレンガス放出に伴
う経時変化が急激であることから、データの再現性が問
題となる。本発明の原子吸光、原子発光分析に使用され
る純度の高い溶解アセチレンは、粗アセチレンガス中の
リン化水素、硫化水素を固体清浄剤を用いて酸化固定除
去した侵、Ａ型ゼオライト、活性炭を用いて、水分、硫
化水素以外の硫化物、炭素数３以上の炭化水素類を吸着
除去する。この処理されたガスをＤＭＦ浸潤多孔物質を
内蔵する容器に充填した後、充填ガス最の５〜２０％、
好ましくは１０〜１５％量を放出することにより、酸素
、窒素及びメタンを低減させることができる。放出ｍが
上記割合より少ないと十分な純度が得られず、又、上記
割合より多いとアセチレンガス中の酸素、窒素及びメタ
ンの含有量の少ない溶解アセチレンが得られるが、充填
アセチレン量の損失が多くなり、経済上好ましくない。
ることにより、信号の抑制現象が認められず、又、信号
強度の経時変化がなく、全金属元素に対して、高感度か
つ高精度な分析が可能となるが、特にカルシウム、スト
ロンチウム、リチウム、カリウム、ナトリウム、モリブ
デンに対して有効である。アセチレンガス中の不純物が
、上記記載の濃度より多いとリン化合物では原子信号の
抑制現象があり、分析感度が低下し、又、硫化物及び炭
素数３以上の炭化水素では信号ノイズが大きくなり、分
析精度が低下する。アセチレンガス純度に関しては、上
記記載の純度より低いと、原子信号の抑制現象が認めら
れ、又、溶解アセチレンからのアセチレンガス放出に伴
う経時変化が急激であることから、データの再現性が問
題となる。本発明の原子吸光、原子発光分析に使用され
る純度の高い溶解アセチレンは、粗アセチレンガス中の
リン化水素、硫化水素を固体清浄剤を用いて酸化固定除
去した侵、Ａ型ゼオライト、活性炭を用いて、水分、硫
化水素以外の硫化物、炭素数３以上の炭化水素類を吸着
除去する。この処理されたガスをＤＭＦ浸潤多孔物質を
内蔵する容器に充填した後、充填ガス最の５〜２０％、
好ましくは１０〜１５％量を放出することにより、酸素
、窒素及びメタンを低減させることができる。放出ｍが
上記割合より少ないと十分な純度が得られず、又、上記
割合より多いとアセチレンガス中の酸素、窒素及びメタ
ンの含有量の少ない溶解アセチレンが得られるが、充填
アセチレン量の損失が多くなり、経済上好ましくない。
アセチレンガス放出は、特に規定するものではないが、
容器充填後、２４時間以上、好ましくは４８時間以上静
置後行うのが、効率的に酸素、窒素及びメタンを低減さ
せることができるので、経済上の観点から好ましい。
容器充填後、２４時間以上、好ましくは４８時間以上静
置後行うのが、効率的に酸素、窒素及びメタンを低減さ
せることができるので、経済上の観点から好ましい。
上記処理を施した溶解アセチレンは、アセチレンガス放
出に伴う不純物の経時変化が、従来の溶解アセチレンに
比較して著しく小さく、原子吸光、原子発光分析に使用
しても原子信号の抑制がなく、又、経時変化がないこと
から分析データの再現性が向上する。
出に伴う不純物の経時変化が、従来の溶解アセチレンに
比較して著しく小さく、原子吸光、原子発光分析に使用
しても原子信号の抑制がなく、又、経時変化がないこと
から分析データの再現性が向上する。
使用される清浄剤は各種市販品のいずれを用いても良い
が、使用に当たっては、空気中で十分に賦活処理を施す
ことが必要である。
が、使用に当たっては、空気中で十分に賦活処理を施す
ことが必要である。
Ａ型ビオライトは３Ａ型、４Ａ型、５Ａ型のいずれを用
いても良いが、吸着力の点から５Ａ型が望ましく、使用
に当たっては、不活性ガス雰囲気、または真空中で２５
０〜４００”Ｃ，好ましくは３００〜３５０℃で賦活処
理を施すことが望ましい。処理温度が上記より低い場合
は十分な吸着力が得られず、又、高い場合は吸着剤の劣
化が起き、好ましくない。
いても良いが、吸着力の点から５Ａ型が望ましく、使用
に当たっては、不活性ガス雰囲気、または真空中で２５
０〜４００”Ｃ，好ましくは３００〜３５０℃で賦活処
理を施すことが望ましい。処理温度が上記より低い場合
は十分な吸着力が得られず、又、高い場合は吸着剤の劣
化が起き、好ましくない。
活性炭は、粒状活性炭が圧力損失など操作上好ましい。
使用に当たっては、ゼオライトの場合と同じく、同雰囲
気中２００〜３５０℃、好ましくは２５０〜３００℃で
賦活処理を施すことが望ましい。
