JPS62193203A - 電圧非直線性素子 - Google Patents
電圧非直線性素子Info
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- JPS62193203A JPS62193203A JP61035969A JP3596986A JPS62193203A JP S62193203 A JPS62193203 A JP S62193203A JP 61035969 A JP61035969 A JP 61035969A JP 3596986 A JP3596986 A JP 3596986A JP S62193203 A JPS62193203 A JP S62193203A
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は印加電圧によって抵抗値が変化する電圧非直線
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリ・Iクス駆動の液晶。
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリ・Iクス駆動の液晶。
ELなどの表示デバイスのスイッチング素子などに利用
されるものである。
されるものである。
従来の技術
従来の電圧非直線性素子は、酸化亜鉛(ZnO)に酸化
ビスマス(BizOs、、)、 酸化コバルトCGa2
O3> 、酸fヒマンガン(Mn02)、酸化アンチモ
ン(31)205)などの酸化物を添加して、1000
〜1350’Cで焼結したZnOバリスタなど1種々の
ものがある。その中で、ZnOバリスタは電圧非直線指
数α、サージ耐量が大きいことから、最も一般的に使わ
れている。(特公昭46−19472号公報参照) 発明が解決しようとする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚み全薄く(数十μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mAを流した時の電圧v11TIAで表わされる)′!
!−低くすることに限界があり、低電圧用ICの保護素
子や低い電圧における電圧安定化素子として使えないも
のであった。また、上述したように1000℃以上の高
温プロセスを必要とするため、ガラ、ス基板上あるいは
回路基板上に電圧非直線性素子に直接形成できないとい
う問題があった。さらに、従来のものは並列静電容量が
大きく1例えば液晶などのスイッチング素子としては不
適当なものであるなどの問題点を有していた。
ビスマス(BizOs、、)、 酸化コバルトCGa2
O3> 、酸fヒマンガン(Mn02)、酸化アンチモ
ン(31)205)などの酸化物を添加して、1000
〜1350’Cで焼結したZnOバリスタなど1種々の
ものがある。その中で、ZnOバリスタは電圧非直線指
数α、サージ耐量が大きいことから、最も一般的に使わ
れている。(特公昭46−19472号公報参照) 発明が解決しようとする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚み全薄く(数十μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mAを流した時の電圧v11TIAで表わされる)′!
!−低くすることに限界があり、低電圧用ICの保護素
子や低い電圧における電圧安定化素子として使えないも
のであった。また、上述したように1000℃以上の高
温プロセスを必要とするため、ガラ、ス基板上あるいは
回路基板上に電圧非直線性素子に直接形成できないとい
う問題があった。さらに、従来のものは並列静電容量が
大きく1例えば液晶などのスイッチング素子としては不
適当なものであるなどの問題点を有していた。
問題点全解決するための手段
この問題点全解決するために本発明は、 MnO2全主
成分とする薄い絶縁被膜を有した微粉末状の半導体物質
が複数個集まった状態を一つの粉末とし、その粉末間も
しくは一部に上記微粉末を含む粉末間を低融点ガラスで
固め、電極を備え又なるものである。
成分とする薄い絶縁被膜を有した微粉末状の半導体物質
が複数個集まった状態を一つの粉末とし、その粉末間も
しくは一部に上記微粉末を含む粉末間を低融点ガラスで
固め、電極を備え又なるものである。
作用
この構成によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離金狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、低融点ガラスで固めて素子形成を行うために高温プロ
セスを必要とすることなく作ることができるため1回路
基板上に素子を直接形成することができ、ZnOバリス
タなどでは考えられない幅広い用途が期待できるもので
ある。さらに、粉末状の半導体物質を低融点ガラスで固
めたものであるため、それぞれの半導体物質の粉末間は
点接触となり、接触面積が小さいことから並列静電容量
の小さなものが得られ、液晶などのデバイスのスイ・ソ
チング素子として最適な素子が提供できることとなる。
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離金狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、低融点ガラスで固めて素子形成を行うために高温プロ
セスを必要とすることなく作ることができるため1回路
基板上に素子を直接形成することができ、ZnOバリス
タなどでは考えられない幅広い用途が期待できるもので
ある。さらに、粉末状の半導体物質を低融点ガラスで固
めたものであるため、それぞれの半導体物質の粉末間は
点接触となり、接触面積が小さいことから並列静電容量
の小さなものが得られ、液晶などのデバイスのスイ・ソ
チング素子として最適な素子が提供できることとなる。
実施例
以下、本発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。
まず1粒子径が0.05〜1μmの微粒子状の酸化亜鉛
1700〜1300℃で焼成した後、その焼結されたz
no2o、s〜60μmの粒子径(平均粒子径1〜10
μm)に粉砕し、そのZnO微粉末に酸化マンガンを0
.06〜10 mo1%添加し、600〜1360’C
で10〜60分間、熱処理し。
