JPS61278577A - 紫外線硬化型インキ組成物 - Google Patents
紫外線硬化型インキ組成物Info
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- JPS61278577A JPS61278577A JP60122169A JP12216985A JPS61278577A JP S61278577 A JPS61278577 A JP S61278577A JP 60122169 A JP60122169 A JP 60122169A JP 12216985 A JP12216985 A JP 12216985A JP S61278577 A JPS61278577 A JP S61278577A
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- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/06—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes
- C08F299/065—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes from polyurethanes with side or terminal unsaturations
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は紫外線硬化型インキ組成物、特にプリント配線
基板用ソルダーレジストとして有用な紫外線硬化型スク
リーンインキ組成物に関する。
基板用ソルダーレジストとして有用な紫外線硬化型スク
リーンインキ組成物に関する。
本発明は、紫外線硬化型インキ組成物において、主成分
として、１分子中に２個以上の（メタ）アクロイル基及
び２個以上のウレタン結合を有するポリウレタンポリ
（メタ）アクリレート、ラジカル重合性低分子量化合物
及び光重合開始剤を含有することにより、 機械的性質、熱及び化学的性質を実用上バランスよく持
ち合わせたインキ皮膜を得ることができるようしたので
ある。
として、１分子中に２個以上の（メタ）アクロイル基及
び２個以上のウレタン結合を有するポリウレタンポリ
（メタ）アクリレート、ラジカル重合性低分子量化合物
及び光重合開始剤を含有することにより、 機械的性質、熱及び化学的性質を実用上バランスよく持
ち合わせたインキ皮膜を得ることができるようしたので
ある。
近年、乾燥工程の合理化の観点から、プリント配線基板
業界においても、従来の熱風乾燥硬化型インキを紫外線
硬化型インキに置き換える動きが活発であり、中でもソ
ルダーレジストインキの分野でその置き換えが最も進ん
でいる。紫外線硬化型インキは従来の熱風乾燥硬化型イ
ンキに比べ、硬化速度が速く、また紫外線によってのみ
硬化するためゝ３り１ノ一ン版上での版乾き力（なＩ７
）とし１う利点力９ある反面・プリント配線基板の永久
保８隻膜として必要な電気的性能、機械的性能、熱およ
び化学的性能を実用上バランスよく持ち合わせた印刷イ
ンキが得られにくいのが実情である。
業界においても、従来の熱風乾燥硬化型インキを紫外線
硬化型インキに置き換える動きが活発であり、中でもソ
ルダーレジストインキの分野でその置き換えが最も進ん
でいる。紫外線硬化型インキは従来の熱風乾燥硬化型イ
ンキに比べ、硬化速度が速く、また紫外線によってのみ
硬化するためゝ３り１ノ一ン版上での版乾き力（なＩ７
）とし１う利点力９ある反面・プリント配線基板の永久
保８隻膜として必要な電気的性能、機械的性能、熱およ
び化学的性能を実用上バランスよく持ち合わせた印刷イ
ンキが得られにくいのが実情である。
従来の紫外線硬化型ソルダーレジストインキは、エポキ
シ樹脂とアクリル酸とを反応させて得られる、１分子中
に２個以上のアクリロイル基を有するエポキシアクリレ
ート、及び／又は、ポリイソシアネート化合物とヒドロ
キシル基含有アクリレートとを反応させて得られる、１
分子中に２個以上のアクリロイル基及び２個以上のウレ
タン結合を有するポリウレタンポリアクリレートをベー
スレジンとし、これに粘度調整、基材への付着性向上等
を意図して加えられるラジカル重合性低分子量化合物、
さらに紫外線の照射により前記不飽和化合物の重合を開
始する光重合開始剤を主成分として構成されている。と
ころがこれらエポキシアクリレートは硬化の速さ、硬さ
、耐溶剤性等につぃては良好な性能を示すものの、密着
性、柔軟性に関していまだ十分でない。
シ樹脂とアクリル酸とを反応させて得られる、１分子中
に２個以上のアクリロイル基を有するエポキシアクリレ
ート、及び／又は、ポリイソシアネート化合物とヒドロ
キシル基含有アクリレートとを反応させて得られる、１
分子中に２個以上のアクリロイル基及び２個以上のウレ
タン結合を有するポリウレタンポリアクリレートをベー
スレジンとし、これに粘度調整、基材への付着性向上等
を意図して加えられるラジカル重合性低分子量化合物、
さらに紫外線の照射により前記不飽和化合物の重合を開
始する光重合開始剤を主成分として構成されている。と
ころがこれらエポキシアクリレートは硬化の速さ、硬さ
、耐溶剤性等につぃては良好な性能を示すものの、密着
性、柔軟性に関していまだ十分でない。
また、ポリウレタンポリアクリレートについても、一般
的に柔軟性及び密着性に優れるが、反面、耐熱性、耐薬
品性、耐湿性、硬さ及び紫外線硬化性において前述のエ
