JPS61214151A - Optical card - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent a card from being forged or falsified by providing the information recording areas of encoded information and visible information, on an optical recording part. CONSTITUTION:A titled optical card is formed by joining as one body a card base material 2 and an optical recording part 3 through an adhesive layer 4. The optical recording part 3 is formed by laminating the first recording layer 9 consisting of an optical recording part use base material 5, a surface hardened layer 6 provided on the upper face of the base material 5, a light transmitting part 7 provided on the lower face and a light shielding part 8, and the second recording layer 10 consisting of a reflecting metallic thin film layer provided on the lower face of this first recording layer 9. Also, the optical recording part 3 has an encoded information recording area 3a and a visible information recording area 3b, the card base material 2 is a laminated body of an opaque material layer 2a and a transparent material layer 2b, and as the case may be, a magnetic recording layer 11 is provided in the transparent material layer 2b. In such a way, one sheet of card can correspond to various reproducing systems, and its forgery can be prevented more effectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は情報記録カードに関し、さらに詳しくは、情報
を光学的に記録し再生することができる（発明の技術的
背景ならびにその問題点〕従来、クレジットカード、Ｉ
Ｑカード、キャッシュカード等の情報記録カードとして
は、磁気記録材料をカード基材中に埋設した磁気カード
が主として用いられてきた。これら磁気カードは、情報
の書込みならびに読出しが比較的容易に行なえるという
利点はあるが、反面、情報の改憲が容易に行なわれ、し
かも高密度記録ができないという問題がある。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an information recording card, and more specifically, information can be recorded and reproduced optically (Technical Background of the Invention and Problems thereof) Conventionally, credit card, I
As information recording cards such as Q cards and cash cards, magnetic cards in which a magnetic recording material is embedded in a card base material have been mainly used. These magnetic cards have the advantage that information can be written and read relatively easily, but on the other hand, they have the problem that information can be easily amended and high-density recording is not possible.

このような問題を解決するため、近年、情報を光学的に
記録し再生するようにした光カードの研究が進められて
いる。すなわち、光カードは、通常、レーザー等の光を
用いてカード基材上に設けられた光記録層の一部を選択
的に揮散、変形もしくは反射率変化が生じるように変化
させることによって情報を記録し、さらにこのようにし
て記録された情報を光学的に再生できるようにしたもの
である。これら光カードは、従来用いられている磁気カ
ードと比較して記録密度を１桁以上高めることが可能で
あり、カード基材上の記録層の面積も大幅に小さくする
ことができる等多くの利点を有している。In order to solve these problems, research has been progressing in recent years on optical cards that optically record and reproduce information. In other words, optical cards usually store information by selectively volatilizing, deforming, or changing a part of the optical recording layer provided on the card base using light such as a laser so that a change in reflectance occurs. The information recorded in this way can be optically reproduced. These optical cards have many advantages, including the ability to increase the recording density by more than an order of magnitude compared to conventionally used magnetic cards, and the area of the recording layer on the card base material to be significantly smaller. have.

しかしながら、従来提案されている光カードには次の様
な問題がある。However, conventionally proposed optical cards have the following problems.

すなわち、一般に、情報を記録するカード類にあっては
、カードの所有者名等の可視情報を明示するために、カ
ード上にエンボス文字列が形成される。このようなエン
ボス文字は目視による確認ができ便利ではあるが、反面
、偽造、変造等の改憲が容易に行なわれ得るという問題
がある。That is, in the case of cards that record information, an embossed character string is generally formed on the card to clearly indicate visible information such as the card owner's name. Although such embossed characters are convenient because they can be visually confirmed, there is a problem in that they can easily be forged, altered, or otherwise altered.

〔発明の目的および概要〕[Object and outline of the invention]

本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、カ
ード所有者名等の可視情報を明瞭に把握することができ
、しかもその改憲を有効に防止することができるような
光カードを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and provides an optical card that allows visible information such as the cardholder's name to be clearly grasped and that can effectively prevent constitutional amendments. The purpose is to

上記目的を達成するため、本発明の光カードは、情報を
光学的に記録し再生することができる光記録部が設けら
れた光カードにおいて、前記光記録部が、コード化（符
号化）された情報と可視情報との２種類の情報記録領域
を有することを特徴としている。In order to achieve the above object, an optical card of the present invention is provided with an optical recording section capable of optically recording and reproducing information, in which the optical recording section is encoded (encoded). It is characterized by having two types of information recording areas: visible information and visible information.

本発明の光カードは、２進情報などのコード化された情
報の他に、従来エンボス文字列によって形成されていた
可視情報を光学的な記録手段で記録することができるの
で、従来の磁気カードと比較して高密度の情報記録が可
能になるとともにカードの偽造、改憲が著しく困難にな
るという効果がある。In addition to encoded information such as binary information, the optical card of the present invention can record visible information, which was conventionally formed by embossed character strings, using an optical recording means, so that This has the effect of making it possible to record information at a higher density than before, and making card forgery and constitutional amendment significantly more difficult.

〔発明の詳細な説明〕[Detailed description of the invention]

以下、本発明に係る光カードを、添付図面に基いて具体
的に説明する。Hereinafter, the optical card according to the present invention will be specifically explained based on the accompanying drawings.

本発明の光カード１は、その正面図が第１図に示される
ように、カード基材２上に光記録部３が設けられており
、この光記録部３は、２進情報などのコード化された情
報を記録し再生することができるコード化情報記録領域
３ａと、目視により把握できる可視情報を記録し再生す
ることができる可視情報記録領域３ｂとの２種類の光記
録領域が併設されてなる。As the front view of the optical card 1 of the present invention is shown in FIG. 1, an optical recording section 3 is provided on a card base material 2. Two types of optical recording areas are provided: a coded information recording area 3a that can record and reproduce encoded information, and a visible information recording area 3b that can record and reproduce visible information that can be visually grasped. It becomes.

光記録部３は、光学的な記録、再生が可能な媒体であれ
ばいずれの材料を使用することができる。The optical recording section 3 can be made of any material as long as it is a medium that can be optically recorded and reproduced.

例えば、Ｔｅまたはその化合物、合金の薄膜で構成する
ことができ、この場合、可視情報の記録は、例えばレー
ザー光を集光して可視情報領域３ｂに照射してレーザー
光を移動させながら文字、数字などの可視情報を記録す
ることができる。さらに、文字、数字の記録用マスクを
用い、キセノンランプ等を光源にしてフラッシュ露光す
ることにより記録することもできる。For example, it can be made of a thin film of Te or its compound or alloy. In this case, visible information is recorded by condensing a laser beam and irradiating it onto the visible information area 3b, and while moving the laser beam, writing characters, etc. Visual information such as numbers can be recorded. Furthermore, it is also possible to record by using a mask for recording letters and numbers and performing flash exposure using a xenon lamp or the like as a light source.

以下、本発明を、更に具体的な実施態様に即して説明す
る。Hereinafter, the present invention will be explained based on more specific embodiments.

本発明の具体的実施態様に係る光カード１は、その概念
断面図が第２図に示されるように、カード基材２と光記
録部３とが接着剤層３を介して接合一体化されてなる。The optical card 1 according to the specific embodiment of the present invention has a card base material 2 and an optical recording section 3 bonded together through an adhesive layer 3, as a conceptual cross-sectional view of the optical card 1 is shown in FIG. It becomes.

光記録部３は、光記録部用基材５と、この基材５の上面
に設けられた表面硬化層６と、基材５の下面に設けられ
た、光透過部７と遮光部８とからなる第１記録１！１９
と、この第１記録層９の下面に設けられた反射性金属ｗ
ｌＩ１層からなる第２記録層１０とが各々積層形成され
てなる。そして、光記録部３は、コード化情報記録領域
３ａと可視情報記録領域３ｂ（図示せず）とを有してい
る。The optical recording section 3 includes a base material 5 for the optical recording section, a surface hardening layer 6 provided on the upper surface of the base material 5, and a light transmitting section 7 and a light shielding section 8 provided on the lower surface of the base material 5. The first record consisting of 1!19
and a reflective metal w provided on the lower surface of the first recording layer 9.
The second recording layer 10 consisting of one layer of lI is formed in a laminated manner. The optical recording section 3 has a coded information recording area 3a and a visible information recording area 3b (not shown).

一方、カード基材２は、不透明材料１２ａと透　　　　
　。On the other hand, the card base material 2 has an opaque material 12a and a transparent material 12a.
.

