JPS6191654A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPS6191654A
JPS6191654A JP59212677A JP21267784A JPS6191654A JP S6191654 A JPS6191654 A JP S6191654A JP 59212677 A JP59212677 A JP 59212677A JP 21267784 A JP21267784 A JP 21267784A JP S6191654 A JPS6191654 A JP S6191654A
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diazo
acid
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富安 寛
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
Sei Goto
聖 後藤
Norihito Suzuki
鈴木 則人
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders

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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野〕 本発明は、新規な感光性組成物に関する。更に詳しくハ
、高感度で、かつ保存安定性に冴れ、地汚れの発生がl
く、しかも、良好なj;傷強度金イfする感光層ケ与え
る感光法X(lri!l:′1f′yに1月するう〔従
来の技術〕 従来、芳香族ジアゾニウム腐、例えば、ジフェニルアミ
ン−4−ジアゾニウム塩と后憔カル7ビニル化合物、例
えばホルムアルデヒド金反心75せたジアゾQ(脂に公
用である。′lyK印刷分汀ではジアゾ(樹脂の光分解
による浴jl’l f):のズ化と利用して、オフセッ
ト印刷用平−版の5ン1版用感元注物質として広く利用
されている。
ジアゾ樹脂全バインダー→と混合し、そrL?i)親水
性の余病、紙、好ましくはアルミニウム等に塗布するこ
とにエリオフセット印刷版が得られる。この版は、イ象
様露光することにより露光部が硬化し、現像液に不溶と
なり、これを現像液にエフ処理することに工9版面上に
親水性部分と現前法部分が得られ水と脂肪性インキを用
いて印刷することができる。
高分子化合物とジアゾ化合物と“からなる感光a 肉質
u 、ジアゾ化合物単独のものと比較して、後でラッカ
ー盛9等の必要性がなく、安定した印刷版が得られる等
優れた性能を示すことが知られている。しかし、この感
光性組成物は高分子化合物が親水性であると、現像性や
ジアゾ樹脂との相溶性に優れているものの保存安定性や
感脂性が悪く、実用上支障がある。他方、高分子化合物
が親油性であると、保存安定性や感脂1’44j慢れて
いるものの現像性が、特に水系の現(9?Nで悪く、高
分子化合物の選択が重要となる。
これに対して高分子化合物f″i、種々のものが検討さ
れており、例えば、特開昭50−50604号公報に記
M<きれている工うに、下記一般式■で示される樽遺単
位孕含む重合体!−7が提案されでいるが感脂性の点で
6i足できるものでtrJ、aい。
(式中R4に水素原子又はメチル基金示し R5は水素
原子、メチル基、エチル基又にクロロメチル基を示し、
mは1〜10の整数上水す)また、特開昭56−414
4号公報記載の水酸基含有モノマーを荷に含まないアク
リレート系のポリマーは、感脂性の点では前者の重合体
より優れているものの感度や塗布性の点で(tt足でき
るものではない。7r+f開昭54−98614号公報
には、芳香族性水酸基を有する単l・動体上必須成分と
する高分子化合物が記載されており、感度、現像性、感
脂性及び塗布Vし等諸性能のバランスはとれているもの
の厳しい保存状態例えば、湿度80%、温度40℃等で
の安定性はイ待足できるものではなかった。
高分子化合物と同様にジアゾ樹脂も印刷版に大きな影響
を与えることから種々の検討がなされている。例えば特
公昭47−1167号公報あるいは米国特許第5500
509号明細書にはジアゾ基のアニオンとして有1幾ス
ルホン酸塩等の;ff機塩が記載されているが、露光時
の可視画が見にくく使いにくいという欠点がある。特開
昭54−98615号公報ににジアゾ基のアニオンとし
て、ハロゲン化ルイス酸塩等の無機塩が記4・シされて
おり露光時の可視画は優れているものの高温多湿下とい
った苛酷な条件下での保存安定性の点で1足できるもの
ではなかった。
以上のしηζ高分子化合物とジアゾ樹脂に関しては神々
の検討鉱すされているものの、その組合せだけでに現f
′り性や保存安定性の点で満足できるものが得られit
いため、シュウrrlやン西石r波のような酸を添加し
たり(特開昭53−5216号、同58−65450号
)、高分子有機酸を添加したり(特開昭56−1072
38号)、下塗9層金般けたり(特開昭56−2112
6号)することに工って上記の欠点全解決する方法等が
知られている。
また一方、作業性等の点から、4:2近になって印刷版
の高感度化が強く望凍れでおり、ジアゾ膵光材料の分野
でも、種々の検討がなされている。(例えば特開昭57
