JPS61137243A - Optical card - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To permit high-density recording and to make difficult the falsification of written information in an optical card provided with an optical recording material and card protective layer in this order on a card base material by providing the optical recording material in such a manner that a thin metallic film layer contacts with the surface of the card base material. CONSTITUTION:All types of materials such as glass and ceramics are usable as the base material 5 for the optical recording material; the glass or plastic film is more preferable in terms of productivity and smoothness. The recording layer 8 is constituted of a light transmittable part 6 and a light shielding part 7. Such recording layer 8 is formed by subjecting, for example, a photosensitive material of which the unexposed part has light transmittance and the exposed part has light shieldability to pattern exposure then to development. The pohotosensitive material is constituted of, for example, a transparent resin as a binder, a photodecomposable development inhibitor having a diazo or azido group and metallic complex or metallic compd. which forms a metallic developing nucleus when reduced. Either a liphophilic or hydrophilic transparent resin is usable for the transparent resin.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は光カードに関し、さらに詳しくは、新規な光記
録材料を有し、高密度の情報を書込むことの可能なＲＯ
Ｍ型（ｒｅａｄ−、ｏｎｌｙ　ｍｅｍｏｒｙ）型光カー
ドに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an optical card, and more particularly to an optical card having a novel optical recording material and capable of writing high-density information.
The present invention relates to an M-type (read-, only memory) type optical card.

〔発明の技術向背（Ｈならびにその問題点〕従来、クレ
ジツ１〜カード、バンクカードなどの　　、カード類に
埋設される記録月利としては、磁気材料が主として用い
られてきた。この磁気）Ａ１′８Ｉは、情報の書込みな
らびに読出しが容易に行イ【えるという利点はあるが、
反面、情報の改憲が容易に行なわれ、しかも高密度記録
ができないという問題点があった。[Technical Prospects of the Invention (H and Problems thereof)] Conventionally, magnetic materials have been mainly used as recording monthly interest rates embedded in cards such as credit cards, bank cards, etc. This magnetic material) A1' Although 8I has the advantage of being able to easily write and read information,
On the other hand, there were problems in that information could be easily amended and high-density recording was not possible.

ところで、上記のような問題点を解決するため、感光材
にパターン露光を施こして、未露光部である光透過部と
露光部である遮光部とを形成することによって、感光材
に情報を書込み、この情報を光透過度の差異によって読
取るようなタイプの光記録材料が提案されている。この
ような光記録材料をカード基材に埋込んでカード用記録
材料として用いようとする場合には、以下のような問題
点がある。By the way, in order to solve the above-mentioned problems, information can be transmitted to the photosensitive material by subjecting the photosensitive material to pattern exposure to form an unexposed light-transmitting area and an exposed light-blocking area. Types of optical recording materials have been proposed in which information is written and this information is read by means of differences in light transmission. When attempting to embed such an optical recording material in a card base material and use it as a recording material for a card, the following problems arise.

（ａ）カード基材は、その表面に種々の印刷を施こＪ−
場合が多く、このためにはカード基材は不透明であるこ
とが好ましい。ところが上記のようイ「光記録月利を埋
込むためには少なくとも基（Ａの一部を光透過性にり−
る必要があり、このこと（，１カードの製造」］著しく
不利にしている。(a) The card base material has various printings on its surface.
In many cases, it is preferred that the card substrate be opaque for this purpose. However, as mentioned above, in order to embed optical recording, at least a part of the base (A) must be made optically transparent.
This makes the production of one card extremely disadvantageous.

（［））上記のような記録材料では、光透過部おにび遮
光部にお１−＋る光透過性の相違を充分大ぎくすること
がｆｆ１ｌｌかしく、しから光透過度の相違により書込
まれた情報を読出そうどする場合には、カード表面の）
りれに大きく左右さｈるという問題点があった。([)) In the above-mentioned recording materials, it is difficult to make the difference in light transmittance of 1-+ between the light-transmitting part and the light-blocking part sufficiently large; (on the front of the card) if you want to read the stored information.
There was a problem in that it was greatly affected by the heat resistance.

