JPS62187475A - 有機ケイ素化合物およびその製法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、−最的に、ケイ素結合アシルアミノ置換炭化
水素基を含有する有機ケイ素化合物の製。
水素基を含有する有機ケイ素化合物の製。
法、この製法によって得られる有機ケイ素化合物、その
有機ケイ素化合物を含む硬化性コーティング組成物、お
よび硬化した有機ケイ素化合物のコーティングを有する
基材の製法に係る。さらに、好ましい態様において、本
発明はケイ素結合アクリリルアミノ置換炭化水素基を有
する有機ケイ素化合物に係る。
有機ケイ素化合物を含む硬化性コーティング組成物、お
よび硬化した有機ケイ素化合物のコーティングを有する
基材の製法に係る。さらに、好ましい態様において、本
発明はケイ素結合アクリリルアミノ置換炭化水素基を有
する有機ケイ素化合物に係る。
〔従来の技術と発明が解決しようとする問題点〕ケイ素
結合アシルアミノ置換炭化水素基を含有する有機ケイ素
化合物はよく知られている。
結合アシルアミノ置換炭化水素基を含有する有機ケイ素
化合物はよく知られている。
Morehouseへの米国特許第2,929,829
号は少なくとも3個の炭素原子を含むポリメチレン結6
を介してケイ素原子と結合したアシルアミノ基を含有す
る有機ケイ素化合物が、アミノアルキル基を有する有機
ケイ素化合物とモノカルボン酸またはそのエステル、ハ
ライドもしくは無水物との反応によって製造され得るこ
とを教示している。モノカルボン酸ハライドの場合、典
型的には反応はトリエチルアミンなどのハロゲン化水素
掃去剤の存在において行なわれる。副生ずるアミンハイ
ドロハライド塩は屡々取扱いおよび所望の生成物から完
全に除去することが困難であることはよく知られている
。
号は少なくとも3個の炭素原子を含むポリメチレン結6
を介してケイ素原子と結合したアシルアミノ基を含有す
る有機ケイ素化合物が、アミノアルキル基を有する有機
ケイ素化合物とモノカルボン酸またはそのエステル、ハ
ライドもしくは無水物との反応によって製造され得るこ
とを教示している。モノカルボン酸ハライドの場合、典
型的には反応はトリエチルアミンなどのハロゲン化水素
掃去剤の存在において行なわれる。副生ずるアミンハイ
ドロハライド塩は屡々取扱いおよび所望の生成物から完
全に除去することが困難であることはよく知られている
。
TangneyおよびZiemelisへの米国特許第
4.507.455号は、アシル化したN−(アミノヒ
ドロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含む有機ケ
イ素化合物がモノカルボン酸無水物をN−(アミノヒド
ロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含む有機ケイ
素化合物と混合することからなる方法によって製造され
得ることを教示している。しかしながら、この方法では
、通常、真空蒸留工程によって所望の生成物を単離する
が、この工程はアクリル化したアミノ置換炭化水素基を
含む化合物のような温度に敏感な化合物に使用すること
はできない。
4.507.455号は、アシル化したN−(アミノヒ
ドロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含む有機ケ
イ素化合物がモノカルボン酸無水物をN−(アミノヒド
ロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含む有機ケイ
素化合物と混合することからなる方法によって製造され
得ることを教示している。しかしながら、この方法では
、通常、真空蒸留工程によって所望の生成物を単離する
が、この工程はアクリル化したアミノ置換炭化水素基を
含む化合物のような温度に敏感な化合物に使用すること
はできない。
Takanizawaらの特開昭56−74113号公
報は不飽和を含みかつ光重合性であるアシルアミノ置換
炭化水素基を有するオルガノポリシロキサンを含む光硬
化性オルガノポリシロキサン組成物を開示している。こ
の光重合性オルガノポリシロキサンはMorebous
eの方法によって製造され、」−記の欠点を有する。さ
らに、たとえ塩化水素を除去するためにトリエチルアミ
ン、ピリジンまたはキノリンなどの第三アミンが大過剰
に存在しても、塩化アクリリルの二重結合へのllCl
の付加が起きてクロロプロピオン酸が生成し、その分だ
けアクリリル活性が失なわれる。
報は不飽和を含みかつ光重合性であるアシルアミノ置換
炭化水素基を有するオルガノポリシロキサンを含む光硬
化性オルガノポリシロキサン組成物を開示している。こ
の光重合性オルガノポリシロキサンはMorebous
eの方法によって製造され、」−記の欠点を有する。さ
らに、たとえ塩化水素を除去するためにトリエチルアミ
ン、ピリジンまたはキノリンなどの第三アミンが大過剰
に存在しても、塩化アクリリルの二重結合へのllCl
の付加が起きてクロロプロピオン酸が生成し、その分だ
けアクリリル活性が失なわれる。
Takamizawaらの米国特許第4,075,16
7号は、光重合性であるマレイミド基含有有機ゲイ素化
合物を開示する。この方法はモノアミノヒドロカルビル
基を含有する有機ゲイ素化合物から十分にアシル化した
生成物を提供するが、このようなことはN−(アミノヒ
ドロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含有する有
機ケイ素化合物では起こらない。後者の場合、第三アミ
ンの水素がアシル化されないか、もしくはもしされたと
しても、マレイミド反応から未反応カルボキシル基が生
成物中に残る。
7号は、光重合性であるマレイミド基含有有機ゲイ素化
合物を開示する。この方法はモノアミノヒドロカルビル
基を含有する有機ゲイ素化合物から十分にアシル化した
生成物を提供するが、このようなことはN−(アミノヒ
ドロカルビル)−アミノヒドロカルビル基を含有する有
機ケイ素化合物では起こらない。後者の場合、第三アミ
ンの水素がアシル化されないか、もしくはもしされたと
しても、マレイミド反応から未反応カルボキシル基が生
成物中に残る。
光重合性有機ケイ素化合物の有用性が非常に大きいので
、アクリリルアミン置換有機クイ素化合物を製造する新
規で改良された方法を提供することは有用である。
、アクリリルアミン置換有機クイ素化合物を製造する新
規で改良された方法を提供することは有用である。
本発明の目的は完全にアクリリル化したケイ素結合N−
(アミノヒドロカルビル)アミノヒドロカルビル基(本
明細書ではアクリリル化したジアミン基とも称する)を
1個以上含む有機ケイ素化合物を提供することである0
本発明の特別の目的は少なくとも1cmの十分にアクリ
リル化したケイ素結合ジアミン基を含むオルガノポリシ
ロキサン化合物を提供することである。本発明のもう1
つの目的は少なくとも1個のケイ素結合アシルアミノ置
換炭化水素基を含む有機ケイ素化合物の製法を提供する
ことである0本発明のさらにもう1つの目的は硬化性有
機ケイ素化合物および基材上に硬化したケイ素含有コー
ティングを提供する方法を提供することである。
(アミノヒドロカルビル)アミノヒドロカルビル基(本
明細書ではアクリリル化したジアミン基とも称する)を
1個以上含む有機ケイ素化合物を提供することである0
本発明の特別の目的は少なくとも1cmの十分にアクリ
リル化したケイ素結合ジアミン基を含むオルガノポリシ
ロキサン化合物を提供することである。本発明のもう1
つの目的は少なくとも1個のケイ素結合アシルアミノ置
換炭化水素基を含む有機ケイ素化合物の製法を提供する
ことである0本発明のさらにもう1つの目的は硬化性有
機ケイ素化合物および基材上に硬化したケイ素含有コー
ティングを提供する方法を提供することである。
〔問題点を解決するための手段およ5び作用効果〕これ
らの目的および以外の説明および特許請求の範囲の記載
より明らかになるその他の目的は、少なくとも1個のア
シル化可能ケイ素結合アミン置換炭化水素基を含む有機
ケイ素化合物を水性アルカリ性系でアシルハライドと反
応させることからなる本発明によって達成される。アシ
ルハライドがアクリリルハライドである場合、本発明は
容易にアクリリルアミン置換炭化水素基を含む有機ケイ
素化合物を提供し、かつ前記の従来技術の方法に伴なう
多くの問題がない。アミン含有有機ケイ素化合物が1個
以上のジアミン基を含む場合、本発明の方法は十分にア
クリリル化したジアミン基を含む新規な有機ケイ素化合
物を提供する。本発明のアクリリル化した有機ケイ素化
合物は硬化性組成物の反応性成分として特に有用である
。
らの目的および以外の説明および特許請求の範囲の記載
より明らかになるその他の目的は、少なくとも1個のア
シル化可能ケイ素結合アミン置換炭化水素基を含む有機
ケイ素化合物を水性アルカリ性系でアシルハライドと反
応させることからなる本発明によって達成される。アシ
ルハライドがアクリリルハライドである場合、本発明は
容易にアクリリルアミン置換炭化水素基を含む有機ケイ
素化合物を提供し、かつ前記の従来技術の方法に伴なう
多くの問題がない。アミン含有有機ケイ素化合物が1個
以上のジアミン基を含む場合、本発明の方法は十分にア
クリリル化したジアミン基を含む新規な有機ケイ素化合
物を提供する。本発明のアクリリル化した有機ケイ素化
合物は硬化性組成物の反応性成分として特に有用である
。
本明m書において、「アクリリル(acrylyl)
J 。
J 。
「アクリリレート(acrylylate ) J、「
アクリリル化した」、および「アクリリルアミド」など
のような語根として[アクリル(acryl ) Jを
有する用語は、特にことわらない限り、CH2=CIμ
0f19造および/またはCH2=C(CI+、)CO
槽構造指称する。
アクリリル化した」、および「アクリリルアミド」など
のような語根として[アクリル(acryl ) Jを
有する用語は、特にことわらない限り、CH2=CIμ
0f19造および/またはCH2=C(CI+、)CO
槽構造指称する。
第1の側面において、本発明は式−〇NAQ ′NAZ
(式中、ZはHまたはRを示し、Rは1価の炭化水素基
を示し、QおよびQ′は2価の炭化水素基を示し、Aは
式CH,= CBCOを有するアシル基を示し、BはH
またはC11,を示す。)を有する少なくとも1個のケ
イ素結合アシルアミノ置換炭fヒ水素基を含み、残りの
ケイ素結合基が有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の
酸素からなる群から選ばれな有機ケイ素化合物に係る。
(式中、ZはHまたはRを示し、Rは1価の炭化水素基
を示し、QおよびQ′は2価の炭化水素基を示し、Aは
式CH,= CBCOを有するアシル基を示し、BはH
またはC11,を示す。)を有する少なくとも1個のケ
イ素結合アシルアミノ置換炭fヒ水素基を含み、残りの
ケイ素結合基が有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の
酸素からなる群から選ばれな有機ケイ素化合物に係る。
本発明の有機化合物は、少なくとも1個のケイ素原子を
含有し、そのケイ素原子が以下に詳述する完全にアクリ
リル化したジアミン基を含む炭化水素を結きして有し、
その他のケイ素の結合が上記のアクリリルアミノ置換炭
化水素基以外の有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の
酸素原子によって満たされた構造である限り、どのよう
な構造を有していてもよい。6℃って、本発明の化合物
はシラン、シロキサン、ジルカルパンおよびジルカルパ
ンシロキサンを含む。
含有し、そのケイ素原子が以下に詳述する完全にアクリ
リル化したジアミン基を含む炭化水素を結きして有し、
その他のケイ素の結合が上記のアクリリルアミノ置換炭
化水素基以外の有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の
酸素原子によって満たされた構造である限り、どのよう
な構造を有していてもよい。6℃って、本発明の化合物
はシラン、シロキサン、ジルカルパンおよびジルカルパ
ンシロキサンを含む。
ケイ素結合アクリルアミノ置換炭化水素基は式−〇NA
Q ′NAZ (式中、QおよびQ′は2価の炭化水素
基を示し、Zは水素原子または1価の炭化水素基すなわ
ちR基を示し、Aは式C112=CBCOを有するアシ
ル基を示す。)を有する。
Q ′NAZ (式中、QおよびQ′は2価の炭化水素
基を示し、Zは水素原子または1価の炭化水素基すなわ
ちR基を示し、Aは式C112=CBCOを有するアシ
ル基を示す。)を有する。
Q基およびQ′基の例には、限定するわけではないが、
アルキレン基、例えば、 CIIzClh−1−C11
□CIICHz 、 CH2C1zCHz 、
CHzCH(CL)CL−1−(C11□)6−9およ
びアリーレン基、例えば、−C,H,−、−CI2C,
Il、−、Cll2C,H,CI+2−がある。
アルキレン基、例えば、 CIIzClh−1−C11
□CIICHz 、 CH2C1zCHz 、
CHzCH(CL)CL−1−(C11□)6−9およ
びアリーレン基、例えば、−C,H,−、−CI2C,
Il、−、Cll2C,H,CI+2−がある。
炭化水素Z基(R基)の例には、限定するわけではない
が、アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロキ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基;脂環基、例
えば、シクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル
基、ベンジル基、スチリル基、トリル基、ヘキセニル基
;およびアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基が
ある。
が、アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロキ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基;脂環基、例
えば、シクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル
基、ベンジル基、スチリル基、トリル基、ヘキセニル基
;およびアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基が
ある。
好ましい態様において、本発明の化合′物は、エチレン
ジアミンと適当なケイ素結合から調製し、従って式−〇
N1C)f2cII□NH2のケイ素結合ジアミン基を
含む、ケイ素含有前駆体から製造する。従って、本発明
の化合物ではZはHを示すことが好ましく、Q′は−C
H2C■2−を示すことが好ましい。
ジアミンと適当なケイ素結合から調製し、従って式−〇
N1C)f2cII□NH2のケイ素結合ジアミン基を
含む、ケイ素含有前駆体から製造する。従って、本発明
の化合物ではZはHを示すことが好ましく、Q′は−C
H2C■2−を示すことが好ましい。
本発明の化き物においてQはQ′と同じでも異なってい
てもよい。好ましくは、Qは3〜10個の炭素原子を有
するアルキレン基であり、ゲイ素原子とQ基に結合した
窒素との間に少なくとも3個の炭素原子が存在する。好
ましいQ基の例は−CH2C1l(CI、)CI□−で
ある。
てもよい。好ましくは、Qは3〜10個の炭素原子を有