明材料１１２ｂとの積層体からなる。場合によっては、
透明材料層２ｂ中に磁気記録層１１が設けられていても
よい。また、第１記録層９、第２記録層１０は、光記録
部用基材５の全面ではなく一部表面上に設けることもで
きる。さらに、必要に応じてｔＣメモリー、写真、彫刻
画像、文字、マーク、インプリントと称する浮き出し文
字などを、光カードの表面もしくは裏面に併設してもよ
い。It is made of a laminate with a bright material 112b. In some cases,
A magnetic recording layer 11 may be provided in the transparent material layer 2b. Further, the first recording layer 9 and the second recording layer 10 may be provided on a part of the surface of the optical recording portion base material 5 instead of the entire surface. Furthermore, if necessary, tC memory, photographs, engraved images, characters, marks, embossed characters called imprints, etc. may be provided on the front or back side of the optical card.

このようにすることにより、１枚のカードで種々の再生
方式に対応でき、また偽造がより効果的に防止できる。By doing so, one card can be used in various playback methods, and counterfeiting can be more effectively prevented.

第３図に示す別の具体例における光カード１においては
、光記録部３の第１記録ＷＪ９と第２記録ＷＩ１１０と
の間にバリヤー１！１２が形成されており、　　　　−
その他の構成は上記第２図の光カードの場合と同様であ
る。このバリヤー１１２は、湿度の影響による第２記録
層１０の金Ｂ薄膜層の変質を防止するために設番プられ
るものであり、特に第１記録層の感光材料が吸湿性材料
の場合に有用である。In the optical card 1 in another specific example shown in FIG. 3, a barrier 1!12 is formed between the first recording WJ9 and the second recording WI110 of the optical recording section 3, -
The rest of the structure is the same as that of the optical card shown in FIG. 2 above. This barrier 112 is designed to prevent the gold B thin film layer of the second recording layer 10 from deteriorating due to the influence of humidity, and is particularly useful when the photosensitive material of the first recording layer is a hygroscopic material. It is.

以下、本発明の光カードの各構成部材について更に詳細
に説明する。Each component of the optical card of the present invention will be explained in more detail below.

Ｌ二五且■ カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられうる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メヂルなどの
アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、アセチルセルロース、スチレン／ブタジェン共重合
体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
などが用いられる。場合によっては、鉄、ステンレス、
アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シート、合成
紙、紙なども用いられつる。このうち、不透明材料層２
ａとしては、白色硬質ポリ塩化ビニルが好ましく用いら
れ、透明材料層２ｂとしては、透明硬質ポリ塩化ビニル
が好ましく用いられる。As the card base material 2, any material that can be used as a base material for a normal card can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, acrylic polymers such as polymethacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, acetyl cellulose, styrene/butadiene copolymer, polyethylene, Polypropylene, polycarbonate, etc. are used. In some cases, iron, stainless steel,
Metal sheets such as aluminum, tin, copper, and zinc, synthetic paper, and paper are also used. Of these, opaque material layer 2
White hard polyvinyl chloride is preferably used as a, and transparent hard polyvinyl chloride is preferably used as the transparent material layer 2b.

友ｒ　　　　　、旦 光記録部用基材５としては、光透過性であるガラス、セ
ラミック、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布な
どあらゆるタイプの材料が用いられうるが、生産性およ
び平滑性の点からガラスあるいはプラスチックフィルム
が好ましい。プラスチックとしては、セルロース誘導体
、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系
樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメチ
ルペンテン樹脂、セル０−ストリアセテート樹脂などを
用いることができ、透明性および平滑性の点から、セル
ローストリアセテート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスル
ホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂などが特に好ましい
。これら基材５には、必要に応じて、コロナ放電処理、
プラズマ処理、プライマー処理などの接着性改良のため
の前処理をしてもよい。As the base material 5 for the optical recording section, any type of material can be used, such as optically transparent glass, ceramic, paper, plastic film, woven fabric, or non-woven fabric. A glass or plastic film is preferred. As the plastic, cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyether resins, polysulfone resins, polyamide resins, polymethylpentene resins, cell 0-striacetate resins, etc. may be used. cellulose triacetate, polyethylene terephthalate,
Particularly preferred are polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polysulfone resin, polymethylpentene resin, and the like. These base materials 5 may be subjected to corona discharge treatment, if necessary.
Pretreatment to improve adhesion such as plasma treatment and primer treatment may be performed.

第１記録層 第１記録層９は、光透過部７および遮光部８から構成さ
れている。この第１記録１１９は、たとえば未露光部が
光透過性となり露光部が遮光性となる感光材をパターン
露光し、次いで現像することによって形成される。場合
によっては、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過
性となる感光材をパターン露光し次いで現像することに
よって、記録層９を形成してもよい。First Recording Layer The first recording layer 9 is composed of a light transmitting section 7 and a light shielding section 8 . The first recording 119 is formed, for example, by exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-transmissive and exposed areas are light-shielding, and then developed. In some cases, the recording layer 9 may be formed by exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-shielding and exposed areas are light-transmitting, followed by development.

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹脂
、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現
像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属
錯化合物または金属化合物から構成されている。この感
光材においては、バインダーとしての透明樹脂１００重
量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤は１〜１００重量部好ましくは２０〜５
０重量部の量で存在し、還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物は０．１〜１００重量部好
ましくは１〜１０重量部の量で存在している。上記の現
像抑制剤、金属錯化合物または金属化合物は、バインダ
ーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散されているが
、好ましくは溶解されている。The photosensitive material is made of, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound that is reduced to become a metal development nucleus. It is configured. In this photosensitive material, the amount of a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is 1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of a transparent resin as a binder.
The metal complex compound or metal compound which is reduced to become metal development nuclei is present in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight. The development inhibitor, metal complex compound, or metal compound described above is dissolved or dispersed in the transparent resin as a binder, and is preferably dissolved.

透明樹脂としては、新油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。新油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリルＷ！！／酢酸ビニル共重合樹脂、エチ
レン／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する
樹脂、酢酸セルロースなどの水ｌ！基を有する樹脂、カ
ルボン！ｌ基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニ
ル系樹脂などが挙げられる。As the transparent resin, either oil-based or hydrophilic transparent resin can be used. New oil-based transparent resins include polyvinyl acetate resin, vinyl acetate/acrylic acid ester copolymer resin, and acrylic W! ! /Resins with ester groups such as vinyl acetate copolymer resins, ethylene/vinyl acetate copolymer resins, and water such as cellulose acetate! Carvone, a resin with groups! Examples include modified vinyl acetate resins containing l groups or sulfonic acid groups.

また、光記録特′性上はヒートモードで変形する性質を
有するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれ
らの新油性透明樹脂に添加することも高感度化のために
有効である。Furthermore, in terms of optical recording characteristics, it is also effective to add cellulose derivatives such as nitrocellulose, which have the property of deforming in heat mode, to these new oil-based transparent resins to increase sensitivity.

また、親水性の透明４１脂としては、ゼラチン、カゼイ
ン、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子
化合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミン
、ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ燦々ビニル）
、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピ
ロリドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重
合体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水
性樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用可能
である。バインダーとしての親水性透明樹脂には、この
透明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触さ
せる際に、物理現像液が感光材層に浸透して物理現像が
可能となる程度の親水性を有することが好ましい。Hydrophilic transparent 41 fats include natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethyl cellulose, egg albumin, and polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl).
, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, maleic anhydride copolymer, and other synthetic resins are used, but other resins other than those mentioned above can also be used as long as they are water-soluble or hydrophilic resins. The hydrophilic transparent resin used as a binder has such hydrophilicity that when a photosensitive material layer is formed using this transparent resin and brought into contact with a physical developer, the physical developer penetrates into the photosensitive material layer and physical development is possible. It is preferable that the

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物をエタノール溶
解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効であ
る。In addition, it is also effective to dissolve a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode in terms of optical recording properties, in ethanol and then add it to the above-mentioned hydrophilic transparent resin.

現像抑υ１剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有す
る化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物として
はジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩
、またはこれらの化合物とパラホルムアルデヒドより得
られる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体的
には、ｐ−Ｎ。As the development inhibitor υ1, a compound having a diazo group or an azide group is used. The compound having a diazo group is preferably a zinc chloride double salt or a fluoroborate salt having a diazo group, or a condensation product obtained from these compounds and paraformaldehyde. More specifically, p-N.