1700〜1300℃で焼成した後、その焼結されたz
no2o、s〜60μmの粒子径(平均粒子径1〜10
μm)に粉砕し、そのZnO微粉末に酸化マンガンを0
.06〜10 mo1%添加し、600〜1360’C
で10〜60分間、熱処理し。
そのZnO微粉末表面に酸化マンガンの絶縁被膜を形成
した。ここで、微粉末状のZnOの表面にはMnO2絶
縁被膜がほぼ数十〜数百人の厚さで薄く形成されている
ことが認められた。次いで、このようにして作成したM
nO2絶縁被膜が表面についたZnO微粉末群は弱い力
で互いに接着しているので5これを乳鉢あるいはボット
ミルでほぐし。
した。ここで、微粉末状のZnOの表面にはMnO2絶
縁被膜がほぼ数十〜数百人の厚さで薄く形成されている
ことが認められた。次いで、このようにして作成したM
nO2絶縁被膜が表面についたZnO微粉末群は弱い力
で互いに接着しているので5これを乳鉢あるいはボット
ミルでほぐし。
上記ZnO微粉末がそれぞれ複数個集まった微粉末群の
状態とした(以下、この状態のものを粉末状という)。
状態とした(以下、この状態のものを粉末状という)。
この時、一部に上記ZnO微粉末が単独で存在しても差
支えないものであり、このようなZnO微粉末を一部に
含んでの状態のものも粉末状という。
支えないものであり、このようなZnO微粉末を一部に
含んでの状態のものも粉末状という。
次に、上記のようにして得られたMnO2絶縁被膜が表
面に形成された粉末状のZnOに、粉末間の結合を図る
絶縁性の結合剤として低融点ガラス粉末と有機バインダ
ー全添加し、混合した。ここで、結合剤としては低融点
ガラス粉末分が粉末状のZnOに対して6〜20wt%
となるようにしたものとし、それを有機バインダーと例
えば等重量で混合し、ペイント状とした。ここで、有機
バインダーとしてはエチルセルロースを使用し、その固
形分が溶剤(たとえばターピネオール)に対して10
wt%になるように薄めたものとした。
面に形成された粉末状のZnOに、粉末間の結合を図る
絶縁性の結合剤として低融点ガラス粉末と有機バインダ
ー全添加し、混合した。ここで、結合剤としては低融点
ガラス粉末分が粉末状のZnOに対して6〜20wt%
となるようにしたものとし、それを有機バインダーと例
えば等重量で混合し、ペイント状とした。ここで、有機
バインダーとしてはエチルセルロースを使用し、その固
形分が溶剤(たとえばターピネオール)に対して10
wt%になるように薄めたものとした。
次いで、上記のようにして得られたペイントラ第2図に
示すようにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の
設けられたガラス基板3上に例えはスクリーン印刷で塗
布し、その上に同じ< ITO電極2の設けられたガラ
ス基板4を載置し、300〜550℃で1o〜30分間
、大気中で熱処理し。
示すようにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の
設けられたガラス基板3上に例えはスクリーン印刷で塗
布し、その上に同じ< ITO電極2の設けられたガラ
ス基板4を載置し、300〜550℃で1o〜30分間
、大気中で熱処理し。
電極1.2間に電圧非直線性素子6を設けた。第1図は
、電圧非直線性素子6の拡大断面図であり、6はZnO
粉末、アはZnO粉末6の表面に施されたMnO2絶縁
被膜、8はそれらZnO粉末6間を機械的に結合してい
る絶縁性結合剤の低融点ガラスであり、この低融点ガラ
ス8でもってZnO粉末60間は互いに固められている
。第3図はITO電極1a、1bが設けられたガラス基
板32L上に電圧非直線性素子5を構成した場合を示し
ている。
、電圧非直線性素子6の拡大断面図であり、6はZnO
粉末、アはZnO粉末6の表面に施されたMnO2絶縁
被膜、8はそれらZnO粉末6間を機械的に結合してい
る絶縁性結合剤の低融点ガラスであり、この低融点ガラ
ス8でもってZnO粉末60間は互いに固められている
。第3図はITO電極1a、1bが設けられたガラス基
板32L上に電圧非直線性素子5を構成した場合を示し
ている。
次に、上記のようにして作成された電圧非直線性素子の
電圧−電流特性について説明する。まず。
電圧−電流特性について説明する。まず。
第4図は第2図の構成における電圧−電流特性を従来の
ZnOバリスタのそれと比較して示している。本発明の
素子は、まず酸化亜鉛を700°Cで焼成し、これにM
nO2を0.5mo1%添加したものを900°C16
0分間熱処理した後、この平均粒予後6〜10μmのZ
nO粉末と奥野製薬■製の低融点ガラス微粉末(ZnO
粉末に対して20wt%)に上記有機バインダーを等重
量で混合したものにおいて、素子面積t1−9電極間距
離i30μmとした場合における特性を示している。さ
て、電圧非直線性素子の電圧−電流特性は、よく知られ
ているように近似的に次式で示されている。
ZnOバリスタのそれと比較して示している。本発明の
素子は、まず酸化亜鉛を700°Cで焼成し、これにM
nO2を0.5mo1%添加したものを900°C16
0分間熱処理した後、この平均粒予後6〜10μmのZ
nO粉末と奥野製薬■製の低融点ガラス微粉末(ZnO
粉末に対して20wt%)に上記有機バインダーを等重
量で混合したものにおいて、素子面積t1−9電極間距
離i30μmとした場合における特性を示している。さ
て、電圧非直線性素子の電圧−電流特性は、よく知られ
ているように近似的に次式で示されている。
1、、KV’
ここで5 工は素子に流れる電流、Vは素子の電極間の
電圧、には固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述
した電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直
線指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることに
なる。
電圧、には固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述
した電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直
線指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることに
なる。