するアルキレン基であり、ゲイ素原子とQ基に結合した
窒素との間に少なくとも3個の炭素原子が存在する。好
ましいQ基の例は−CH2C1l(CI、)CI□−で
ある。
薯
本発明の化合物において、Aは式CIl□= CBCO
(式中、BはHまたはC113を示す。)を有するアシ
ル基すなわちアクリリル基またはメタクリリル基を示す
。
(式中、BはHまたはC113を示す。)を有するアシ
ル基すなわちアクリリル基またはメタクリリル基を示す
。
アクリリルアミノ置換炭化水素基には、限定するわけで
はないが、 がある。
はないが、 がある。
上記のアクリリルアミノ置換炭1ヒ水素基以外のケイ素
結合基には有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の酸素
原子がある。この有機基の例には、限定するわけではな
いが、上記のQ基およびQ′基のようなケイ素原子を結
ぶ2価の炭化水素基、およびそのハロゲン化誘導体;1
価の炭化水素基、例えば、上記のR基、およびそのハロ
ゲン誘導体;ハロゲン原子、水酸基、−0A基およびア
ルコキシ基、例えば、メチル基がある。この有機基はメ
チル基、3,3.3−トリフルオロプロピル基、フェニ
ル基およびビニル基のように6g以下の炭1ヒ水素を含
むものが好ましい。本発明の化合物の殆んどの適用では
この有機基はメチル広である。
結合基には有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の酸素
原子がある。この有機基の例には、限定するわけではな
いが、上記のQ基およびQ′基のようなケイ素原子を結
ぶ2価の炭化水素基、およびそのハロゲン化誘導体;1
価の炭化水素基、例えば、上記のR基、およびそのハロ
ゲン誘導体;ハロゲン原子、水酸基、−0A基およびア
ルコキシ基、例えば、メチル基がある。この有機基はメ
チル基、3,3.3−トリフルオロプロピル基、フェニ
ル基およびビニル基のように6g以下の炭1ヒ水素を含
むものが好ましい。本発明の化合物の殆んどの適用では
この有機基はメチル広である。
本発明の化合物は平均単位式
Rc(NAIIQ’NAQ)as+0x−c−dryz
C式中、CはQ 、、 3の値を有する数、例えば
、0.0.5,1.01.2 。
C式中、CはQ 、、 3の値を有する数、例えば
、0.0.5,1.01.2 。
2.1.3を示し、dはO(Oを含まず)〜4.;’)
値を有する数、例えば、0.01,0.5.1 、2
、3を示し、c+dは1〜4、例えば1.5 、1.9
9 、2.01 、3 。
値を有する数、例えば、0.01,0.5.1 、2
、3を示し、c+dは1〜4、例えば1.5 、1.9
9 、2.01 、3 。
4の値を有する。〕を有するシランまたはジロキサンで
あることが好ましい。もちろん、本発明のシランまたは
シロキサン化合物は、上記のように、分子当り平均少な
くとも1個の十分にアクリリル化したケイ素結合ジアミ
ン基を含有しなければならない。シロキサンは、必要な
アシルアミノ置換炭化水素を含むシロキサン単位のほか
に、アクリリルアミノ置換炭化水素基を含まないシロキ
サン単位、例えば、RcSiOt 4−C1/2単位、
例えば、MeSil)−z22単、Me2Si02z□
単2SieViSi02,2単位、MePhSiOz7
z単位、Me3SiO+zz単位、Mez(0^)SI
O1/2単位、ViMe2SiO+72単位、S j
’ 472単位を含むことができる0本発明のシロキサ
ンは NAHCHzCHJHCHzCII(CHz)CHzS
i(Clls)0□7□のような部分的にアクリリル化
したジアミン基を含むことができる。
あることが好ましい。もちろん、本発明のシランまたは
シロキサン化合物は、上記のように、分子当り平均少な
くとも1個の十分にアクリリル化したケイ素結合ジアミ
ン基を含有しなければならない。シロキサンは、必要な
アシルアミノ置換炭化水素を含むシロキサン単位のほか
に、アクリリルアミノ置換炭化水素基を含まないシロキ
サン単位、例えば、RcSiOt 4−C1/2単位、
例えば、MeSil)−z22単、Me2Si02z□
単2SieViSi02,2単位、MePhSiOz7
z単位、Me3SiO+zz単位、Mez(0^)SI
O1/2単位、ViMe2SiO+72単位、S j
’ 472単位を含むことができる0本発明のシロキサ
ンは NAHCHzCHJHCHzCII(CHz)CHzS
i(Clls)0□7□のような部分的にアクリリル化
したジアミン基を含むことができる。
本発明の好ましいシランは式
(R)esi(QNACH2CI□N^11)、−e(
式中eは0,1,2゜3の値を有する数を示す。)、例
えば H3 Me*5iCHzCHCI12NCHzCHzNHC1
12=C品=00:品11=CH2を有する。
式中eは0,1,2゜3の値を有する数を示す。)、例
えば H3 Me*5iCHzCHCI12NCHzCHzNHC1
12=C品=00:品11=CH2を有する。
本発明の好ましいシロキサンは式
YRzSiO(RzSiOh(YRSiO)ysiR2
Y (式中、各Yは独立にR基または一〇NMC112
CH2NAH基を示し、Xおよびyはそれぞれ0〜50
00および0〜500の平均値を有する。〕を有する。
Y (式中、各Yは独立にR基または一〇NMC112
CH2NAH基を示し、Xおよびyはそれぞれ0〜50
00および0〜500の平均値を有する。〕を有する。
本発明の好ましいシロキサンの例には、限定するわけで
はないが、MesSiO(Ne2SiO)soo(Me
YSiO)2siMe* 。
はないが、MesSiO(Ne2SiO)soo(Me
YSiO)2siMe* 。
YMezSiO(He2SiO)zooosiMe2Y
。
。
YNezSiO(He2SiO) I 。o(MeYS
iO) tsiMe2Y 。
iO) tsiMe2Y 。
Ne:+SiO(MeYSiO)+SiMesおよびY
Me、SiO(MeYSiO) 、5iNe2Yがある
。
Me、SiO(MeYSiO) 、5iNe2Yがある
。
本発明のシロキサンは上記の線状構造のほかに(YMe
zSiO)、Siおよび(YMeSiO)<のような環
状または分校構造を有してもよい。
zSiO)、Siおよび(YMeSiO)<のような環
状または分校構造を有してもよい。
本発明の化合物の別の例は、それらの製法の説明、本発
明の硬化性組成物におけるその使用の説明、基材へのコ
ーティング方法の説明、および浸出の実施例において記
載する。
明の硬化性組成物におけるその使用の説明、基材へのコ
ーティング方法の説明、および浸出の実施例において記
載する。
本明細書において、略号Me、PhおよびViはそれぞ
れメチル基、フェニル基およびビニル基を示す。
れメチル基、フェニル基およびビニル基を示す。
本発明の有機ケイ素化合物は本発明の方法により製造す
ることが可能である0本発明の方法は特に本発明の化合
物の製造のために開発されたが、どのようなケイ素結合
アシルアミン置換炭化水素基を含む有機ケイ素化合物の
製造にも極めて有用であることが見い出された。
ることが可能である0本発明の方法は特に本発明の化合
物の製造のために開発されたが、どのようなケイ素結合
アシルアミン置換炭化水素基を含む有機ケイ素化合物の
製造にも極めて有用であることが見い出された。
こうして、第2の側面において、本発明は少なくとも1
個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化水素基を含む有機
ケイ素化合物の製造方法に係る。
個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化水素基を含む有機
ケイ素化合物の製造方法に係る。
この方法は、(1)少なくとも1個の窒素結合水素を含
む少なくとも1個のケイ素結合アミノ置換炭化水素基を
有しかつその他の全部のケイ素の原子価は有機基および
ケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子からなる群から選ば
れた基で満たされたアミ、ノケイ素化合物を含む組成物
(ii)にアシルハライドを含む組成物(i)を混合し
、この混合は水溶性アルカリ性物質の水溶液(iii)
および(ii)の水不溶性溶剤の存在において行ない、
成分(i)、(ii)、(iii)の量はアミンケイ素
化合物の分子当り少なくとも1個の窒素結合水素原子を
含む少なくとも1個のアミン窒素原子をアシル化しかつ
アシルハライドの量に関して少なくとも等価な量のアル
カリ性物質を提供するのに十分な量とし、そしてその後
(II )(i )および(ii)を含む混合物を撹拌
して前記化合物を生成することからなる。
む少なくとも1個のケイ素結合アミノ置換炭化水素基を
有しかつその他の全部のケイ素の原子価は有機基および
ケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子からなる群から選ば
れた基で満たされたアミ、ノケイ素化合物を含む組成物
(ii)にアシルハライドを含む組成物(i)を混合し
、この混合は水溶性アルカリ性物質の水溶液(iii)
および(ii)の水不溶性溶剤の存在において行ない、
成分(i)、(ii)、(iii)の量はアミンケイ素
化合物の分子当り少なくとも1個の窒素結合水素原子を
含む少なくとも1個のアミン窒素原子をアシル化しかつ
アシルハライドの量に関して少なくとも等価な量のアル
カリ性物質を提供するのに十分な量とし、そしてその後
(II )(i )および(ii)を含む混合物を撹拌
して前記化合物を生成することからなる。
本発明の方法では、用いるアシルハライドはいかなる構
造を有していてらよく、例えば、芳香族系、複素環系、
オレフィン系またはパラフィン系の結合を有しかつ1個
以上の炭素結合−COX基(式中、Xはハロゲン基を示
す。)を含む線状、分枝状または環状のi造である。ア
シルハライドはR’゛C0X(式中、Xはハロゲン原子
、好ましくは塩素を示し、R″は置換または非置換せる
1価の炭fヒ水素基を示す、)の構造を有することが好
ましい。
造を有していてらよく、例えば、芳香族系、複素環系、
オレフィン系またはパラフィン系の結合を有しかつ1個
以上の炭素結合−COX基(式中、Xはハロゲン基を示
す。)を含む線状、分枝状または環状のi造である。ア
シルハライドはR’゛C0X(式中、Xはハロゲン原子
、好ましくは塩素を示し、R″は置換または非置換せる
1価の炭fヒ水素基を示す、)の構造を有することが好
ましい。
非置換せるR ”の例には、限定するわけではないが、
炭化水素基(R基)として前に記載したちのがある。対
応するアシルハライドの例には塩fヒアセチル、塩化ベ
ンゾイル、より好ましくは塩化アクリリル、塩化メタク
リジルがある。
炭化水素基(R基)として前に記載したちのがある。対
応するアシルハライドの例には塩fヒアセチル、塩化ベ
ンゾイル、より好ましくは塩化アクリリル、塩化メタク
リジルがある。
置換せるR″の例には、限定するわけではないが、−C
F、および−C,11,C1などのハロゲン化したR基
、および−CIf□C1l□CN 、 −C,11,N
O□および−C(CN)・CH2などの本発明の方法に
おいて用いる反応条件下で安定なその他の置換せる基が
ある。
F、および−C,11,C1などのハロゲン化したR基
、および−CIf□C1l□CN 、 −C,11,N
O□および−C(CN)・CH2などの本発明の方法に
おいて用いる反応条件下で安定なその他の置換せる基が
ある。
本発明の方法では、アシル化されるべきアミノシリコン
化合物は、少なくとも1個のケイ素原子を含み、そのケ
イ素原子が1個以上のアミン基(そのうち少なくとも1
個は窒素結合水素原子を有する)を有するアミノ置換炭
化水素基をそれに結合して有し、そしてその他のケイ素
の結合は上記のアミン基以外の有機基およびケイ素原子
間を結ぶ2価の酸素原子によって満たされている限り、
いかなる構造であってもよい。従って、アミンケイ素化
合物はシラン、シロキサン、ジルカルパンまたはジルカ
ルパンシロキサンであることができる。
化合物は、少なくとも1個のケイ素原子を含み、そのケ
イ素原子が1個以上のアミン基(そのうち少なくとも1
個は窒素結合水素原子を有する)を有するアミノ置換炭
化水素基をそれに結合して有し、そしてその他のケイ素
の結合は上記のアミン基以外の有機基およびケイ素原子
間を結ぶ2価の酸素原子によって満たされている限り、
いかなる構造であってもよい。従って、アミンケイ素化
合物はシラン、シロキサン、ジルカルパンまたはジルカ
ルパンシロキサンであることができる。
ケイ素結合アミノ置換炭化水素基は式
−Q(NIIQ’)aNH2[式中、Q、Q’およびZ
は本発明の化合物について前に指定した一般的および好
ましい意味を有し、aは0または1の値を有する。]を
有する。
は本発明の化合物について前に指定した一般的および好
ましい意味を有し、aは0または1の値を有する。]を
有する。
アミノ置換炭化水素基の例には、限定するわけではない
が、N 112C112CII□CH2−、Cf1.N
IICII□CIf2CI!2− 。
が、N 112C112CII□CH2−、Cf1.N
IICII□CIf2CI!2− 。
NH2CH2C11(C11,)C11□−2N11□
C112CI2NIICH2CIl□CH2。
C112CI2NIICH2CIl□CH2。
N11□Cl2CI2N+1C112CI(CII3)
CH2−2NH2(CII2)、NH(CH2)3−お
よびN11□(CH2)、N11C11□C11(Cf
3)CII2−がある。
CH2−2NH2(CII2)、NH(CH2)3−お
よびN11□(CH2)、N11C11□C11(Cf
3)CII2−がある。
上記のアミノ置換炭化水素基以外のケイ素原子基には有
機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子がある。
機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子がある。
この有機基には、限定するわけではないが、上記のQ基
およびQ′基のようなケイ素原子間を結ぶ2価の炭化水
素基、およびそのハロゲン化誘導体、上記のR基のよう
な1価の炭化水素基、およびそのハロゲン化誘導体、メ
トキシ基などのアルコキシ基、水酸基、−〇A基、およ
び水素原子がある。この有機基はメチル基、3,3゜3
−トリフルオロプロピル基、フェニル基およびビニル基
のように6個以下の炭素原子を含むことが好ましく、最
も好ましくはメチル基である。
およびQ′基のようなケイ素原子間を結ぶ2価の炭化水
素基、およびそのハロゲン化誘導体、上記のR基のよう
な1価の炭化水素基、およびそのハロゲン化誘導体、メ
トキシ基などのアルコキシ基、水酸基、−〇A基、およ
び水素原子がある。この有機基はメチル基、3,3゜3
−トリフルオロプロピル基、フェニル基およびビニル基
のように6個以下の炭素原子を含むことが好ましく、最
も好ましくはメチル基である。
本発明の方法によりアシル化したアミノケイ素化合物は
平均式Re(NH2(Q ’NH)aQ)dS!Ot
<−c−=nzt〔式中、Cは0〜3の値を有する数、
例えば、0゜0.5,1.01.2.2.1 、3を示
し、dは0(0は含まず)〜4の値を有する数、例えば
、0.01 、0.5 。
平均式Re(NH2(Q ’NH)aQ)dS!Ot
<−c−=nzt〔式中、Cは0〜3の値を有する数、
例えば、0゜0.5,1.01.2.2.1 、3を示
し、dは0(0は含まず)〜4の値を有する数、例えば
、0.01 、0.5 。
1.2.3を示し、c+dは1〜4の値、例えば、1.