このため光透過度の相違による情報の読出１．ではイ１
く、光反！８率の相違、により情報を読出そうどする試
みもある。たとえば、銀粒子をげラヂンマ１−リックス
中に分散し−Ｃなる記録層を右りるカード類が提案され
ている。この記録層への情報の用込みは、レーザビーム
を記録層に照０４シて記録ピッ１へを形成して行なわれ
ている。この記録層はコーディング法により連続的に製
造でき、しかも銀を用いることにＪ：っで広い波長域に
わたって均一な反射率が１ｑられ、種々の波長のシー１
ｆビームを用いた記録再生装置への適用が可能ぐあると
いう利点を有している。しかしながらこの記録層に、写
真的手法で記録を行なう場合には、光反射性と解像性と
を同時に向上させることは困難であり、たとえば現像時
間を長くすると光反射性は向−卜するが、記録部（露光
部）が太る傾向が認められ解像性が低下してしまう。逆
に現像時間を短かくすると解像性は向上するが光反射性
が不充分になってしまうという問題点があった。Therefore, reading information due to differences in light transmittance 1. Then I1
K-Mitsuha! There are also attempts to read out information based on the difference in rate. For example, cards have been proposed in which silver particles are dispersed in a radial matrix and have a -C recording layer. Information is written into the recording layer by shining a laser beam onto the recording layer to form recording pits 1. This recording layer can be manufactured continuously by a coating method, and by using silver, uniform reflectance over a wide wavelength range can be achieved.
It has the advantage that it can be applied to recording and reproducing devices using f-beams. However, when recording is carried out on this recording layer using a photographic method, it is difficult to simultaneously improve light reflectivity and resolution; for example, increasing the development time improves light reflectivity, but , the recorded area (exposed area) tends to become thicker, resulting in a decrease in resolution. On the other hand, if the development time is shortened, the resolution improves, but there is a problem in that the light reflectivity becomes insufficient.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであって、以下のような［１的を有する。The present invention aims to solve the problems associated with these conventional techniques, and has the following [1] objective.

（ａ）高密度記録が可能で、しかも書込Ｊ：れた情報の
改憲が困難である光記録材料を右する光カードを提供す
ること。(a) To provide an optical card that can be used as an optical recording material capable of high-density recording and in which it is difficult to modify the written information.

（ｂ）記録層に書込まれるべぎ情報の一部を、シー１１
ビームの照射によらずパターン露光などの量産可能な方
法により行なうことができ、シＩＣがって製造工程の簡
素化が可能で、しかも大１ｆｉ生産イ１らびにコストダ
ウンが可能な光記録１１石を右Ｊ−る光カードを提供づ
“ること。(b) A part of the information to be written to the recording layer is transferred to the sheet 11.
Optical recording 11 that can be performed by a mass-producible method such as pattern exposure without irradiation with a beam, can simplify the manufacturing process using IC, and can also achieve large 1fi production and reduce costs. Providing a light card to place the stone.

〔発明の１ｌｉｌ要〕 本発明に係る光カードは、カード基材−にに、光記録材
１′＋１とカード保護層とがこの順序に設りられ−Ｃい
る光カードであって、前記光記録材料は、（１１）光記
録材料用基材と、（ｂ）この光記録月利用基材下面に設
【ノられた、光透過部および遮光部からｔ【る記録層と
、（ｃ）この記録層下面に設【ノられた、反射性金Ｊｌ
ｌ　Ｋ？膜層とからなり、この光記録月ｒ＋は、カード
基村上に前記金属薄膜層が接するように設【プられてい
ることを特徴としている。[Summary of the Invention] An optical card according to the present invention is an optical card in which an optical recording material 1'+1 and a card protective layer are provided in this order on a card base material, wherein the optical The recording material includes (11) a base material for optical recording material, (b) a recording layer formed on the lower surface of this optical recording base material and extending from a light transmitting part and a light shielding part, and (c) Reflective gold Jl provided on the bottom surface of this recording layer.
lK? This optical recording device r+ is characterized in that the metal thin film layer is placed on the card base so that it is in contact with the card base.

この光カードに設（）られた光記録材料は、記録層にす
でに情報が書込まれており、記録層に書込まれｌ〔情報
の読出しは、光カードの保護層側から記録再生光を照射
し、反則光の弾痕と位相変化とを関連づりて検出Ｊ゛る
ことによって行なわれる。The optical recording material installed in this optical card has information already written in the recording layer. This is done by correlating and detecting the bullet holes of the reflected light and the phase changes.