ポキシアクリレートと比較した場合にはかなり劣る。こ
れら両者の欠点を補完すべく種々検討がなされている。
的に柔軟性及び密着性に優れるが、反面、耐熱性、耐薬
品性、耐湿性、硬さ及び紫外線硬化性において前述のエ
ポキシアクリレートと比較した場合にはかなり劣る。こ
れら両者の欠点を補完すべく種々検討がなされている。
例えば米国特許第４０７２７７０号にはポリエステルウ
レタンアクリレートの機械的性質の改善が開示されてい
る。
レタンアクリレートの機械的性質の改善が開示されてい
る。
しかし、他の性能が不十分でその利点を印刷回路基板に
適用させるに至っていない。
適用させるに至っていない。
比較的に塗膜の柔軟性を有しながら耐熱性、密着性に優
れたポリエン−ポリチオール系組成物が米国特許第３８
８３３５２号および第４０１８９４０号に述べられてい
るが、ポリチオール系化合物は一般に臭気が強いという
欠点がある。また両者をブレンドし、相互の欠点を補完
する方法が特開昭５７−３８７５号に開示されているが
、一部の性能は改良できるものの、個々のベースレジン
が持つ本質的欠点を解消することはできない。
れたポリエン−ポリチオール系組成物が米国特許第３８
８３３５２号および第４０１８９４０号に述べられてい
るが、ポリチオール系化合物は一般に臭気が強いという
欠点がある。また両者をブレンドし、相互の欠点を補完
する方法が特開昭５７−３８７５号に開示されているが
、一部の性能は改良できるものの、個々のベースレジン
が持つ本質的欠点を解消することはできない。
前記の問題点に鑑み、本発明者等は、硬化速度が速く、
硬度、耐溶剤性、耐薬品性、耐湿性、耐熱性が良好でか
つ基材との密着性及び柔軟性が良好な紫外線硬化型イン
キ組成物、特にプリント配線基板用ソルダーレジストと
して有用な紫外線硬化型スクリーンインキ組成物を提供
することを目的として鋭意研究を行った結果、主成分と
して（Ａ）、次の一般式（１） （式中Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、ｎは１〜２
０までの整数である。） で示されるポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基
含有（メタ）アクリレートとを反応させて得られ、１分
子中に２個以上の（メタ）アクリフィル基及び２個以上
のウレタン結合を有するボリウレタンポリ （メタ）ア
クリレート、（Ｂ）、ラジカル重合性低分子量化合物及
び（Ｃ）、光重合開始剤 を含有することを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物
によって前記目的が達成されることを見出し本発明に到
達した。
硬度、耐溶剤性、耐薬品性、耐湿性、耐熱性が良好でか
つ基材との密着性及び柔軟性が良好な紫外線硬化型イン
キ組成物、特にプリント配線基板用ソルダーレジストと
して有用な紫外線硬化型スクリーンインキ組成物を提供
することを目的として鋭意研究を行った結果、主成分と
して（Ａ）、次の一般式（１） （式中Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、ｎは１〜２
０までの整数である。） で示されるポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基
含有（メタ）アクリレートとを反応させて得られ、１分
子中に２個以上の（メタ）アクリフィル基及び２個以上
のウレタン結合を有するボリウレタンポリ （メタ）ア
クリレート、（Ｂ）、ラジカル重合性低分子量化合物及
び（Ｃ）、光重合開始剤 を含有することを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物
によって前記目的が達成されることを見出し本発明に到
達した。
以下、本発明の紫外線硬化型インキ組成物に使用する前
記成分（Ａ）ないしくＣ）について、具体例を示して更
に詳しく説明する。なお、本明細書中、（メタ）アクリ
レートとあるのは、アクリレートとメタクリレートのい
ずれか一方を、また（メタ）アクリル酸はアクリル酸と
メタクリル酸のいずれか一方を示す。
記成分（Ａ）ないしくＣ）について、具体例を示して更
に詳しく説明する。なお、本明細書中、（メタ）アクリ
レートとあるのは、アクリレートとメタクリレートのい
ずれか一方を、また（メタ）アクリル酸はアクリル酸と
メタクリル酸のいずれか一方を示す。
先ず、成分（Ａ）であるポリウレタンポリ （メタ）ア
クリレートは、前記一般式（ｒ）で示されるポリイソシ
アネート化合物とヒドロキシル基含有（メタ）アクリレ
ートとを反応させて得られる。
クリレートは、前記一般式（ｒ）で示されるポリイソシ
アネート化合物とヒドロキシル基含有（メタ）アクリレ
ートとを反応させて得られる。
一般式（【）で示されるポリイソシアネート化合物は、
いわゆるノボラック構造のポリイソシアネート化合物で
あり、本構造のポリイソシアネート化合物を用いること
により、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートの長所
である基材への密着性、柔軟性を保持しながら、短所で
あった耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、硬度等を大巾に改
善することができた。
いわゆるノボラック構造のポリイソシアネート化合物で
あり、本構造のポリイソシアネート化合物を用いること
