JPS62285988A - 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 - Google Patents
高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置Info
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- JPS62285988A JPS62285988A JP12956286A JP12956286A JPS62285988A JP S62285988 A JPS62285988 A JP S62285988A JP 12956286 A JP12956286 A JP 12956286A JP 12956286 A JP12956286 A JP 12956286A JP S62285988 A JPS62285988 A JP S62285988A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3発明の詳細な説明
[産業上の利用分野]
本発明は溶解アセチレン容器に充填されている溶解アセ
チレンからえられる高純度アセチレンガスを提供する方
法およびそれに用いる精製装置に関する。
チレンからえられる高純度アセチレンガスを提供する方
法およびそれに用いる精製装置に関する。
C従来の技術]
一般にアセチレンは不安定であるため、アセトンやN、
N−ジメチルホルムアミド(DMP)などの溶剤に溶解
して安定化させた、いわゆる溶解アセチレンの状態で利
用されている。
N−ジメチルホルムアミド(DMP)などの溶剤に溶解
して安定化させた、いわゆる溶解アセチレンの状態で利
用されている。
溶解アセチレンについては封S K 1901および同
1902に規定されているように、98容量%以上の純
度になるように精製されている。
1902に規定されているように、98容量%以上の純
度になるように精製されている。
たとえば、通常市販のカーバイドを原料にした溶解アセ
チレンのばあいには、アセチレンが98.0〜99.5
容量%含有されており、このほか溶剤ガスや空気からの
不純物であるチッ素、酸素、アルゴンなどが主要不純物
として混入し、さらに原料に起因するNH3、PH3、
H2S 、水素、CH4などが不純物として混入してい
る。溶解アセチレンのガス組成の大阪環境技術センター
で゛の測定データの一例として、アセチレン99.10
容量%8、溶剤(アセトン) 0.38容量%、水素
0.01容量%、チッ素0.2844容量%、酸素0.
0756容量%、Co 0.01容量%未満、CO20
,01容量%未満、CH40,13容量%なる結果が報
告されている。
チレンのばあいには、アセチレンが98.0〜99.5
容量%含有されており、このほか溶剤ガスや空気からの
不純物であるチッ素、酸素、アルゴンなどが主要不純物
として混入し、さらに原料に起因するNH3、PH3、
H2S 、水素、CH4などが不純物として混入してい
る。溶解アセチレンのガス組成の大阪環境技術センター
で゛の測定データの一例として、アセチレン99.10
容量%8、溶剤(アセトン) 0.38容量%、水素
0.01容量%、チッ素0.2844容量%、酸素0.
0756容量%、Co 0.01容量%未満、CO20
,01容量%未満、CH40,13容量%なる結果が報
告されている。
溶剤ガスは沸点が高いので、アセチレン−溶剤混合ガス
を冷却凝縮することにより溶剤を液化分離できるが、空
気や原料起源の不純物ガスはそのような方法では容易に
分離できない。また溶剤ガスを冷却法によって分離回収
するばあいは、冷却器や熱交換器が必要となり、設備が
大きくなる。
を冷却凝縮することにより溶剤を液化分離できるが、空
気や原料起源の不純物ガスはそのような方法では容易に
分離できない。また溶剤ガスを冷却法によって分離回収
するばあいは、冷却器や熱交換器が必要となり、設備が
大きくなる。
[発明が解決しようとする間m点]
従来より精製アセチレンをうる方法としては、液化チッ
素浴でアセチレンを約−150℃以下に冷却して固体ア
セチレンをつくり、気相分を真空引きして充分空間ガス
を除去したのち蒸発させて精製アセチレンをうるという
、小規模で研究用に適した方法があるが、圧力が1 、
4kg / cJ・abs 、以上になると分解爆発の
危険性があり、工業用に必要な量を安全かつ経済的に供
給しうるちのではない。
素浴でアセチレンを約−150℃以下に冷却して固体ア
セチレンをつくり、気相分を真空引きして充分空間ガス
を除去したのち蒸発させて精製アセチレンをうるという
、小規模で研究用に適した方法があるが、圧力が1 、