〔発明の詳細な説明〕[Detailed description of the invention]

以下本発明に係る光カードを、図面に示Ｊ具体例にＪ：
り説明する。Specific examples of the optical card according to the present invention are shown in the drawings below.
I will explain.

−４一 本発明に係る光カード１は、カードＭ月２上に、光記録
拐料３とカード保護層４とがこの順序で設けられて形成
されている。この光記録材Ｆ１．３は、（ａ）光記録材
料用草月５と、（ｂ）この基材下面に設けられた、光透
過部６および遮光部７からなる記録層８と、（（ｌこの
記録層８下面に設りられた反射性金属薄膜層９とから構
成されており、この光記録材料はカード基材２上に金属
薄膜層９が接するように設けられている。-41 The optical card 1 according to the present invention is formed by providing an optical recording layer 3 and a card protective layer 4 on a card M 2 in this order. This optical recording material F1.3 includes (a) Sogetsu 5 for optical recording material, (b) a recording layer 8 consisting of a light transmitting part 6 and a light shielding part 7 provided on the lower surface of this base material, ((( This optical recording material is provided on the card base material 2 so that the metal thin film layer 9 is in contact with the recording layer 8.

場合によっては、光カード１の表面上に磁気記録層１０
が設けられていてもよい。また、必要によっては、ＩＣ
メモリー、写真、彫刻画像、文字、マーク、インプリン
トと称する浮き出し文字などを、光カードの表面に併設
してもよい。このようにＪ゛ることにより、１枚のカー
ドで種々の再生方式に対応でき、また偽造がより効果的
に防止できる。In some cases, a magnetic recording layer 10 is provided on the surface of the optical card 1.
may be provided. In addition, if necessary, IC
Memory, photographs, engraved images, characters, marks, embossed characters called imprints, etc. may also be provided on the surface of the optical card. By doing so, one card can be used in various playback methods, and counterfeiting can be more effectively prevented.

カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられうる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メヂル４ｆど
のアクリル系重合体、ポリステ１ノン、ポリビニルブチ
ラール、アセデルセルロース、スヂレン／ブクジエン共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ー１〜などが用いられる１、場合によっては、鉄、スー
フンレス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シ
ー１〜、合成紙、紙イγども用いられつる。さらに、」
上記のＪ：う４丁月利の積層体も用いられる。As the card base material 2, any material that can be used as a base material for a normal card can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, acrylic polymers such as polymethacrylate 4f, polyste-1-non, polyvinyl butyral, acedel cellulose, styrene/bucudiene copolymer. , polyethylene, polypropylene, polycarbonate, etc. are used. Depending on the case, metal sheets such as iron, soapless, aluminum, tin, copper, zinc, etc., synthetic paper, paper etc. are also used. moreover,"
The above-mentioned laminate of J: 4-4-monthly is also used.

またカード保護層４どしては、光透過性であるかぎりに
Ｊりいて、通常のカードの保護層（２ｊ−バーシート）
どして用いることのできるあらゆる月利が用いられうる
。具体的には、ポリ塩化ビニル、ポリエヂレンテレフタ
レ−１〜、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスブレ
ン、ポリカーボネ−１〜などのフィルム類が用いられう
る。The card protective layer 4 may be a normal card protective layer (2j-bar sheet) as long as it is optically transparent.
Any monthly rate that can be used may be used. Specifically, films such as polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate-1~, polyethylene, polypropylene, polybrene, polycarbonate-1~, etc. can be used.

光記録４Ａ利３は、（ａ）光記録月利用具材５と、（ｂ
）この草月下面に設りられた、光透過部６おｊ：び連光
部７からなる記録層８と、（ｃ）この記録層８の下面に
設りられた、反射性金属薄膜層９〕とから構成されてい
るが、以下に各層について詳細に説明Ｊる。Optical recording 4A 3 includes (a) optical recording moon usage ingredients 5, and (b
) A recording layer 8 consisting of a light transmitting section 6 and a continuous light section 7 provided on the lower surface of this Sogetsu, and (c) a reflective metal thin film layer provided on the lower surface of this recording layer 8. 9], and each layer will be explained in detail below.

