JPS618710A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS618710A JPS618710A JP12733984A JP12733984A JPS618710A JP S618710 A JPS618710 A JP S618710A JP 12733984 A JP12733984 A JP 12733984A JP 12733984 A JP12733984 A JP 12733984A JP S618710 A JPS618710 A JP S618710A
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- Japan
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- laminate
- magnetic film
- substrate
- groove
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
- G11B5/1475—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、磁気ヘッドの製造方法、特に非磁性基板と
磁性膜とを積層してなる積層ブロックを切断して複数の
磁気ヘッドチップを得るようにした磁気ヘッドの製造方
法に関する。
磁性膜とを積層してなる積層ブロックを切断して複数の
磁気ヘッドチップを得るようにした磁気ヘッドの製造方
法に関する。
近年、高抗磁力の記録媒体に記録する磁気ヘッドとして
高い飽和磁束密度を有するセンダストやアモルファス等
の軟磁性材を備えた磁気ヘッドが用いられる様になって
きた。また、このセンダストやアモルファス等は初透磁
率が高いが固有抵抗が小さく、高周波になる程渦電流損
失が増大するため、磁気へラドコアとして用いる場合に
はこの磁性材の厚みを薄くする必要がある。しかも、こ
のセンダストやアモルファス等の軟磁性材は、例えばフ
ェライト等に比し耐摩耗性の点で劣り、磁気テープとの
摺接により摩耗し易いため、センダストの両側を非磁性
体である結晶化ガラス等により補強する必要があった。
高い飽和磁束密度を有するセンダストやアモルファス等
の軟磁性材を備えた磁気ヘッドが用いられる様になって
きた。また、このセンダストやアモルファス等は初透磁
率が高いが固有抵抗が小さく、高周波になる程渦電流損
失が増大するため、磁気へラドコアとして用いる場合に
はこの磁性材の厚みを薄くする必要がある。しかも、こ
のセンダストやアモルファス等の軟磁性材は、例えばフ
ェライト等に比し耐摩耗性の点で劣り、磁気テープとの
摺接により摩耗し易いため、センダストの両側を非磁性
体である結晶化ガラス等により補強する必要があった。
このため、ガラス基板等に前記アモルファスやセンダス
ト等の軟磁性材より成る薄い磁性膜を、蒸着あるいはス
パッタリング等の手段で形成し、このような磁性膜をコ
ア材とするヘッドが提案されている。
ト等の軟磁性材より成る薄い磁性膜を、蒸着あるいはス
パッタリング等の手段で形成し、このような磁性膜をコ
ア材とするヘッドが提案されている。
第１図ないし第９図は従来のこの種の磁気ヘッド製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
まず、第１図に示す結晶化ガラス等の非磁性体から成る
基板１上に、第２図に示すようにセンダストやアモルフ
ァス等より我る薄い磁性膜２をスパッタリング等により
形成する。
基板１上に、第２図に示すようにセンダストやアモルフ
ァス等より我る薄い磁性膜２をスパッタリング等により
形成する。
次に、磁性膜２上に、磁性膜２を形成していない他の基
板３を第３図に示すように重合し、低融点ガラスまたは
有機接着剤等により接着する。この後、この２枚のガラ
ス基板１，３と磁性膜２の３層より成る積層板４をＡ−
Ａｌｌ！およびＢ−Ｂ線に沿って切断し、複数個（図で
は６個）のブロック５を得る。
板３を第３図に示すように重合し、低融点ガラスまたは
有機接着剤等により接着する。この後、この２枚のガラ
ス基板１，３と磁性膜２の３層より成る積層板４をＡ−
Ａｌｌ！およびＢ−Ｂ線に沿って切断し、複数個（図で
は６個）のブロック５を得る。
次に、このブロック５を第４図に示すように積み重ね、
互いに接着剤で接合して積層体６を形成し、さらにこの
積層体６をＣ−Ｃ＠に沿って切断して第５図に示す積層
ブロック７ａ ｌ ７ｂを得る。
互いに接着剤で接合して積層体６を形成し、さらにこの
積層体６をＣ−Ｃ＠に沿って切断して第５図に示す積層
ブロック７ａ ｌ ７ｂを得る。
次に、２個の積層ブロック７ａ 、７ｂのうち少なくと
も一方の積層ブロックＴに、第６図に示すように長溝状
の巻線窓８を研削等で形成する。さらに、磁気ギャップ