5 、1.99 、2.01 、3 、4を示す、〕を
有するシランまたはシロキサンであることが好ましい、
もちろん、このアミノシランまたはシロキサンは分子当
り平均して少なくとも1個のケイ素結合、アミン置換炭
化水素を含有する。シロキサンは、必要なアミノ置換炭
化水素基を含むシロキサン単位のほかに、アミノ置換炭
化水素基、例えば、RCS;0+ 4−C1/2、例え
ば、MeSiOiz2単位、Me2Si027□単2S
i463si01z2単位、MeViSi02y2単位
、MePl+SiO□、z単位、Me+(0^)S;0
+、z単位、ViMe2Si(L7□単位およびSiO
+z2単位を含まないシロキサン単位を含むことが可能
である。
5 、1.99 、2.01 、3 、4を示す、〕を
有するシランまたはシロキサンであることが好ましい、
もちろん、このアミノシランまたはシロキサンは分子当
り平均して少なくとも1個のケイ素結合、アミン置換炭
化水素を含有する。シロキサンは、必要なアミノ置換炭
化水素基を含むシロキサン単位のほかに、アミノ置換炭
化水素基、例えば、RCS;0+ 4−C1/2、例え
ば、MeSiOiz2単位、Me2Si027□単2S
i463si01z2単位、MeViSi02y2単位
、MePl+SiO□、z単位、Me+(0^)S;0
+、z単位、ViMe2Si(L7□単位およびSiO
+z2単位を含まないシロキサン単位を含むことが可能
である。
アシル化すべき好ましいアミノシランは式(R)aSi
(QNIIC11□C11zNl12)4−0〔式中、
eは0,1,2、または3の値を有する数を示す、〕を
有し、例えば、MesSiCllzCll(Cf3)C
IlzNIICH2CIIzNHzである。
(QNIIC11□C11zNl12)4−0〔式中、
eは0,1,2、または3の値を有する数を示す、〕を
有し、例えば、MesSiCllzCll(Cf3)C
IlzNIICH2CIIzNHzである。
アシル化すべき好ましいアミノシロキサンは式Y ’R
25iO(RzS+0)x(Y ’R51O)ysiR
2Y ’ C式中各Y′は独立にR基または−QNHC
H2CHzNH2基を示し、Xおよびyはそれぞれ0〜
5000および0〜500の平均値を有する数を示す、
〕を有する。アシル化すべき好ましいアミノシロキサン
の例には、限定するわけではないが、 MeiSiO(He2SiO)soo(MeY’5iO
)zsiNes 。
25iO(RzS+0)x(Y ’R51O)ysiR
2Y ’ C式中各Y′は独立にR基または−QNHC
H2CHzNH2基を示し、Xおよびyはそれぞれ0〜
5000および0〜500の平均値を有する数を示す、
〕を有する。アシル化すべき好ましいアミノシロキサン
の例には、限定するわけではないが、 MeiSiO(He2SiO)soo(MeY’5iO
)zsiNes 。
Y ’MezSiO(HezSiO) 2ooosiM
e2Y ’ 。
e2Y ’ 。
Y ’Me2SiO(He2SiO) Ioo (He
’l ’5in) 、SiMe2Y ’ 。
’l ’5in) 、SiMe2Y ’ 。
He1SiO(NeY ’5io) 1Sidesおよ
び’l ’Me2SiO(MeY ’5in) +Si
Me2Y ’がある。アミノシロキサンは上記の線形構
造のほかに(Y ’Me2Sin)4Siおよび(Y
’MeSiO)4のような環状または枝分れ構造を有し
てもよい。
び’l ’Me2SiO(MeY ’5in) +Si
Me2Y ’がある。アミノシロキサンは上記の線形構
造のほかに(Y ’Me2Sin)4Siおよび(Y
’MeSiO)4のような環状または枝分れ構造を有し
てもよい。
本発明の方法によってアクリル化することが可能である
アミンケイ素化合物の別の件は後出の例に開示されてい
る。
アミンケイ素化合物の別の件は後出の例に開示されてい
る。
アミノケイ素化合物は有機ケイ素分野においてよく知ら
れおり、その製法についてはここで説明する必要はない
。市販もされている。米国特許第2.557,803号
、同第2,738,357号、同第2,754,312
号、同第2,762,823号、同第2,998,40
6号、同第3.045,036号、同第3,087,9
09号、同第3,355,424号、同第3,560,
543号、同第3,890,269号、同第4.036
,868号、同第4,152,346号、同第4,50
7,455号の開示は本発明の方法に用いることが可能
であるアミノゲイ素化合物の製造方法をさらに教示して
いる。
れおり、その製法についてはここで説明する必要はない
。市販もされている。米国特許第2.557,803号
、同第2,738,357号、同第2,754,312
号、同第2,762,823号、同第2,998,40
6号、同第3.045,036号、同第3,087,9
09号、同第3,355,424号、同第3,560,
543号、同第3,890,269号、同第4.036
,868号、同第4,152,346号、同第4,50
7,455号の開示は本発明の方法に用いることが可能
であるアミノゲイ素化合物の製造方法をさらに教示して
いる。
本発明の方法において、アシルハライドをアルカリ性物
質の水溶液の存在においてアミノケイ素fヒ合物に混合
する。アルカリ性物質はアシル化すべきアミノ置換炭化
水素基におけるアミン基の1)Kl)より大きいpKb
値を有するいかなる水溶性物質であることができる。ア
ルカリ性物質は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
のようなアルカリ金属水酸化物であることが好ましい。
質の水溶液の存在においてアミノケイ素fヒ合物に混合
する。アルカリ性物質はアシル化すべきアミノ置換炭化
水素基におけるアミン基の1)Kl)より大きいpKb
値を有するいかなる水溶性物質であることができる。ア
ルカリ性物質は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
のようなアルカリ金属水酸化物であることが好ましい。
アルカリ性物質水溶液のほかに、アシルハライドをアミ
ンケイ素化合物に混合した場合にアミノゲイ素化合物の
水不溶性溶剤も存在する。この溶剤は反応成分と反応し
ないどの適当な液体でもよい。この溶剤は反応の有機ケ
イ素生成物の溶剤でもあることが好ましい。
ンケイ素化合物に混合した場合にアミノゲイ素化合物の
水不溶性溶剤も存在する。この溶剤は反応成分と反応し
ないどの適当な液体でもよい。この溶剤は反応の有機ケ
イ素生成物の溶剤でもあることが好ましい。
適当な溶剤の例には、限定するわけではないが、トルエ
ン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンの
ような炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、トリク
ロロエチレンおよびトリクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素;およびエチルエーテルおよび酢酸エチルの
ような酸素含有(oxygenatey)化合物がある
。
ン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンの
ような炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、トリク
ロロエチレンおよびトリクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素;およびエチルエーテルおよび酢酸エチルの
ような酸素含有(oxygenatey)化合物がある
。
本発明の方法では、反応混合物の必要な成分、すなわち
、アシルハライド、アミノケイ素化合物、アルカリ性物
質水溶液および溶剤は、アシルハライドをアミンケイ素
化合物にその他2つの必要成分の存在において添加する
限り、どのような仕方で混合してもよい。好ましい態様
では、アシルハライドをアルカリ性水溶液とアミノケイ
素物質の溶剤溶液とをよく撹拌した混合物に添加する。
、アシルハライド、アミノケイ素化合物、アルカリ性物
質水溶液および溶剤は、アシルハライドをアミンケイ素
化合物にその他2つの必要成分の存在において添加する
限り、どのような仕方で混合してもよい。好ましい態様
では、アシルハライドをアルカリ性水溶液とアミノケイ
素物質の溶剤溶液とをよく撹拌した混合物に添加する。
アシルハライドがアクリリルハライドである場合を除い
て、本発明の方法はどの適当な温度でも実施することが
できる。有利には、この方法は室温で容易に行なう。ア
クリリルハライドを用いる場合、この方法は副生成物の
生成を最小限にするためにできるだけ低い温度で行なう
べきである。
て、本発明の方法はどの適当な温度でも実施することが
できる。有利には、この方法は室温で容易に行なう。ア
クリリルハライドを用いる場合、この方法は副生成物の
生成を最小限にするためにできるだけ低い温度で行なう
べきである。
従って、アクリリル置換アミノケイ素化合物を製造する
ために本発明の方法を用いる場合、反応は0〜10℃の
温度で行なうべきである。水が凍結しない限りより低い
反応温度が適当であるが、より高い反応温度では所望の
生成物の収率を実質的に低下させる。
ために本発明の方法を用いる場合、反応は0〜10℃の
温度で行なうべきである。水が凍結しない限りより低い
反応温度が適当であるが、より高い反応温度では所望の
生成物の収率を実質的に低下させる。
この方法で用いるべき必要成分の量は厳密に臨界的では
なく、アシルハライドが窒素結合水素原子と反応すると
き生成するすべてのハロゲン化水素を中性にするために
十分な量のアルカリ性物質が存在し、かつアミノケイ素
化合物のすべての分子が少なくとも1度はアシル化する
ために十分な星のアシルハライドが存在することだけが
必要である。
なく、アシルハライドが窒素結合水素原子と反応すると
き生成するすべてのハロゲン化水素を中性にするために
十分な量のアルカリ性物質が存在し、かつアミノケイ素
化合物のすべての分子が少なくとも1度はアシル化する
ために十分な星のアシルハライドが存在することだけが
必要である。
従って、アルカリ性物質とアシルハライドは等価な量、
例えば、塩化アクリリルの各分子に水酸化ナトリウム1
分子で用いることが好ましいが、生成するハロゲン化水
素の量に関して過剰のアルカリ性物質は反応の所望の結
果に対して悪い影響はないことが見い出されている。生
成するハロゲン化水素の量に関してアルカリ性物質が不
足することは避けるべきである。
例えば、塩化アクリリルの各分子に水酸化ナトリウム1
分子で用いることが好ましいが、生成するハロゲン化水
素の量に関して過剰のアルカリ性物質は反応の所望の結
果に対して悪い影響はないことが見い出されている。生
成するハロゲン化水素の量に関してアルカリ性物質が不
足することは避けるべきである。
同様に、アシルハライドとアミノケイ素化合物は等価な
量、例えば、アシル化可能アミノ基を有するアミノゲイ
素1ヒ金物の分子庫に塩fヒアクリリル1モルで用いる
べきであるが、アシル化可能アミノ基に関して過剰のア
シルハライドは反応の所望の結果に悪い影響はないこと
が見い出された。
量、例えば、アシル化可能アミノ基を有するアミノゲイ
素1ヒ金物の分子庫に塩fヒアクリリル1モルで用いる
べきであるが、アシル化可能アミノ基に関して過剰のア
シルハライドは反応の所望の結果に悪い影響はないこと
が見い出された。
アシル化可能アミノ基の全数に関してアシルハライドが
不足することは、アシルハライドが脂環式不飽和が存在
しない場合には不完全にアシル化した生成物が製造され
るだけのことであるが、アシルハライドが脂環式不飽和
を含有する°場合には生成物がマイクル付加形(Mic
11aeトAddition type)反応をこうむ
る。この理由のために、必要ではないが、アクリリルハ
ライドを用いる場合にはアミノケイ素化合物を完全にア
クリ化することが好ましい。
不足することは、アシルハライドが脂環式不飽和が存在
しない場合には不完全にアシル化した生成物が製造され
るだけのことであるが、アシルハライドが脂環式不飽和
を含有する°場合には生成物がマイクル付加形(Mic
11aeトAddition type)反応をこうむ
る。この理由のために、必要ではないが、アクリリルハ
ライドを用いる場合にはアミノケイ素化合物を完全にア
クリ化することが好ましい。
本発明の方法に用いる水の量はアルカリ性物質を溶解す
るのに十分であるべきであり、好ましくは、その飽和し
ない溶液を提供する量である。水酸化ナトリウムの2%
溶液は望ましいことが見い出された。
るのに十分であるべきであり、好ましくは、その飽和し
ない溶液を提供する量である。水酸化ナトリウムの2%
溶液は望ましいことが見い出された。
本発明の方法に用いる溶剤の量はアミノケイ素化合物そ
して好ましくは有機ケイ素生成物をも溶解するのに十分
であるべきである。
して好ましくは有機ケイ素生成物をも溶解するのに十分
であるべきである。
アシルハライド成分をアミノケイ素成分に添加する際中
および後、反応混合物を完全に撹拌して水性相と非水性
相の間の入念な接触を維持すべきである。撹拌器、櫂、
羽根車などの普通の低剪断手段は十分な撹拌を維持する
のに十分である。撹拌はアシル化反応が終了するまで続
け、典型的には1時間以内である。
および後、反応混合物を完全に撹拌して水性相と非水性
相の間の入念な接触を維持すべきである。撹拌器、櫂、
羽根車などの普通の低剪断手段は十分な撹拌を維持する
のに十分である。撹拌はアシル化反応が終了するまで続
け、典型的には1時間以内である。
反応が終了し有機相を単能した峻、反応生成物溶剤から
分離することも、所望であれば溶剤中に残しておくこと
も可能である。アクリリル置換生成物を溶剤から分離す
べき場合、蒸留あるいは分別などの分離作用の前に溶液
に重合禁止剤を添加することが望ましい。
分離することも、所望であれば溶剤中に残しておくこと
も可能である。アクリリル置換生成物を溶剤から分離す
べき場合、蒸留あるいは分別などの分離作用の前に溶液
に重合禁止剤を添加することが望ましい。
本発明の方法の生成物は化粧組成物、コーティング組成
物、繊維処理剤組成物、塗料のための極性ケイ素含有添
加物として有用である。本発明の組成物は重合性ビニル
七ツマ−1例えば、スチレン、ブタジェン、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、酢酸ビニル、塩化ビニル
、塩化ビニリデン、アクリロニトリルとのコモノマーと
して有用である。特に、アクリリルアミン置換炭化水素
基を有する本発明の化合物は輻射線硬化性組成物などの
遊離基硬化性組成物の反応成分として有用である。
物、繊維処理剤組成物、塗料のための極性ケイ素含有添
加物として有用である。本発明の組成物は重合性ビニル
七ツマ−1例えば、スチレン、ブタジェン、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、酢酸ビニル、塩化ビニル
、塩化ビニリデン、アクリロニトリルとのコモノマーと
して有用である。特に、アクリリルアミン置換炭化水素
基を有する本発明の化合物は輻射線硬化性組成物などの
遊離基硬化性組成物の反応成分として有用である。
こうして、第3の側面において、本発明は式−QANQ
′NAZ (、式中、ZはHまたはRを示し、Rは1
価の炭化水素基を示し、QおよびQ′は2価の炭化水素
基を示し、Aは式CI+2 = CBCOを有するアシ