光記録祠料用基祠５としては、ガラス、レラミック、紙
、プラスチックフィルム、ＭＡ　イｌｊ、不織布などな
どあらゆるタイプの月利が用いられうるが、生産性およ
び平滑性の点からガラスあるいはプラスデックフィルム
が好ましい。プラスチックどじでは、セルロース誘導体
、ポリニスデル樹脂、ポリカーボネー１〜樹脂、ビニル
系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリニー
デル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂などを用
いることができ、寸法安定性および平滑性の点からレル
ローストリアセテー１へ、ポリエヂレンテレフタレー１
〜、ポリイミドなどが特に好ましい。これら基材５には
、必要に応じて、コロナ放電処理、プラズマ処理、ブラ
イマー処理イＴどの接着性改良のための前処理をしても
よい。As the base 5 for optical recording material, any type of material can be used, such as glass, relamic, paper, plastic film, MAIJ, non-woven fabric, etc. However, from the viewpoint of productivity and smoothness, glass or plastic material is used. Films are preferred. For plastic binding, cellulose derivatives, polynisder resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyneedle resins, polysulfone resins, polyamide resins, etc. can be used. From the point to Lerlow Striacete 1, polyethylene terephthalate 1
~, polyimide, etc. are particularly preferred. These base materials 5 may be subjected to pretreatment to improve adhesion, such as corona discharge treatment, plasma treatment, and brimer treatment, as necessary.

記録層８は、光透過部６および遮光部７から構成されて
いる。この記録層８は、たとえば未露光部が光透過性ど
く【り露光部が遮光性とイする感光材＝　　７　− をパターン露光し、次いで現像１“ることによって形成
される。場合にＪ一つでは、未露光部が遮光性どなり、
露光部が光透過性となる感光材をパターン露光し次いで
現像することによって、記録層８を形成してもよい。The recording layer 8 is composed of a light transmitting section 6 and a light shielding section 7. This recording layer 8 is formed, for example, by exposing a photosensitive material = 7 - in which the unexposed areas are light transmitting and the exposed areas are light blocking, followed by development 1''. In this case, the unexposed area is light-shielding,
The recording layer 8 may be formed by pattern-exposing a photosensitive material whose exposed areas become light-transmissive, followed by development.

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹脂
、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を右Ｊる光分解性の現
像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核どなる金属
錯化合物または金属化合物から構成されている。この感
光材においては、バインダーとしての透明樹脂１００重
但部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤は１〜１００重量部好ましくは２０〜５
０重量部の搭で存在し、還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物は０．１〜１００重量部好
ましくは１〜１０重吊部の母で存在している。上記の現
像抑制剤、金属♀１１重合化または金属化合物は、バイ
ンダーどしての透明樹脂中に溶解あるいは分散されてい
るが、好ましくは溶解されている。The photosensitive material includes, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodegradable development inhibitor that has a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound that becomes metal development nuclei when reduced. It consists of In this photosensitive material, the amount of a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is 1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the transparent resin as a binder.
The metal complex compound or metal compound that is reduced to become metal development nuclei is present in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight. The above development inhibitor, metal ♀11 polymerization or metal compound is dissolved or dispersed in a transparent resin such as a binder, preferably dissolved.

透明樹脂としては、親油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。親油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリル酸／酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン
／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有Ｊ゛る樹
脂、酢酸セルロースなどの水酸基を右する樹脂、カルボ
ン酸基あるいはスルボン酸基を含む変性耐酸ビニル系樹
脂などが挙げられる。As the transparent resin, either lipophilic or hydrophilic transparent resin can be used. Lipophilic transparent resins include resins with ester groups such as polyvinyl acetate resin, vinyl acetate/acrylic acid ester copolymer resin, acrylic acid/vinyl acetate copolymer resin, ethylene/vinyl acetate copolymer resin, acetic acid Examples include resins containing hydroxyl groups such as cellulose, modified acid-resistant vinyl resins containing carboxylic acid groups or sulfonic acid groups, and the like.

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれら
の親油性透明樹脂に添加することも高感度化のために有
効である。Furthermore, in terms of optical recording properties, it is also effective to add cellulose derivatives such as nitrocellulose, which have the property of deforming in a heat mode, to these lipophilic transparent resins to increase sensitivity.