4kg / cJ・abs 、以上になると分解爆発の
危険性があり、工業用に必要な量を安全かつ経済的に供
給しうるちのではない。
本発明は安全かつ工業的に必要な量の高純度アセチレン
ガスを提供することを目的としてなされたものである。
ガスを提供することを目的としてなされたものである。
[問題点を解決するだめの手段]
本発明者らは、前記不純物ガスの殆んどの部分が溶解ア
セチレン容器の上部空間に存在していること、およびヤ
シ殻活性炭がアセチレン−溶剤ガス系から溶剤ガスを効
率よく吸着除去しうろことを見出し、本発明を完成する
に至った。
セチレン容器の上部空間に存在していること、およびヤ
シ殻活性炭がアセチレン−溶剤ガス系から溶剤ガスを効
率よく吸着除去しうろことを見出し、本発明を完成する
に至った。
すなわち本発明は、高純度アセチレンガスを供給する方
法であって、高純度アセチレンを溶剤に溶解して容器に
充填した状態で輸送し、該アセチレンを使用するに際し
、アセチレンに同伴する溶剤を吸着剤に通して除去する
ことを特徴とする高純度アセチレンガスの提供方法およ
び高純度アセチレンガスを収容するための多孔質物質お
よびアセチレンを選択溶解する溶剤を入れた金属製容器
にアセチレンを使用する際に同伴する溶剤を吸着する吸
着剤の槽を連通してなる高純度アセチレンガスの提供装
置に関する。
法であって、高純度アセチレンを溶剤に溶解して容器に
充填した状態で輸送し、該アセチレンを使用するに際し
、アセチレンに同伴する溶剤を吸着剤に通して除去する
ことを特徴とする高純度アセチレンガスの提供方法およ
び高純度アセチレンガスを収容するための多孔質物質お
よびアセチレンを選択溶解する溶剤を入れた金属製容器
にアセチレンを使用する際に同伴する溶剤を吸着する吸
着剤の槽を連通してなる高純度アセチレンガスの提供装
置に関する。
[実施例]
本発明においては、アセチレンを選択吸収する溶剤にア
セチレンを吸収させ、圧力差による溶解量の差を利用し
てアセチレンを放出する際に気相に存在するアセチレン
より溶解度の小さい不純ガスを併せ放出し、容器内の残
存アセチレン純度を向上させ、さらに容器内の残存アセ
チレンを使用する際にアセチレンガスと同伴される溶剤
ガスはヤシ殻活性炭の充填部(以下、吸着部という)に
通すことにより吸着除去されるので高純度の精製アセチ
レンが取得される。
セチレンを吸収させ、圧力差による溶解量の差を利用し
てアセチレンを放出する際に気相に存在するアセチレン
より溶解度の小さい不純ガスを併せ放出し、容器内の残
存アセチレン純度を向上させ、さらに容器内の残存アセ
チレンを使用する際にアセチレンガスと同伴される溶剤
ガスはヤシ殻活性炭の充填部(以下、吸着部という)に
通すことにより吸着除去されるので高純度の精製アセチ
レンが取得される。
本発明において用いられるアセチレンは、カーバイドや
石油を分解して製造した↑■なアセチレンであってもよ
< 、PH3、H2S s N11i 、ASH3など
を除去してJIS K 1901および同1902の規
定に適合するように精製されたアセチレンでもよく、本
発明はかかるアセチレンガスの純度、・原料などによっ
て限定されるものではない。しかし、精製アセチレンを
効率よくえられるという観点からすると、カーバイドア
セチレンのばあいには特許第203622号明細書など
のアセチレンの液体式精製法により前処理したものであ
ることが好ましい。
石油を分解して製造した↑■なアセチレンであってもよ
< 、PH3、H2S s N11i 、ASH3など
を除去してJIS K 1901および同1902の規
定に適合するように精製されたアセチレンでもよく、本
発明はかかるアセチレンガスの純度、・原料などによっ
て限定されるものではない。しかし、精製アセチレンを
効率よくえられるという観点からすると、カーバイドア
セチレンのばあいには特許第203622号明細書など
のアセチレンの液体式精製法により前処理したものであ
ることが好ましい。
本明細書にいう高純度アセチレンとは、合計不純物量が
1100pp未満のアセチレンを意味し、たとえば水素
1.0ppm以下、酸素1.0〜15.01)pffl
、チッ素1.0〜25.0ppm 、 Co 1.O
ppm以下、CO22,0+1+)[11以下、H2S
5PH3、ASH3はいずれも検出されず(0,1p
pIl+検出限界)かつ溶剤も検出されずのごとき組成
のものである。
1100pp未満のアセチレンを意味し、たとえば水素
1.0ppm以下、酸素1.0〜15.01)pffl
、チッ素1.0〜25.0ppm 、 Co 1.O
ppm以下、CO22,0+1+)[11以下、H2S
5PH3、ASH3はいずれも検出されず(0,1p