ル基を示し、BはHまたはC11,を示す。)を有する
少なくとも1個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化水素
基を含有し、かつその残りのケイ素結合基は有機基およ
びケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子から選ばれる有機
ケイ素化合物からなる硬fヒ性コーティング組成物に係
る。
′NAZ (、式中、ZはHまたはRを示し、Rは1
価の炭化水素基を示し、QおよびQ′は2価の炭化水素
基を示し、Aは式CI+2 = CBCOを有するアシ
ル基を示し、BはHまたはC11,を示す。)を有する
少なくとも1個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化水素
基を含有し、かつその残りのケイ素結合基は有機基およ
びケイ素原子間を結ぶ2価の酸素原子から選ばれる有機
ケイ素化合物からなる硬fヒ性コーティング組成物に係
る。
本発明の硬化性組成物は完全にアクリリル化したジアミ
ン置換ケイ素化合物を含むが、このケイ素化合物は前述
した本発明の化合物のいずれでもよく、その好ましい態
様を含む。
ン置換ケイ素化合物を含むが、このケイ素化合物は前述
した本発明の化合物のいずれでもよく、その好ましい態
様を含む。
特に、紙、ポリマーフィルム;金属箔などの可撓性基材
をコーティングするのに有用である本発明の硬化性組成
物は、アクリリル化したケイ素化合物のように、式 %式% (式中、YおよびRは前記の意味を有し、2は10〜2
000の直を有し、gは0〜0.IZの値を有する。)
を有する完全にアクリリル化したシロキサンを含むべき
である。上記式を有するシロキサンが、硬化性組成物を
溶剤なしのコーティング組成物として用いるべき場合に
は100〜10,000センチストークスの粘度を有す
ることが好ましい。
をコーティングするのに有用である本発明の硬化性組成
物は、アクリリル化したケイ素化合物のように、式 %式% (式中、YおよびRは前記の意味を有し、2は10〜2
000の直を有し、gは0〜0.IZの値を有する。)
を有する完全にアクリリル化したシロキサンを含むべき
である。上記式を有するシロキサンが、硬化性組成物を
溶剤なしのコーティング組成物として用いるべき場合に
は100〜10,000センチストークスの粘度を有す
ることが好ましい。
上記式を有するシロキサンの例には
YNe2SiO(He2SiO)zsiMezY 。
He3SiO(He2SiO)z(YNeSiO)hs
iMesおよびYl’lezSiO(He2SiO)z
(YMeSiO)hsiMezY C式中、11は0よ
り大きく0.1zまでの値を有し、Zは上記の意味を有
する。〕がある。
iMesおよびYl’lezSiO(He2SiO)z
(YMeSiO)hsiMezY C式中、11は0よ
り大きく0.1zまでの値を有し、Zは上記の意味を有
する。〕がある。
すぐ上の3つの式では、hは、シロキサンが少なくとも
1個、好ましくは少なくとも2個のアクリリルアミン置
換炭化水素基を有するような値を有する。
1個、好ましくは少なくとも2個のアクリリルアミン置
換炭化水素基を有するような値を有する。
本発明の硬化性組成物は硬化剤を添加しまたは添加しな
い前記完全にアクリリル化したケイ素化合物からなる。
い前記完全にアクリリル化したケイ素化合物からなる。
しか1.ながら、組成物を熱および/または紫外線照射
によって硬化すべき場3その硬化を促進するために遊離
基発生剤または光重合開始剤のような重合開始剤を含め
ることが好ましい。含めるべき特別の開始剤は組成物を
硬化するために用いるべき方法に依存する。
によって硬化すべき場3その硬化を促進するために遊離
基発生剤または光重合開始剤のような重合開始剤を含め
ることが好ましい。含めるべき特別の開始剤は組成物を
硬化するために用いるべき方法に依存する。
組成物を熱的手段で硬化すべき場合、遊M基開始剤を硬
化性組成物に添加することが好ましい。
化性組成物に添加することが好ましい。
適当な遊随基開始剤の例には、限定するわけではないが
、レドックス対、過ホウ酸塩(perboraLe)、
過炭酸塩(percarbonaLe)、光化学系、ア
ゾ化合物、例えばアゾ−ビス(イソブチロニトリル)、
アシルペルオキシド、例えばベンゾイルペルオキシド、
アルキイルペルオキシド、例えばジ−t−ブチルペルオ
キシド、ヒドロペルオキシド、例えばクメンヒドロペル
オキシドがある。
、レドックス対、過ホウ酸塩(perboraLe)、
過炭酸塩(percarbonaLe)、光化学系、ア
ゾ化合物、例えばアゾ−ビス(イソブチロニトリル)、
アシルペルオキシド、例えばベンゾイルペルオキシド、
アルキイルペルオキシド、例えばジ−t−ブチルペルオ
キシド、ヒドロペルオキシド、例えばクメンヒドロペル
オキシドがある。
組成物を紫外線照射によって硬化すべき場合、組成物に
光開始剤を添加することが好ましい。適当な光開始剤の
例には、限定するわけではないが。
光開始剤を添加することが好ましい。適当な光開始剤の
例には、限定するわけではないが。
ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、例えばメチ
ルベンゾインエーテル、エチルベンゾインエーテル、イ
ソプロピルベンゾインエーテルまたはイソブチルベンゾ
インエーテル、アセトフェノン誘導体、例えばジアルコ
キシアセトフェノン、例えばジエ1ヘキシアセトフェノ
ン、ジクロロアセトフェノンおよびトリクロロアセトフ
ェノン、α。
ルベンゾインエーテル、エチルベンゾインエーテル、イ
ソプロピルベンゾインエーテルまたはイソブチルベンゾ
インエーテル、アセトフェノン誘導体、例えばジアルコ
キシアセトフェノン、例えばジエ1ヘキシアセトフェノ
ン、ジクロロアセトフェノンおよびトリクロロアセトフ
ェノン、α。
α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、1−ヒ
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、メ
チルフェニルグリオキシレート、4−ベンゾイルベンジ
ル−トリメチルアンモニウムクロリド、α−アシルオキ
シムエステル、例えば1−フェニル−1,2−プロパン
ジオン−2−(0−エトキシカルボニルオキシ キサンタンおよびその誘導体、ベンゾフェノンと混合し
た連鎖転移剤例えばNH基およびアゾ−ビス(インブチ
ロニトリル)がある。
ドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、メ
チルフェニルグリオキシレート、4−ベンゾイルベンジ
ル−トリメチルアンモニウムクロリド、α−アシルオキ
シムエステル、例えば1−フェニル−1,2−プロパン
ジオン−2−(0−エトキシカルボニルオキシ キサンタンおよびその誘導体、ベンゾフェノンと混合し
た連鎖転移剤例えばNH基およびアゾ−ビス(インブチ
ロニトリル)がある。
読者はアクリリル含有上ツマ−の重合を教示するいずれ
かの5単的教科書を参照することができる。ここに引用
して含めるものとして、阻」にotbmer Enc
clo edia or Chemistr
and Tecl+no−血, Jobn W
iley and Sons 、 N. J.第4版、
1972年、Vol 、I 、 274〜284頁およ
びEncyclopediaor Poly+ser
Science and Tecbnolog
y 、 John lllileyand So
ns 、 N. J. 1966年、Vol.1 、
177〜197頁を挙げる。
かの5単的教科書を参照することができる。ここに引用
して含めるものとして、阻」にotbmer Enc
clo edia or Chemistr
and Tecl+no−血, Jobn W
iley and Sons 、 N. J.第4版、
1972年、Vol 、I 、 274〜284頁およ
びEncyclopediaor Poly+ser
Science and Tecbnolog
y 、 John lllileyand So
ns 、 N. J. 1966年、Vol.1 、
177〜197頁を挙げる。
本発明の硬化性組成物を電子ビーム照射で硬化すべき場
合、重合開示剤の添加は必要でない。
合、重合開示剤の添加は必要でない。
本発明の硬化性組成物は硬化性ケイ素含有組成物に普通
に用いる任意成分をさらに含むことができる。この任意
成分の例には、限定するわけではないが、用いたアクリ
リル化ケイ素化合物を製造するために用いたもののよう
な溶剤、前記のような重合性ビニルモノマー、表面活性
剤のような乳濁液形成成分、着色剤、安定剤、シリカお
よびカーボンのような充填剤、接着促進剤、ならびに滑
剤および剥離剤のような表面改質剤がある。
に用いる任意成分をさらに含むことができる。この任意
成分の例には、限定するわけではないが、用いたアクリ
リル化ケイ素化合物を製造するために用いたもののよう
な溶剤、前記のような重合性ビニルモノマー、表面活性
剤のような乳濁液形成成分、着色剤、安定剤、シリカお
よびカーボンのような充填剤、接着促進剤、ならびに滑
剤および剥離剤のような表面改質剤がある。
本発明の硬化性コーティング組成物は、従って、成形、
カプセル化、シーリング、コーティングなど硬化性組成
物の多くの用途を有する.特に、可−視性基材、例えば
、紙、金属箔、ポリマーフィルノ、、光ファイバーおよ
びm物、また比較的非可撓性基材、例えば、ポリマーラ
ミネート、例えば回路基板、シリカ買基材、例えばセラ
ミック、ガラスおよびれんが、木材基材、ならびに成形
、鋳造および型押した金属物品のコーティング用に有用
性を見い出す。本発明の硬化性コーティングは接着剤剥
離技術、電気電子技術、例えばカプセル化やホトレジス
ト、印刷技術、などに有用である。
カプセル化、シーリング、コーティングなど硬化性組成
物の多くの用途を有する.特に、可−視性基材、例えば
、紙、金属箔、ポリマーフィルノ、、光ファイバーおよ
びm物、また比較的非可撓性基材、例えば、ポリマーラ
ミネート、例えば回路基板、シリカ買基材、例えばセラ
ミック、ガラスおよびれんが、木材基材、ならびに成形
、鋳造および型押した金属物品のコーティング用に有用
性を見い出す。本発明の硬化性コーティングは接着剤剥
離技術、電気電子技術、例えばカプセル化やホトレジス
ト、印刷技術、などに有用である。
こうして、第4の側面において、本発明は、(A)本発
明の硬化性コーティング組成物を大村上に適用し、その
後( B )塗布コーティングを硬化させることからな
る、大村上に硬化性コーティングを形成する方法に係る
。
明の硬化性コーティング組成物を大村上に適用し、その
後( B )塗布コーティングを硬化させることからな
る、大村上に硬化性コーティングを形成する方法に係る
。
本発明のこの方法では、本発明の硬化性コーティング組
成物は刷毛塗り、スプレー、ローラ、浸漬あるいは塗布
(spreading )などのどの適当な方法で大村
上に薄膜として適用する。薄膜とは単分子膜から100
ミル(2.54MIIl>までを意味する。本発明のシ
ロキサン化合物を含む本発明の硬化性コーティング組成
物は典型的には0.01〜100ミル(0.0254〜
2.54+s+m)の厚さを有する。
成物は刷毛塗り、スプレー、ローラ、浸漬あるいは塗布
(spreading )などのどの適当な方法で大村
上に薄膜として適用する。薄膜とは単分子膜から100
ミル(2.54MIIl>までを意味する。本発明のシ
ロキサン化合物を含む本発明の硬化性コーティング組成
物は典型的には0.01〜100ミル(0.0254〜
2.54+s+m)の厚さを有する。
適用したコーティングは化学的手段、輻射線手段あるい
は、熱的手段のようなどの適当な手段で硬化することも
可能である。上記のように、適用したコーティングを熱
または紫外線で硬化すべき場き、適用した1■成物は重
合開始剤をき有すべきである。本発明の好ましい態様で
は、適用した組成物を電子ビーノ、照射で硬化し、組成
物は付加的な開始剤を必要としない。
は、熱的手段のようなどの適当な手段で硬化することも
可能である。上記のように、適用したコーティングを熱
または紫外線で硬化すべき場き、適用した1■成物は重
合開始剤をき有すべきである。本発明の好ましい態様で
は、適用した組成物を電子ビーノ、照射で硬化し、組成
物は付加的な開始剤を必要としない。
上記のように、本発明の、コーティング組成物はいろい
ろな組成、形状、寸法および用途の基材に適用すること
ができる。本発明の好ましい態様では、可撓性基材にコ
ーティングして基材に接着剤剥離表面を形成する。
ろな組成、形状、寸法および用途の基材に適用すること
ができる。本発明の好ましい態様では、可撓性基材にコ
ーティングして基材に接着剤剥離表面を形成する。
接着剤剥離分野では、紙、ポリマーフィルム、ポリマー
塗布紙、または金属箔のような可視性基材をその可視性
基材に硬化性流体組成物を基材の連(ream)当り0
.5〜2ボンド(約0.22〜0.91kg )の坪量
で適用して接着剤剥離性にする。適用した組成物が硬化
した後、このように処理した表面を物品の表面上に形成
されたあるいはフリーの接着剤と接着接触させる。これ
によって接着剤剥離表面は接着剤を用いるべきときまで
接着剤の1表面の保譚膜として働き、その使用のとき接
着剤剥離表面は接着剤から容易に除去することが可能で
ある。
塗布紙、または金属箔のような可視性基材をその可視性
基材に硬化性流体組成物を基材の連(ream)当り0
.5〜2ボンド(約0.22〜0.91kg )の坪量
で適用して接着剤剥離性にする。適用した組成物が硬化
した後、このように処理した表面を物品の表面上に形成
されたあるいはフリーの接着剤と接着接触させる。これ
によって接着剤剥離表面は接着剤を用いるべきときまで
接着剤の1表面の保譚膜として働き、その使用のとき接
着剤剥離表面は接着剤から容易に除去することが可能で
ある。
本発明のこの方法において、接着剤剥離表面を提供する
迅速で清浄で有効な方法が提供され、この剥離表面はキ
ャスティングした接着剤あるいは支持体に支持された接
着剤と共にかつオンラインすなわち直ちに接着剤をコー
ティングするモードあるいは二次加工すなわち後で接着
剤をコーティングするモードで用いる場きに、十分に硬
化し、転写がなく、そして安定である。
迅速で清浄で有効な方法が提供され、この剥離表面はキ
ャスティングした接着剤あるいは支持体に支持された接
着剤と共にかつオンラインすなわち直ちに接着剤をコー
ティングするモードあるいは二次加工すなわち後で接着
剤をコーティングするモードで用いる場きに、十分に硬
化し、転写がなく、そして安定である。
以下の例は本発明のいくつかの側面の実施方法をさらに
説明するものであるが、特許請求の範囲に適切に規定し
た本発明を限定するものではない。
説明するものであるが、特許請求の範囲に適切に規定し
た本発明を限定するものではない。
すべての部、パーセントおよび比は特にことわらない限
り重量基準である。Me、PbおよびViはそれぞれメ
チル基、フェニル基およびビニル基を示す。
り重量基準である。Me、PbおよびViはそれぞれメ
チル基、フェニル基およびビニル基を示す。
接着剤剥離コーティングの硬化の状態はf!J擦落ち試
験、移行(マイグレーション)試験および汚れ(sme
ar)試験で測定した。
験、移行(マイグレーション)試験および汚れ(sme
ar)試験で測定した。
コーティングの汚れはコーティングを指で軽く擦ってコ