Ｎ−ジエヂルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチルアミノベン
ゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モルフォリノ−２
，６−ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、
４−モルフォリノ−２゜５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−２，５−
ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（
４’−メトキシベンゾイルアミノ）−２，５−ジェトキ
シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（ｐ−トル
イルメルカプト）−２，５−ジメトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４′−メトキシジフ
ェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−３−メトキシ
−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジアゾ基を有す
る塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜鉛複塩の代
わりに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸塩なども使
用できる。N-diedylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, p-N-ethyl-N-β hydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2
, 6-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt,
4-morpholino-2゜5-dibutoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5-
Jetoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(
4'-methoxybenzoylamino)-2,5-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(p-tolylmercapto)-2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'-methoxy In place of the zinc chloride double salt having a diazo group such as diphenylamine zinc chloride double salt, 4-diazo-3-methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt, or the above zinc chloride double salt, the above borofluoride salt, sulfate, Phosphates can also be used.

アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−アセトン、２．６−ビス−
（４′−アジドペンデル）−シクロヘキサノン、２，６
−ビス−（４′−アジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２．６−ビス（４′−アジドスチリル）−
アセトン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基も
しくはアジド基を有する限り上記以外の化合物も使用す
ることもでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド
基を有する化合物を任意に２種以上併用して使用するこ
ともできる。Compounds having an azide group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidechalcone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal)-acetone, 2,6-bis-
(4'-azidopendel)-cyclohexanone, 2,6
-bis-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanone, 2,6-bis(4'-azidostyryl)-
Acetone, azidopyrene, etc. can be used. Compounds other than those mentioned above can also be used as long as they have a diazo group or an azide group, and two or more of the above-mentioned compounds having a diazo group or an azide group can also be used in combination.

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルボン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。In addition, when using a compound having a diazo group, it is preferable to use a stabilizer that stabilizes this compound. Organic carboxylic acids and organic sulfonic acids can be used as this stabilizer, and more practically p - It is preferable to use toluenesulfonic acid or the like.

次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。Next, the metal complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus will be explained.

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。First, complex compounds of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used as the metal complex compounds that are reduced and become metal development nuclei, and the ligands that serve as electron donors for these metals are usually Any known material can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（ＩＩ）塩、ジク
ロロエチレンジアミンパラジウム（ＩＩ）塩、ジクロロ
（エチレンジアミン）白金（Ｖｌ塩、テトラクロロジア
ンミン白金（ＩＶ）塩、ジクロロビス（エチレンジアミ
ン）白金（ｒＶ）塩、テトラエチルアンモニウム銅（Ｉ
ｆ）塩、ビス（エチレンジアミン銅（Ｉｆ）塩。Bis(ethylenediamine)palladium(II) salt, dichloroethylenediaminepalladium(II) salt, dichloro(ethylenediamine)platinum(Vl salt, tetrachlorodiamineplatinum(IV) salt, dichlorobis(ethylenediamine)platinum(rV) salt, tetraethylammonium copper( I
f) Salt, bis(ethylenediamine copper(If) salt.

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２力
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第１級、第２級
もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミルニ酢酸などの化合物が用いられる。Furthermore, as a ligand for forming a metal complex compound, it is preferable to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more sites because the stability of the metal complex compound formed is high. be. Examples of chelating agents include primary, secondary or tertiary amines, oximes, imines, and ketones; more specifically, dimethylglyoxime, dithion, oxine, acetylacetone, glycine, Compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and uramyl diacetic acid are used.

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス（２，
２’−ビピリジン）パラジウム（ＩＩ）塩、ビス（アセ
チルアセトナート）パラジウム（ｎ）、ビス（Ｎ、Ｎ−
ジエチルエチレンジアミン）銅（Ｉｒ）塩、ビス（２，
２’　−ビピリジン）銅（Ｈ）塩、ビス１．１０−フェ
ナントロリン）銅（ＩＩ）塩、ビス（ジメチルグリオキ
シマート）銅（［）、ビス（アセチルアセトナート）銅
〈■）、ビス（アセチルアセトナート）白金（［）など
が好ましい。Examples using the above chelating agent include bis(2,
2'-bipyridine)palladium(II) salt, bis(acetylacetonato)palladium(n), bis(N,N-
diethylethylenediamine) copper(Ir) salt, bis(2,
2'-bipyridine) copper(H) salt, bis(1.10-phenanthroline) copper(II) salt, bis(dimethylglyoximate)copper([), bis(acetylacetonato)copper〈■), bis(acetyl acetonato) platinum ([), etc. are preferred.

還元されて金底現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。As the metal compound that is reduced to give the bottom development nucleus, metal compounds such as water-soluble salts such as chlorides and nitrates of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used. Salts such as palladium chloride, silver nitrate, and gold tetrachloride contained in the plating activator solution are preferred, and among these, palladium salts are particularly preferred.

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（
０）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑
制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金Ｂ錯化
合物または金属化合物は、バインダーとしての透明樹脂
に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗布に適
した粘度である１０〜１０００センチボイズを有する感
光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成用塗布
液は、光記録部用基材５上に通常０．１〜３０μｍの膜
厚に塗布されて感光材層が形成される。As mentioned above, (a) transparent resin as a binder, (
0) A photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group and (c) a gold B complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus, together with a solvent selected according to the transparent resin as a binder. They are mixed to form a coating solution for forming a photosensitive material layer having a viscosity of 10 to 1000 centivoise, which is suitable for coating. This coating liquid for forming a photosensitive material layer is applied onto the substrate 5 for an optical recording section to a thickness of usually 0.1 to 30 μm to form a photosensitive material layer.

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混和性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、新油性透明樹脂を用いる場合には
、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ロブチ
ルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の高
い溶剤が好ましく用いられる。As a solvent for dissolving the transparent resin as a binder,
Various solvents can be used, but when using a hydrophilic transparent resin, water, a water-miscible solvent such as a lower alcohol, a ketone, or an ether, or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent are used. In addition, when using a new oil-based transparent resin, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and polar substances such as methyl cellosolve are recommended. High solvents are preferably used.

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。In addition, when using a hydrophilic transparent resin, it is desirable to perform hardening treatment after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developer during physical development.

硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の量で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光材層上に塗布することにより行なうこと
ができる。For example, the hardening treatment can be carried out by pre-mixing the following compound in a coating solution for forming a photosensitive material in an amount of 0.1 to 50 parts per 100 parts of the transparent resin, or by adding an aqueous solution of the following compound to the coating solution that has already been formed. This can be done by coating on the photosensitive material layer.

カリ明パン、アンモニウム明パンなどのＡ１化合物；ク
ロム明パン、硫酸クロムなどのＣｒ化合物；ホルムアル
デヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メチ
ルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアルデ
ヒド類、二〇−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シク
ロヘキサン＝１．２−ジオン、シクロペンタン−１，２
−ジオン、ジアセチル、２，３−ベンタンジオン、２゜
５−ヘキサンジオン、２，５−ヘキセンジオンなどのジ
ケトン；トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエポキ
シド；テトラフタロイルクロリド、４．４２−ジフェニ
ルメタンジスルフォニルクロリドなどの酸無水物；タン
ニン酸、没食子酸、２゜４−ジクロｏ−６−ヒドロキシ
−ｓ−トリアジン、ならびに一般式ＲＮＰＯＸ２、 Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ’　　（ここでＲは炭素２〜６のア
ルキル基、Ｒ′は （ＣＨ）　　Ｎ　　（ＣＨ３）３Ｘ−基、＞ＩＦまたは
Ｃｊ、ｎは１または２）で表わされるリン化合物または
カルボジイミド；スチレン／マレイン酸共重合体、ビニ
ルピロリドン／マレイン酸共重合体、ビニルメチルエー
テル／マレイン酸共重合体、エチレンイミン／マレイン
酸共重合体、メタクリル酸／メタクリロニトリル共重合
体、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸エステル共重
合体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、
乳酸、クエン酸、アスパラギン酸、ゲルコール酸、酒石
酸など。A1 compounds such as potassium light bread and ammonium light bread; Cr compounds such as chromium light bread and chromium sulfate; aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, and succinaldehyde, 20-benzoquinone, p -benzoquinone, cyclohexane=1,2-dione, cyclopentane-1,2
- Diones, diacetyl, diketones such as 2,3-bentanedione, 25-hexanedione, 2,5-hexenedione; epoxides such as triglycidyl isocyanurate; tetraphthaloyl chloride, 4,42-diphenylmethane disulfonyl Acid anhydrides such as chloride; tannic acid, gallic acid, 2°4-dichloroo-6-hydroxy-s-triazine, and general formula RNPOX2, R-N=C=N-R' (where R is carbon2 -6 alkyl group, R' is (CH) N (CH3) 3 Resins such as maleic acid copolymer, vinyl methyl ether/maleic acid copolymer, ethyleneimine/maleic acid copolymer, methacrylic acid/methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, methacrylic acid ester copolymer, glutaric acid, succinic acid, malic acid,
Lactic acid, citric acid, aspartic acid, gelcholic acid, tartaric acid, etc.