第4図の特性に示されるように5特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、 1o 4ム以下の電流では良好な電圧非直
線性素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性ムで
示される本発明の素子では低電流域においても電圧非直
線指数αが大きく。
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、 1o 4ム以下の電流では良好な電圧非直
線性素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性ムで
示される本発明の素子では低電流域においても電圧非直
線指数αが大きく。
10−10ム程度の電流域でも十分に電圧非直線性素子
としての機能を発揮することができることを示している
。また1通常、ZnOバリスタにおいてはバリスタ特性
を表わすのに1例えば素子に1rnAの電流を流した時
の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧V1mムと呼び、
このバリスタ電圧v1mAと上記′11j、圧非直線指
数αとを使用している。本発明の素子では、上述したよ
うに、低電流域においても電圧非直線指数αが大きく、
バリスタ電圧全第4図に指すように例えばV4phで表
わすことができる。
としての機能を発揮することができることを示している
。また1通常、ZnOバリスタにおいてはバリスタ特性
を表わすのに1例えば素子に1rnAの電流を流した時
の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧V1mムと呼び、
このバリスタ電圧v1mAと上記′11j、圧非直線指
数αとを使用している。本発明の素子では、上述したよ
うに、低電流域においても電圧非直線指数αが大きく、
バリスタ電圧全第4図に指すように例えばV4phで表
わすことができる。
このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは2電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
することができるのは2電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
また、本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性結合
剤の低融点ガラスでもって固めたものであるため、それ
ぞれの半導体物質の間は点接触となり、接触面積が小さ
いこと、また結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さく
なっていることによるものと考えられる。
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性結合
剤の低融点ガラスでもって固めたものであるため、それ
ぞれの半導体物質の間は点接触となり、接触面積が小さ
いこと、また結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さく
なっていることによるものと考えられる。
ここで、第4図の特性は上述したように電極間距離を3
0μmとした素子についてのものであるが、これはZn
O粉末の平均粒子径が6〜10μmという比較的大きい
粒子径のためにこれ以上狭くすることができないからで
ある。すなわち、ZnO粉末の平均粒子径が0.3〜3
μmのものを使えば。
0μmとした素子についてのものであるが、これはZn
O粉末の平均粒子径が6〜10μmという比較的大きい
粒子径のためにこれ以上狭くすることができないからで
ある。すなわち、ZnO粉末の平均粒子径が0.3〜3
μmのものを使えば。
電極間距離が10μm程度もしくはそれ以下の素子を作
成することができるのであり、その場合においても第4
図に示すような良好な特性が得られることを本発明者ら
は実験により確認した。
成することができるのであり、その場合においても第4
図に示すような良好な特性が得られることを本発明者ら
は実験により確認した。
第6図は本発明において、酸化マンガンの添加量を変え
た場合のバリスタ電圧v1ph+電圧非直線指数αおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示している。ここで
、酸化亜鉛の焼成温度など。
た場合のバリスタ電圧v1ph+電圧非直線指数αおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示している。ここで
、酸化亜鉛の焼成温度など。
その他の条件は第4図の場合の条件と同一とした。
第6図に示されるように、本発明素子においては並列静
電容量が従来のZnOバリスタが1000〜20000
PFであるのに対して非常に小さいものとなっている。
電容量が従来のZnOバリスタが1000〜20000
PFであるのに対して非常に小さいものとなっている。
この並列静電容量が本発明素子において74%さい理由
は、上述したように半導体物質間の接触面積が小さいこ
とによるものである。
は、上述したように半導体物質間の接触面積が小さいこ
とによるものである。
なお5上記の実施例においては、半導体物質としては%
Znot例にとり説明したが、それ以外の半導体物質
であっても差支えないことはもちろんである。また、同
様に絶縁被膜を構成する材料としては、MnO2単独に
限られることはなく、MnO2に主成分として、ムl、
Ti、Sr、Mg。
Znot例にとり説明したが、それ以外の半導体物質
であっても差支えないことはもちろんである。また、同
様に絶縁被膜を構成する材料としては、MnO2単独に
限られることはなく、MnO2に主成分として、ムl、
Ti、Sr、Mg。
Ni、Or、8iなどの金属酸化物またはこれらの金属
の有機金属化合物を単独または組合せて使用することが
できるものである。
の有機金属化合物を単独または組合せて使用することが
できるものである。
発明の効果
以上の説明より明らかなように本発明の電圧非直線性素
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、消費
電流の小さい液晶、KLなどのデバイスのスイッチング
素子として最適な素子を提供できるものである。また電