気中２００〜３５０℃、好ましくは２５０〜３００℃で
賦活処理を施すことが望ましい。
（実施例）
固体清浄剤１１００９を大気中で４時間毎に１２回撹拌
して賦活処理した俊、直径２インチ、長ざ１ＴｒＬのス
テンレス製管に充填した。
して賦活処理した俊、直径２インチ、長ざ１ＴｒＬのス
テンレス製管に充填した。
５Ａ型ゼオライトは上記と同仕様の管に１４００９充填
した後、窒素ガスを毎分０．５Ｎ１流しながら、３５０
℃で６時間、又、粒状活性炭は上記と同仕様の管に１０
００ｇ充填し、３００℃で同様に賦活処理を施した。
した後、窒素ガスを毎分０．５Ｎ１流しながら、３５０
℃で６時間、又、粒状活性炭は上記と同仕様の管に１０
００ｇ充填し、３００℃で同様に賦活処理を施した。
上記各充填処理管３本を直列に配して、表−１の組成の
粗アセチレンガスを操作温度２０℃で毎分５Ｎ１処理し
た後、ＤＭＦ浸潤多孔物質を内蔵する容器に６００ＯＮ
、ｅ充填した。上記充填容器を４８時間静置し、６０
ＯＮＪｌ放出俊のアセチレンガス・の組成を表−２に示
す。
粗アセチレンガスを操作温度２０℃で毎分５Ｎ１処理し
た後、ＤＭＦ浸潤多孔物質を内蔵する容器に６００ＯＮ
、ｅ充填した。上記充填容器を４８時間静置し、６０
ＯＮＪｌ放出俊のアセチレンガス・の組成を表−２に示
す。
尚、アセチレンガス純度はガスクロマトグラフ（ＴＣＤ
検出器）で、炭化水素類はガスクロマトグラフ（ＦＩＤ
検出器）で、リン化合物、硫化物はガスクロマトグラフ
（ＦＰＤ検出器）で測定した。
検出器）で、炭化水素類はガスクロマトグラフ（ＦＩＤ
検出器）で、リン化合物、硫化物はガスクロマトグラフ
（ＦＰＤ検出器）で測定した。
このようにして得られた高純度溶解アセチレンを用いて
カルシウム、ストロンチウム、モリブデンの原子吸光分
析及びカルシウム、ストロンチウム、リチウム、カリウ
ム、ナトリウムの原子発光分析を行ったところ、純度９
９．９９９９％のアセチレンガス（東邦アセチレン■製
の超高純度アセチレン）を用いて測定したときの各元素
の原子吸光及び原子発光信号強度と何ら相違ない信号強
度を得ることができた。
カルシウム、ストロンチウム、モリブデンの原子吸光分
析及びカルシウム、ストロンチウム、リチウム、カリウ
ム、ナトリウムの原子発光分析を行ったところ、純度９
９．９９９９％のアセチレンガス（東邦アセチレン■製
の超高純度アセチレン）を用いて測定したときの各元素
の原子吸光及び原子発光信号強度と何ら相違ない信号強
度を得ることができた。
尚、測定は、■日立製作所製偏光ゼーマン原子吸光々度
計を用い、金属元素試料は関東化学Ｉｌ製の原子吸光用
標準溶液（各々１１０００ｐｐ ＞をカルシウムは５
ｐｐｍ−に、ストロンチウムは１０００ｍに、モリブデ
ンは５０ｐｐｍに、リチウムは２ｐｐｍに、カリウム及
びナトリウムは４ｐｐｍに各々希釈して用いて行った。
計を用い、金属元素試料は関東化学Ｉｌ製の原子吸光用
標準溶液（各々１１０００ｐｐ ＞をカルシウムは５
ｐｐｍ−に、ストロンチウムは１０００ｍに、モリブデ
ンは５０ｐｐｍに、リチウムは２ｐｐｍに、カリウム及
びナトリウムは４ｐｐｍに各々希釈して用いて行った。
（比較例１）
原子吸光、原子発光分析に９９．９９９９％のアセチレ
ンガスを用いた時と、放出されるアセチレンガス純度が
９１゜Ｏ〜９８．０％、アセチレンガス中に含まれるリ
ン化合物が０．１ｐｐｍ、硫化物が１０ｐｐｍ 、炭素
数３以上の炭化水素が５０Ｅ）Ｅ）ＩＩＩである溶解ア
セチレンを用いた時の原子信号強度を比較した。測定は
カルシウム、ストロンチウム、（原子吸光、原子発光）
モリブデン（原子吸光）、リチウム、ナトリウム（原子
発光）に対して行い、９９゜９９９９％のアセチレンガ
ス使用時の原子信号強度を１００％として、上記溶解ア
セチレン使用時の信号抑制率を％で表した結果を表−３
に示した。
ンガスを用いた時と、放出されるアセチレンガス純度が
９１゜Ｏ〜９８．０％、アセチレンガス中に含まれるリ
ン化合物が０．１ｐｐｍ、硫化物が１０ｐｐｍ 、炭素
数３以上の炭化水素が５０Ｅ）Ｅ）ＩＩＩである溶解ア
セチレンを用いた時の原子信号強度を比較した。測定は
カルシウム、ストロンチウム、（原子吸光、原子発光）
モリブデン（原子吸光）、リチウム、ナトリウム（原子
発光）に対して行い、９９゜９９９９％のアセチレンガ
ス使用時の原子信号強度を１００％として、上記溶解ア