ーティングの曇りを見て測定した。観察された曇りの程
度(なし、極めて僅か、代か、中程度、ひどい)はコー
ティングの汚れの程度を指示する。十分に硬化したコー
ティングは曇りがなく、従って汚れはない。
ーティングの曇りを見て測定した。観察された曇りの程
度(なし、極めて僅か、代か、中程度、ひどい)はコー
ティングの汚れの程度を指示する。十分に硬化したコー
ティングは曇りがなく、従って汚れはない。
コーティングの摩擦落ちはコーティングをインデックス
フィンガーチップでコーティングを厳しく擦り、紙から
コーティングの除去を試みて測定した。摩擦落ちの程度
はなし、極めて僅か、直が、中程度、またはひどいとし
て記載しな。十分に硬化したコーティングは摩擦落ちを
示した。
フィンガーチップでコーティングを厳しく擦り、紙から
コーティングの除去を試みて測定した。摩擦落ちの程度
はなし、極めて僅か、直が、中程度、またはひどいとし
て記載しな。十分に硬化したコーティングは摩擦落ちを
示した。
コーティングの移行性の測定では、コーティング(表面
に接着剤を有する)上にNo、 59103M@(SL
、Paul 、 Minnesota)という商品名の
透明テープからなる試験用ス1へリップを置き、このス
トリップを指で5〜20回こすってそれをコーティング
に接着させた。次いで透明テープのストリップをコーテ
ィングから除去し、その接着剤付着表面を折り曲げて相
互に重ね、強く押し1寸けた。移行のないコーティング
では、2重折りにした試験ストリップを引き剥すのに必
要とする力は暴露しないテープの2重折りストリップを
引き剥すのに必要な力とほぼ同じであった。その他の分
別は極めて僅か、僅か、中程度そしてひどい移行性とし
た。
に接着剤を有する)上にNo、 59103M@(SL
、Paul 、 Minnesota)という商品名の
透明テープからなる試験用ス1へリップを置き、このス
トリップを指で5〜20回こすってそれをコーティング
に接着させた。次いで透明テープのストリップをコーテ
ィングから除去し、その接着剤付着表面を折り曲げて相
互に重ね、強く押し1寸けた。移行のないコーティング
では、2重折りにした試験ストリップを引き剥すのに必
要とする力は暴露しないテープの2重折りストリップを
引き剥すのに必要な力とほぼ同じであった。その他の分
別は極めて僅か、僅か、中程度そしてひどい移行性とし
た。
十分に硬化したコーティングは移行性を示さなった。
十分に硬化したコーティングについてコーティング接着
剤剥離性を測定した。
剤剥離性を測定した。
次の手順に従って剥離試験用の各硬化コーティングを作
成した。硬化コーティングにモンサンド社(ミズリー州
、セントルイス)の商品G M S−263アクリル系
接着剤(以下「アクリル系接着剤」と称する。)または
ナショナルスターチ社にューヨーク州、ニューヨーク)
の商品36−6045スチレンブタジ工ンゴム接着剤(
以下r SBR接着剤」と称する。)のいずれかの溶液
を用いて接着剤を塗布した。接着剤溶液は硬化コーティ
ングに引落しバーを用いて3ミル(76,2μm)の湿
潤厚さに適用した。適用した接着剤を室温で1分間空気
乾燥し、70℃に1分間加熱し、そして室温で1分間冷
却した。60ボンド(27,2kg)の艶消リン(++
+atLe1iLho)のシートを乾燥した接着剤に適
用し、得られる積層体を4.5ボンド(2,04kg)
のゴム塗膜付ローラでプレスした。
成した。硬化コーティングにモンサンド社(ミズリー州
、セントルイス)の商品G M S−263アクリル系
接着剤(以下「アクリル系接着剤」と称する。)または
ナショナルスターチ社にューヨーク州、ニューヨーク)
の商品36−6045スチレンブタジ工ンゴム接着剤(
以下r SBR接着剤」と称する。)のいずれかの溶液
を用いて接着剤を塗布した。接着剤溶液は硬化コーティ
ングに引落しバーを用いて3ミル(76,2μm)の湿
潤厚さに適用した。適用した接着剤を室温で1分間空気
乾燥し、70℃に1分間加熱し、そして室温で1分間冷
却した。60ボンド(27,2kg)の艶消リン(++
+atLe1iLho)のシートを乾燥した接着剤に適
用し、得られる積層体を4.5ボンド(2,04kg)
のゴム塗膜付ローラでプレスした。
積層体の剥雛試験ハ′raM体ヲ1 インチ(25,4
mm)のストリップに切断し、クラフト紙/′コーティ
ング積層体からマツドア・′接着剤積層体を18o°の
角度で400インチ/分(0,17m/S)の速度で引
いて行なった。積層体を分離するのに必要なカ(グラム
5/インチ)を接着削剥雌性として扱った。この値を0
.3860885インチ・ニュートン、・′グラム・メ
ートルをかけて3桁にまるめてニュートン海メートル(
N/1M>に換算した。
mm)のストリップに切断し、クラフト紙/′コーティ
ング積層体からマツドア・′接着剤積層体を18o°の
角度で400インチ/分(0,17m/S)の速度で引
いて行なった。積層体を分離するのに必要なカ(グラム
5/インチ)を接着削剥雌性として扱った。この値を0
.3860885インチ・ニュートン、・′グラム・メ
ートルをかけて3桁にまるめてニュートン海メートル(
N/1M>に換算した。
以下余白
表−1
1e S B R19,3〜27.0Ie
アクリル 25.1〜38.6’ If
SBR15,4〜25.11f アクリ
ル 19.3〜42.5六−」L YMe2SiO(Me、SiO)X(MeYSiO)y
siMezY似劃1 汐 側 y1
11 n 13 0 C11z(1:1I
zCIIzNIICCIbCIl。
アクリル 25.1〜38.6’ If
SBR15,4〜25.11f アクリ
ル 19.3〜42.5六−」L YMe2SiO(Me、SiO)X(MeYSiO)y
siMezY似劃1 汐 側 y1
11 n 13 0 C11z(1:1I
zCIIzNIICCIbCIl。
匠1(表Iの化合物Iaの調製)
温度計、滴下ロートおよび磁気撹拌棒を備えた250−
三首フラスコに2%水酸化ナトリウム溶液100mfお
よびトルエン60社中の式%式% を有するアミノシロキサン(5g、14.9ミリモル、
NlI29.7ミリモル)を入れた。反応混合物を外部
から冷却して0℃に保持した。反応混合物にトルエン2
0請l中塩化アクリリル(2,7g、29.8ミリモル
)を添加し、撹拌した。添加後、混合物をさらに15分
間撹拌した。有機層を分離し、水性層をトルエンで抽出
し、混合有機層を水で洗浄し、無水NazSO−上で乾
燥した。回転蒸発器で溶剤を除去し、残留物を減圧下で
乾燥した。化合物の赤外線スペクトルにはアミドのN1
1の伸縮振動による3300cm−’、アミドのNHの
曲げ振動による1550c+a−’、アミドのカルボニ
ル基の伸縮振動による1670〜1620cm−’が示
された。これらすべては出発アミノシロキサンには存在
しなかった。プロトンN M nスペクトル以下余自 多重線としてδ=6.6〜5.55に吸収が示された。
三首フラスコに2%水酸化ナトリウム溶液100mfお
よびトルエン60社中の式%式% を有するアミノシロキサン(5g、14.9ミリモル、
NlI29.7ミリモル)を入れた。反応混合物を外部
から冷却して0℃に保持した。反応混合物にトルエン2
0請l中塩化アクリリル(2,7g、29.8ミリモル
)を添加し、撹拌した。添加後、混合物をさらに15分
間撹拌した。有機層を分離し、水性層をトルエンで抽出
し、混合有機層を水で洗浄し、無水NazSO−上で乾
燥した。回転蒸発器で溶剤を除去し、残留物を減圧下で
乾燥した。化合物の赤外線スペクトルにはアミドのN1
1の伸縮振動による3300cm−’、アミドのNHの
曲げ振動による1550c+a−’、アミドのカルボニ
ル基の伸縮振動による1670〜1620cm−’が示
された。これらすべては出発アミノシロキサンには存在
しなかった。プロトンN M nスペクトル以下余自 多重線としてδ=6.6〜5.55に吸収が示された。
例−1(i I 、化合物Ibの調製)250 m 1
分離ロートに例1で用いたアミノシロキサン2.Og(
5,95ミリモリ、N1111.9ミリモル)、トルエ
ン30社、水15m1中のNaOHO,74g (18
,6ミリモル)、および氷片を取った。これに塩化アセ
チル1.22g (15,5ミリモル)を添加し、混6
物を5分間振とうした。トリエチルアミンを5滴添加し
て過剰の塩化アセチルを除去し、混合物をまた5分間振
とうした。有機層を分離し、無水Na25O,上で乾燥
し、溶剤を除去して生成物を得た。プロトンNMRスペ
クトルではδ=2.2およびδ=2.0に−NCOCR
,および−NHCOCII3の単一線をご 示した。赤外線スペクトルはアミドのN11の伸縮振動
の3300cm−’における吸収、168(1−162
0cm−’のアミドのカルボニル基の伸縮による吸収、
および1550c+a−’のアミドのNl+の曲は振動
を示した。
分離ロートに例1で用いたアミノシロキサン2.Og(
5,95ミリモリ、N1111.9ミリモル)、トルエ
ン30社、水15m1中のNaOHO,74g (18
,6ミリモル)、および氷片を取った。これに塩化アセ
チル1.22g (15,5ミリモル)を添加し、混6
物を5分間振とうした。トリエチルアミンを5滴添加し
て過剰の塩化アセチルを除去し、混合物をまた5分間振
とうした。有機層を分離し、無水Na25O,上で乾燥
し、溶剤を除去して生成物を得た。プロトンNMRスペ
クトルではδ=2.2およびδ=2.0に−NCOCR
,および−NHCOCII3の単一線をご 示した。赤外線スペクトルはアミドのN11の伸縮振動
の3300cm−’における吸収、168(1−162
0cm−’のアミドのカルボニル基の伸縮による吸収、
および1550c+a−’のアミドのNl+の曲は振動
を示した。
以下余白
鰺l(表1のfヒき物Icの調製)
250社の分離ロートに例1で用いたアミ、ノシロキサ
ン2.0 g (5,95ミリモル、N1111.9ミ
リモル)、クロロホル1=30ta/l、水15m1中
のNaOHO,69g(17ミリモル)および数個の氷
片を取った。これに臭化ベンゾイル2.64g(14,
3ミリモル)を添加した。混合物を5分間振とうした。
ン2.0 g (5,95ミリモル、N1111.9ミ
リモル)、クロロホル1=30ta/l、水15m1中
のNaOHO,69g(17ミリモル)および数個の氷
片を取った。これに臭化ベンゾイル2.64g(14,
3ミリモル)を添加した。混合物を5分間振とうした。
この混合物にl・リエチルアミンを5滴添加し、さらに
5分間振とうしな。有機層を分離し、無水Na2SO4
上で乾燥し、溶剤を除去して生成物を得た。赤外線スペ
クトルはアミドのNl+の伸縮振動による3350cm
−’の吸収、アミドのカルボニル基による1670〜1
620cm−’の吸収、および芳香核C=Cによる17
90cm−’ 、 1730cm−’ 。
5分間振とうしな。有機層を分離し、無水Na2SO4
上で乾燥し、溶剤を除去して生成物を得た。赤外線スペ
クトルはアミドのNl+の伸縮振動による3350cm
−’の吸収、アミドのカルボニル基による1670〜1
620cm−’の吸収、および芳香核C=Cによる17
90cm−’ 、 1730cm−’ 。
1600c+++−’および1580cm−’の吸収を
示した。
示した。
肛(表Iの化合物Iclの調製)
臭化ベンゾイルの代りに塩化ブチリル1.52g(14
,4ミリモル)を用いた点を除いて例3を繰り返した。
,4ミリモル)を用いた点を除いて例3を繰り返した。
赤外線スペクトルはアミドのNH伸縮振動による330
0cm−’、アミドのカルボニル伸縮振動による167
0〜1630cm−’、アミドのN8曲げ振動による1
540cm−’の吸収を示した。
0cm−’、アミドのカルボニル伸縮振動による167
0〜1630cm−’、アミドのN8曲げ振動による1
540cm−’の吸収を示した。
プロトンNMRスペクトルは
プロトンによる多重線としてδ=2.5〜2.1に、よ
び5i−CH2CH−のプロトンによるものとしてロト
ンによるものとしてδ=1.2〜0.9に共鳴を示した
。
び5i−CH2CH−のプロトンによるものとしてロト
ンによるものとしてδ=1.2〜0.9に共鳴を示した
。
用う−(表Iの化合物Ieの調製)
温度計、撹拌櫂および滴下ロートを備えた1リットル三
首フラスコに、アミン中性$m−840、粘度172c
sおよび公称式 Mc”+SiO(MezSiO)qi(MeYSiO)
5siMc:+ 1.’式中、YはC112C目1(C
11J)C112N+1CI1.CII□N112であ
る〕を有するアミノシロキサン100g(NHO,11
9モル)、およびクロロホルム350m1を入れた。混
な物を約0℃に冷却しな、この混合物に水80+ml中
に溶解した水酸化ナトリウム<6.9g、0.17モル
)を添加した。温度を約0℃に維持して、CHz=CH
COC112,9g(0,143モル)を添加し、混合
物を5分間撹拌した。有機相を分離し、水で洗浄し、無
水Na25o、上で乾燥し、デカントした。これにエタ
ノール5社、ヒドロキノン1100ppおよびフェノチ
アジン20ppmを添加し、減圧下で溶剤を除去した。
首フラスコに、アミン中性$m−840、粘度172c
sおよび公称式 Mc”+SiO(MezSiO)qi(MeYSiO)
5siMc:+ 1.’式中、YはC112C目1(C
11J)C112N+1CI1.CII□N112であ
る〕を有するアミノシロキサン100g(NHO,11
9モル)、およびクロロホルム350m1を入れた。混
な物を約0℃に冷却しな、この混合物に水80+ml中
に溶解した水酸化ナトリウム<6.9g、0.17モル
)を添加した。温度を約0℃に維持して、CHz=CH
COC112,9g(0,143モル)を添加し、混合
物を5分間撹拌した。有機相を分離し、水で洗浄し、無
水Na25o、上で乾燥し、デカントした。これにエタ
ノール5社、ヒドロキノン1100ppおよびフェノチ
アジン20ppmを添加し、減圧下で溶剤を除去した。
生成物は25℃で2187csの粘度を有した。赤外線
スペクトルは3300cm−’の−Nl+伸縮振動、1
550cm−’の−Ni1曲げ振動、1680−163
0cm−’のカルボニル伸縮振動、および1610c+
n−’の共役炭素−炭素二重績αの曲げ振動を示した。
スペクトルは3300cm−’の−Nl+伸縮振動、1
550cm−’の−Ni1曲げ振動、1680−163
0cm−’のカルボニル伸縮振動、および1610c+
n−’の共役炭素−炭素二重績αの曲げ振動を示した。
上記のすべての吸収はもとのアミノアルキル置換オルガ
ノポリシロキサンには存在しなかった。出発オルガノポ
リシロキサンおよび最終オルガノポリシロキサンはシロ
キサン結合の1120〜101101O’における吸収
帯を示した。生成1肉のプロトンNMRスペクトルはC
112=C11のプロトンによる多重線としてδ=6.
7〜5.5に、3.2に吸収が示された。アルミノアル
キル置換オルガノポリシロキサンではδ=6.7〜5.
5の吸収は存在せず、−CH2−N−Cl1□CH2−
NH2のプロトンはδ=2.8〜2.4で吸収した。生
成物は表■に示した公称構造を有した。
ノポリシロキサンには存在しなかった。出発オルガノポ
リシロキサンおよび最終オルガノポリシロキサンはシロ
キサン結合の1120〜101101O’における吸収
帯を示した。生成1肉のプロトンNMRスペクトルはC
112=C11のプロトンによる多重線としてδ=6.
7〜5.5に、3.2に吸収が示された。アルミノアル
キル置換オルガノポリシロキサンではδ=6.7〜5.