を形成する突き合わせ面としてのギ・ヤツブ面９および
突き合わせ面を研磨して平滑（（仕上げる。
も一方の積層ブロックＴに、第６図に示すように長溝状
の巻線窓８を研削等で形成する。さらに、磁気ギャップ
を形成する突き合わせ面としてのギ・ヤツブ面９および
突き合わせ面を研磨して平滑（（仕上げる。
次に、第７図に示すようにギャップ面９上に５ＩＯ１等
の非磁性材層１０をスパッタリング等で形成する。
の非磁性材層１０をスパッタリング等で形成する。
一方、第４図に示した他方の積層ブロック７ｂの突き合
わせ面を研磨して仕上げ、その突き合わす面と、積層ブ
ロック７ａの非磁性材層１０を形成したギャップ面９お
よび突き合わせ面とを、互いの磁性膜２が一致するよう
に位置合わせして突き合わせ、接着剤等により接着して
第８図に示すコア積層体ブロック１１を得る。
わせ面を研磨して仕上げ、その突き合わす面と、積層ブ
ロック７ａの非磁性材層１０を形成したギャップ面９お
よび突き合わせ面とを、互いの磁性膜２が一致するよう
に位置合わせして突き合わせ、接着剤等により接着して
第８図に示すコア積層体ブロック１１を得る。
このコア積層体ブロック１１を積層面と平行に基板１の
部分で所定の厚み寸法を切断した後、研磨で仕上げ、第
９図に示す磁気ヘッドチップ１２が完成する。この場合
、磁気ヘッドチップ１２０半体であるチップ半休１２ａ
、 １２ｂのそれぞれの磁性膜２のギャップ面９での
突合わせの端面の間に非磁性材層１０を介して磁気ギャ
ップ１２ｇが形成される。
部分で所定の厚み寸法を切断した後、研磨で仕上げ、第
９図に示す磁気ヘッドチップ１２が完成する。この場合
、磁気ヘッドチップ１２０半体であるチップ半休１２ａ
、 １２ｂのそれぞれの磁性膜２のギャップ面９での
突合わせの端面の間に非磁性材層１０を介して磁気ギャ
ップ１２ｇが形成される。
以上の製造方法によれば、２枚のガラス基板１゜３の間
にコア材としての磁性膜２を形成した磁気ヘッドを得る
ことができる。
にコア材としての磁性膜２を形成した磁気ヘッドを得る
ことができる。
しかしながら、上記製造方法にあっては、第３図に示す
ように、積層板４を例えばＡ−ＡＩＪＩおよびＢ−Ｂ線
等に沿って、ダイヤモンドカッター等で切断する場合、
第１０図に示すようにガラス基板１，３の切断部よりク
ラックが生じるという問題点があった。この原因として
は、磁性材を蒸着あるいはスパッタリングする際の温度
上昇と切断時の冷却に伴ない、熱膨張係数の異なるガラ
ス基板１，３と磁性膜２との間で応力が生じ、切断時の
衝撃が加わることにより、前記応力がガラス基板、３を
歪ませクラックを生じさせたものと考えられる。
ように、積層板４を例えばＡ−ＡＩＪＩおよびＢ−Ｂ線
等に沿って、ダイヤモンドカッター等で切断する場合、
第１０図に示すようにガラス基板１，３の切断部よりク
ラックが生じるという問題点があった。この原因として
は、磁性材を蒸着あるいはスパッタリングする際の温度
上昇と切断時の冷却に伴ない、熱膨張係数の異なるガラ
ス基板１，３と磁性膜２との間で応力が生じ、切断時の
衝撃が加わることにより、前記応力がガラス基板、３を
歪ませクラックを生じさせたものと考えられる。
この発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり
、切断時にガラス基板にクランクが生じることのないか
つ量産性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供することを
目的とする。
、切断時にガラス基板にクランクが生じることのないか
つ量産性の高い磁気ヘッドの製造方法を提供することを
目的とする。
以下、この発明の一実施例を第１１図ないし第１４図に
基づいて説明する。なお、上記従来例と同一もしくは相
当部分には同一符号を付し、その説明の詳細は省く。
基づいて説明する。なお、上記従来例と同一もしくは相
当部分には同一符号を付し、その説明の詳細は省く。
まず、第１図に示した非磁性の結晶化ガラスより成る基
板１に、所望の切断個所に沿って第１１図に示すような
溝１４を形成する。この実施例においては、ガラス基板
１の上面１ａに縦溝１４ａおよび横溝１４ｂを格子状に
形成し、前記上面１ａを磁気へッドファ１２の大きさに
区割しである。
板１に、所望の切断個所に沿って第１１図に示すような
溝１４を形成する。この実施例においては、ガラス基板
１の上面１ａに縦溝１４ａおよび横溝１４ｂを格子状に
形成し、前記上面１ａを磁気へッドファ１２の大きさに
区割しである。
また、溝１４の深さは、次の工程においてガラス基板１
上に形成するセンダスト等の磁性膜の厚さよりやや深く
形成する。さらに、溝１４の幅はダイヤモンドカッター
等による切断加工幅よりやや大きめに形成する。
上に形成するセンダスト等の磁性膜の厚さよりやや深く
形成する。さらに、溝１４の幅はダイヤモンドカッター