−118259号)〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、ジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩とカル
ボニル化合物との重61合でべ、モル比、反応条件、置
換基等全選択すれば高感、塵ジアゾ化合物は得られるも
のの現像性、保存安定性の点で難がある(特開昭59−
78540号)。
また、ジフェニルアミン系以外のうj1規ジアゾ感光材
料も検討されているが(特開昭54−30121号、同
58−127925号、同58−6545号ン、製造面
、現像性の点でいまだ十分ではない。
本発明の第1の目的は、保存安定性にf−でれ、かつ優
れた現f象注全発掠するI&光性川成物全提供すること
にある。
本発明の別の目的は、高感度でかつ製造上でも有利な感
光性A且成物を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、膜強度に優れ、したがってオ
ーバー現像性や耐刷力に優れた感光性組成物を提供する
ことにある。
〔問題点〒解決する几めの手段〕
本発明全概説すれば、本発明は感光性組成物に関する発
明であって、 (a)  下記一般式1: (式中、R1、R1及びR3H水素原子、アルキル基又
はアルコキシ基を示し、Rは水素原子、アルキル基又は
フェニル基を示し、XはPF。
又にBr3を示し、nは1〜200の数を示すλで表さ
れ、かつ該式におけるnが5以上である樹脂を20モル
%以上含む感光法ジアゾ俯ハ旨 、 (1))  水酸基金石する親油性高分子化合物、及び
(C)  水酸基を有しない高分子の41 +;st酸
毛:含有する組成物であって、かつ該(Q)成分の含イ
f量が、該組成物の固形分中1.5〜50重量−である
ことを特徴とする。
本発明者らは、鋭意研究金型ねた結果、ジアゾ樹脂とし
て高分子量の特定のPF、塩又はB14gIt−使用し
、且つ、特定喰の高分子の有磯酸全併用することによっ
て高感度で、がっ地汚れが発生せず保存安定性が著しく
改良された、更には、良好な膜強度を有する感光層を与
えるジアゾ感光性組成物が得られることを見出し本発明
を完成したものである。
以下不発#1を具体的に説明する。
本発明におけるジアゾ樹脂は、前記一般式Iで示され、
しかも、該式におけるnが5以上でらる樹脂ff:20
モルチ以上、好凍しくは、20〜60モルチ含むもので
ある。式中、R1、R2及びR3のアルキル基及びアル
コキシ基としては、挙げられ、また、只のアルキル基と
しては%C1〜Iのアルキル基が孕げられる。
かかるジアゾ樹脂は、公用の方法、例えば、フォトグラ
フィック サイエンス アンド エンジニアリング(P
ho切、 Sci、 Kng、 )第17善、第33頁
(1975)、米国特許第2065651号、同第26
79498号各明細書に記載の方法に従い、硫酸やリン
酸あるいは塩酸中でジアゾニウム1Mとアルデヒド類例
えばパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズ
アルデヒドとを重縮合させることに工って得られる。
その際、ジアゾニウム塩とアルデヒド類をモル比で通常
1:0.6〜1:2、好ましく鉱、1:0.7〜1:1
.5で仕込み、低温で短時間、例えば10℃以下3時間
程度反応させることに工り高感II!ジアゾ+ffJ脂
が得られる。
かくして得られたジアゾ4”i(脂に、例えば、水酸基
を有する親油性高分子化合物と混合することが有利であ
る。この目的に使用しりる水酸基を有する親油性高分子
化合物としては、例えば、下記のモノマーを含有する通
常2万〜2o万の分子#、全もつ共重合体が挙げられる
Tll  芳香族水散基を有するモノマー、例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ)”又UN−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、O−、
m+、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−t  p−
ヒドロキシフェニル−アクリレート又は−メタクリレー
ト(2)脂肪族水酸基を有する七ツマ−1例えば2−と
ドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチル
メタクリレート 共重合する他のモノマーとしては (1)  アクリルm1メタクリル酸、無水マレイン酸
等のα、β−不飽和カルポン酸 (2)  アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸グロビル、アクリルt1′2ブチル、アクリル峻
アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリルはオクチル、ア
クリルr9−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート (3)  メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、・シクロヘキシルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロ
キシブチル、メタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の装置
1急ンアルキルメタクリレート (4)  アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタク
リルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エ
チルート丁−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミ
ド名°シ〈にメタクリルアミド類 (5)  エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、フロ
ビルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエ
ーテルr:rtで6)  ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香弓でビニル
等のビニルエステル類 (7)  スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレン等のスチレン類 <8)  メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
グロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニ
ルケトン類 <9)  エチレン、グロビレン、インブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類’l*  N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリレートリル等 が挙げられるが、その他、水r便基全含有するモノマー
と共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定され
るものではない。また、これ以外にも必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹II旨、ポリウレタン1対1j旨
、ポリアミドπ1(0旨、エポキシ町脂、ノボラック樹
脂、天然1!7(脂管全添加してもよい。
本発明に用いられる水酸基金石する親油性の高分子化合
物に、感光性Il成物の固形分中に通常40〜99爪斌
%、好1しくに50〜95重礒チ含有させる。また、ジ
アゾ樹脂は通常1〜60重危5、好ましくは3〜50重
叶チ含有させる。
本発明に使用きれる水l何基を有しない高分子の有b@
% nは、レリえはポリアクリル酸及びその共重合体、
ポリメタクリル酸及びその共重合体、カルボン酸変性の
ノボラック樹脂等である。これらの中1″才阜にポリア
ク+1ル酸≠;0不博1、込−rれらの高分子の有機酸
の分子1」゛ば1000〜10万であり、好−71,(
[2000〜3万である。
本発明に用いられる高分子の有(3r・z′コのfti
 l”j 1.5〜3Q tM:%、好ましくは165
〜15重f、ヤ係である。
本発明の感光性組成物には、更にセL能全同上させるた
めに以下に示し之種々の公凡の添/IrI剤を加えるこ
とができる。
(1)  画像を可視固化することを目的とした染料(
2) 塗布性を改良するためのフッ、暑糸界面活注剤や
アルキルエーテル類 (3)  塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与する定めの可
塑剤 (4)  感脂化剤 (5)  安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対し0.01〜50
重量%である。
本発明の感光性組成物は適当なhl媒、例えばメチルセ
ロソルブ、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、シ
クロヘキサノン、ジオキサン、j”1111・7エチル
、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等にnm
して支持体にr〜布する。
かかる支持体としては、公知のいずれのものも1吏用で
きるが、アルミニウム板、その他の金’7S 、+5.
、徨j’sラミネートフィルム等が好適で69.1テに
アルミニウム!1が好−tL<、塗布M−としてりj、
乾4.’13 iRiHtでl′lj常約0.5〜約5
1//m”である。
このとき、用いるアルミニウム板はあらかじめ周囲の方
法に従い、砂目立て処理、陽極酸比処理、)1水ft、
、!/% lJ[’+7の表面処理を行っておくことが
tJFt+、い。
砂目立て法としてはブラシ研壁及び電解エツチング法等
が用いられるが均質な砂目が得られる直Jずfエツチン
グが工9好ましい。陽極酸比処理に、硫酸、リン酸及び
その混酸等で行われるが、1弓極醪化被月莫量としては
2〜50 mf / dm”が好ましく、更に好ましく
は5〜50 rnf / dtn”である、、2 mf
76m”未満では非画線部の耐摩耗性が弱く、耐刷力不
足となり、50 mf / dm”超でに画像再現性が
不良となる。
親水化処理としては熱水!:J JL・セケイ1“フソ
ーダ逸埋が挙げられるが接着性やジアゾ残り、現像性の
点からは、ケイ1テタソーダ処σ■が好ましい。
ケイ酸ソーダ処理の条件として+−X t、::度0.