pIl+検出限界)かつ溶剤も検出されずのごとき組成
のものである。
前記アセチレンは、通常の溶解アセチレン工場における
充填方法により溶剤に吸収させて法定の溶解アセチレン
容器に充填される。
充填方法により溶剤に吸収させて法定の溶解アセチレン
容器に充填される。
前記溶剤としては、アセチレンを選択吸収し、アセチレ
ンと反応したりすることのない溶剤であればとくに限定
はない。このような溶剤の具体例としては、アセチレン
の選択吸収性の高いアセトン、N、N−ジメチルホルム
アミド(以下、HPという)、N−メチルピロリドンな
どがあげられ、これらは単独で用いてもよく、2種以上
を併用してもよい。
ンと反応したりすることのない溶剤であればとくに限定
はない。このような溶剤の具体例としては、アセチレン
の選択吸収性の高いアセトン、N、N−ジメチルホルム
アミド(以下、HPという)、N−メチルピロリドンな
どがあげられ、これらは単独で用いてもよく、2種以上
を併用してもよい。
アセチレンが充填された溶解アセチレン容器は、アセチ
レンと溶剤とを溶解平衡に達せしめるだめに一昼夜静置
させたのち、秤量器上に載せ、ついで重量の推移を記録
しながら容器バルブを開放することにより充填されたア
セチレン20〜80重量%が放出される。アセチレンの
放出量は20重量%未満のばあい、溶解アセチレン容器
内上部気相のアセチレン中に存在する不純物の量が11
00ppをこえ、また80重量%をこえると使用に供さ
れるアセチレン量が減少し、非経済的であるとともに実
用上作業に差支える。
レンと溶剤とを溶解平衡に達せしめるだめに一昼夜静置
させたのち、秤量器上に載せ、ついで重量の推移を記録
しながら容器バルブを開放することにより充填されたア
セチレン20〜80重量%が放出される。アセチレンの
放出量は20重量%未満のばあい、溶解アセチレン容器
内上部気相のアセチレン中に存在する不純物の量が11
00ppをこえ、また80重量%をこえると使用に供さ
れるアセチレン量が減少し、非経済的であるとともに実
用上作業に差支える。
上記のようにしてえられた溶解アセチレン容器内のアセ
チレン中には不純物は殆ど含有されていないが、なおア
セトンやジメチルホルムアミドなどの溶剤が含有されて
いるため、溶剤ガスを選択吸着する吸着部に通される。
チレン中には不純物は殆ど含有されていないが、なおア
セトンやジメチルホルムアミドなどの溶剤が含有されて
いるため、溶剤ガスを選択吸着する吸着部に通される。
従来より空気中からの溶剤の吸着剤として使用されてい
るモレキュラーシーブやシリカゲルなどと比べて、ヤシ
殻活性炭は、アセチレン−溶剤ガス系では第1表に示さ
れるようにその吸着能力がきわめて大きいものであり、
本発明においてはとくに好適に使用しうるものである。
るモレキュラーシーブやシリカゲルなどと比べて、ヤシ
殻活性炭は、アセチレン−溶剤ガス系では第1表に示さ
れるようにその吸着能力がきわめて大きいものであり、
本発明においてはとくに好適に使用しうるものである。
第1表
なお、吸着部には前記ヤシ殻活性炭のほか除湿のために
モレキュラーシーブやシリカゲルなどから形成された多
孔体を適宜添加してもよい。
モレキュラーシーブやシリカゲルなどから形成された多
孔体を適宜添加してもよい。
本発明において使用されるヤシ殻活性炭には通常4〜8
メツシユとなるように破砕したものが使用される。前処
理のないままの状態で吸着部に用いたばあい、かかる活
性炭内部には微量の空気が含まれており、アセチレンを
該吸着部内を通したときに空気中のチッ素、酸素などが
混入し、アセチレンの純度を低下させることとなるので
、ヤシ殻活性炭には前処理を施す必要がある。
メツシユとなるように破砕したものが使用される。前処
理のないままの状態で吸着部に用いたばあい、かかる活
性炭内部には微量の空気が含まれており、アセチレンを
該吸着部内を通したときに空気中のチッ素、酸素などが
混入し、アセチレンの純度を低下させることとなるので
、ヤシ殻活性炭には前処理を施す必要がある。
すなわち、ヤシ殻活性炭に高温下で水素ガス、ヘリウム
ガスまたは過熱水蒸気を通して″予め洗浄しておくのが
好ましい。たとえばアセチレンを吸着部内に通す前に、
該吸着部を200〜300℃に加熱し、水素ガスを流量
100〜200m1/分通気しながら3〜5時間ロータ
リーポンプや真空ポンプなどで減圧脱気し、ついで精製
されたアセチレンを通して内部のガス置換をしておく。
ガスまたは過熱水蒸気を通して″予め洗浄しておくのが
好ましい。たとえばアセチレンを吸着部内に通す前に、
該吸着部を200〜300℃に加熱し、水素ガスを流量
100〜200m1/分通気しながら3〜5時間ロータ
リーポンプや真空ポンプなどで減圧脱気し、ついで精製