により、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートの長所
である基材への密着性、柔軟性を保持しながら、短所で
あった耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、硬度等を大巾に改
善することができた。
一般式（１）において、Ｒ７は水素原子又はメチル基で
あり、エチル基以上のアルキル基は、人手が困難なため
一般的ではない。
あり、エチル基以上のアルキル基は、人手が困難なため
一般的ではない。
ｎは１〜２０までの整数である。一般式（１）において
、ｎ＝０．Ｒ１＝Ｈとして表わされる代表的なものはＭ
ＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）であるが、
このイソシアネートでは、上述したノボラック構造特有
の長所が不十分である。ｎが２０を越える場合は、得ら
れるポリウレタンポリ （メタ）アクリレートの粘度が
きわめて高くなり、インキとしての使用には適さなくな
る。
、ｎ＝０．Ｒ１＝Ｈとして表わされる代表的なものはＭ
ＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）であるが、
このイソシアネートでは、上述したノボラック構造特有
の長所が不十分である。ｎが２０を越える場合は、得ら
れるポリウレタンポリ （メタ）アクリレートの粘度が
きわめて高くなり、インキとしての使用には適さなくな
る。
前記ポリイソシアネート化合物に反応させるヒドロキシ
ル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ
）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリ
レート等のいわゆるヒドロキシ（メタ）アクリレート、
グリシジル（メタ）アクリレートとカルボキシル基含有
化合物との反応物及び（メタ）アクリル酸とモノエポキ
シ化合物との付加反応物が挙げられるが、一般式（１）
のポリイソシアネート化合物との反応性及び得られるポ
リウレタンポリ （メタ）アクリレートの光硬化性、さ
らにはコストの点から２−ヒドロキシエチルアクリレー
トが最適である。なお一般式（１）で示される以外のポ
リイソシアネート化合物、及びヒドロキシル基含有（メ
タ）アクリレート以外の（ポリ）ヒドロキシル基含有化
合物を上記性能が損なわれない範囲で併用し、反応させ
ても何ら問題はない。
ル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ
）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリ
レート等のいわゆるヒドロキシ（メタ）アクリレート、
グリシジル（メタ）アクリレートとカルボキシル基含有
化合物との反応物及び（メタ）アクリル酸とモノエポキ
シ化合物との付加反応物が挙げられるが、一般式（１）
のポリイソシアネート化合物との反応性及び得られるポ
リウレタンポリ （メタ）アクリレートの光硬化性、さ
らにはコストの点から２−ヒドロキシエチルアクリレー
トが最適である。なお一般式（１）で示される以外のポ
リイソシアネート化合物、及びヒドロキシル基含有（メ
タ）アクリレート以外の（ポリ）ヒドロキシル基含有化
合物を上記性能が損なわれない範囲で併用し、反応させ
ても何ら問題はない。
一般式（１）で示される以外のポリイソシアネート化合
物としては、例えばトリレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、リ
ジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
ダイマー酸ジイソシアネート・ トリメチルヘキサンジ
イソシアネート等のジイソシアネート類、トリイソシア
ネート類などが挙げられ、ヒドロキシル基含有（メタ）
アクリレート以外の（ポリ）ヒドロキシル基含有化合物
としては、ネオペンチルグリコール、２．２．４− ト
リメチル−１，３−ベンタンジオール、１．６−ヘキサ
ンジオール、トリエチレングリコール、トリメチロール
プロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリト
ール、水素化ヒスフェノールＡ１ビスフエノールＡ及び
／又は水素化ビスフェノールＡとエチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイドとの付加物であるジオキシアル
キルエーテル、ポリカプロラクトンジオール、末端又は
側鎖にヒドロキシル基を有する低分子ポリエステルポリ
オールなどが挙げられる。
物としては、例えばトリレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、４．４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、リ
ジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
ダイマー酸ジイソシアネート・ トリメチルヘキサンジ
イソシアネート等のジイソシアネート類、トリイソシア
ネート類などが挙げられ、ヒドロキシル基含有（メタ）
アクリレート以外の（ポリ）ヒドロキシル基含有化合物
としては、ネオペンチルグリコール、２．２．４− ト
リメチル−１，３−ベンタンジオール、１．６−ヘキサ
ンジオール、トリエチレングリコール、トリメチロール
プロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリト
ール、水素化ヒスフェノールＡ１ビスフエノールＡ及び
／又は水素化ビスフェノールＡとエチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイドとの付加物であるジオキシアル
キルエーテル、ポリカプロラクトンジオール、末端又は
側鎖にヒドロキシル基を有する低分子ポリエステルポリ
オールなどが挙げられる。
ポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基含有（メタ
）アクリレートとの反応は通常の付加反応であり、この
反応は、イソシアネート基対ヒドロキシル基の比率が１
：Ｉ （当量）〜Ｉ：Ｉ、２（ヒドロキシル基が若干過
剰）の範囲で実施される。
）アクリレートとの反応は通常の付加反応であり、この
反応は、イソシアネート基対ヒドロキシル基の比率が１
：Ｉ （当量）〜Ｉ：Ｉ、２（ヒドロキシル基が若干過
剰）の範囲で実施される。
このようにして得られる成分（Ａ）のポリウレタンポリ
（メタ）アクリレートは、インキ皮膜の基本特性を与
える成分であり、空気中での紫外線による硬化性が良好
であると共に、得られる塗膜は良好な耐熱性、耐溶剤性
、耐薬品性、耐湿性、柔軟性及び優れた硬度と基材への
密着性を示す。
（メタ）アクリレートは、インキ皮膜の基本特性を与
える成分であり、空気中での紫外線による硬化性が良好
であると共に、得られる塗膜は良好な耐熱性、耐溶剤性
、耐薬品性、耐湿性、柔軟性及び優れた硬度と基材への
密着性を示す。
成分（Ａ）の配合量は成分（Ａ）ないしくＣ）の総量１
００重量部中、１０〜８０重量部が好ましく、８０重量
部をこえると、得られるインキの粘度が高すぎ、１０重
量部未満では成分（Ａ）の持つ良好な諸性能が不十、分
となり好ましくない。
００重量部中、１０〜８０重量部が好ましく、８０重量
部をこえると、得られるインキの粘度が高すぎ、１０重
量部未満では成分（Ａ）の持つ良好な諸性能が不十、分
となり好ましくない。
成分（Ｂ）であるラジカル重合性低分子量化合物は本来
成分（Ａ）に配合され、その粘度を調整するために用い
られるものであるが、得られる塗膜の硬度や柔軟性を調
節したり、さらには基材への密着性を向上するためにも
成分（Ａ）と種々の組み合わせで使用される。
成分（Ａ）に配合され、その粘度を調整するために用い
られるものであるが、得られる塗膜の硬度や柔軟性を調
節したり、さらには基材への密着性を向上するためにも
成分（Ａ）と種々の組み合わせで使用される。
成分（Ｂ）として用いられる具体的化合物としては、ヒ
ドロキシピバル酸エステルネオペンチルグリコールジ（
メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ （
メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ （メ
タ）アクリレート、１．６−ヘキサンシオールジ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ
）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、カルピトール（メタ）アクリレート
、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソ
ボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート及び種々の含リンビニルモノマーが挙げられ
る。これらのうち、含すンビニル七ツマ−例えば（ビス
（メタアクリロキシエチル）ホスフェート）、アクリロ
キシエチルホスフェート、（ビス（アクリロキシエチル
）ホスフェ−日、（トリス（アクリロキシエチル）ホス
フェート）、３−クロロ−２−アシッドホスホキシプロ
ピルメタクリレート等は、これらを少量使用することに
より、基材、特に銅との密着性を大巾に向上させる効果
を発揮する。
ドロキシピバル酸エステルネオペンチルグリコールジ（
メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ （
メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ （メ
タ）アクリレート、１．６−ヘキサンシオールジ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ
）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、カルピトール（メタ）アクリレート
、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソ
ボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート及び種々の含リンビニルモノマーが挙げられ
る。これらのうち、含すンビニル七ツマ−例えば（ビス
（メタアクリロキシエチル）ホスフェート）、アクリロ
キシエチルホスフェート、（ビス（アクリロキシエチル
）ホスフェ−日、（トリス（アクリロキシエチル）ホス
フェート）、３−クロロ−２−アシッドホスホキシプロ
ピルメタクリレート等は、これらを少量使用することに
より、基材、特に銅との密着性を大巾に向上させる効果
を発揮する。
成分（Ｂ）の配合量は成分（Ａ）ないしくＣ）の総量１