また、親水性の透明樹脂どしては、ゼラチン、カゼイン
、グル−、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子化
合物、カルボキシメヂルセルロース、卵白アルブミン、
ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ酢酸ビニル）、
ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合
体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水性
樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用可能で
ある。バインダーどじでの親水性透明樹■）１には、こ
の透明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触
させる際に、物理現像液が感光（１層に浸透して物理現
像が可能となる程度の親水性を有づることが好ましい。In addition, hydrophilic transparent resins include natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethylcellulose, egg albumin,
Polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl acetate),
Synthetic resins such as polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and maleic anhydride copolymers are used, but other resins than the above can also be used as long as they are water-soluble or hydrophilic resins. Hydrophilic transparent resin in the binder ■) 1) When a photosensitive material layer is formed using this transparent resin and brought into contact with a physical developer, the physical developer is photosensitive (permeates into one layer and enables physical development. It is preferable to have hydrophilicity to the extent that

にた光記録特性士−ばピー１〜モードで変形し易い性質
のある、二１−１−１セルロースなどの低分子量物をエ
タノール溶解して上記の親水性透明樹脂に添加すること
も有効である。It is also effective to dissolve a low molecular weight material such as 21-1-1 cellulose, which is easily deformed in the Nita Optical Recording Characteristics Mode, in ethanol and add it to the above-mentioned hydrophilic transparent resin. be.

現像抑制剤どじでは、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物どしては
、ジアゾ基を右する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩
、またはこれらの化合物とパラホルムアルデヒドＪ：り
臂られる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体
的には、ｐ−Ｎ。As a development inhibitor, a compound having a diazo group or an azide group is used. The compound having a diazo group is preferably a zinc chloride double salt or a borofluoride salt having a diazo group, or a compound which is a condensation product of these compounds and paraformaldehyde. More specifically, p-N.

Ｎ−ジエヂルアミノベンぜンジアゾニウム塩化並鉛複Ｊ
盆、Ｄ−Ｎ−ニブ−ル−Ｎ−βヒドロ４−シＪデルアミ
ノベンピンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モルフォリ
ノ−２，５〜ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛
複塩、４−モルフォリノ−２゜５−ジブ１−キシベンゼ
ンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−
２，５−ジメトキシベンぜンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、４−（４’−メ１〜キジベンゾイルアミノ）−２，５
−ジエ１〜キシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛″＃塩、
４−（ｐ−トルイルメルカプト シベンぜンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４
′　−メ１〜キシジフェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−
ジアゾ−３−メトキシ−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩
などのジアゾ！Ｊを有するｊん化亜鉛複塩もしくは以上
のＪ：うな塩化亜鉛複塩の代わりに上記のホウフッ化塩
、′ｆＭ酸塩、リン酸塩なども使用できる。N-diedylaminobenzenediazonium lead chloride double J
Bon, D-N-nibur-N-βhydro 4-cyJ delaminobenpine diazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,5-diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2゜5-dibu-1-xybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-
2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(4'-me1-kidibenzoylamino)-2,5
-Die 1~xybenzenediazonium zinc chloride''#salt,
4-(p-tolylmercaptocybenzene diazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4
'-Me1~xydiphenylamine zinc chloride double salt, 4-
Diazo such as diazo-3-methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt! In place of the zinc chloride double salt having J or the above J:zinc chloride double salt, the above-mentioned borofluoride salts, 'fM salts, phosphates, etc. can also be used.

アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、４．４′　−ジアジドカルコン、２、６−ビス
−（４′−アジドベンザル）−アセ１〜ン、２，６−ビ
ス−（４′　−アジドベンザル）−シクロヘキサノン、
２，６−ビス−（４′　−ア一　　１　１　　ー ジドベンザル）−１−メヂルシクロへ一４＝　’Ｊーノ
ン、２、６ービス（４′−アジドスチリル）−アセ１〜
ン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基もしくは
アジド３１を有する限り上記以外の化合物も使用するこ
ともでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド基を
何１」゛る化合物を任意に２種以上ｖ１用して使用する
こともできる。Compounds having an azide group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidechalcone, 2,6-bis-(4'-azidobenzal)-ace1-one, 2,6-bis-(4'- azidobenzal)-cyclohexanone,
2,6-bis-(4'-a-1 1-azidobenzal)-1-medylcyclohe-4='J-non, 2,6-bis(4'-azidostyryl)-ace1~
and azidopyrene can be used. Compounds other than those mentioned above can also be used as long as they have a diazo group or azide 31, and two or more compounds having any number of the above-mentioned diazo or azide groups can also be used. .