5の吸収は存在せず、−CH2−N−Cl1□CH2−
NH2のプロトンはδ=2.8〜2.4で吸収した。生
成物は表■に示した公称構造を有した。
弘(表Iの化合物Ifの調製)
温度計、撹拌櫂および滴下ロートを備えた1リツトルの
三筒フラスコにアミン中性等量793、粘度172cs
および公称式 Ne3SiO(MezSiO)+ +t(HeY ’5
in)aside、(式中、Y′はCH2Cl1(CH
,)C02NIICII2CH,NH2である)を有す
るアミノシロキサン100g (0,126モルのN1
1)およびクロロホルム350社を入れた。混合物を約
0℃に冷却した。この混合物に水80社に溶解した水酸
化すトリウノ、(6,7g、0.1675モル)を添加
した。温度を0〜5℃に保持しながら、C1l□=Cl
IC0C1を撹拌しながらゆっくりと添加した。添加が
終了後、混合物をさらに10分間撹拌し、有機相を分離
し、無水Na25O<上で乾燥し、デカントした。これ
にエタノール3ml、ヒドロキノン100pp+sおよ
びフェノチアジン20ppmを添加し、減圧下で溶剤を
除去した。生成物は25℃で3506csの粘度を有し
た。
三筒フラスコにアミン中性等量793、粘度172cs
および公称式 Ne3SiO(MezSiO)+ +t(HeY ’5
in)aside、(式中、Y′はCH2Cl1(CH
,)C02NIICII2CH,NH2である)を有す
るアミノシロキサン100g (0,126モルのN1
1)およびクロロホルム350社を入れた。混合物を約
0℃に冷却した。この混合物に水80社に溶解した水酸
化すトリウノ、(6,7g、0.1675モル)を添加
した。温度を0〜5℃に保持しながら、C1l□=Cl
IC0C1を撹拌しながらゆっくりと添加した。添加が
終了後、混合物をさらに10分間撹拌し、有機相を分離
し、無水Na25O<上で乾燥し、デカントした。これ
にエタノール3ml、ヒドロキノン100pp+sおよ
びフェノチアジン20ppmを添加し、減圧下で溶剤を
除去した。生成物は25℃で3506csの粘度を有し
た。
赤外スペクトルおよびプロトンNMRスペクトルは化合
物Ieと同様であった。
物Ieと同様であった。
N7(紙コーテイング、電子ビーム硬化、接着剤剥離試
験) rIA5および例6に記載したオルガノポリシロキサン
IeおよびIfは遊M基開始重合を行なう。従って、こ
れらは不活性雰囲気中で電子ビーム照射によって架橋す
ることができる。例えば、スーパーカレンダーにかけた
クラフト紙および低、高密度ポリエチレン上にシリコー
ン流体IeおよびIfを別々に塗布し、電子ビー11照
射(Energy 5ciencesLab Mode
l Electrocurtai++ CD 1507
’15/l0L)で硬化した。不活性雰囲気下2 Mr
adのドーズ量で硬化して汚れがなく、移行がなく、そ
して摩擦落ちもないものが得られた。加速電圧は150
〜160キロボルトに保った。スーパーカレンダー処理
クラフト紙上のこれらの新規な組成物の硬化フィルムの
剥離特性の定量化も行なった。こうして得られた剥離力
測定結果は表■にまとめられている。
験) rIA5および例6に記載したオルガノポリシロキサン
IeおよびIfは遊M基開始重合を行なう。従って、こ
れらは不活性雰囲気中で電子ビーム照射によって架橋す
ることができる。例えば、スーパーカレンダーにかけた
クラフト紙および低、高密度ポリエチレン上にシリコー
ン流体IeおよびIfを別々に塗布し、電子ビー11照
射(Energy 5ciencesLab Mode
l Electrocurtai++ CD 1507
’15/l0L)で硬化した。不活性雰囲気下2 Mr
adのドーズ量で硬化して汚れがなく、移行がなく、そ
して摩擦落ちもないものが得られた。加速電圧は150
〜160キロボルトに保った。スーパーカレンダー処理
クラフト紙上のこれらの新規な組成物の硬化フィルムの
剥離特性の定量化も行なった。こうして得られた剥離力
測定結果は表■にまとめられている。
匠1(紙コーテイング、UV硬化、接着剤剥離試験)
化合物Ieを重合開始剤としてのベンゾフェノンと1−
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンの50150
混合物5wt%と混合した。混合物をクラフト紙上に0
.5〜1ボンド/連(0,226〜0 、454kg/
連)の坪量で塗布し、コーティングに200ワット/イ
ンチの出力を有する2媒体加圧水銀蒸気ランプによる紫
外線を2〜3インチの距離で約3秒間照射した。
ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトンの50150
混合物5wt%と混合した。混合物をクラフト紙上に0
.5〜1ボンド/連(0,226〜0 、454kg/
連)の坪量で塗布し、コーティングに200ワット/イ
ンチの出力を有する2媒体加圧水銀蒸気ランプによる紫
外線を2〜3インチの距離で約3秒間照射した。
こうして硬化したコーティングに直ちにSBR接着剤を
積層した。前記の剥離試験で測定した積層体の剥離力は
42.5N/mであった。
積層した。前記の剥離試験で測定した積層体の剥離力は
42.5N/mであった。
また、アクリル系接着剤でも積層を実施し、剥離力は6
7.6N/輸であった。
7.6N/輸であった。
鮭1(表■の化合物Igの調製および用途)温度計、撹
拌櫂および滴下ロートを備えた250社の三筒フラスコ
に、アミン中性等Ji1337、公称式MesSiO(
Ne2SiO) Is (MeY ’5in) *Si
Mes (式中、Y′はC1,C11(CI+、)CH
,N11CH□Cl12N11□である)および粘度1
27csを有するアミノシロキサン20 g(0,01
5モルのNH)およびエーテル100mA’を入れた。
拌櫂および滴下ロートを備えた250社の三筒フラスコ
に、アミン中性等Ji1337、公称式MesSiO(
Ne2SiO) Is (MeY ’5in) *Si
Mes (式中、Y′はC1,C11(CI+、)CH
,N11CH□Cl12N11□である)および粘度1
27csを有するアミノシロキサン20 g(0,01
5モルのNH)およびエーテル100mA’を入れた。
混合物を約0℃に冷却した。この混合物に、水40m1
に溶解した水酸化ナトリウム(0,72g 、 0.0
18モル)を添加し、混合物を5分間撹拌した。有機相
を分離し、水で洗浄し、無水NazSO−上で乾燥し、
デカントしな、これに、ヒドロキノン1001)I)1
11を添加し、減圧下で溶剤を除去した。赤外線スペク
トルは3300cm−’に−NH伸縮振動、1550c
n−’に−N11曲げ振動、1680〜1630cm−
’にカルボニル伸縮振動、3030cm−’に共没オレ
フィンCIl沖縮振動、および1610cm−’に共役
炭素−炭素二重結合の曲げ振動を示した。上記すべての
赤外線吸収はもとのアルキルアミノ官能性オルガノポリ
シロキサンには存在しなかった。出発オルガノポリシロ
キサンおよび最終オルガノポリシロキサンはシロキサン
結合の1120〜101101O’における吸収帯を示
した6アミドの’IINMRスペクトルはアクリルのC
l2=C11のプロトンの多重線とロトンによるδ=3
.8〜3.2の吸収を示した。アルキルアミノ官能性ポ
リシロキサンにはδ−6,6〜5.5の吸収は存在せず
、−C112−N−CIl、C112−N!1□のプロ
トンがδ=2.8〜2.4で吸収を示した。
に溶解した水酸化ナトリウム(0,72g 、 0.0
18モル)を添加し、混合物を5分間撹拌した。有機相
を分離し、水で洗浄し、無水NazSO−上で乾燥し、
デカントしな、これに、ヒドロキノン1001)I)1
11を添加し、減圧下で溶剤を除去した。赤外線スペク
トルは3300cm−’に−NH伸縮振動、1550c
n−’に−N11曲げ振動、1680〜1630cm−
’にカルボニル伸縮振動、3030cm−’に共没オレ
フィンCIl沖縮振動、および1610cm−’に共役
炭素−炭素二重結合の曲げ振動を示した。上記すべての
赤外線吸収はもとのアルキルアミノ官能性オルガノポリ
シロキサンには存在しなかった。出発オルガノポリシロ
キサンおよび最終オルガノポリシロキサンはシロキサン
結合の1120〜101101O’における吸収帯を示
した6アミドの’IINMRスペクトルはアクリルのC
l2=C11のプロトンの多重線とロトンによるδ=3
.8〜3.2の吸収を示した。アルキルアミノ官能性ポ
リシロキサンにはδ−6,6〜5.5の吸収は存在せず
、−C112−N−CIl、C112−N!1□のプロ
トンがδ=2.8〜2.4で吸収を示した。
上記の流体を例8に用いた重合開始剤5wt%と混合し
、スーパーカレンダー処理クラフト紙上およびポリエチ
レン塗布クラフト紙上に塗布し、2個の200W/イン
チ中圧水銀ランプ下で30〜40フイ一ト/分(9〜1
2+a/分)の速度で硬化させた。
、スーパーカレンダー処理クラフト紙上およびポリエチ
レン塗布クラフト紙上に塗布し、2個の200W/イン
チ中圧水銀ランプ下で30〜40フイ一ト/分(9〜1
2+a/分)の速度で硬化させた。
それに接着剤を積層し、剥雛力を測定した。
塗布したスーパーカレンダー処理クラフト基材は48.
3N/mの力でアクリル系接着剤を27N/+*の力で
SBR接着剤を剥離した。
3N/mの力でアクリル系接着剤を27N/+*の力で
SBR接着剤を剥離した。
塗布したポリエチレン塗布クラフト基材は29.0〜3
8.6N/n+の力でアクリル系接着剤を剥離した。
8.6N/n+の力でアクリル系接着剤を剥離した。
例10(表1の化合物I bの調製および用途)温度計
、撹拌櫂および滴下ロートを備えた500+a1の三筒
フラスコに、アミン中性等Ji1002、粘度146c
sおよび公称式 MesSiO(Me2SiO) so (MeY ’5
in) ssiMe、(式中、Yは−C11,C11(
C11,)CII2NIICI+、である)を有するア
ミノシロキサン40g(39,2ミリモルのN)I)お
よびクロロポルム150m1を入れた。これを0℃に冷
却しな。
、撹拌櫂および滴下ロートを備えた500+a1の三筒
フラスコに、アミン中性等Ji1002、粘度146c
sおよび公称式 MesSiO(Me2SiO) so (MeY ’5
in) ssiMe、(式中、Yは−C11,C11(
C11,)CII2NIICI+、である)を有するア
ミノシロキサン40g(39,2ミリモルのN)I)お
よびクロロポルム150m1を入れた。これを0℃に冷
却しな。
この混6物に、水40m1に溶解した水酸化ナトリウム
(2,3g、57.6ミリモル)を添加した。温度を0
℃に保持しながら反応温き物を撹拌し、塩化アクリリル
4.32g(48,0ミリモル)をゆっくりと添加した
。添加後、混合物を5分間撹拌し、有機層を分離し、無
水NazS04上で乾燥し、溶剤を除去しな。
(2,3g、57.6ミリモル)を添加した。温度を0
℃に保持しながら反応温き物を撹拌し、塩化アクリリル
4.32g(48,0ミリモル)をゆっくりと添加した
。添加後、混合物を5分間撹拌し、有機層を分離し、無
水NazS04上で乾燥し、溶剤を除去しな。
生成物はアミン中性等量128535を有し、99.2
%のアミンガアシル化されたことを示した赤外線スペク
トルは−N−C=O伸縮振動による1660cm−’の
吸収を示し、1620cm−’に炭素−炭素二重結合伸
縮振動、1110〜102102O’に5i−0伸縮振
動を示した。
%のアミンガアシル化されたことを示した赤外線スペク
トルは−N−C=O伸縮振動による1660cm−’の
吸収を示し、1620cm−’に炭素−炭素二重結合伸
縮振動、1110〜102102O’に5i−0伸縮振
動を示した。
プロトンNMRスペクトルはCu2 = CII −C
Oのプロトンによるδ−6,6〜5.5における多重線
を示した。
Oのプロトンによるδ−6,6〜5.5における多重線
を示した。
このオルガノポリシロキサンを実験室ブレードコーター
を用いてポリエチレン塗布クラフト紙に塗布し、5 M
ridめ電子ビーム照射で硬化して、汚れ、移行および
摩擦落下のないコーティングを得た。
を用いてポリエチレン塗布クラフト紙に塗布し、5 M
ridめ電子ビーム照射で硬化して、汚れ、移行および
摩擦落下のないコーティングを得た。
LLL(表1の化合物Iiの調製および用途)温度計、
撹拌櫂および滴下ロートを備えた1リツトルの三筒フラ
スコに、粘度72cs、アミン中性等量785および公
称式 Me:+5iO(HezSiO)<s、s(MeY’5
iO)z、ssiMei(式中、Y′は−C112CI
+(CH))CH2NIICII□CH2NII□であ
る)を有するアミノシロキサン100g(0,127モ
ルのN11)およびクロロホルム、350+^lを入れ
た。混合物を約0℃に冷却した。上記の混合物を約0℃
の温度に保ちながら、水SomNに溶解した水酸化ナト
リウム(6,7,,0,17モル)を添加し、塩化アク
リリル13.8g (0,153モル)を添加し、混合
物を5分間撹拌した。有機相を分離し、水で洗浄し、無
水NIL2SO4上で乾燥し、デカントした。これにエ
タノール5ml、ヒドロキノン11001)I)および
フェノチアジン20pp−を添加し、溶剤を減圧下で除
去した。
撹拌櫂および滴下ロートを備えた1リツトルの三筒フラ
スコに、粘度72cs、アミン中性等量785および公
称式 Me:+5iO(HezSiO)<s、s(MeY’5
iO)z、ssiMei(式中、Y′は−C112CI
+(CH))CH2NIICII□CH2NII□であ
る)を有するアミノシロキサン100g(0,127モ
ルのN11)およびクロロホルム、350+^lを入れ
た。混合物を約0℃に冷却した。上記の混合物を約0℃
の温度に保ちながら、水SomNに溶解した水酸化ナト
リウム(6,7,,0,17モル)を添加し、塩化アク
リリル13.8g (0,153モル)を添加し、混合
物を5分間撹拌した。有機相を分離し、水で洗浄し、無
水NIL2SO4上で乾燥し、デカントした。これにエ
タノール5ml、ヒドロキノン11001)I)および
フェノチアジン20pp−を添加し、溶剤を減圧下で除
去した。
実験室ブレードコーターを用いて、ポリエチレン塗布ク
ラフト紙上に上記のオルガノポリシロキサンを塗布し、
硬化したところ、2 Mradのドーズ量で、汚れ、移
行および摩擦落下のないコーティングが得られた。
ラフト紙上に上記のオルガノポリシロキサンを塗布し、
硬化したところ、2 Mradのドーズ量で、汚れ、移
行および摩擦落下のないコーティングが得られた。
泗」じL社」」と1」−(表1の化き物1iの調製)例
11の手順に従い、但し、溶剤としてクロロホルムの代
りにエチルエーテルかまたは酢酸エチルを用いて、同じ
ポリマーを作成した。
11の手順に従い、但し、溶剤としてクロロホルムの代
りにエチルエーテルかまたは酢酸エチルを用いて、同じ
ポリマーを作成した。
[−土(表■の化合物1[aの調製および用途)温度計
、滴下ロートおよび磁気撹拌器を備えた250+a1三
首フラスコに、粘度16cs(25℃)、アミン中性等
量608および式 Y ’Me2SiO(NezSiO) + zs!Me
2Y ’ (式中、Y′は−CIhCII□Cll2N
112である)を有するアミノシロキサン20 g(3
2,9ミリモルのN1()およびクロロホルム80tn
lを入れた。混合物を撹拌し、約O′Cに冷却した。こ
れに+1202 ’5tnlに溶解した水酸化ナトリウ
ム1.82g(45,5ミリモル)を添加した。0℃の
上記混合物に、クロロホルム5meに溶解した塩化アク
リリル(3,−1g 、 37.8ミリモル)を添加し
た。
、滴下ロートおよび磁気撹拌器を備えた250+a1三
首フラスコに、粘度16cs(25℃)、アミン中性等
量608および式 Y ’Me2SiO(NezSiO) + zs!Me
2Y ’ (式中、Y′は−CIhCII□Cll2N
112である)を有するアミノシロキサン20 g(3
2,9ミリモルのN1()およびクロロホルム80tn
lを入れた。混合物を撹拌し、約O′Cに冷却した。こ
れに+1202 ’5tnlに溶解した水酸化ナトリウ
ム1.82g(45,5ミリモル)を添加した。0℃の
上記混合物に、クロロホルム5meに溶解した塩化アク
リリル(3,−1g 、 37.8ミリモル)を添加し
た。
混な物をさらに5分間撹拌し、生成した層を分離した。
クロロポルム溶液を無水Na2SO4上で屹煤し、デカ
ントし、それにエタノ−1し1m12、ヒドロキノン1
100ppおよびフェノチアジン201)I)+11を
添加し、減圧下で溶剤を除去して、化合物1[[a 1
9g(87%)を得た。
ントし、それにエタノ−1し1m12、ヒドロキノン1
100ppおよびフェノチアジン201)I)+11を
添加し、減圧下で溶剤を除去して、化合物1[[a 1
9g(87%)を得た。
赤外線スペクトルはアミドのNH伸縮S動による328
0cm−’、アミドのカルボニル伸縮振動による166
0c+a−’、アミドのN1曲げ振動による1550c
m−’の吸収を示した。出発アミン流木および最終アク
リルアミド流体はシロキサンによる1100〜1011
01O’の吸収を示した。
0cm−’、アミドのカルボニル伸縮振動による166
0c+a−’、アミドのN1曲げ振動による1550c
m−’の吸収を示した。出発アミン流木および最終アク
リルアミド流体はシロキサンによる1100〜1011
01O’の吸収を示した。
上記の流体に例8て用いた光重会開始剤5wt%を混合
し、スーパーカレンダー加工クラフト紙上に塗布し、2
0フィート7.・7分(6,1rn/分)の速度で2個
の200W/インチの中圧力水銀ランプ下で硬化して、
汚れのないコーチ、fングを得な。
し、スーパーカレンダー加工クラフト紙上に塗布し、2
0フィート7.・7分(6,1rn/分)の速度で2個
の200W/インチの中圧力水銀ランプ下で硬化して、
汚れのないコーチ、fングを得な。
1(表■の化合物■IJの調製)
温度計、撹拌櫂および滴下ロートを備えた5 00 m
1三首フラスコに、アミン中性等M809、粘度25
csおよび式Y ’MeSiO(Me2SiO) l
:aS!Me2Y’ (式中、)l′は−C)12c1
1(C113)CH2NIIC11,である)を有する
アミノシロキサン50g(61,8ミリモルのNH)お
よび水60社中のNa0112.99g(74,8ミリ
モル)を入れた。
1三首フラスコに、アミン中性等M809、粘度25
csおよび式Y ’MeSiO(Me2SiO) l
:aS!Me2Y’ (式中、)l′は−C)12c1
1(C113)CH2NIIC11,である)を有する
アミノシロキサン50g(61,8ミリモルのNH)お
よび水60社中のNa0112.99g(74,8ミリ
モル)を入れた。
反応混合物を0℃に冷却し、塩化アクリリル6.13g
(68ミリモル)を混合物の温度を0〜5℃に保ってゆ
っくりと添加した。添加終了後、5分間撹拌を続けた。
(68ミリモル)を混合物の温度を0〜5℃に保ってゆ
っくりと添加した。添加終了後、5分間撹拌を続けた。
有e、層を分離した。この有機層に対してテトラヒドロ
フラン2「nlおよびヒドロキノン100131)II
を添加した。溶剤を除去し、流体を濾過して残留塩化ナ
トリウムをすべて除去しな。生成物は25℃で4RC9
の粘1句を有した。赤外線スペクトルは1655c++
+−’にカルボニル伸縮振動、1620cm−’に炭素
−炭素二重結合伸縮振動を示しな。出発流体および最終
流体は5iOSi結合の1110〜1020can−’
に吸収を示しな。
フラン2「nlおよびヒドロキノン100131)II
を添加した。溶剤を除去し、流体を濾過して残留塩化ナ
トリウムをすべて除去しな。生成物は25℃で4RC9
の粘1句を有した。赤外線スペクトルは1655c++
+−’にカルボニル伸縮振動、1620cm−’に炭素
−炭素二重結合伸縮振動を示しな。出発流体および最終
流体は5iOSi結合の1110〜1020can−’
に吸収を示しな。
例16(表■の化き物mcの調製)
空気撹拌器、温度計、凝縮器およびN2人口を備えた5
00社四首フラスコにポリジメチルシロキサン181.