極間距離を狭くして素子を形成することができるため、
バリスタ電圧の低いものが得られ、上記電圧非直線指数
αが大きいことと相まって従来のZnOバリスタでは対
応することのできなかった低電圧用ICの保護素子や低
い電圧における電圧安定化素子として使用することがで
きる。さらに、低融点ガラスで固めて素子形成を行うた
めに高温プロセスを必要とすることなく簡単にして作る
ことができるため5回路基板上やガラス基板上に素子を
直接形成することができるものである。このように種々
の特徴を有する本発明の電圧非直線性素子は、今までの
ZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待
できるものであり、その産業性は犬なるものである。
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、消費
電流の小さい液晶、KLなどのデバイスのスイッチング
素子として最適な素子を提供できるものである。また電
極間距離を狭くして素子を形成することができるため、
バリスタ電圧の低いものが得られ、上記電圧非直線指数
αが大きいことと相まって従来のZnOバリスタでは対
応することのできなかった低電圧用ICの保護素子や低
い電圧における電圧安定化素子として使用することがで
きる。さらに、低融点ガラスで固めて素子形成を行うた
めに高温プロセスを必要とすることなく簡単にして作る
ことができるため5回路基板上やガラス基板上に素子を
直接形成することができるものである。このように種々
の特徴を有する本発明の電圧非直線性素子は、今までの
ZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待
できるものであり、その産業性は犬なるものである。
第1図は本発明に係わる電圧非直線性素子の一実施例を
示す拡大断面図、第2図および第3図はそれぞれ本発明
の素子をガラス基板上に設けた実施例を示す断面図、第
4図は本発明素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流
特性を示す図、第6図は本発明素子においてMnO2の
添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ電圧
V14Aおよび並列静電容量Cの変化する様子を示す図
である。 1−1a 、 1b 、 2−・−I T O電極、3
−3a4・・・・・・ガラス基板、5・・・・・・電圧
非直線性素子、6・・・・ZnO粉末、7・・・・・・
MnO2絶縁被膜、8・・・・・・低融点ガラス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名の 城 第4図 一± !ミ<v) 第5図
示す拡大断面図、第2図および第3図はそれぞれ本発明
の素子をガラス基板上に設けた実施例を示す断面図、第
4図は本発明素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流
特性を示す図、第6図は本発明素子においてMnO2の
添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ電圧
V14Aおよび並列静電容量Cの変化する様子を示す図
である。 1−1a 、 1b 、 2−・−I T O電極、3
−3a4・・・・・・ガラス基板、5・・・・・・電圧
非直線性素子、6・・・・ZnO粉末、7・・・・・・
MnO2絶縁被膜、8・・・・・・低融点ガラス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名の 城 第4図 一± !ミ<v) 第5図
Claims (1)
- MnO_2を主成分とする薄い絶縁被膜を有した微粉
末状の半導体物質が複数個集まった状態を一つの粉末と
し、その粉末間もしくは一部に上記微粉末を含む粉末間
を低融点ガラスで固め、電極を備えてなることを特徴と
する電圧非直線性素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035969A JPS62193203A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035969A JPS62193203A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62193203A true JPS62193203A (ja) | 1987-08-25 |
Family
ID=12456757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61035969A Pending JPS62193203A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62193203A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5083790A (ja) * | 1973-11-28 | 1975-07-07 | ||
JPS51100298A (ja) * | 1975-02-28 | 1976-09-04 | Seikosha Kk | |
JPS5344899A (en) * | 1976-09-13 | 1978-04-22 | Gen Electric | Metal oxide varistor and method of manufacture thereof |
-
1986
- 1986-02-20 JP JP61035969A patent/JPS62193203A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5083790A (ja) * | 1973-11-28 | 1975-07-07 | ||
JPS51100298A (ja) * | 1975-02-28 | 1976-09-04 | Seikosha Kk | |
JPS5344899A (en) * | 1976-09-13 | 1978-04-22 | Gen Electric | Metal oxide varistor and method of manufacture thereof |
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