このようにして、光記録部用基材５上に設けられた感光
材層をパターン露光し、次いで現像して未露光部である
光透過部７および露光部である遮光部８とからなる第１
記録層９を形成する。パターン露光は、たとえばホトマ
スクなどのマスクを介して行なうことができる。In this way, the photosensitive material layer provided on the optical recording part base material 5 is pattern-exposed, and then developed to form a light-transmitting part 7, which is an unexposed part, and a light-blocking part 8, which is an exposed part. 1
A recording layer 9 is formed. Pattern exposure can be performed, for example, through a mask such as a photomask.

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部８を形成することもできる。Alternatively, the light shielding portions 8 can be formed in a pattern by condensing the irradiation light into a beam and directly irradiating the photosensitive material layer.

第１記録１９における光透過部７および遮光部８により
もたらされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を
読取る際に、トラッキングおよびプレフォーマットとし
ての働きをしている。The image information provided by the light transmitting section 7 and the light shielding section 8 in the first recording 19 functions as tracking and preformat when reading the information itself or the information.

感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光量に応じて分解
されて潜像が形成される。In the exposed area of the photosensitive material layer, the photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is decomposed according to the amount of exposure to form a latent image.

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しつる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。As the light source used for exposure, any light source that can decompose a compound having a diazo group or an azide group can be used, and an ultra-high pressure mercury lamp is usually preferably used.

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。なお
未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像抑
制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触して
も金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存し
ている。A latent image formed by decomposition of a compound having a diazo group or an azide group by pattern exposure as described above is brought into contact with an aqueous reducing agent solution to generate metal development nuclei. Note that in the unexposed area, the development inhibitor having a diazo group or an azide group is not decomposed, so even when it comes into contact with the reducing agent aqueous solution, no metal development nuclei are generated and it remains as a light-transmitting area.

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、＠酸第
１スズ溶液（ｗｅｉｓｓ液）あるいは市販の無電解メッ
キ用のセンシタイザ−液などが特に好ましいが、一般に
は、強力な還元剤であればすべて使用できる。Reducing agents used in this case include stannous chloride, stannous sulfate, sodium borohydride, borazane compounds such as dimethylamine borazane, diethylamine borazane, and trimethylamine borazane, borane, diborane, and methyldiborane. Borane compounds, hydrazine, etc. are used. Among these, acidic stannous chloride solution, acidic stannous solution (Weiss solution), and commercially available sensitizer solution for electroless plating are particularly preferred, but in general, any strong reducing agent can be used. .

次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心どして析出し、遮光部
８が形成される。Next, when the metal development nuclei obtained in this way are brought into contact with a physical developer, the metal contained in the physical developer is reduced and precipitated around the metal development nuclei, and the light-shielding portion 8 is formed.

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩および還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used at a low temperature or in a heated state if necessary.

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバルト
、鉄およびクロムなどの■ｂ族金属、銅などのＩｂ族金
属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。また
一旦銅塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫酸錫で
置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得ること
も可能である。As the reducible metal salt, water-soluble salts of group Ib metals such as nickel, cobalt, iron and chromium, and group Ib metals such as copper are used alone or in combination. It is also possible to obtain a tin or tin/copper metal layer by performing physical development with a copper salt solution and then performing displacement plating with stannous chloride or tin sulfate.

これらの中でも安全性、保存性を考慮するとニッケル、
銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異なり原料の純度、メ
ッキ安定化剤などから少量の異種金属やリン、イオウな
どの元素が混入することはあり得るが、特に光記録材料
としての特性に影響を与えるものではない。Among these, considering safety and preservation, nickel,
Copper and tin are preferred. However, unlike vapor deposition, small amounts of different metals and elements such as phosphorus and sulfur may be mixed in due to the purity of the raw materials, plating stabilizers, etc., but this does not particularly affect the properties as an optical recording material.

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。Specifically, the following are used as suitable water-soluble reducible metal salts.

塩化第一コバルト、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第ニクロム、ヨウ化第ニクロム、塩化
第二銅などの重金属ハライド：硫酸ニッケル、硫酸第一
鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第ニクロム、硫酸第二銅な
どの重金属硫酸塩；硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝酸第
一コバルト、硝酸第ニクロム、硝酸第二銅などの重金属
硝Ｆｌ塩：フエラスアセテート、コバルタスアセテート
、クロミックアセテート、キューブリックフォルメート
などの金属の有機酸塩。Cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide,
Heavy metal halides such as ferrous chloride, nichrome bromide, nichrome iodide, cupric chloride; Heavy metal sulfates such as nickel sulfate, ferrous sulfate, cobaltous sulfate, nichrome sulfate, cupric sulfate, etc. Heavy metal nitrate Fl salts such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, dichromic nitrate, cupric nitrate; Organic acid salts of metals such as ferras acetate, cobalt acetate, chromic acetate, Kubrick formate, etc.; .

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば１０
〜１００ｇ／ρの母で含まれることが好ましい。These reducible heavy metal salts are contained in a physical developer solution, for example, 10
It is preferable that the content is in the range of ~100g/ρ.

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラザン、ボラセン、ボラジン、ｔ−ブチル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２．６−ルチシンボ
ラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、
ジメチルホスフィンボラン、フェニルホスフィンボラン
、ジメチルアルシンボラン、フェニルアルシンボラン、
ジメチルスチビンボラン、ジエチルスチビンボランなど
が使用できる。Examples of reducing agents include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamine borane, borane, diborane, methyl diborane, diborazane, boracene, borazine, t-butylamine borazane, pyridine borane, 2,6-ruticine borane, ethylenediamine borane, hydrazine diborane,
Dimethylphosphineborane, phenylphosphineborane, dimethylarsineborane, phenylarsineborane,
Dimethylstibine borane, diethylstibin borane, etc. can be used.

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１〜
５０９７ｆｌの量で用いられることが好ましい。These reducing agents are contained in the physical developer in an amount of, for example, 0.1 to
Preferably, an amount of 5097 fl is used.

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成する重金属イオンが水酸化物として沈澱するの
を防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、コ
ハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、酒
石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖酸
、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の一
種または二種以上を含ませることができる。これら錯塩
化剤は、物理現像液中にたとえば１〜１０（１／ｊの量
で用いられることが好ましい。In order to prevent heavy metal ions generated by dissolving the above-mentioned reducible heavy metal salts from precipitating as hydroxides, hydroxyl acids such as monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, malic acid, and lactic acid are added to the physical developer. One or more complexing agents consisting of organic carboxylic acids such as carboxylic acid, succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acid, and quinic acid may be included. can. These complex chloride forming agents are preferably used in an amount of, for example, 1 to 10 (1/j) in the physical developer.

さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などの０８１節剤、１ｌＩＩ剤、防腐剤、増白剤、
界面活性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。In addition, the physical developer contains 081 moderators, 1lII agents, preservatives, brighteners, such as acids and bases, to improve the storage stability and operability of the developer and the quality of the resulting images.
Surfactants and the like are added as necessary according to conventional methods.

この添加剤のうらｐＨを上げるためにはアンモニア水も
しくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好ま
しい。In order to raise the pH of this additive, it is particularly preferable to use aqueous ammonia or aqueous sodium hydroxide solution.

また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た６５℃から９０℃の高温ニッケルメッキ浴または銅メ
ッキ機中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際得
られた画像を、たとえば塩１１ｔ５％または硝酸の５％
の水溶液で５分間程度処理することにより光透過部の透
明樹脂を一部選択的に除去することもできる。Physical development may also be performed under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath or copper plating machine at 65°C to 90°C using a sodium hypophosphite reducing agent. The image obtained at this time, for example, salt 11t5% or nitric acid 5%
It is also possible to selectively remove a portion of the transparent resin in the light transmitting portion by treating with an aqueous solution of for about 5 minutes.