されたアセチレンを通して内部のガス置換をしておく。
吸着部に通すアセチレンの量や滞留時間などは目的とす
るアセチレンの純度や精製効率などを考慮して適宜設定
すればよいが、通常使用されるのはヤシ殻活性炭単位容
積あたり、処理ガス容積が1時間あたりto、000倍
以下が適当である。
るアセチレンの純度や精製効率などを考慮して適宜設定
すればよいが、通常使用されるのはヤシ殻活性炭単位容
積あたり、処理ガス容積が1時間あたりto、000倍
以下が適当である。
上記のような方法により、たとえば98〜99.5容量
%のアセチレンを99.99〜99.9999容量%程
度まで精製することができる。
%のアセチレンを99.99〜99.9999容量%程
度まで精製することができる。
つぎに本発明の提供方法およびそれに用いる装置を第1
図に基づき説明する。
図に基づき説明する。
すなわち、アセチレンガス精製装置は、溶剤に溶解され
たアセチレンが充填されている溶解アセチレン容器(1
)とガス流入口(2)およびガス流出口(3)を有する
吸着部(4)とからなり、溶解アセチレン容器(1)と
吸着部のガス流入口(2:Jとがガス出入口(5)を有
する切替バルブ(6)を設けることにより構成される。
たアセチレンが充填されている溶解アセチレン容器(1
)とガス流入口(2)およびガス流出口(3)を有する
吸着部(4)とからなり、溶解アセチレン容器(1)と
吸着部のガス流入口(2:Jとがガス出入口(5)を有
する切替バルブ(6)を設けることにより構成される。
溶剤に溶解されたアセチレンが充填されている溶解アセ
チレン容器(1)から切替バルブ(6)を溶解アセチレ
ン容器(1)とガス出入口(5)とが連通ずるように切
替え、該ガス出入口(5)より充填量の20〜80重量
%を放出したのち、残存したアセチレンガスと溶剤ガス
の混合ガスは、切替バルブ(6)を溶解アセチレン容器
(1)と吸着部(4)とが連通ずるように切替え、容器
バルブ(′7)およびガス流出バルブ(8)を開にする
ことにより吸着部(4)を通って溶剤ガスが吸着除去さ
れて高純度のアセチレンガスがえられる。
チレン容器(1)から切替バルブ(6)を溶解アセチレ
ン容器(1)とガス出入口(5)とが連通ずるように切
替え、該ガス出入口(5)より充填量の20〜80重量
%を放出したのち、残存したアセチレンガスと溶剤ガス
の混合ガスは、切替バルブ(6)を溶解アセチレン容器
(1)と吸着部(4)とが連通ずるように切替え、容器
バルブ(′7)およびガス流出バルブ(8)を開にする
ことにより吸着部(4)を通って溶剤ガスが吸着除去さ
れて高純度のアセチレンガスがえられる。
溶解アセチレン容器(1)内の溶剤に溶解されたアセチ
レンは上記のように溶解アセチレン容器(1)と吸着部
(4)とのあいだに設けられた切替バルブ(6)をガス
出入口(5)とが連通ずるように切替えて充填量の20
〜80重量%を放出させてもよく、また吸着部のガス流
入口(りと接続される前に充填量の20〜80重量%を
放出させてもよい。なお、このばあい切替バルブ(6)
の出入口(5)にはアセチレンガス回収装置を連結し、
放出したアセチレンガスを回収して再利用することもで
きる。
レンは上記のように溶解アセチレン容器(1)と吸着部
(4)とのあいだに設けられた切替バルブ(6)をガス
出入口(5)とが連通ずるように切替えて充填量の20
〜80重量%を放出させてもよく、また吸着部のガス流
入口(りと接続される前に充填量の20〜80重量%を
放出させてもよい。なお、このばあい切替バルブ(6)
の出入口(5)にはアセチレンガス回収装置を連結し、
放出したアセチレンガスを回収して再利用することもで
きる。
前記吸着部(4)は、ガス流出バルブ(8)を開にした
状態で放置したばあい、該ガス流出バルブ(8)から空
気が侵入し、ヤシ殻活性炭に空気が吸着される−とがあ
るので、使用時以外はガス流出バルブ(8)を閉鎖する
。
状態で放置したばあい、該ガス流出バルブ(8)から空
気が侵入し、ヤシ殻活性炭に空気が吸着される−とがあ
るので、使用時以外はガス流出バルブ(8)を閉鎖する
。
なおさらにアセチレンの精製度を向上させるために吸着
部(4)の使用に先だって容器バルブ(7)を閉鎖した
状態で切替バルブ(6)をガス出入口(5)が開となる
ようにし、該ガス出入口(5)から高純度水素ガスを送
入しながら恒温加熱槽(9)で吸着部(4)を加熱して
該ヤシ殻活性炭に吸着されたチッ素、酸素などを脱気す
るのが好ましい。
部(4)の使用に先だって容器バルブ(7)を閉鎖した
状態で切替バルブ(6)をガス出入口(5)が開となる
ようにし、該ガス出入口(5)から高純度水素ガスを送
入しながら恒温加熱槽(9)で吸着部(4)を加熱して