52g 、 Me2SiO単位2.45モル、18.4
8g (0,051モル)および水酸化カリウlh0.
1g(0,00178モル)を入れた。これを加熱し1
49・〜152℃に4.5時間保持した。この後、反応
混合物を室温に冷却し、Kollを中性化した。この流
体は25℃で82csの粘度および】071のアミン中
性等量を有しな。
00社四首フラスコにポリジメチルシロキサン181.
52g 、 Me2SiO単位2.45モル、18.4
8g (0,051モル)および水酸化カリウlh0.
1g(0,00178モル)を入れた。これを加熱し1
49・〜152℃に4.5時間保持した。この後、反応
混合物を室温に冷却し、Kollを中性化した。この流
体は25℃で82csの粘度および】071のアミン中
性等量を有しな。
温度計、撹拌柊および滴下ロートを1曲えた1リットル
ニ首フラスコに、上記のオルガノポリシロキサン100
g (93,4ミリモリのN]()と、クロロホルム3
50+111と、水80+al中の水酸化ナトリウム4
.93g(123,25ミリモリ)を入れた。この反応
混合物を0℃に冷却した。この混合物を0〜5℃に保持
しながら塩化アクリリル10.1g (112ミリモリ
)を添加した。添加後、混合物を5分間撹拌した。有機
層を分離し、エタノール4mlおよびヒドロキノン11
00ppをそれに添加した。溶剤を減圧下で除去した。
ニ首フラスコに、上記のオルガノポリシロキサン100
g (93,4ミリモリのN]()と、クロロホルム3
50+111と、水80+al中の水酸化ナトリウム4
.93g(123,25ミリモリ)を入れた。この反応
混合物を0℃に冷却した。この混合物を0〜5℃に保持
しながら塩化アクリリル10.1g (112ミリモリ
)を添加した。添加後、混合物を5分間撹拌した。有機
層を分離し、エタノール4mlおよびヒドロキノン11
00ppをそれに添加した。溶剤を減圧下で除去した。
生成物は25℃で1096csの粘度を有した。赤外線
スペクトルは3300cm−’に−NH伸縮振動、15
500m−’に−N)I曲げ振動、1650c+m−’
にカルボニル伸縮振動、および1610cm−’に共役
炭素−炭素二重結合の吸収を示した。上記すべての吸収
はもとのアルキルアミノ官能性オルガノポリシロキサン
には存在しなかった。出発オルガノポリシロキサンおよ
びFitkオルガノポリシロキサンはシロキサン結合の
1120〜1020c+n−’における吸収帯を示した
。
スペクトルは3300cm−’に−NH伸縮振動、15
500m−’に−N)I曲げ振動、1650c+m−’
にカルボニル伸縮振動、および1610cm−’に共役
炭素−炭素二重結合の吸収を示した。上記すべての吸収
はもとのアルキルアミノ官能性オルガノポリシロキサン
には存在しなかった。出発オルガノポリシロキサンおよ
びFitkオルガノポリシロキサンはシロキサン結合の
1120〜1020c+n−’における吸収帯を示した
。
fFJ ! 7 (表■の化り物11[dの調製、過酸
化物硬化)撹拌櫂、温度計、凝縮器およびN2人口を皓
えた1リツトル四dフラスコに、ポリジメチルシロキサ
ン433.3g 、 MezSiO単位5.84モル、
Me Me 11□MC112C112NIICIl、CIl C1
125i−0−SiC1lzC1l−CIl□N 11
CII□C1l□N11゜シ113 Me Me
店11345.05g(0,124モル)、ポリメ
チルアミノアルキルシロキサン21 、(35g 、
MeY ’SiO単位(Y’は一011□C1(CIl
J)C1I□N II C112CII□Nll□で
ある) 0.12モル、およびKOHO,25F!(0
,004モル)を入れた。混合1勿を149〜152℃
に約3時間加熱し、そのl、QKOI+をさらに0.2
6g (0,0046モル)添加し、加熱をさらに5分
間継続した。次いで混合物を室温に冷却し、KOHを中
性化した。このアミノアルコキシオルガノポリシロキサ
ンは25℃で86csの粘度と709のアミン中性等量
を有しな。
化物硬化)撹拌櫂、温度計、凝縮器およびN2人口を皓
えた1リツトル四dフラスコに、ポリジメチルシロキサ
ン433.3g 、 MezSiO単位5.84モル、
Me Me 11□MC112C112NIICIl、CIl C1
125i−0−SiC1lzC1l−CIl□N 11
CII□C1l□N11゜シ113 Me Me
店11345.05g(0,124モル)、ポリメ
チルアミノアルキルシロキサン21 、(35g 、
MeY ’SiO単位(Y’は一011□C1(CIl
J)C1I□N II C112CII□Nll□で
ある) 0.12モル、およびKOHO,25F!(0
,004モル)を入れた。混合1勿を149〜152℃
に約3時間加熱し、そのl、QKOI+をさらに0.2
6g (0,0046モル)添加し、加熱をさらに5分
間継続した。次いで混合物を室温に冷却し、KOHを中
性化した。このアミノアルコキシオルガノポリシロキサ
ンは25℃で86csの粘度と709のアミン中性等量
を有しな。
温度計、撹拌櫂および滴下ロートを備えた1リツトルの
三筒フラスコに、上記のすルガノボリシロキサン100
g(0,141モルのアミン)、クロロホルム350社
、水75m1中の水酸化すl・リウム8.16g(0,
204モル)を入れた。上記の混α物を0℃に冷却し、
それを0〜5℃の温度に保ちながら塩化アクリリル15
.3g(0,17モル)を添加した。塩化アクリリルの
添加後、反応混合物をさらに5分間撹拌した。有機層を
分離し、それに3社のエタ、ノールおよび100ppI
hのヒドロキノンを添加し、溶剤を減圧下で除去して2
5℃で1558csの粘度を有する生成物を得な。赤外
線スペクトルはアミド−N −II伸縮振動による33
00cu+−’、アミドの−N−H曲げ振動による15
50c+s−’、カルボニル伸縮振動による1680〜
・1630cm−’の吸収を示した。
三筒フラスコに、上記のすルガノボリシロキサン100
g(0,141モルのアミン)、クロロホルム350社
、水75m1中の水酸化すl・リウム8.16g(0,
204モル)を入れた。上記の混α物を0℃に冷却し、
それを0〜5℃の温度に保ちながら塩化アクリリル15
.3g(0,17モル)を添加した。塩化アクリリルの
添加後、反応混合物をさらに5分間撹拌した。有機層を
分離し、それに3社のエタ、ノールおよび100ppI
hのヒドロキノンを添加し、溶剤を減圧下で除去して2
5℃で1558csの粘度を有する生成物を得な。赤外
線スペクトルはアミド−N −II伸縮振動による33
00cu+−’、アミドの−N−H曲げ振動による15
50c+s−’、カルボニル伸縮振動による1680〜
・1630cm−’の吸収を示した。
上記のすべての吸収はもとのポリシロキサンには存在し
なかった。ブロー−ンN M FLスペクトルはアクリ
ルのCIl2・C11のブロー・ンによる多重線として
δ=6.6〜5.5に吸収を示した。
なかった。ブロー−ンN M FLスペクトルはアクリ
ルのCIl2・C11のブロー・ンによる多重線として
δ=6.6〜5.5に吸収を示した。
上記の流木の小部分を5wt%のベンゾイルペルオキシ
ドと混合し、それをアルミニウムシートおよびガラスシ
ート上に塗布し、150℃で2分間加熱した。
ドと混合し、それをアルミニウムシートおよびガラスシ
ート上に塗布し、150℃で2分間加熱した。
涯L1
温度計、磁気撹拌棒および追加ロートを備えた500m
j!三首フラスコに、アミン等1805、粘度98C1
および公称式 Me:+SiO(Me2SiO)as、2s(MeY
”5iO)z、yssiMes (式中、Y′はCl2
C0(C1f、>(’It□NIICH2CH□N11
□である)を有するアミン官能性オルガノポリシロキサ
ン50゜(0,062モルのアミン)およびトリクロロ
エチレン200社を入れた。混合物を約0’Cに冷却し
た。水50+afに溶解した水酸化ナトリウlh<3.
9g 、 98ミリモル)を上記の反応混合物に添加し
た。トリクロロエタン20mj7に溶解した塩化アセチ
ル(29,7ミリモル、2.33g) 、臭化ベンゾイ
ル(29,7ミリモル、5.50g)および塩化アクリ
リル(29,7ミリモル、2.67g)の混合物を上記
の混合物に撹拌しながら少しづつ添加した。温度を一5
〜+2℃に保持するように注意した。酸ハライドを添加
後、反応混合物をさらに5分間撹拌した。上記の混合物
に、未反応の酸ハライドの加水分解を促進するために5
滴のトリエチルアミンを添加し、混合物をさらに5分間
撹拌した。有機相を分離し、1社のTIIFおよび10
01)I)tnヒドロキノンで安定化した。
j!三首フラスコに、アミン等1805、粘度98C1
および公称式 Me:+SiO(Me2SiO)as、2s(MeY
”5iO)z、yssiMes (式中、Y′はCl2
C0(C1f、>(’It□NIICH2CH□N11
□である)を有するアミン官能性オルガノポリシロキサ
ン50゜(0,062モルのアミン)およびトリクロロ
エチレン200社を入れた。混合物を約0’Cに冷却し
た。水50+afに溶解した水酸化ナトリウlh<3.
9g 、 98ミリモル)を上記の反応混合物に添加し
た。トリクロロエタン20mj7に溶解した塩化アセチ
ル(29,7ミリモル、2.33g) 、臭化ベンゾイ
ル(29,7ミリモル、5.50g)および塩化アクリ
リル(29,7ミリモル、2.67g)の混合物を上記
の混合物に撹拌しながら少しづつ添加した。温度を一5
〜+2℃に保持するように注意した。酸ハライドを添加
後、反応混合物をさらに5分間撹拌した。上記の混合物
に、未反応の酸ハライドの加水分解を促進するために5
滴のトリエチルアミンを添加し、混合物をさらに5分間
撹拌した。有機相を分離し、1社のTIIFおよび10
01)I)tnヒドロキノンで安定化した。
溶剤を減圧下で除去して生成物を得た。生成物は25°
Cで398.8csの粘度を有した。赤外線スペク1、
ルは3320cc111にアミドN11(−N11)に
よる伸縮振動、1670−1620cn+−’に(−N
il−Cおよび−N−CO)のカルボニル伸縮振動、1
555〜1540cm−’にアミド体および最後流体は
一5in−Si−結きによる1120〜102102O
’の吸収を有した。ブロー・ンN M Rスペクトルは
芳香族プロトンによる7、3pp+s、アクリル系プロ
トン(C112=CII−C)による6、5〜5.51
)凹、そしてアセチル(C11,−CO−)プロトンに
よる2、21)l)IIおよび2. Q 1)lnaに
共鳴を示した。従って生成物は下記の公称式 (式中、RはC11,−、C,11,またはC11゜−
C11−である。)を有した。
Cで398.8csの粘度を有した。赤外線スペク1、
ルは3320cc111にアミドN11(−N11)に
よる伸縮振動、1670−1620cn+−’に(−N
il−Cおよび−N−CO)のカルボニル伸縮振動、1
555〜1540cm−’にアミド体および最後流体は
一5in−Si−結きによる1120〜102102O
’の吸収を有した。ブロー・ンN M Rスペクトルは
芳香族プロトンによる7、3pp+s、アクリル系プロ
トン(C112=CII−C)による6、5〜5.51
)凹、そしてアセチル(C11,−CO−)プロトンに
よる2、21)l)IIおよび2. Q 1)lnaに
共鳴を示した。従って生成物は下記の公称式 (式中、RはC11,−、C,11,またはC11゜−
C11−である。)を有した。
手 続 補 正 書く方式)
昭和62ftm2月、I 日
特許庁長官 黒 III ”Jl 雄 殿1、事件
の表示 昭和61年特許願第252089号 2、発明の名称 有機ケイ素化合物、硬化性コーティング組成物およびそ
れらの製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 ダウ コーニング コーポレーション4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号5、
H1i正命令の口1・1 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし) 8、添附書類の目録 浄書明細書 1通
の表示 昭和61年特許願第252089号 2、発明の名称 有機ケイ素化合物、硬化性コーティング組成物およびそ
れらの製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 ダウ コーニング コーポレーション4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号5、
H1i正命令の口1・1 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 明細書の浄書(内容に変更なし) 8、添附書類の目録 浄書明細書 1通
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式−QNAQ′NAZ(式中、ZはHまたはRを示
し、Rは1価の炭化水素基を示し、QおよびQ′は2価
の炭化水素基を示し、Aは式▲数式、化学式、表等があ
ります▼を有するアシル基を示し、BはHまたはCH_
3を示す。)を有する少なくとも1個のケイ素結合アシ
ルアミノ置換炭化水素基を含有し、かつその残りのすべ
てのケイ素結合基は有機基およびケイ素原子間を結ぶ酸
素原子からなる群から選択してなる有機ケイ素化合物。 2、平均単位式R_c(NHAQ′NAQ)_dSiO
_(_4_−_c_−_d_)_/_2〔式中、cは0
〜3の値を有し、dは0(0を含まず)〜4の値を有し
、c+dは1〜4の値を有する。〕を有する特許請求の
範囲第1項記載の有機ケイ素化合物。 3、式YR_2SiO(R_2SiO)_x(YRSi
O)_ySiR_2Y〔式中、YはRまたは−QNAC
H_2CH_2NAHを示し、xは0〜5000の値を
有し、yは0〜500の値を有する。〕を有する特許請
求の範囲第2項記載の有機ケイ素化合物。 4、式(R)_eSi(QNACH_2CH_2NAH
)_4_−_e〔式中、eは0、1、2または3の値を
有する。〕を有する特許請求の範囲第2項記載の有機ケ
イ素化合物。 5、Rをメチル基、フェニル基およびビニル基からなる
群より選ぶ特許請求の範囲第5項記載の有機ケイ素化合
物。 6、少なくとも1個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化
水素基を含有する有機ケイ素化合物を製造するに際して
、( I )少なくとも1個の窒素結合水素を含む少なく
とも1個のケイ素結合アミノ置換炭化水素基を有しかつ
その他のケイ素の原子価は有機基およびケイ素原子間を
結ぶ2価の酸素原子からなる群から選ばれる基で満たさ
れたアミノケイ素化合物を含む組成物(ii)に、アシ
ルハライドを含む組成物(i)を混合し、この混合を水
溶性アルカリ性物質の水溶液(iii)と(ii)の水
不溶性溶剤(iv)との存在おいて行ない、成分(i)
、(ii)、(iii)の量はアミノケイ素化合物の分
子当り少なくとも1個の窒素結合水素原子を含有する少
なくとも1個のアミノ窒素原子をアシル化しかつアシル
ハライドの量に関して少なくとも等価な量のアルカリ性
物質を提供するのに十分であり、そしてその後(II)成
分(i)、(ii)が含まれる混合物を撹拌して前記有
機ケイ素化合物を生成することを提供する方法。 7、ケイ素結合アミノ置換炭化水素基が式 −Q(NHQ′)_aNZHを有し、アシルハライドが
式R′COXを有し、これらの式中、QおよびQ′は2
価の炭化水素基を示し、R″は置換または非置換せる1
価の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、Zは
水素または1価の炭化水素基を示し、aは0または1の
価を有する特許請求の範囲第6項記載の方法。 8、アシルハライドがCH_2=CHCOClおよびC
H_2=C(CH_3)COClからなる群から選んだ
化合物からなる特許請求の範囲第7項記載の方法。 9、アミノケイ素化合物が平均単位式 R_c(NH_2(Q′NH)_aQ)_dSiO_(
_4_−_c_−_d_)_/_2〔式中、Rは1価の
炭化水素基を示し、cは0〜3の値を有し、dは0(0
を含まず)〜4の値を有し、c+dは1〜4の値を有す
る。〕を有する特許請求の範囲第8項記載の方法。 10、アミノケイ素化合物が式 Y′R_2SiO(R_2SiO)_x(Y′RSiO
)_ySiR_2Y′〔式中、Y′はRまたは−QNH
CH_2CH_2NH_2を示し、xは0〜5000の
値を有し、yは0〜500の値を有する。〕を有するシ
ロキサンである特許請求の範囲第9項記載の方法。 11、アミノケイ素化合物が式 R_eSi(QNHCH_2CH_2NH_2)_4_
−_e〔式中、eは0、1、2または3の値を有する。 〕を有するシランである特許請求の範囲第9項記載の方
法。 12、Rをメチル基、フェニル基およびビニル基からな
る群より選ぶ特許請求の範囲第9項記載の方法。 13、アルカリ性物質がアルカリ金属水酸化物である特
許請求の範囲第6項記載の方法。 14、成分(i)を成分(ii)、(iii)、(iv
)の混合物に混入する特許請求の範囲第6項記載の方法
。 15、(III)少なくとも1個のケイ素結合アシルアミ
ノ置換炭化水素基を含む有機ケイ素化合物を単離する工
程を更に含む特許請求の範囲第6項記載の方法。 16、アシルハライドをCH_2=CHCOClおよび
CH_2=C(CH_3)COClからなる群から選ぶ
特許請求の範囲第6項記載の方法。 17、前記混合および前記撹拌を0〜10℃の温度で行
なう特許請求の範囲第6項記載の方法。 18、前記混合および前記撹拌を0〜10℃の温度で行
なう特許請求の範囲第8項記載の方法。 19、前記混合および前記撹拌を0〜10℃の温度で行
なう特許請求の範囲第15項記載の方法。 20、式−QANQ′NAZ〔式中、ZはHまたはRを
示し、Rは1価の炭化水素基を示し、QおよびQ′は2
価の炭化水素基を示し、Aは式▲数式、化学式、表等が
あります▼を有するアシル基を示し、BはHまたはCH
_3を示す。〕を有する少なくとも1個のケイ素結合ア
シルアミノ置換炭化水素基を含有し、かつその他のケイ
素結合基が有機基およびケイ素原子間を結ぶ2価の酸素
原子からなる群から選ばれる有機ケイ素化合物を含むこ
とを特徴とする硬化性コーティング組成物。 21、更に重合開始剤を含む特許請求の範囲第20項記
載の組成物。 22、有機ケイ素化合物が式 YR_2SiO(R_2SiO)_z(YRSiO)_
gSiR_2Y〔式中、YはRまたは−QNACH_2
CH_2NAHを示し、zは10〜2000の値を有し
、gは0〜0.1zの値を有する。〕を有する特許請求
の範囲第20項記載の組成物。 23、更に重合開始剤を含む特許請求の範囲第22項記
載の組成物。 24、各Rがメチル基を示す特許請求の範囲第22項記
載の組成物。 25、有機ケイ素化合物が式 Me_3SiO(Me_2SiO)_z(YMeSiO
)_hSiMe_3を有し、hが0より大きく0.1z
までの値を有する特許請求の範囲第24項記載の組成物
。 26、有機ケイ素化合物が式 YMe_2SiO(Me_2SiO)_zSiMe_2
Yを有する特許請求の範囲第24項記載の組成物。 27、有機ケイ素化合物が式 YMe_2SiO(Me_2SiO)_z(YMeSi
O)_hSiMe_2Yを有し、hが0より大きく0.
1zまでの値を有する特許請求の範囲第24項記載の組
成物。 28、(A)式−QANQ′NAZ〔式中、ZはHまた
はRを示し、Rは1価の炭化水素基を示し、QおよびQ
′は2価の炭化水素基を示し、Aは式 ▲数式、化学式、表等があります▼を有するアシル基を
示し、BはHまたはCH_3を示す。〕を有する少なく
とも1個のケイ素結合アシルアミノ置換炭化水素基を含
有し、かつその他のケイ素結合基が有機基およびケイ素
原子間を結ぶ2価の酸素原子からなる群から選ばれる有
機ケイ素化合物を含む硬化性コーティング組成物を基材
上に適用し、そしてその後(B)適用したコーティング
を硬化させることを特徴とする基材に硬化性ケイ素含有
コーティングを形成する方法。 29、適用したコーティングを遊離基発生手段に暴露す
ることによって硬化させる特許請求の範囲第28項記載
の方法。 30、適用したコーティングを電子ビーム照射によって
硬化させる特許請求の範囲第28項記載の方法。 31、適用したコーティングを紫外線に暴露して硬化さ
せる特許請求の範囲第28項記載の方法。 32、有機ケイ素化合物が式 YR_2SiO(R_2SiO)_z(YRSiO)_
gSiR_2Y〔式中、YはRまたは−QNACH_2
CH_2NAHを示し、zは10〜2000の値を有し