1〜5−〇メタケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜9
5℃で10秒間〜5分間a漬して行われる。
好1しくば、その後に60℃〜100℃の水に10秒間
〜5分間浸Ttt Lで!・:を理される。
こ5して製造した感光性−モ版印刷版上に、常法に従っ
て被写物全型ねて?’i<光するか4子線等を照射して
画像の書込みを行った後、現像l浅を用いて現像すれば
支持体上に対応する画像全形成きせることができる。)
7尤に好適な光源としては、メタルハライドランプ、水
汰灯、カーボンアーク灯等が挙げられる。
本発明に係る感光性印刷版の現な処理に用いられる現像
液は公知のいずれのものであっても良いが、好ましくは
一以下のものが工い。すなわち本発明に係る感光性印刷
版を現像する現像液は、水、あるいは特定の有機溶媒及
び/又はアルカ!j ;i’J k含む水溶液が挙げら
れる。ここに特πの;fT+、) 7容媒とは、現像液
中にま有させたとき上述の感光性訂l成!t′v層の非
露光部(非画像部)全1警m父く膨7I・]することが
でき、しかも常温(20℃)において水に対するt容解
度が10重(5)俤以下の有(幾溶媒をいう。この工う
i有機溶媒としては上記のような特注を有するものでる
りさえすれげ工く、以下のもののみに限定されるもので
II′r、ないが、これら全例示するならば、例えば酢
l′iマエチル、酢酸グロビル、酢酸ブチル、酢酸アミ
ル、酢酸ベンジルミエチレンクリコールモノブチルアセ
テート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカルボ
ン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキ六ンの工うなケトン類;エチレンク
リコールモノブチルエーテル、エチレングリコールベン
ジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ベンジルアルコール、メチルフェニルカルビノール
、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコールの工
うなアルコール類:キシレンの工うなアルキルF’e 
J?!芳香族炭化水素;メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼンの、C57jハロ
ゲン化炭化水素などがある。これらイlt’;Jf媒H
−禮以上用いても工い。これら有1>”、 Ri媒の中
では、エチレングリコールモノフェニルエーテルとベン
ジルアルコールが特に有効である。また、これら有機溶
媒の現像液中における含有h”CI!おおむね1〜20
重縫チであり、特に2〜10重量%のとき工9好葦しい
結果を得る。
他方、現像液中に含有されるアルカリ剤としてに、 (A)  ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又
は第三リン酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタケ
イ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無(
)アルカリ剤 (B)  モノ、ジ又はトリメチルアミン、モノ、ジ又
はトリエチルアミン、モノ又にジイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノ、ジ又ホトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジアミン等の有(((アミン化合物等
がろセけられる。
これらアルカリ剤の現IJ ?T1.中における含有量
は通i 0.05〜4重遣チで、好ましくは0.5〜2
重量%でるる。
また、保存安定性、耐刷性等をエフ以上に高めるために
は、水溶性亜硫酸塩を現像液中に含有させることが好ま
しい。このような水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のア
ルカリ又はアルカリ土類金6塩が好ましく、例えば亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸マグネシウムなどがある。これらの亜硫酸塩の現像液
組成物における含有液は通常α05〜4M耽チで、好ま
しくはα1〜1重量%である。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
Ω可溶化剤を含有させることもできる。この、C5な可
溶化剤としては、本発明の所期の効果全実現するため、
用いる有1’! 7M熟t、4:す水易溶性で、低分子
のアルコール、ケトンI11 w用いるのがよい。また
、アニオン活a fi’! 、両を主活性剤等も用いる
ことができる。この上うなアルコール、ケトン類として
i、1+lIえばメタノール、エタノール、グロパノー
ル、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、メトキシブタノール、エトキシ
ブタノール、4−メトキシ−4−メチルブタノール、N
−メチルピロリドン等を用いることが好ましい。また、
活性剤としては例えハ゛イソグロビルナフタレンスルホ
ンn!ナトリウム、n−ブチルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、N−メチル−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナ
トリウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好ま
しい。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用
量についてに特に制限にないが、一般に現像液全体に対
し約30重量%以下とすることか好ましい。
本発明に係る感光1印刷版に、像様露光した後、上述の
現像液に接触させたり、あるいはこすったりすれば、お
おむね常温〜40℃にて10〜60秒後にべ、感光性組
成物層の露光部に悪形πを及ばずことなく、非露光部の
感光性組成物が完全に除去されることになる。この場合
、現像能力に高く、また、経時現像性(保存安定性)も
耐刷性も良好で、更には色抜け、仕上り悪化等も生じる
ことナク、加えて公害及び労働衛生面からも問題はない
以下、本発明のジアゾ化合物及びポリマー更に支持体の
製造例を示す。
(ポリマー1の合成) N−(4−ヒドロキシフェニルンメタクリルアミドIQ
、Of、アクリロニトリル251、エチルアクリレート
60f1メタクリルIQ 5 を及びアゾビスイソブチ
ロニトリル1.642ffアセトン−メタノール1:1
混合溶媒112m/に17j解し、窒素1;τ換した後
60℃で8時間加熱し反応終了後反応液を水5を中にか
くべん下注き、生じた白色沈殿を#1取乾燥してポリマ
ー1i90f得た。
こノホリマーヲケルパーミエーションクロマトグラフイ
ー(以下GPCと略記する)にエフ分子量の測定音した