該ヤシ殻活性炭に吸着されたチッ素、酸素などを脱気す
るのが好ましい。
つぎに本発明の方法および装置を実施例1にもとづき説
明する。
明する。
実施例1〜4
第1図に示すごとき装置を用いた。
溶解アセチレン容器としては内容積41.ORの円筒状
の鋼鉄製の容器(SS 41)を用いた。この溶解アセ
チレン容器内にアセチレン吸収溶剤であるアセトンを1
7.59 、Q入れ、ついで最終圧力が20kg /
cd Gとなるように流ia 100OR/ hrでア
セチレンを6500g吹込み、24時間放置した後、ア
セトンに溶解されたアセチレンを充填量の20重量%、
40重量%、60重量%または80重量%放出させ、吸
着部と接続した。
の鋼鉄製の容器(SS 41)を用いた。この溶解アセ
チレン容器内にアセチレン吸収溶剤であるアセトンを1
7.59 、Q入れ、ついで最終圧力が20kg /
cd Gとなるように流ia 100OR/ hrでア
セチレンを6500g吹込み、24時間放置した後、ア
セトンに溶解されたアセチレンを充填量の20重量%、
40重量%、60重量%または80重量%放出させ、吸
着部と接続した。
吸着部には、直径10 cm、高さ 100 amの円
筒状の容器の内部に・ヤシ殻活性炭(武田薬品工業■製
、商品名:白鷺G−2C14/8メツシュ破砕炭)を充
填したステンレススチール製容器を使用した。
筒状の容器の内部に・ヤシ殻活性炭(武田薬品工業■製
、商品名:白鷺G−2C14/8メツシュ破砕炭)を充
填したステンレススチール製容器を使用した。
使用の前に吸着部を恒温過熱器内で300℃に加熱しな
がら、水素ガスを流tLloOml/分で通気し、3時
間真空ポンプで脱気した。
がら、水素ガスを流tLloOml/分で通気し、3時
間真空ポンプで脱気した。
つぎに溶解アセチレン容器から容器バルブを開いて吸着
部にアセチレンガスとアセトンとの混合ガスを通し、精
製アセチレンをえた。
部にアセチレンガスとアセトンとの混合ガスを通し、精
製アセチレンをえた。
えられた精製アセチレンは、島津G、C,9A型ガスク
ロマトグラフTCDおよびFID自動切換検出器を用い
て分析した結果、第2表に示される組成を有するもので
あった。
ロマトグラフTCDおよびFID自動切換検出器を用い
て分析した結果、第2表に示される組成を有するもので
あった。
実施例5〜8
実施例1〜4において、アセチレン吸収溶媒としアセト
ン17.599のかわりにDMF 17.9Ωを用いた
ほかは実施例1〜4と同様にして精製アセチレンを作製
し、精製アセチレンに含まれた成分を分析した。その結
果を第2表に示す。
ン17.599のかわりにDMF 17.9Ωを用いた
ほかは実施例1〜4と同様にして精製アセチレンを作製
し、精製アセチレンに含まれた成分を分析した。その結
果を第2表に示す。
比較例1
実施例1において、アセトンに溶解されたアセチレンを
充填量の15重量%だけ放出させたほかは実施例1と同
様に精製アセチレンを作製し、精製アセチレンに含まれ
た成分を分析した。その結果を第2表に示す。
充填量の15重量%だけ放出させたほかは実施例1と同
様に精製アセチレンを作製し、精製アセチレンに含まれ
た成分を分析した。その結果を第2表に示す。
比較例2
実施例5において、DMPに溶解されたアセチレンを充
填量の15重量%だけ放出させたほかは実施例5と同様
に精製アセチレンを作製し、精製アセチレンに含まれた
成分を分析した。その結果を第2表に示す。
填量の15重量%だけ放出させたほかは実施例5と同様
に精製アセチレンを作製し、精製アセチレンに含まれた
成分を分析した。その結果を第2表に示す。
比較例3
実施例4において、溶解されたアセチレンを充填量の8
0重量%放出させたのち、溶解アセチレン容器に残留し
たアセチレンに含まれた成分を分析した。その結果を第
2表に示す。
0重量%放出させたのち、溶解アセチレン容器に残留し
たアセチレンに含まれた成分を分析した。その結果を第
2表に示す。
比較例4
実施例8において、溶解されたDMFを充填量の80重
量%放出させたのち、溶解アセチレン容器に残留したア
セチレンに含まれた成分を分析した。その結果を第2表
に示す。
量%放出させたのち、溶解アセチレン容器に残留したア
セチレンに含まれた成分を分析した。その結果を第2表
に示す。
[以下余白〕
以上の結果より本発明の方法によってえられたアセチレ
ンガスはアセチレン吸収溶媒がまったく含有されない、
きわめて高純度のものであることがわかる。
ンガスはアセチレン吸収溶媒がまったく含有されない、
きわめて高純度のものであることがわかる。
[発明の効果]
本発明の方法によると、従来研究室規模でしかえられな
かった高純度のアセチレンを、市販の溶解アセチレンを