また、感光材としては、上述のような透明樹脂、現像抑
制剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほか
に、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商標）
などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジアゾ
ニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバ−フィ
ルム（登録商標）、ＰＤプロセス（登録商標）材料など
に代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモノマー、
ポリとニルケイ皮酸などに代表される光重合型光種かけ
型のフォトポリマー系材料（ホ）トナー像を形成するＣ
ｄ　５ＳＺｎ　Ｏ，ポリビニルカルバゾールなどの電子
写真感光体あるいはその転写体、（へ）７０スト像を形
成するサーモプラスチックス電子写真感光体などの電子
写真系材料、（ト）ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ
系、（チ）ダイラックス（登録商標）コバルト錯体とロ
イコ染料との組合せ系、（す）シュウ酸第二酸と鉄塩と
の組合せ系、（ヌ）スピロピラン、モリブデンタングス
テン化合物などの顔料または色素の画像を形成する材料
などが用いられうる。In addition to the above-mentioned systems consisting of transparent resins, development inhibitors, metal complex compounds, or metal compounds, examples of photosensitive materials include (a) silver halide, dry silver (registered trademark);
silver salt-based materials represented by organic silver salts such as system material, (d) acrylic monomer,
Photopolymerizable photo-seeding type photopolymer materials such as poly and cinnamic acid (e) C that forms toner images
d 5SZn O, electrophotographic photoreceptors such as polyvinylcarbazole or their transfer bodies, electrophotographic materials such as thermoplastic electrophotographic photoreceptors that form 70-stroke images, (t)leuco dyes and carbon tetrabromide. (1) A combination system of Dylux (registered trademark) cobalt complex and leuco dye, (3) A combination system of oxalic acid diic acid and iron salt, (3) Spiropyran, molybdenum tungsten compound, etc. Pigment or dye image forming materials and the like may be used.

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。但し、上記の感光
材のうち、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（ロ）
ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑制剤
および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯化合物
または金属化合物から構成されている感光材を用いると
遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際にも高濃度の
ものとして読取り可能であり、解像度が高く、しかも明
室で取り扱える利点がある。Among the above-mentioned photosensitive materials, some types have light-shielding properties in exposed areas and light-transmitting properties in unexposed areas, while others have light-transmitting properties in exposed areas and light-blocking properties in unexposed areas. . In any case, any photosensitive material can be used as long as it can perform recording consisting of a light-transmitting area and a light-blocking area by developing as necessary after exposure. However, among the above photosensitive materials, (a) transparent resin as a binder, (b)
When using a photosensitive material composed of a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group and (c) a metal complex compound or metal compound that is reduced and becomes a metal development nucleus, the light shielding part 8 uses near infrared rays. It has the advantage that it can be read as a high-density object even when reading at low temperatures, has high resolution, and can be handled in a bright room.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられうる。As the light for irradiating such a photosensitive material, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, X-rays, electron beams, etc. can be used.

金属錯化合物または金属化合物から構成されている感光
材を用いると遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際
にも高濃度のものとして読取り可能であり、解像度が高
く、しかも明室で取り扱える利点がある。When a photosensitive material made of a metal complex compound or a metal compound is used, the light shielding part 8 can be read as a highly concentrated material even when reading using near infrared rays, and has the advantage of having high resolution and being able to be handled in a bright room. There is.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、ＸＳａ、電子線などが用いられうる。As the light for irradiating such a photosensitive material, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, XSa, electron beams, etc. can be used.

晟１」こ１１ 次に、上記のようにして形成された、光透過部７および
遮光部８とからなる第１記録層９上に、反射性金属１１
１層からなる第２記録層１０を形成する。Next, a reflective metal 11 is deposited on the first recording layer 9 formed as described above and consisting of the light transmitting portion 7 and the light shielding portion 8.
A second recording layer 10 consisting of one layer is formed.

反射性金属薄膜層は、Ｃｒ、Ｔｉ５Ｆｅ、ｃｏ、Ｎｉ　
、ＣＬＩ　、Ａｇ、Ａｕ　、Ｇｅ　、Ａｊ　、Ｍ（１、
Ｓｂ　、Ｔｅ　、Ｐｂ　、Ｐｄ　、Ｃｄ　Ｓ　Ｂｉ　　
、Ｓｎ　。The reflective metal thin film layer is made of Cr, Ti5Fe, co, Ni
,CLI,Ag,Au,Ge,Aj,M(1,
Sb, Te, Pb, Pd, Cd S Bi
, Sn.

Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｈなどの金属を単独もしくは二種
以上組合せて用いて形成される。It is formed using metals such as Se, In, Ga, Rh, etc. alone or in combination of two or more.

反射性金属＋ｆ層からなる第２記録ｌｉｔ！１１０に情
報をエネルギービームの照射によりさらに書込む場合に
は、低融点金属であるＴｅ　、　Ｚｎ　、　Ｐｂ　１Ｑ
ｄ、３ｉ、３ｎ、３ｅ、ｉｎ、Ｑａ、Ｒｈなどの金属を
主成分として反射性金属薄膜を構成することが好ましく
、特にＴｅ　−８ｅ　、　Ｔｅ　−８ｅ　−Ｐｂ　、Ｔ
ｅ　−Ｐｂ　、Ｔｅ　−８ｎ−８，Ｓｎ　−Ｃｕ　。Second recording lit consisting of reflective metal + f layer! When further writing information to 110 by irradiation with an energy beam, low melting point metals Te, Zn, Pb 1Q
It is preferable that the reflective metal thin film is composed mainly of metals such as d, 3i, 3n, 3e, in, Qa, Rh, etc., particularly Te-8e, Te-8e-Pb, T
e-Pb, Te-8n-8, Sn-Cu.

Ｔｅ　−Ｃｕ　、Ｔｅ　−Ｃｕ−Ｐｂなどの合金が好ま
しい。Alloys such as Te-Cu and Te-Cu-Pb are preferred.

さらにこれらの合金のうち、５〜４０原子数パーセント
のＧＯを含むＴｅ−Ｃｕ合金あるいは５〜４０原子数パ
ーセントのＣｕおよびＣｕに対して１〜５０原子数パー
セントのｐｂを含むＴｅ　−Ｃｕ−Ｐｂ合金が、読出し
用照射エネルギービームの波長を６５０　ｎｍ以上とす
る場合に特に好ましい。これらの合金からなる反射性台
Ｊｉ！１１１ｍを第２記録層として用いると、外周部で
の乱れが少ない記録ビットが得られ、しかも読出し用照
射エネルギービームの波長が６５０層１以上特に７００
〜９０００１である場合に、記録部であるビットにおけ
る反射率と未記録部である金ｍＭＩ膜における反射率す
なわち相対反射率が小さいという優れた情報読出し特性
を有する反射性金属薄膜が得られる。Further, among these alloys, Te-Cu alloy containing 5 to 40 atomic percent GO or Te-Cu-Pb containing 5 to 40 atomic percent Cu and 1 to 50 atomic percent PB to Cu. The alloy is particularly preferred when the wavelength of the readout irradiation energy beam is 650 nm or more. Reflective stand Ji! made of these alloys! When 111m is used as the second recording layer, recorded bits with less disturbance at the outer periphery can be obtained, and moreover, when the wavelength of the readout irradiation energy beam is 650 layer 1 or more, especially 700 m
˜90001, a reflective metal thin film can be obtained that has excellent information read characteristics such that the reflectance in bits, which are recorded portions, and the reflectance, that is, relative reflectance, in the gold mmI film, which is an unrecorded portion, are small.

さらに、１−４０原子数パーセントのＣＵを含む３ｎ−
Ｃｕ合金を用いると記録ビット形状の外周部の乱れが少
なく、かつ毒性の低い反射性金属薄膜が得られる。Furthermore, 3n- containing 1-40 atomic percent CU
When a Cu alloy is used, a reflective metal thin film with less disturbance in the outer periphery of the recording bit shape and with low toxicity can be obtained.

反射性台ａＳＩｇＩ層からなる第２記録Ｗ！１１０に情
報を書込まずに単に反射層として使用する場合には、＋
ｌ　、Ｃｒ　ＳＮｉ　、Ａａ　、Ａｕなどの特に光反射
性の優れた金属あるいは合金により反射性台［１膜層を
形成することが好ましい。The second recording W! consists of a reflective platform aSIgI layer! If you do not write information to 110 and simply use it as a reflective layer, +
It is preferable to form a reflective base [one film layer] of a metal or alloy having particularly excellent light reflectivity, such as Cr, SNi, Aa, or Au.