セチレン使用時の信号抑制率を％で表した結果を表−３
に示した。
尚、測定礪器及び各金属元素の試料調製は実施例１と同
様にして行った。
様にして行った。
表−３
（比較例２）
放出されるアセチレンガス純度が９９．５％、アセチレ
ンガス中に含まれるリン化合物が６．１〜１２．０ｐｐ
ｍ 、硫化物が１０ｐｐｍ 、炭素数３以上の炭化水素
が５０ｐｐｍである溶解アセチレンを使用して、カルシ
ウム（原子吸光）、ストロンチウム（原子吸光、原子発
光）、リチウム、カリウム（原子発光）に対して、比較
例１と同様の測定を行った結果を表−４に示した。
ンガス中に含まれるリン化合物が６．１〜１２．０ｐｐ
ｍ 、硫化物が１０ｐｐｍ 、炭素数３以上の炭化水素
が５０ｐｐｍである溶解アセチレンを使用して、カルシ
ウム（原子吸光）、ストロンチウム（原子吸光、原子発
光）、リチウム、カリウム（原子発光）に対して、比較
例１と同様の測定を行った結果を表−４に示した。
（比較例３）
放出されるアセチレンガス純度！度が９９．５％、アセ
チレンガス中に含まれるリン化合物が、０．１ｐｐｍ
、硫化物が２００ｐｐｍ、炭素数３以上の炭化水素が５
０ｐｐｍである溶解アセチレンを使用して、ストロンチ
ウム、モリブデン（原子吸光）に対して、比較例１と同
様の測定を行った結果を表−５に示した。
チレンガス中に含まれるリン化合物が、０．１ｐｐｍ
、硫化物が２００ｐｐｍ、炭素数３以上の炭化水素が５
０ｐｐｍである溶解アセチレンを使用して、ストロンチ
ウム、モリブデン（原子吸光）に対して、比較例１と同
様の測定を行った結果を表−５に示した。
表−５
（比較例４）
放出されるアセチレンガス純度が９４．５％、アセチレ
ンガス中に含まれるリン化合物が０．１ｐｐｍ、硫化物
が１０ｐｐｍ 、炭素数３以上の炭化水素が５０ｐｐＩ
ｌｌ、アセトンが５．４％である溶解アセチレンを使用
して、カルシウム、ストロンチウム、モリブデン（原子
吸光）、ナトリウム（原子発光）に対して比較例１と同
様の測定を行った結果を表−６に示した。
ンガス中に含まれるリン化合物が０．１ｐｐｍ、硫化物
が１０ｐｐｍ 、炭素数３以上の炭化水素が５０ｐｐＩ
ｌｌ、アセトンが５．４％である溶解アセチレンを使用
して、カルシウム、ストロンチウム、モリブデン（原子
吸光）、ナトリウム（原子発光）に対して比較例１と同
様の測定を行った結果を表−６に示した。
表−６
＊１ Ａ：原子吸光
Ｅ：原子発光
〔発明の効果〕
以上）ホべた様に、本発明によれば、原子吸光、原子発
光分析に高純度アセチレンガスを使用することにより、
測定信号の抑制現象がなく高感度で、かつ、高精度で再
現性のよい分析を行うことができると同時に、必要とさ
れるアセチレンガスを、容易に得ることができ、工業的
価値大なるものがある。
光分析に高純度アセチレンガスを使用することにより、
測定信号の抑制現象がなく高感度で、かつ、高精度で再
現性のよい分析を行うことができると同時に、必要とさ
れるアセチレンガスを、容易に得ることができ、工業的
価値大なるものがある。
Claims (4)
- （１）アセチレンガス中に含まれるリン化合物が１ｐｐ
ｍ以下、硫化物が１０ｐｐｍ以下、炭素数３以上の炭化
水素が１００ｐｐｍ以下であり、かつ、アセチレンガス
純度が９９．０％以上であることを特徴とする原子吸光
、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物。 - （２）容器に多孔質充填剤を充填しこれにアセチレンガ
スの吸収能力の高い溶剤を含浸させてアセチレンガスを
溶解させた溶解アセチレンであることを特徴とする請求
項１記載の原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレン
ガス組成物。 - （３）溶解アセチレンが、アセチレンガスを主成分とす
る粗アセチレンガスを固体清浄剤、Ａ型ゼオライト、活
性炭で逐次処理し、リン化合物、硫化物、炭素数３以上
の炭化水素類、水分を除去した後、Ｎ−Ｎ′ジメチルホ
ルムアミド浸潤多孔物質を内蔵する容器に充填されたも
のであることを特徴とする請求項２記載の原子吸光、原
子発光分析用高純度アセチレンガス組成物。 - （４）請求項３記載の溶解アセチレンをその充填後、全
充填量の５〜２０％を放出することにより得られたもの
であることを特徴とする請求項２記載の原子吸光、原子