用いて工業的規模で経済的にうろことができる。すなわ
ち、溶解アセチレン工場において調整した高純度溶解ア
セチレン容器を使用する場所に設置することによって必
要な量の精製アセチレンを随時うろことができる。
かった高純度のアセチレンを、市販の溶解アセチレンを
用いて工業的規模で経済的にうろことができる。すなわ
ち、溶解アセチレン工場において調整した高純度溶解ア
セチレン容器を使用する場所に設置することによって必
要な量の精製アセチレンを随時うろことができる。
本発明において、放出されたアセチレンは溶解アセチレ
ン工場では回収して再使用することができ、また精製に
使用するエネルギーは冷熱などを必要とせず、溶解アセ
チレン容器に充填する圧縮機運転の動力のみで足りるの
で、きわめて経済的であるなどの効果かえられる。
ン工場では回収して再使用することができ、また精製に
使用するエネルギーは冷熱などを必要とせず、溶解アセ
チレン容器に充填する圧縮機運転の動力のみで足りるの
で、きわめて経済的であるなどの効果かえられる。
第1図は本発明の方法に用いる本発明の装置の一実施態
様に関する説明図である。 (図面の主要符号) (1):溶解アセチレン容器 (4):吸着部
様に関する説明図である。 (図面の主要符号) (1):溶解アセチレン容器 (4):吸着部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 高純度アセチレンガスを供給する方法であって、高
純度アセチレンを溶剤に溶解して容器に充填した状態で
輸送し、該アセチレンを使用するに際し、アセチレンに
同伴する溶剤を吸着剤に通して除去することを特徴とす
る高純度アセチレンガスの提供方法。 2 溶剤がアセトン、N,N−ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドンまたはこれらの混合物である特許
請求の範囲第1項記載の提供方法。 3 アセチレンガスを溶剤に溶解して充填された溶解ア
セチレン容器が、その充填量の20〜80重量%を放出
したのちにえられる高純度アセチレンガスを溶解した容
器である特許請求の範囲第1項記載の提供方法。 4 アセチレンに同伴する溶剤の吸着剤がヤシ殻活性炭
である特許請求の範囲第1項記載の提供方法。 5 高純度アセチレンガスを収容するために多孔質物質
およびアセチレンを選択溶解する溶剤を入れた金属製容
器を使用し、アセチレンを使用する際に同伴する溶剤を
吸着する吸着剤の槽を連通してなる高純度アセチレンガ
スの精製装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12956286A JPS62285988A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12956286A JPS62285988A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62285988A true JPS62285988A (ja) | 1987-12-11 |
Family
ID=15012558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12956286A Pending JPS62285988A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 高純度アセチレンガスの提供方法およびそれに用いる精製装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62285988A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0228539A (ja) * | 1988-07-19 | 1990-01-30 | Toho Asechiren Kk | 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 |
FR2853313A1 (fr) * | 2003-04-04 | 2004-10-08 | Air Liquide | Procede d'elimination d'un solvant contenu dans l'acetylene, installation pour la mise en oeuvre du procede |
FR2912401A1 (fr) * | 2007-07-17 | 2008-08-15 | Air Liquide | Nouveau procede d'elimination d'un solvant contenu dans de l'acetylene sous pression. installation pour la mise en oeuvre du procede |