００重量郡中２０〜９０重量部が好ましく、２０重量部
未満では得られるインキの粘度が高すぎるし、９０重量
部をこえると、成分（Ａ）の持つ良好な諸性能が不十分
となり好ましくない。
００重量郡中２０〜９０重量部が好ましく、２０重量部
未満では得られるインキの粘度が高すぎるし、９０重量
部をこえると、成分（Ａ）の持つ良好な諸性能が不十分
となり好ましくない。
また、含リンビニルモノマーの使用量は成分（Ａ）ない
しくＢ）の総量１００重量部中０．０１〜１０重量部が
好ましく 、０．０１重量部未満では十分な密着性が得
られず、１０重量部をこえるとコストアップをまね（ば
かりか、耐電食性を低下させるので好ましくない。
しくＢ）の総量１００重量部中０．０１〜１０重量部が
好ましく 、０．０１重量部未満では十分な密着性が得
られず、１０重量部をこえるとコストアップをまね（ば
かりか、耐電食性を低下させるので好ましくない。
成分（Ｃ）の光重合開始剤は、本発明の紫外線硬化型イ
ンキ組成物を紫外線硬化せしめるのに必須の成分であり
、単独で又は組み合わせて用いられる。具体的にはベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチ
ルエーテル、ベンジルベンゾフェノン、ベンジルジメチ
ルケタール、メチルフェニルグリオキシレート、クロロ
アントラキノン、２，２−ジェトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノンと第３級アミンとの混合系、２．２ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、２−エチルアントラキ
ノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラ
キノン等が挙げられる。中でも特にアントラキノン系化
合物が紫外線に対する活性が高いばかりでなく、高性能
なインキ皮膜を得るようにすることができるため好まし
い。
ンキ組成物を紫外線硬化せしめるのに必須の成分であり
、単独で又は組み合わせて用いられる。具体的にはベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチ
ルエーテル、ベンジルベンゾフェノン、ベンジルジメチ
ルケタール、メチルフェニルグリオキシレート、クロロ
アントラキノン、２，２−ジェトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノンと第３級アミンとの混合系、２．２ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、２−エチルアントラキ
ノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラ
キノン等が挙げられる。中でも特にアントラキノン系化
合物が紫外線に対する活性が高いばかりでなく、高性能
なインキ皮膜を得るようにすることができるため好まし
い。
成分（Ｃ）の配合量は成分（Ａ）ないしくＣ）の総量１
００重量部に対して０．５〜１５重量部が好ましい。
００重量部に対して０．５〜１５重量部が好ましい。
成分（Ａ）〜（Ｃ）を主成分とする本発明の紫外線硬化
型インキ組成物には、更に耐熱性、耐溶剤性、硬度、付
着性、可撓性、耐食性等をバランスさせる目的で、公知
のエポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート及び飽和重合体を混合するこ
とも行われる飽和重合体としては、例えば、（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリエステル等がある。更にスクリーンインキ
としての印刷適性を向上させるためや着色のために、通
常の充填材、消泡剤、レベリング剤。
型インキ組成物には、更に耐熱性、耐溶剤性、硬度、付
着性、可撓性、耐食性等をバランスさせる目的で、公知
のエポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート、
ポリエステルアクリレート及び飽和重合体を混合するこ
とも行われる飽和重合体としては、例えば、（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリエステル等がある。更にスクリーンインキ
としての印刷適性を向上させるためや着色のために、通
常の充填材、消泡剤、レベリング剤。
曳糸性防止剤、染料、顔料などを混合することも行われ
る。
る。
本発明の紫外線硬化型インキ組成物の硬化に用いられる
光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンラン
プ、アーク灯、ガリウムランプ等、放射波長が２００〜
４５０ｍμのランプが有効である。更に、本発明のイン
キ組成物は深部の硬化を良好とするため、紫外線を照射
した後、加温することにより深部硬化性を改善すること
も可能である。
光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンラン
プ、アーク灯、ガリウムランプ等、放射波長が２００〜
４５０ｍμのランプが有効である。更に、本発明のイン
キ組成物は深部の硬化を良好とするため、紫外線を照射
した後、加温することにより深部硬化性を改善すること
も可能である。
本発明の組成物は、ベースレジンとして含有するポリウ
レタンポリ （メタ）アクリレートを得るためにヒドロ
キシル基含有（メタ）アクリレート、 と反応させる