このような反射性金属薄膜層を第１記録層上に形成する
には、上記のような金属あるいは合金を準備し、これを
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング
法、電気メツキ法などの従来既知の方法によって第１記
録腑上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の膜厚
は、２００〜１０．０００八好ましくは１０００〜５０
００八であることが好ましい。場合によっては、上記金
属からなる多層膜たとえばｌｎ膜とＴｅ膜との多層膜も
反射性金属薄膜として用いられる。また、上記金属と有
機化合物または無機酸化物との複合物たとえばＴｃ　−
ＣＨ４、Ｔｅ　−Ｃ８２、Ｔｅ　−スヂレン、Ｓｎ　−
３０２、Ｇｅ５−８ｎ　、Ｓｎ　Ｓ−８などの薄膜ある
いはＳ　ｉ　０２　／　Ｔ　ｉ　／　Ｓ　ｉ　０２／Ａ
ＪＩなどの多層膜も反射性金属薄膜として用いられうる
。In order to form such a reflective metal thin film layer on the first recording layer, the above-mentioned metal or alloy is prepared and then processed by sputtering method, vacuum evaporation method, ion blating method, electroplating method, etc. A film may be formed on the first recording layer by a conventionally known method. The thickness of this reflective metal thin film layer is 200 to 10,000, preferably 1,000 to 50,000.
008 is preferred. In some cases, a multilayer film made of the above metals, such as a multilayer film of an ln film and a Te film, is also used as the reflective metal thin film. Composites of the above metals and organic compounds or inorganic oxides, such as Tc -
CH4, Te-C82, Te-styrene, Sn-
Thin films such as 302, Ge5-8n, Sn S-8 or S i 02 / T i / S i 02/A
Multilayer films such as JI can also be used as reflective metal films.

さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた薄膜、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金属粒
子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面
に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射性金
属薄膜として用いられうる。In addition, there are thin films made by aggregating pigments such as cyanine to give light reflectivity, films in which pigments or metal particles such as silver are dispersed in thermoplastic resins such as nitrocellulose, polystyrene, and polyethylene, or films made from thermoplastic resins such as pigments or metal particles such as silver. A reflective metal thin film having pigment or metal particles aggregated on its surface can be used.

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、Ｔｅ酸化物、ｓｂ酸化物、
ＭＯ酸化物、Ｇｅ酸化物、■酸化物、３ａ＋酸化物、あ
るいはＴｅ酸化物−Ｇｃ　、Ｔｅ　−８ｎなどの化合物
が、反射性金属薄膜として用いられうる。Furthermore, Te oxide, sb oxide, whose reflectance changes due to phase transition caused by energy beam irradiation,
Compounds such as MO oxide, Ge oxide, ■ oxide, 3a+ oxide, Te oxide-Gc, Te-8n, etc. can be used as the reflective metal thin film.

また、カルコーゲンあるいは発色型のＭｏＯ３Ｃｕ　、
ＭＯ０３Ｓｎ　　ＣＬＩが反射性金属薄膜として用いら
れ、場合によっては泡形成型の有機１１Ｆｌと金属ｉｔ
［どの多層体も反射性金属薄膜として用いられうる。In addition, chalcogen or colored MoO3Cu,
MO03Sn CLI is used as a reflective metal thin film, and in some cases bubble-forming organic 11Fl and metal it
[Any multilayer can be used as a reflective metal film.

ざらに光磁記録材料であるＧｄ　Ｃｏ　、Ｔｂ　Ｇｏ、
Ｇｄ　Ｆｅ　、　Ｄｙ　Ｆｅ　、　Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　
。Roughly magneto-optical recording materials such as Gd Co , Tb Go,
GdFe, DyFe, GdTbFe
.

Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、Ｔｂ　ＤＶ　Ｆｅ　、Ｍｎ　Ｃｕ
　３ｉなども反射性金属ｗＩ膜として用いられつる。Gd Fe Bi , Tb DV Fe , Mn Cu
3i and the like are also used as reflective metal films.

上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。It is also possible to use a combination of various types of reflective metal thin films as described above.

表面硬化層 表面硬化層６は、光カード１の光記録部側の表面の硬度
を高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使
用時に表面に傷がつくことを防止する。これにより、カ
ードの耐久性と書込み、読取り精度における信頼性の向
上を図ることができる。Surface Hardening Layer The surface hardening layer 6 increases the hardness of the surface of the optical recording section side of the optical card 1 and protects it, thereby preventing the surface from being scratched when the card is carried or used. Thereby, it is possible to improve the durability of the card and the reliability in writing and reading accuracy.

この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やＡＩ
　ＯＳｉｏ２などの金属酸化２　　３　ゝ 物の他、プラズマ重合膜などが用いられる。Materials for this surface hardening layer include silicone-based, acrylic-based, melamine-based, urethane-based, epoxy-based hardeners, and AI.
In addition to metal oxides such as OSio2, plasma polymerized films and the like are used.

バリヤ一層 バリヤ一層１２は、第１記録層９を構成する感光材料が
、第２記録ｍｉｏに対して物理的に、科学的な悪影響を
及ぼすのを防止するために設けられる。特に、第１記録
層の感光材料が吸湿性の場合、高湿度下で第２記録層が
変質するのを防止するのに有用である。Barrier layer The barrier layer 12 is provided to prevent the photosensitive material constituting the first recording layer 9 from having a physical or scientific adverse effect on the second recording mio. In particular, when the photosensitive material of the first recording layer is hygroscopic, it is useful for preventing the second recording layer from deteriorating under high humidity.

バリヤ一層の材料としては、アクリル系、メラニン系、
ウレタン系またはセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンやＡρ２ｏ３．５ｔ
ｏ２などの金属酸化物の他、プラズマ重合膜などを用い
ることができる。Materials for the barrier layer include acrylic, melanin,
Urethane or cellulose resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride or Aρ2o3.5t
In addition to metal oxides such as O2, plasma polymerized films and the like can be used.

１１亙１ 接着剤１１４を構成する接着剤としては種々のものが用
いられつるが、例えばポリウレタンもしくはエポキシな
との熱硬化性接着剤、あるいはアクリル樹脂、ポリ酢酸
ビニル樹脂、ポリエチレン／酢酸ビニル共重合樹脂等の
感熱接着剤などを用いることができる。これらのうち耐
薬品性が要求されるときは熱硬化性接着剤、好ましくは
ポリウレタン接着剤が用いられる。11-1 Various adhesives can be used to form the adhesive 114, such as thermosetting adhesives such as polyurethane or epoxy, acrylic resins, polyvinyl acetate resins, and polyethylene/vinyl acetate copolymers. A heat-sensitive adhesive such as resin can be used. Among these, thermosetting adhesives, preferably polyurethane adhesives, are used when chemical resistance is required.

光カードの製造方法 次に本発明に係る光カードの製造方法について説明する
。Method for manufacturing an optical card Next, a method for manufacturing an optical card according to the present invention will be explained.

まず上述のようにして、光記録部用基材上に表面礎化層
、第１記録層および第２記録層さらに必要に応じてバリ
ヤ一層を設は光記録部を形成する。First, as described above, a surface foundation layer, a first recording layer, a second recording layer, and, if necessary, a barrier layer are provided on a substrate for an optical recording section to form an optical recording section.

この光記録部用基材は、光カードとして組立てられた場
合に、カード保護層としての役割をも果している。This base material for an optical recording section also serves as a card protective layer when assembled as an optical card.

次に、カード基材と光記録部用基材とを、光記録部の第
２記録層側がカード基材の不透明材料層側と接するよう
に、熱硬化性接着剤もしくは感熱接着剤などの接着剤層
を介して重ね合わせた後、９０〜１５０℃程度に加熱さ
れた熱ロールなどにて圧着することにより光カードを製
造できる。Next, the card base material and the base material for the optical recording section are bonded together using a thermosetting adhesive or a heat-sensitive adhesive such that the second recording layer side of the optical recording section is in contact with the opaque material layer side of the card base material. An optical card can be manufactured by stacking the two layers together with an agent layer interposed therebetween and then pressing them together using a hot roll heated to about 90 to 150°C.

場合によっては、以下のようにして光カードを製造する
こともできる。１なわち光記録部用基材上に、親水性樹
脂をバインダーとして含む第１記録層および第２記録層
を設けた俊、第２記録層である反射性金属薄膜上に、ア
クリル樹脂などの保護膜をスクリーン印刷などにより塗
布し、この部分を耐水性とする。この際光記録部用基材
の周辺縁部にはその保護膜は設けない。次いでこの光記
録材料を温水に浸漬し、保護膜の設けられていない部分
の親水性樹脂を除去した模乾燥する。Depending on the case, an optical card can also be manufactured as follows. 1. That is, a first recording layer and a second recording layer containing a hydrophilic resin as a binder are provided on a base material for an optical recording part, and a reflective metal thin film, which is the second recording layer, is coated with an acrylic resin or the like. A protective film is applied by screen printing to make this area water resistant. At this time, the protective film is not provided on the peripheral edge of the base material for the optical recording section. Next, this optical recording material is immersed in warm water and dried to remove the hydrophilic resin from the areas where the protective film is not provided.