ところ、重量平均分子frcにa5万であった。
(ポリマー2の合成) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート5[lO2,アク
リロニトリル20り、メチルメタクリレート25t1メ
タクリル酸52と1.2fの過酸化ベンゾイルの混合液
i、100℃に刀口熱したエチレングリコールモノメチ
ルエーテル5002に2時間かけて滴下した。t西下終
了後エチレングリコールモノメチルエーテル5002と
過rlt化ベンゾイル[L5fi加えてそのまま4時間
反応させた。反応終了後メタノールで希釈して水5を中
にかくはん下注ぎ生じた白色沈殿を1取乾燥してポリマ
ー2’195f得た。
このポリマーi GPOに工9分子;逢の測定をしたと
ころ、ffl量平均分子縫1−(6,5万であった。
(ポリマー5の合成) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート452、アクリロ
ニトリル10f1エチルメタクリレート552、メタク
リル酸101と1.2fの過酸化ベンゾイルの混合液全
ポリマー2の合成の場合と同機にエチレングリコールモ
ノメチルエーテルに滴下しポリマー5’i(90F得た
このポリマーf GPCにエリ分子量の測定をしたとこ
ろ重量平均分子量で6,2万であった。
(ジアゾ樹脂−1の合成) p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5f(50ミ
リモル)を氷冷下で4CL9fの濃硫酸に醪解した。こ
の反応液に1.59 (50・ミリモル)のパラホルム
アルデヒド全ゆつく9滴下した。この際、反応温度が1
0℃金超えない工うに添加していった。その後、2時間
水冷下かくくんを続けた。
この反C?JR合物を水冷下、500m/のエタノール
に滴下し、生じた沈殿* 1y−1過した。エタノール
で洗浄後、この沈殿物音100mCの純水に醪解し、こ
の液に6.8fの塩化亜鉛k f6解した冷濃厚水溶液
を加えた。生じた沈殿全fコ過した後エタノールで洗浄
し、これf 150 meの純水に溶解した。この液に
82のへキサフルオロリン酸アンモニウム上溶解した冷
濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿衡1取し水洗した後、
30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た。
このジアゾ(qf脂−i y apc K工9分子分子
側定をしたところ、6量体以上が約50モルチ含゛まれ
ていた。
(ジアゾ樹脂−2の合成) ジアゾ樹脂−1と同様にし合成し、最後のへキサフルオ
ロリン酸アンモニウムの代りに2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−ベンゾフェノン−5−スルホン酸15fを#解
した水溶液で処理しジアゾ樹脂−2fI:得た。
このジアゾ樹脂−2i GPC! K jり測定したと
ころ、6量体以上が約55モルチ含まれてい友。
(ジアゾ樹脂−5の合成) 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩とパラホルムアルデ
ヒドの縮合比が1:0.6となるようにした以外は、ジ
アゾ樹脂−1と同様にして合成し、ジアゾ樹脂−3を得
た。このジアゾ樹脂−3全GPOで測定したところ、5
量体以上が約12モルチであった。
(アルミニウム板−1) アルミニウム板全5%水酸化ナトリクム水溶液に浸漬し
て脱脂し水洗し、1%塩醒、1チホウ酸水溶液中25℃
で5 A / dm”の電流密度で3分間電屏エツチン
グし、水洗し、α9%水酸化ナトリウム水浴液に浸漬し
、水洗し、40%硫酸水溶液中、30℃で1.5 A 
/ dm”の電流密度で2分間陽極酸化し、水洗し、9
0℃の水pHa5に25秒間浸漬し、水洗乾燥してアル
ミニウム板−1?]l−作成した。
〔実施例〕
以下、不発8J′]を実施例により更に具体的に説明す
るが、本発明にこれら実施例に限定されなし)。
実施例1〜5及び比較例1〜5 上記製、造例で得たアルミニウム板−1に次の工うな組
成を有する感光液−1又は感光液−2全ホワラー金用い
て塗布し゛た。その後85℃の温度で3分間乾燥し感光
性平版印刷版金得た。
塗布散に乾燥重量で1.5t/m2であった。
(感光液−1) (感光液−2) 得られた感光性平版印刷版を5kWの超高圧水銀打で6
0(−rnの距1雅から50秒間IA元し、現像ty、
−1で現像し、平版印刷版ケ得た。また、この版の所定
期間保存後の現像性上測定した。そ ゛の結果IIに示
した。
(現像液−1) で保存安5d flgが極めて優れていることがill
つた。
また、実施例1で得られた平版印刷版ケ使用し、枚葉オ
フセット印刷機で上質紙に印刷したところ、18万枚の
良好な印刷物が得られた。
実施例4〜6及び比較例6〜8 実施例1と同様にアルミニウム板−1に以下の組成の感
光液−3を塗布し次。これ全露光、現像して、感IFL
及び保存安定注金測定した。その結果を表2に示しfc
、、塗布随は乾燥重也、で1.5f 、/m”であった
(感光液−3) 以上の結果から、本発明の感光性組成物に、高感度で保
存安定性が極めて優れていることがわかる。
また、′!!:施例6雄側版印刷版に枚葉オフセット印
刷りにかけて上質紙に印刷し之ところ20万枚まで良好
な印判物が得られた。
実施例7〜8及び9〜10 実施例1と四球に、アルミニウム板−1に以下の組、戎
の感光液金塗布した。塗布には乾燥重叶で1.5 t 
7m”であった。その結果を表3に示した。
(感光液) 以上の結果から、本発明の感光性、1′fl成物はオー
バー現像性等膜強度も優れていることがわかった。
比較例11 旨分子の45機酸(例えばポリアクリル酸)の代りに低
分子の有機酸であるシュウ酸全使用した場合の例ゲ示す
実施例1と同様に以下の島光液をアルミニウム板−1に
塗布し、露光現fyすることによって印刷版上前た。
(感光液) D、T(55℃)に5日間保存して枚葉印刷機に、かけ
て印刷したところ、両者共汚れが発生し、保存安定性に
問題があることがわかった。
〔発明の効果〕
以上説明しfc、cうに、本発明の感光性組成物を使用
すれば、高感度で保存安定性に優れ、かつ地汚れの発生
が7z<、そして膜強度、シfcかつてオーバー現像性
、耐刷力に陵れた感光層がイ!tられるという顕著な効
果が奏せられる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、R^1、R^2及びR^3は水素原子、アルキ
    ル基又はアルコキシ基を示し、Rは水素原 子、アルキル基又はフェニル基を示し、X はPF_6又はBF_4を示し、nは1〜200の数を
    示す)で表され、かつ該式におけるn が5以上である樹脂を20モル%以上含む 感光性ジアゾ樹脂、 (b)水酸基を有する親油性高分子化合物、及び、 (c)水酸基を有しない高分子の有機酸 を含有する組成物であつて、かつ該(c)成分の含有量
    が、該組成物の固形分中1.5〜30重量%であること