ポリイソシアネートとしてノボラック構造のポリイソシ
アネート化合物を用いていることにより、基材への密着
性及び柔軟性が良好でかつ硬度、耐溶剤性、耐薬品性、
耐湿性、耐熱性が良好なインキ皮膜を与えることができ
る。
レタンポリ （メタ）アクリレートを得るためにヒドロ
キシル基含有（メタ）アクリレート、 と反応させる
ポリイソシアネートとしてノボラック構造のポリイソシ
アネート化合物を用いていることにより、基材への密着
性及び柔軟性が良好でかつ硬度、耐溶剤性、耐薬品性、
耐湿性、耐熱性が良好なインキ皮膜を与えることができ
る。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例中、部とあるのは重量部の意味である。
（実施例１〜５）
一般式（Ｉ）で示されるポリイソシアネート化合物とし
てミリオネートＭＲ−４００（日本ポリウレタン工業Ｋ
Ｋ製）４５０部と、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリ
レートとして２−ヒドロキシエチルアクリレート４００
部とを反応させ、ポリウレタンポリアクリレート（ＰＵ
Ａ−１）を得た。このポリウレタンポリアクリレート
（ＰＵＡ−１）に、表１に示すような割合でラジカル重
合性低分子量化合物及び光重合開始剤を加え、さらに体
質顔料（ミストロンペーパータルク：上屋カオリンＫＫ
製）及び着色顔料（フタロシアニングリーンＳ二大日本
インキ化学工業ＫＫ製）を加え、３本ロールを通して混
練し、紫外線硬化型インキＵＶ５−１〜ＵＶ５−５を得
た。このインキを銅張板上に１５μの厚さに塗布し、高
圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ） ３灯で約２０ｃｍの距離か
ら１０秒間照射した。得られたインキ皮膜の性能を表２
に示す。
てミリオネートＭＲ−４００（日本ポリウレタン工業Ｋ
Ｋ製）４５０部と、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリ
レートとして２−ヒドロキシエチルアクリレート４００
部とを反応させ、ポリウレタンポリアクリレート（ＰＵ
Ａ−１）を得た。このポリウレタンポリアクリレート
（ＰＵＡ−１）に、表１に示すような割合でラジカル重
合性低分子量化合物及び光重合開始剤を加え、さらに体
質顔料（ミストロンペーパータルク：上屋カオリンＫＫ
製）及び着色顔料（フタロシアニングリーンＳ二大日本
インキ化学工業ＫＫ製）を加え、３本ロールを通して混
練し、紫外線硬化型インキＵＶ５−１〜ＵＶ５−５を得
た。このインキを銅張板上に１５μの厚さに塗布し、高
圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ） ３灯で約２０ｃｍの距離か
ら１０秒間照射した。得られたインキ皮膜の性能を表２
に示す。
（実施例６）
ポリイソシアネート化合物として、ミリオネー１−ＭＲ
−４００の代わりにミリオネートＭＲ−２００（日本ポ
リウレタン工業ＫＫ製）を用いた以外は実施例１におけ
るＰＵＡ−１と同様にしてポリウレタンポリアクリレー
トＰＵＡ−２を得た。
−４００の代わりにミリオネートＭＲ−２００（日本ポ
リウレタン工業ＫＫ製）を用いた以外は実施例１におけ
るＰＵＡ−１と同様にしてポリウレタンポリアクリレー
トＰＵＡ−２を得た。
実施例１の中のＰＵＡ−１をＰＵＡ−２に変更した以外
は、実施例１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−６）を
作製しく表１参照）、硬化を行い、インキ皮膜を得た。
は、実施例１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−６）を
作製しく表１参照）、硬化を行い、インキ皮膜を得た。
得られたインキ皮膜の性能を表２に示す。
（以下余白、次頁につづく。）
（比較例１）
デスモジュールＨ（住友バイエルウレタンＫＫ製：ヘキ
サメチレン１，６−ジイソシアネート）５００部と２−
ヒドロキシエチルアクリレート７００部とを反応させて
ポリウレタンポリアクリレート（ＰＵＡ−３）を得た。
サメチレン１，６−ジイソシアネート）５００部と２−
ヒドロキシエチルアクリレート７００部とを反応させて
ポリウレタンポリアクリレート（ＰＵＡ−３）を得た。
実施例１中のＰＵＡ−１をＰＵＡ−３に変更した以外は
、実施例１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−７）を作
成し硬化を行い、インキ皮膜を得た。得られたインキ皮
膜の性能を表２に示す。
、実施例１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−７）を作
成し硬化を行い、インキ皮膜を得た。得られたインキ皮
膜の性能を表２に示す。
（比較例２）
エピコート＃８２８（油化シェルＫＫ製：エピビスタイ
ブエポキシ）５００部とアクリル酸２００部とを反応さ
せてエポキシアクリート（ＰＥＡ−１）を得た。実施例
１中のＰＵＡ−１をＰＥＡ−１に変更した以外は実施例
１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−８）を作成し硬化
を行い、インキ皮膜を得た。得られたインキ皮膜の性能
を表２に示す。
ブエポキシ）５００部とアクリル酸２００部とを反応さ
せてエポキシアクリート（ＰＥＡ−１）を得た。実施例
１中のＰＵＡ−１をＰＥＡ−１に変更した以外は実施例