等による切断加工幅よりやや大きめに形成する。
この後、上記溝加工を行なったガラス基板１に、センダ
ストあるいはアモルファス等の軟磁性材を蒸着あるいは
スパッタリング等することにより磁性＠１５を形成する
。この磁性膜１５は、第１３図に示すように溝１４ａ、
１４ｂにより複数個（図では６個）に区画形成されたガ
ラス基板１の上面１ａおよび溝１４の底面にそれぞれ同
一の厚さで形成される。また、溝１４の深さは先にも述
べたように磁性膜１５の厚さよりやや深く形成されてい
るため、前記溝１４に形成される磁性膜１５−ａと上面
１ａに形成される磁性膜１５ｂは、上下に分離して形成
される。
ストあるいはアモルファス等の軟磁性材を蒸着あるいは
スパッタリング等することにより磁性＠１５を形成する
。この磁性膜１５は、第１３図に示すように溝１４ａ、
１４ｂにより複数個（図では６個）に区画形成されたガ
ラス基板１の上面１ａおよび溝１４の底面にそれぞれ同
一の厚さで形成される。また、溝１４の深さは先にも述
べたように磁性膜１５の厚さよりやや深く形成されてい
るため、前記溝１４に形成される磁性膜１５−ａと上面
１ａに形成される磁性膜１５ｂは、上下に分離して形成
される。
次に、第１３図に示すように溝加工を施さない他のガラ
ス基板３を上面１ａに形成された磁性膜１５ａ上に重合
させ、結晶化ガラスまたは接着剤等により接着する。こ
の後、このガラス基板１゜３および磁性膜１５０３層よ
り成る積層板１６を、前記溝１４ａ、１４ｂに沿って切
断し、複数個（この場合６個）のブロック１７を得る。
ス基板３を上面１ａに形成された磁性膜１５ａ上に重合
させ、結晶化ガラスまたは接着剤等により接着する。こ
の後、このガラス基板１゜３および磁性膜１５０３層よ
り成る積層板１６を、前記溝１４ａ、１４ｂに沿って切
断し、複数個（この場合６個）のブロック１７を得る。
次に、第１４図に示すように前記ブロック１７を複数個
積層した後、接着剤等により接着して積層体１８を形成
する。そして、この積層体１８の両端に形成されている
溝１４および磁性膜１５ｂ等の不要部をＣ−Ｃ線に沿っ
て切断または研削によって除去する。この後、この積層
体１８をＤ−り線に沿って切断し、２個の積層ブロック
７ａ。
積層した後、接着剤等により接着して積層体１８を形成
する。そして、この積層体１８の両端に形成されている
溝１４および磁性膜１５ｂ等の不要部をＣ−Ｃ線に沿っ
て切断または研削によって除去する。この後、この積層
体１８をＤ−り線に沿って切断し、２個の積層ブロック
７ａ。
７ｂを得る。
以上の工程以後は、第５図ないし第９図に示した工程と
同様であるので、その説明は省略する。
同様であるので、その説明は省略する。
上記のように、この実施例においてはガラス基板１に溝
１４を形成した後、磁性膜１５を形成するようにしたた
め、磁性膜１５はガラス基板１の上面１ａおよび溝１４
の底面上に分断して形成される。これにより、磁性Ｍ１
５の形成による温度上昇および切断時における冷却に伴
なって、異なる熱膨張係数を有する各磁性膜１５ａ、１
５ｂとガラス基板、３との間に生じる応力は極めて減少
し、切断加工における衝撃が加わったとしても、ガラス
基板１，３にはクラック１３が生じることはなく、歩留
りよく磁気ヘッドを得ることができる。
１４を形成した後、磁性膜１５を形成するようにしたた
め、磁性膜１５はガラス基板１の上面１ａおよび溝１４
の底面上に分断して形成される。これにより、磁性Ｍ１
５の形成による温度上昇および切断時における冷却に伴
なって、異なる熱膨張係数を有する各磁性膜１５ａ、１
５ｂとガラス基板、３との間に生じる応力は極めて減少
し、切断加工における衝撃が加わったとしても、ガラス
基板１，３にはクラック１３が生じることはなく、歩留
りよく磁気ヘッドを得ることができる。
以上説明したとおり、磁性膜を形成する非磁性基板上に
予じめ、切断個所に沿って溝を形成する工程を備えたこ
とにより、切断加工時に非磁性基板にクラックが生じる
のを防止することができるようになり、磁気ヘッドを歩
留りよくかつ高い量産性で製造することができるという
効果がある。
予じめ、切断個所に沿って溝を形成する工程を備えたこ
とにより、切断加工時に非磁性基板にクラックが生じる
のを防止することができるようになり、磁気ヘッドを歩
留りよくかつ高い量産性で製造することができるという
効果がある。
第１図ないし第９図は従来の磁気ヘッドの製造方法を示
す図で、第１図はガラス基板を示す斜視図、第２図は第
１図に示したものに磁性膜を形成した状態を示す斜視図
、第３図は第２図に示したものにさらに他のガラス基板
を積層して得られる積層板を示す斜視図、第４図は＃！
３図に示した積層板を切断して得られるブロックを複数
個積層して形成した積層体を示す斜視図、第５図は第４
図に示した積層体を２個に分割して得られる一方の積層
ブロックを示す斜視図、第６図は第５図に示した一方の