    を特徴とする感光性組成物。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204248A (ja) * 1987-02-20 1988-08-23 Konica Corp 感光性組成物
JPS63262643A (ja) * 1987-04-21 1988-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0194338A (ja) * 1987-10-06 1989-04-13 Mitsubishi Kasei Corp 感光性組成物
US5405720A (en) * 1985-08-07 1995-04-11 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive composition containing 1,2 quinonediazide compound, alkali-soluble resin and monooxymonocarboxylic acid ester solvent

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3404366A1 (de) * 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US5215857A (en) * 1985-08-07 1993-06-01 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 1,2-quinonediazide containing radiation-sensitive resin composition utilizing methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate or methyl 3-methoxypropionate as the solvent
US5182183A (en) * 1987-03-12 1993-01-26 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
DE3814178A1 (de) * 1988-04-27 1989-11-09 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3819457A1 (de) * 1988-06-08 1989-12-14 Basf Ag Lichtempfindliche, negativ arbeitende offset-druckplatten
DE3828551C3 (de) * 1988-08-23 1995-02-23 Du Pont Deutschland Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen
US5112743A (en) * 1989-05-24 1992-05-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates
EP0415422A3 (en) * 1989-08-31 1991-06-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for forming images
DE4022740A1 (de) * 1990-07-18 1992-01-23 Basf Ag Mit carbonylamino-n-alkancarbonsaeure-gruppen substituierte vinylaromaten und ihre verwendung
US5206349A (en) * 1990-08-10 1993-04-27 Toyo Gosei Kogy Co., Ltd. Aromatic diazo compounds and photosensitive compositions using the same
JP2652100B2 (ja) * 1991-12-17 1997-09-10 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE19518118C2 (de) * 1995-05-17 1998-06-18 Sun Chemical Corp Lichtempfindliche Zusammensetzung
DE19524851C2 (de) * 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
DE19525050C2 (de) * 1995-07-10 1999-11-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19644515A1 (de) * 1996-10-25 1998-06-25 Sun Chemical Corp Amidosubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in photoempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
US6270938B1 (en) 2000-06-09 2001-08-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Acetal copolymers and use thereof in photosensitive compositions
KR20020077948A (ko) 2001-04-03 2002-10-18 삼성에스디아이 주식회사 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS526202A (en) * 1975-07-04 1977-01-18 Oji Paper Co Photoosensitive lithographic press plate
JPS5498613A (en) * 1978-01-09 1979-08-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS59176742A (ja) * 1983-01-04 1984-10-06 セイゲ・テクノロジ−・インコ−ポレ−テツド アデイテイブフイルム及びその使用方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE571292A (ja) * 1956-12-28
US3064562A (en) * 1959-01-12 1962-11-20 Lithoplate Inc Acrylic acid monomer coatings for metal bases
NL132774C (ja) * 1960-10-07
US3679419A (en) * 1969-05-20 1972-07-25 Azoplate Corp Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material