、gは0〜0.1zの値を有する。〕を有する特許請求
の範囲第28項記載の方法。 33、適用したコーティングを遊離基発生手段に暴露す
ることによって硬化させる特許請求の範囲第32項記載
の方法。 34、適用したコーティングを電子ビーム照射によって
硬化させる特許請求の範囲第32項記載の方法。 35、適用したコーティングを紫外線に暴露して硬化さ
せる特許請求の範囲第32項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/791,484 US4608270A (en) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | Acylamino silicon compounds, their use and preparation |
US791484 | 1985-10-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62187475A true JPS62187475A (ja) | 1987-08-15 |
JPH0547550B2 JPH0547550B2 (ja) | 1993-07-19 |
Family
ID=25153884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61252089A Granted JPS62187475A (ja) | 1985-10-25 | 1986-10-24 | 有機ケイ素化合物およびその製法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4608270A (ja) |
EP (1) | EP0220693B1 (ja) |
JP (1) | JPS62187475A (ja) |
CA (1) | CA1314555C (ja) |
DE (1) | DE3682654D1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013543530A (ja) * | 2010-09-28 | 2013-12-05 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 完全アシル化されたアミノ官能性オルガノポリシロキサン |
JP2015502424A (ja) * | 2011-11-14 | 2015-01-22 | ベーイプシロンカー ヘミー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクターハフトゥング | 塗装材料組成物および成形材料における変性ポリシロキサンの使用 |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4822890A (en) * | 1983-05-20 | 1989-04-18 | Hoffmann-La Roche Inc. | Method for the production of amino terminus protected naturally occurring amino acids |
US4698406A (en) * | 1986-11-04 | 1987-10-06 | Dow Corning Corporation | Curable organopolysiloxane composition |
JP2657249B2 (ja) * | 1986-11-25 | 1997-09-24 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 密着性向上剤 |
US4831064A (en) * | 1986-12-22 | 1989-05-16 | Dow Corning Corporation | Organopolysiloxane compositions curable by ultraviolet radiation |
CA1292831C (en) * | 1986-12-22 | 1991-12-03 | Dow Corning Corporation | Organopolysiloxane compositions curable by ultraviolet radiation |
US4911986A (en) * | 1987-02-09 | 1990-03-27 | Dow Corning Corporation | Curable silicone compositions comprising vinyl monomer |
US4788310A (en) * | 1987-07-13 | 1988-11-29 | General Electric Company | N-Silylalkylamides and their use as adhesion promoters in room temperature vulcanizable polydiorganosiloxane compositions |
US4956221A (en) * | 1987-11-06 | 1990-09-11 | Dow Corning Corporation | UV curable conformal coating with moisture shadow cure |
CA1337224C (en) * | 1987-11-06 | 1995-10-03 | Beth I. Gutek | Compositions having uv cure with moisture shadow cure |
US4824875A (en) * | 1987-11-06 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | UV curable conformal coating with moisture shadow cure |
US4988743A (en) * | 1988-03-21 | 1991-01-29 | General Electric Company | Radiation self-sensitized silicone polymers |
US5070118A (en) * | 1988-03-21 | 1991-12-03 | General Electric Company | Radiation-self-sensitized silicone polymers |
US4921880A (en) * | 1988-08-15 | 1990-05-01 | Dow Corning Corporation | Adhesion promoter for UV curable siloxane compositions and compositions containing same |
US5188864A (en) * | 1988-08-15 | 1993-02-23 | Dow Corning Corporation | Adhesion promoter for UV curable siloxane compositions and compositions containing same |
EP0363071A3 (en) * | 1988-10-03 | 1991-01-30 | Dow Corning Corporation | Uv curable gels |
JPH02107650A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-19 | Toshiba Silicone Co Ltd | 無機ケイ素質充填剤用処理剤 |
US5008301A (en) * | 1989-02-21 | 1991-04-16 | Dow Corning Corporation | Ultraviolet curing conformal coating with dual shadow cure |
US4861906A (en) * | 1989-04-10 | 1989-08-29 | Dow Corning Corporation | Process for the synthesis of acylamino organosilicon compounds |
US4861907A (en) * | 1989-04-10 | 1989-08-29 | Dow Corning Corporation | Process for synthesis of acylamino silicon compounds |
US5036114A (en) * | 1989-04-10 | 1991-07-30 | Dow Corning Corporation | Acrylamide polysiloxane composition with improved heat stability |
US4933413A (en) * | 1989-04-10 | 1990-06-12 | Dow Corning Corporation | Process for synthesis of acylamino organosilicon compounds |
US4889942A (en) * | 1989-04-12 | 1989-12-26 | Dow Corning Corporation | Process for synthesis of acylamino organosilicon compounds |
DE69013583T2 (de) * | 1989-06-19 | 1995-05-04 | Dow Corning | Acrylamidoaryloxifuntionelle Siliciumverbindungen. |
US5237082A (en) * | 1989-09-22 | 1993-08-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable silicone elastomers and pressure sensitive adhesives |
AU630732B2 (en) * | 1989-09-22 | 1992-11-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable silicone elastomers and pressure sensitive adhesives |
EP0437075B1 (en) * | 1990-01-09 | 1993-12-15 | Dow Corning Corporation | Siloxane conditioners for hair |
US5087716A (en) * | 1990-01-22 | 1992-02-11 | Dow Corning Corporation | Novel synthesis of difunctional halo organo noncarbon group IV main group element amides |
US5013577A (en) * | 1990-08-22 | 1991-05-07 | Dow Corning Corporation | Siloxane soluble (CH3)3 SIO1/2 /SIO2 (M/Q) resins with amine and amide organofunctionality |
US5101056A (en) * | 1990-12-26 | 1992-03-31 | Dow Corning Corporation | Process for converting amino organosilicon compounds to acrylamide organosilicon compounds |
CA2106465A1 (en) * | 1991-03-20 | 1992-09-21 | Mieczyslaw H. Mazurek | Radiation-curable acrylate/silicone pressure sensitive adhesive compositions |
EP0583259B1 (en) * | 1991-03-20 | 1996-01-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation curable vinyl/silicone release coating |
US5464659A (en) * | 1991-05-23 | 1995-11-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Silicone/acrylate vibration dampers |
US5308887A (en) * | 1991-05-23 | 1994-05-03 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesives |
US5246979A (en) * | 1991-05-31 | 1993-09-21 | Dow Corning Corporation | Heat stable acrylamide polysiloxane composition |
US5300613A (en) * | 1992-06-02 | 1994-04-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluorine-containing organosilicon compounds |
EP0678542B1 (en) * | 1994-04-20 | 1999-07-07 | Three Bond Co., Ltd. | Photocurable silicone composition |
US5625023A (en) * | 1994-12-09 | 1997-04-29 | Dow Corning Corporation | Aerosol suppressant compositions for silicone coatings |
JP3177410B2 (ja) * | 1995-07-17 | 2001-06-18 | 信越化学工業株式会社 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
US5994454A (en) * | 1996-10-25 | 1999-11-30 | Dow Corning Corporation | Aerosol suppressant compositions for silicone coatings |
FR2908992A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-05-30 | Oreal | Composition cosmetique contenant un derive de dibenzoylmethane et un derive ester ou amide d'arylalkyl benzoate siloxanique ; procede de photostabilisation du derive de dibenzoylmethane. |
WO2008064979A2 (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | L'oreal | Cosmetic compositions containing a siloxane- containing arylalkyl benzoate amide derivative; use of said derivative as solvent in oils; novel siloxane- containing arylalkyl benzoate amide derivatives |
FR2908993A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-05-30 | Oreal | Compositions cosmetiques contenant un derive ester ou amide d'arylalkyl benzoate siloxanique ; utilisation dudit derive comme solvant dans les huiles ; nouveaux derives esters ou amides d'arylalkyl benzoate siloxaniques. |
AT504860B1 (de) | 2007-02-06 | 2012-02-15 | Mondi Release Liner Austria Gmbh | (meth)acrylamid-derivate von polysiloxanen |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2929829A (en) * | 1956-10-12 | 1960-03-22 | Union Carbide Corp | Organosilicon acylamino compounds and process for producing the same |
US3249461A (en) * | 1962-01-24 | 1966-05-03 | Grotenhuis Theodore A Te | Article having reinforcing coupled to matrix and reinforcing for same |
JPS51125277A (en) * | 1974-12-28 | 1976-11-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Aprocess for preparing organosilane compounds |
JPS55112262A (en) * | 1979-02-23 | 1980-08-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photosetting organopolysiloxane compostion |
JPS5674113A (en) * | 1979-11-22 | 1981-06-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photosetting organopolysiloxane composition |
US4543398A (en) * | 1983-04-28 | 1985-09-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ophthalmic devices fabricated from urethane acrylates of polysiloxane alcohols |
US4507455A (en) * | 1984-05-11 | 1985-03-26 | Dow Corning Corporation | Silicones bearing acylated diaminohydrocarbyl radicals and method therefor |
-
1985
- 1985-10-25 US US06/791,484 patent/US4608270A/en not_active Expired - Lifetime
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1986
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013543530A (ja) * | 2010-09-28 | 2013-12-05 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 完全アシル化されたアミノ官能性オルガノポリシロキサン |
JP2015502424A (ja) * | 2011-11-14 | 2015-01-22 | ベーイプシロンカー ヘミー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクターハフトゥング | 塗装材料組成物および成形材料における変性ポリシロキサンの使用 |
Also Published As
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