発光分析用高純度アセチレンガス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17798788A JPH0228539A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17798788A JPH0228539A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0228539A true JPH0228539A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16040555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17798788A Pending JPH0228539A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0228539A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2706720C1 (ru) * | 2019-04-15 | 2019-11-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Ленина и Ордена Октябрьской революции Институт геохимии и аналитической химии им. В.И. Вернадского Российской академии наук (ГЕОХИ РАН) | Способ атомно-эмиссионного анализа растворов |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6219539A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Nichigou Asechiren Kk | アセチレンの精製法およびそれに用いる装置 |
| JPS6245543A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高純度アセチレンガスの製造法 |
| JPS62285988A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Nichigou Asechiren Kk | 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 |
-
1988
- 1988-07-19 JP JP17798788A patent/JPH0228539A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6219539A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Nichigou Asechiren Kk | アセチレンの精製法およびそれに用いる装置 |
| JPS6245543A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高純度アセチレンガスの製造法 |
| JPS62285988A (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-11 | Nichigou Asechiren Kk | 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2706720C1 (ru) * | 2019-04-15 | 2019-11-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Ленина и Ордена Октябрьской революции Институт геохимии и аналитической химии им. В.И. Вернадского Российской академии наук (ГЕОХИ РАН) | Способ атомно-эмиссионного анализа растворов |
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