US4123276A (en) * 1974-02-28 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
LU75749A1 (ja) * 1976-09-08 1978-04-27
FR2400221A1 (fr) * 1977-08-09 1979-03-09 Kodak Pathe Compose de diazonium photosensible utile, en particulier, pour preparer des planches d'impression lithographique, procede de preparation de ce compose et plaque presensibilisee avec ce compose
JPS55527A (en) * 1978-06-16 1980-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic plate
DE2834059A1 (de) * 1978-08-03 1980-02-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung
JPS5540406A (en) * 1978-09-14 1980-03-21 Oji Paper Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JPS56107238A (en) * 1980-01-31 1981-08-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition for photosensitive printing plate
JPS5865430A (ja) * 1981-05-27 1983-04-19 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性印刷版用感光性組成物
JPS582830A (ja) * 1981-06-30 1983-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物
JPS5862641A (ja) * 1981-10-09 1983-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4526854A (en) * 1982-09-01 1985-07-02 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Photoresist composition with water soluble bisazide and diazo compound
JPS5978340A (ja) * 1982-10-28 1984-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS603632A (ja) * 1983-06-21 1985-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US4614701A (en) * 1984-09-28 1986-09-30 Sekisui Fine Chemical Co., Ltd. Photocurable diazo or azide composition with acrylic copolymer having hydroxy and amino groups on separate acrylic monomer units

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS526202A (en) * 1975-07-04 1977-01-18 Oji Paper Co Photoosensitive lithographic press plate
JPS5498613A (en) * 1978-01-09 1979-08-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS59176742A (ja) * 1983-01-04 1984-10-06 セイゲ・テクノロジ−・インコ−ポレ−テツド アデイテイブフイルム及びその使用方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5405720A (en) * 1985-08-07 1995-04-11 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive composition containing 1,2 quinonediazide compound, alkali-soluble resin and monooxymonocarboxylic acid ester solvent
US5494784A (en) * 1985-08-07 1996-02-27 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Method of pattern formation utilizing radiation-sensitive resin composition containing monooxymonocarboxylic acid ester solvent
US5925492A (en) * 1985-08-07 1999-07-20 Jsr Corporation Radiation-sensitive resin composition utilizing monooxymonocarboxylic acid ester solvent
US6228554B1 (en) 1985-08-07 2001-05-08 Jsr Corporation Radiation-sensitive resin composition
US6270939B1 (en) 1985-08-07 2001-08-07 Jsr Corporation Radiation-sensitive resin composition
JPS63204248A (ja) * 1987-02-20 1988-08-23 Konica Corp 感光性組成物
JPS63262643A (ja) * 1987-04-21 1988-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0194338A (ja) * 1987-10-06 1989-04-13 Mitsubishi Kasei Corp 感光性組成物

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AU4821385A (en) 1986-04-17

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