１と全く同様にしてインキ（ＵＶＳ−８）を作成し硬化
を行い、インキ皮膜を得た。得られたインキ皮膜の性能
を表２に示す。
（自発）手続主甫正書
昭和 ６為 １０月旭日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、主成分として、 （Ａ）、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１は水素原子又はメチル基であり、ｎは１〜
２０までの整数である。） で示されるポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基
含有（メタ）アクリレートとを反応させて得られ、１分
子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基及び２個以上
のウレタン結合を有するポリウレタンポリ（メタ）アク
リレート、 （Ｂ）、ラジカル重合性低分子量化合物及び（Ｃ）、光
重合開始剤 を含有することを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物
。 ２、ポリイソシアネート化合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎ′は１〜５の整数である） で示される化合物であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の紫外線硬化型インキ組成物。 ３、ラジカル重合性低分子量化合物が含リンビニルモノ
マーを含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の紫外線硬化型インキ組成物。 ４、光重合開始剤がアントラキノン系化合物であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の紫外線硬化型
インキ組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60122169A JPS61278577A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
| US06/870,084 US4680368A (en) | 1985-06-05 | 1986-06-03 | Ultraviolet curable ink composition |
| EP86304302A EP0204575B1 (en) | 1985-06-05 | 1986-06-05 | Ultraviolet curable ink compositions |
| DE8686304302T DE3670095D1 (de) | 1985-06-05 | 1986-06-05 | U.v.-haertbare tintenzusammensetzungen. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60122169A JPS61278577A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61278577A true JPS61278577A (ja) | 1986-12-09 |
| JPH0149430B2 JPH0149430B2 (ja) | 1989-10-24 |
Family
ID=14829285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60122169A Granted JPS61278577A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4680368A (ja) |
| EP (1) | EP0204575B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61278577A (ja) |
| DE (1) | DE3670095D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008211036A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Tamura Kaken Co Ltd | 感光性樹脂組成物、プリント配線板用のソルダーレジスト組成物およびプリント配線板 |
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1985
- 1985-06-05 JP JP60122169A patent/JPS61278577A/ja active Granted
-
1986
- 1986-06-03 US US06/870,084 patent/US4680368A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-06-05 EP EP86304302A patent/EP0204575B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-05 DE DE8686304302T patent/DE3670095D1/de not_active Expired - Fee Related
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