一方、白色ポリ塩化ビニルフィルムなどのカード基材に
は、必要に応じて、熱プレス法などによって光記録部の
第１記録層および第２記録層を嵌込むための凹部を形成
することも表面に接着剤層を設けることもできる。On the other hand, if necessary, recesses for inserting the first and second recording layers of the optical recording section may be formed on the card base material such as white polyvinyl chloride film by heat pressing or the like. It is also possible to provide an adhesive layer.

次に、光記録材料とカード基材とを、光記録材料の第２
記録層がカード基材と接するようにして重ね合わせ、熱
ロールなどにて圧着することにより光カードを製造でき
る。Next, the optical recording material and the card base material are connected to the second layer of the optical recording material.
An optical card can be manufactured by overlapping the recording layer so that it is in contact with the card base material and pressing them together with a hot roll or the like.

の　゛み・　　し 次に、上記のような反射性金属薄膜への情報の書込みお
よび光カードに書込まれた情報の読出しについて説明す
る。Next, writing information to the reflective metal thin film and reading information written to the optical card as described above will be explained.

反射性金属薄膜層への情報の書込みは、この金属Ｎ膜層
に波長３００〜１１００ｎＩ１１のレーザビームなどの
エネルギービームをレンズなどにより集光して照射し、
照射部分の金属を蒸散あるいは偏在させて記録ビットも
しくは可視情報を形成することにより行なう。この際エ
ネルギービームの強度は、０．１〜１００７ＦＬＷ、パ
ルス巾は５ｎＳｅＣ〜５　Ｑ　Ｑ　１ｓ１３ｃ、ビーム
径は、０．１〜１００μｍであることが好ましい。To write information to the reflective metal thin film layer, the metal N film layer is irradiated with an energy beam such as a laser beam with a wavelength of 300 to 1100 nI11 focused by a lens or the like.
This is done by evaporating or unevenly distributing the metal in the irradiated area to form recording bits or visible information. At this time, it is preferable that the intensity of the energy beam is 0.1 to 1007 FLW, the pulse width is 5 nSeC to 5 Q Q 1s13c, and the beam diameter is 0.1 to 100 μm.

反射性金ａｍ膜層上に照射されるエネルギービームとし
ては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリ・ラム−ネ
オンレーザなとのレーザビーム、赤外線フラッシュなど
が用いられる。As the energy beam irradiated onto the reflective gold-am film layer, a laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a Heli-Lamb neon laser, an infrared flash, or the like is used.

−力木発明に係る光カードに書込まれたコード化された
情報の読出しは、反射性金属１１１層を溶融させない程
度の低エネルギーのエネルギービームあるいは白色光、
タングステン光などをレンズなどを介して光カードの保
護層側から光記録部および遮光部からなる第１記録層な
らびに第２記録層上に集光して照射し、反射光の強度と
位相変化とを関連づけて検出することによって行なわれ
る。- The coded information written on the optical card according to the Rikiki invention can be read using an energy beam or white light with a low energy level that does not melt the reflective metal 111 layer.
Tungsten light or the like is focused and irradiated from the protective layer side of the optical card onto the first recording layer and the second recording layer consisting of the optical recording section and the light shielding section through a lens etc., and the intensity and phase change of the reflected light are This is done by associating and detecting the

第１記録層における遮光部は、前述のように金属現像核
を中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形
成されているため、この遮光部に読出し用照射ビームが
照射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射
率は小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあまり
吸収されずに反射性金属ｉ＃膜層に達するため、この光
透過部における反射率は大きい値となる。As mentioned above, the light-shielding portion in the first recording layer is formed with a color close to black due to the metal precipitated around the metal development nucleus, so the reading irradiation beam is irradiated onto this light-shielding portion. Then, the irradiation beam is absorbed in this part and the reflectance becomes small. On the other hand, in the light transmitting part, the irradiation beam is not absorbed much and reaches the reflective metal i# film layer, so the reflectance in this light transmitting part becomes a large value.

また、反射性金ｍＷＩＩＩ層における未記録部に相当す
る金属薄膜層では高い反射率が得られるのに対し、記録
部に相当するビット部では低い反射率となる。Furthermore, a high reflectance is obtained in the metal thin film layer corresponding to the unrecorded portion of the reflective gold mWIII layer, whereas a low reflectance is obtained in the bit portion corresponding to the recorded portion.

このようにして、第１記録層では遮光部と光透過部とに
おける反射率の相違、また第２記録層では、金属が蒸散
もしくは偏在した部分と未記録部とにおける反射率の相
違を読取ることによって、コード化情報ならびに可視情
報の読出しが可能となる。In this way, it is possible to read the difference in reflectance between the light-shielding part and the light-transmitting part in the first recording layer, and the difference in reflectance between the part where metal has evaporated or unevenly distributed and the unrecorded part in the second recording layer. This makes it possible to read coded information as well as visible information.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例　１ 厚み４００μｍのポリカーボネートフィルム上に下引き
処理剤（信越化学製　プライマーｐｃ−４）をグラビア
コーティングし、次にその上にシリコーン系表面硬化剤
（信越化学製　Ｘ−１２−２１５０）をグラビアコーテ
ィングし、１００℃１分間でキュアして表面硬化層を得
た。上記のポリカーボネートフィルムの裏面に下記組成
の感光材層形成用塗布液をグラビアコーティングした。Example 1 An undercoat treatment agent (Primer PC-4, manufactured by Shin-Etsu Chemical) was gravure coated on a polycarbonate film with a thickness of 400 μm, and then a silicone surface hardening agent (X-12-2150, manufactured by Shin-Etsu Chemical) was gravure coated thereon. It was coated and cured at 100°C for 1 minute to obtain a hardened surface layer. A coating solution for forming a photosensitive material layer having the following composition was gravure coated on the back side of the above polycarbonate film.

感光材層形成塗布液の塗布量は乾燥時で３９／ｍであっ
た。The coating amount of the photosensitive material layer forming coating liquid was 39/m when dry.

ノ　　　塗　　　組 ポリビニルメチルエーテル無水マレイン酸エステル（Ｇ
、Ａ、Ｆ　　Ｃｏｒｐ製　カントレッツＡＮ１３９）　
　１０％　メチルエチルケトン溶液＝２０重量部 ポリ酢酸ビニル（積木化学製　ニスニールＣ−２）　　
２０％　メチルエチルケトン溶液：２０重伝部 アクリル系樹脂（綜研化学製　Ｌ−４０）２５％　メチ
ルセロソルブ溶液　　：１２重量部塩化パラジウム　０
．１％　メチルセロソルブ溶液　　　　　　　　　　　
　　　：３８ｉ！ｉ１部（ＰｄＣｊｌ　　：濡場１：メ
チルセロソルプ−１：１０：１０００） ４−モルフォリノ−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウムホウフッ化塩（大束化学製　ＤＨ３００８Ｆ４）
　　１０％　メチルセロソルブ溶液２１０重量部 次に、このようにして形成された感光材面と、たて１５
μｍ、よこ５μｍのドツトをピッチ１５μｍで並んだ列
を列間ピッチ２０μ扉の配列でネガティブにパターニン
グしたフォトマスクのマスク面とを密着させ、フォトマ
スク側から長高圧水銀打（３ｋｗ、距離１ｍ）で１０秒
間露光した。この際使用したフォトマスクパターンはフ
ォトエツチング法で得た。その作製は、ガラス板上にＣ
「薄膜をスパッタリング法により作製した上にフォトレ
ジスト（シラプレー製ＡＺ１３５０）を塗布し乾燥した
表面に、位置制御したＸＹステージ上でＨｅ−Ｃｄレー
ザーをビーム径２μｍに絞って照射した。これにより、
たて１５μ卯、よこ５μｍのドツトをピッチ１５μｍで
並んだ列を列　′問ピッチ２０μｍの配列で形成し、さ
らに、レジスト現像液（シラプレー製）で処理し、１３
０℃２５分間加熱処理した後、塩化第二鉄液にてエツチ
ングして、ドツト部が光通過性となるパターンを得た。Coated with polyvinyl methyl ether maleic anhydride (G
, A, F Corp Cantolets AN139)
10% methyl ethyl ketone solution = 20 parts by weight polyvinyl acetate (Made by Block Chemical Co., Ltd. Nisneel C-2)
20% Methyl ethyl ketone solution: 20 parts acrylic resin (Soken Chemical L-40) 25% Methyl cellosolve solution: 12 parts by weight Palladium chloride 0
．． 1% methyl cellosolve solution
:38i! i1 part (PdCjl: wet area 1: methyl cellosolp-1:10:1000) 4-morpholino-2,5-dibutoxybenzenediazonium borofluoride salt (Otsuka Kagaku DH3008F4)
210 parts by weight of 10% methyl cellosolve solution Next, the surface of the photosensitive material thus formed and the vertical 15
A row of dots 5 μm wide and 5 μm wide with a pitch of 15 μm is brought into close contact with the mask surface of a photomask that has been negatively patterned with a 20 μm pitch between the rows, and a long high-pressure mercury strike is applied from the photomask side (3 kW, distance 1 m). was exposed for 10 seconds. The photomask pattern used at this time was obtained by photoetching. Its fabrication consists of C
"A thin film was prepared by sputtering, a photoresist (AZ1350 manufactured by Silapray) was coated, and the dried surface was irradiated with a He-Cd laser focused to a beam diameter of 2 μm on a position-controlled XY stage.As a result,
A row of dots of 15 μm vertically and 5 μm horizontally arranged at a pitch of 15 μm was formed, and then treated with a resist developer (manufactured by Silapray).
After heat treatment at 0° C. for 25 minutes, etching was performed with a ferric chloride solution to obtain a pattern in which the dot portions were transparent to light.