WO2008120160A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | L'air Liquide - Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Methods and apparatus for providing a high purity acetylene product |
FR2915991A1 (fr) * | 2007-07-17 | 2008-11-14 | Air Liquide | Nouveau procede d'elimination d'un solvant contenu dans de l'acetylene detendu. installation pour la mise en oeuvre du procede |
US8398747B2 (en) | 2009-06-23 | 2013-03-19 | Praxair Technology, Inc. | Processes for purification of acetylene |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP12956286A patent/JPS62285988A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0228539A (ja) * | 1988-07-19 | 1990-01-30 | Toho Asechiren Kk | 原子吸光、原子発光分析用高純度アセチレンガス組成物 |
FR2853313A1 (fr) * | 2003-04-04 | 2004-10-08 | Air Liquide | Procede d'elimination d'un solvant contenu dans l'acetylene, installation pour la mise en oeuvre du procede |
WO2004089859A3 (fr) * | 2003-04-04 | 2004-11-25 | Air Liquide | Procede d'elimination d'un solvant contenu dans l'acetylene. installation pour la mise en oeuvre du procede |
JP2006522079A (ja) * | 2003-04-04 | 2006-09-28 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | アセチレンに含まれる溶媒の除去方法及び前記方法を実施するための装置 |
WO2008120160A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | L'air Liquide - Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Methods and apparatus for providing a high purity acetylene product |
FR2912401A1 (fr) * | 2007-07-17 | 2008-08-15 | Air Liquide | Nouveau procede d'elimination d'un solvant contenu dans de l'acetylene sous pression. installation pour la mise en oeuvre du procede |
FR2915991A1 (fr) * | 2007-07-17 | 2008-11-14 | Air Liquide | Nouveau procede d'elimination d'un solvant contenu dans de l'acetylene detendu. installation pour la mise en oeuvre du procede |
US8398747B2 (en) | 2009-06-23 | 2013-03-19 | Praxair Technology, Inc. | Processes for purification of acetylene |
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