積層ブロックに巻線窓用溝を形成した状態を示す斜視図
、第７図は第６図に示したものにギャップ材を形成した
状態を示す斜視図、第８図は第′ＩＩ図に示した。もの
、と第５図に示したものとを接着して得られるコア積層
体プνツクを示す斜視図、第９図は磁気へラドチップの
完成品を示す斜視図、第１０図はブロックのガラス基板
にクラックが生じた状態を示す側面図、第１１図ないし
第１４図はこの発明の一実施例を示す図で、第１１図は
溝加工を施こしたガラス基板を示す斜視図、第１２図は
第１１図に示したものに磁性膜を形成した状態を示す斜
視図、第１３図は第１２図に示したものにさらに他のガ
ラス基板を積層して得られる積層板を示す斜視図、第１
４図は第１３図に示した積層板を切断して得られるブロ
ックを積層して形成した積層体を示す図である。 、３・・・・・・ガラス基板 １２・・・・・・・・・磁気へラドチップ１３・・・・
・・・・・クラック １４・・・・・・・・・溝 １５・・・・−・・・・磁性膜 第９図 第７０図
す図で、第１図はガラス基板を示す斜視図、第２図は第
１図に示したものに磁性膜を形成した状態を示す斜視図
、第３図は第２図に示したものにさらに他のガラス基板
を積層して得られる積層板を示す斜視図、第４図は＃！
３図に示した積層板を切断して得られるブロックを複数
個積層して形成した積層体を示す斜視図、第５図は第４
図に示した積層体を２個に分割して得られる一方の積層
ブロックを示す斜視図、第６図は第５図に示した一方の
積層ブロックに巻線窓用溝を形成した状態を示す斜視図
、第７図は第６図に示したものにギャップ材を形成した
状態を示す斜視図、第８図は第′ＩＩ図に示した。もの
、と第５図に示したものとを接着して得られるコア積層
体プνツクを示す斜視図、第９図は磁気へラドチップの
完成品を示す斜視図、第１０図はブロックのガラス基板
にクラックが生じた状態を示す側面図、第１１図ないし
第１４図はこの発明の一実施例を示す図で、第１１図は
溝加工を施こしたガラス基板を示す斜視図、第１２図は
第１１図に示したものに磁性膜を形成した状態を示す斜
視図、第１３図は第１２図に示したものにさらに他のガ
ラス基板を積層して得られる積層板を示す斜視図、第１
４図は第１３図に示した積層板を切断して得られるブロ
ックを積層して形成した積層体を示す図である。 、３・・・・・・ガラス基板 １２・・・・・・・・・磁気へラドチップ１３・・・・
・・・・・クラック １４・・・・・・・・・溝 １５・・・・−・・・・磁性膜 第９図 第７０図
Claims (1)
- 非磁性基板と磁性膜とを積層してなるブロツクを切断す
ることにより複数の磁気ヘツドチツプを得るようにした
磁気ヘツドの製造方法において、非磁性基板に所望の切
断個所に沿つて溝加工を行なう工程と、該溝加工された
非磁性基板上に磁性膜を形成する工程と、その磁性膜を
形成したガラス基板を前記溝に沿つて切断する工程とを
備えたことを特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12733984A JPS618710A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12733984A JPS618710A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618710A true JPS618710A (ja) | 1986-01-16 |
Family
ID=14957470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12733984A Pending JPS618710A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618710A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425890A (en) * | 1987-03-13 | 1989-01-27 | Matsushita Electric Works Ltd | Reciprocating type electric razor |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12733984A patent/JPS618710A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425890A (en) * | 1987-03-13 | 1989-01-27 | Matsushita Electric Works Ltd | Reciprocating type electric razor |
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