次いで上記のようにしてパターン露光された感光材層を
下記組成の処理液（Ａ）、（Ｂ）にこの順序でそれぞれ
６０秒、８０秒浸漬した（処ＩＮ！ｓ度３０℃）。Next, the photosensitive material layer pattern-exposed as described above was immersed in processing solutions (A) and (B) having the following compositions in this order for 60 seconds and 80 seconds, respectively (treatment temperature: 30° C.).

（Ａ）シバニッケル（奥野製薬製） ホウ素系還元剤　　　　：０．５９ 硫酸ニツケル　　　：３．０ｇ クエン酸ナトリウム　　：　　１．０９水　　　　　　
　　　　　　　　　　：　９５゜　５ｇＣＢ）ＴＭＰ化
学ニッケルーＡ。(A) Shiba Nickel (manufactured by Okuno Pharmaceutical) Boron-based reducing agent: 0.59 Nickel sulfate: 3.0g Sodium citrate: 1.09 Water
: 95° 5gCB) TMP chemical nickel-A.

ＴＭＰ化学ニッケルー８の１対１！！合液硫酸ニッケル
　　　　　：９．０９ 次亜リン酸ナトリウム　：　　７．ＯｇＮＨ水溶液（２
８％）：　６゜５９ クエン酸ナトリウム　　：１０゜０ｇ 水　　　　　　　　　　　　　　　　　：６７．５９し
かる後、水洗、乾燥して、光透過部と遮光部に相当する
黒色のポジティブパターンとを有する第１記録層を得た
。TMP chemical nickel-8 1:1! ! Combined liquid nickel sulfate: 9.09 Sodium hypophosphite: 7. OgNH aqueous solution (2
8%): 6゜59 Sodium citrate: 10゜0g Water: 67.59 After that, it was washed with water and dried to obtain a first recording layer having a light transmitting area and a black positive pattern corresponding to a light shielding area. Ta.

上記のようにしてパターニングされた記録層上にＴｅ　
−Ｃｕ−Ｐｂ合金（スパッタターゲット組成比　モル比
　８０：１５：５）をスパッタリングして第２記録層が
形成された光記録材料を得た。Te is deposited on the recording layer patterned as described above.
An optical recording material in which a second recording layer was formed was obtained by sputtering a -Cu-Pb alloy (sputter target composition ratio molar ratio 80:15:5).

このとき、Ｔｅ　−Ｃｕ　−Ｐｂ　’ｆｉｌｌＡは記録
層の周辺縁部に形成しなかった。At this time, Te-Cu-Pb'fillA was not formed at the peripheral edge of the recording layer.

一方、カード基材は以下の様に作製した。まず、白色硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ２００μｍ）の両面に文字図案
のパターンをスクリーン印刷法により設け、別に透明硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ１００μｍ）の片面一部に磁気
記録層を巾６．５１１１１で設けた。その裏面と上記印
刷済みの白色ポリ塩化ビニルとを重ねて、ステンレス板
二枚にはさみプレス機にて１４０℃３０分間加熱加圧し
てカード基材を得た。On the other hand, a card base material was produced as follows. First, a character pattern was formed on both sides of a piece of white hard polyvinyl chloride (thickness 200 μm) using a screen printing method, and a magnetic recording layer with a width of 6.51111 mm was separately formed on a part of one side of a piece of transparent hard polyvinyl chloride (thickness 100 μm). It was established in The back surface and the printed white polyvinyl chloride were stacked on top of each other and placed between two stainless steel plates and heated and pressed at 140° C. for 30 minutes using a scissors press to obtain a card base material.

上記のようにして作成した光記録材料とカード基材を光
記録材料の第二記録層とカード基材の白色ポリ塩化ビニ
ル面（印刷面）とを、接着剤であるウレタン系樹脂（ア
ルプス化学産業アルポンＥＬＪ−４２００１，ＥＨＵ４
２００の混合比１０対１）を介して重ね合わせ、ロール
などにより圧着した。２４時間放置後打ち扱き金型によ
り打扱き光カードを得た。The optical recording material and card base material created as described above are bonded to the second recording layer of the optical recording material and the white polyvinyl chloride surface (printing surface) of the card base material. Industrial Alpon ELJ-42001, EHU4
200 with a mixing ratio of 10:1) and pressed together using a roll or the like. After standing for 24 hours, a punched optical card was obtained using a punching mold.

友直且−ユ 実施例１と同様にして得られたバターニングされた第１
記録層上にバーコードによりメラニン系樹１１（大日本
インキ化学工業　タフコート１１２）を塗布し、１２０
℃、３分間加熱処理してバリヤ一層＜ｙｔａ厚３μｍ）
を形成した。次に、Ｔｅ　−ｃｕ−ｐｂ金合金スパッタ
ターゲット組成比　モル比　８０：１５：５）をスパッ
タリングして第２記録層が形成して光記録材料を得た。Tomonao-Yu Buttered first product obtained in the same manner as in Example 1
Melanin-based tree 11 (Dainippon Ink & Chemicals, Toughcoat 112) was applied on the recording layer using a barcode, and 120
℃ for 3 minutes to form a barrier layer <yta thickness 3 μm)
was formed. Next, a second recording layer was formed by sputtering a Te-cu-pb gold alloy sputtering target composition ratio (molar ratio: 80:15:5) to obtain an optical recording material.

この際Ｔｅ　−Ｃｕ　−Ｐｂ　１ｍｌは記録層の周辺縁
部に形成しなかった。At this time, 1 ml of Te-Cu-Pb was not formed on the peripheral edge of the recording layer.

以下実施例１と同様にしてカード基材を作製して、上記
の光記録材料と接着剤を介して貼り合わせて硬化後打抜
き、光カードを得た。Thereafter, a card base material was prepared in the same manner as in Example 1, bonded to the above-mentioned optical recording material via an adhesive, cured, and then punched out to obtain an optical card.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は、本発明の光カードの外観正面図であり、第２
図および第３図は、本発明の一実施例に係る光カードの
断面図である。 １・・・光カード、２・・・光カード基材、２ａ・・・
不透明材料層、２ｂ・・・透明材料層、３・・・光記録
部、３ａ・・・コード化情報記録領域、３ｂ・・・可視
情報記録領域、４・・・接着剤層、５・・・光記録部用
基材、６・・・表面硬化層、７・・・光透過部、８・・
・遮光部、９・・・第１記録層、１０・・・第２記録層
、１１・・・磁気記録層、１２・・・バリヤ一層。FIG. 1 is an external front view of the optical card of the present invention, and FIG.
3 and 3 are cross-sectional views of an optical card according to an embodiment of the present invention. 1... Optical card, 2... Optical card base material, 2a...
Opaque material layer, 2b... Transparent material layer, 3... Optical recording section, 3a... Coded information recording area, 3b... Visible information recording area, 4... Adhesive layer, 5... - Base material for optical recording section, 6... Surface hardening layer, 7... Light transmitting section, 8...
- Light shielding part, 9... First recording layer, 10... Second recording layer, 11... Magnetic recording layer, 12... Barrier layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 情報を光学的に記録し再生することができる光記録部が
設けられた光カードにおいて、前記光記録部がコード化
された情報と可視情報との２種類の情報記録領域を有す
ることを特徴とする光カード。An optical card provided with an optical recording section capable of optically recording and reproducing information, characterized in that the optical recording section has two types of information recording areas: coded information and visible information. A light card.