イ【おジアゾ基を右Ｊ−る化合物を用いる場合には、こ
の化合物を安定化ざ甘る安定化剤を用いるとにく、有機
カルボン酸や有機スルホン酸がこの安定化剤として用い
ることができ、Ｊ：り実際的にはｐ−１〜ルエンスルホ
ン酸などを用いることが好Ｊｊシい。(i) When using a compound with a diazo group, it is difficult to use a stabilizing agent that will stabilize this compound, but organic carboxylic acids or organic sulfonic acids can be used as the stabilizing agent. In practice, it is preferable to use p-1 to luenesulfonic acid.

次に還元されて金属現像核となる金属♀１１重合化もし
くは金属化合物について説明する。Next, the polymerization of metal ♀11 or the metal compound which is reduced to become metal development nuclei will be explained.

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。First, complex compounds of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used as the metal complex compounds that are reduced and become metal development nuclei, and the ligands that serve as electron donors for these metals are usually Any known material can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（Ｉｆ）塩、ジク
ロロエヂレンジアミンパラジウム（　ＩＴ　）　Ｗ’、
ジクロロ（エチレンジアミン）白金（Ｖ）塩、デトラク
ロロジアンミン白金（ＩＶ）塩、ジクロロビス（エチレ
ンジアミン）白金（ｒＶ）塩、テ１〜ラエヂルアンモニ
ウム銅（Ｉｆ）塩、ビス（エチレンジアミン銅（ｎ）塩
。Bis(ethylenediamine) palladium (If) salt, dichloroethylenediamine palladium (IT) W',
Dichloro(ethylenediamine) platinum (V) salt, detrachlorodiamine platinum (IV) salt, dichlorobis(ethylenediamine) platinum (rV) salt, Te1~raedyl ammonium copper (If) salt, bis(ethylenediamine copper (n) salt .

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２力
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレ−１〜化
剤を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高い
ために好適である。キレート化剤としては第１級、第２
級もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケ
トン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグ
リオキシム、ジチゾン、オキシン、アセチルアセトン、
グリシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、
ウラミル二酢酸などの化合物が用いられる。Furthermore, as a ligand that forms a metal complex, it is recommended to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more points, since the stability of the metal complex that is formed is high. suitable for As a chelating agent, primary and secondary
and tertiary amines, oximes, imines, and ketones; more specifically, dimethylglyoxime, dithizone, oxine, acetylacetone,
glycine, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid,
Compounds such as uramyl diacetic acid are used.

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス（２．
２’　　−ビピリジン）パラジウム（ｎ）塩、ビス（ア
セデルアセトナ−１〜）パラジウム（１１）、ビス（Ｎ
、Ｎ−ジ土ヂルエヂレンジアミン）銅（ＴＩ　）　）ふ
１、ビス（２，２’　　−ビピリジン）銅（ＩＴ）ｊ温
、Ｌ’Ｊ）、　（１、１０−７エナンｈＤすｌ／）　Ｉ
！］　（ＩＦ　）塩、ビス（ジメヂルグリオキシマ−１
−）銅（１ｒ）、ビス（アレチルアレ１〜ナー１〜）銅
（■）、ビス（アセデルアセトナート）白金（ＩＩ＞な
どが好」、しい。Examples using the above chelating agent include bis(2.
2'-bipyridine)palladium(n) salt, bis(acedelacetona-1~)palladium(11), bis(N
, N-di-earthyl-ethylenediamine) copper (TI)) 1, bis(2,2'-bipyridine) copper (IT) j temperature, L'J), (1, 10-7 enane hD sl/ ) I
! ] (IF) salt, bis(dimedylglyoximer-1
-) Copper (1r), bis(arethylacetonate) copper (■), bis(acedelacetonato)platinum (II>, etc.) are preferred.

還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅ａどの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクヂベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金イヱどの塩が好まし
いが、このう１５パラジウムの塩が特に好ましい。Metal compounds that are reduced to give metal development nuclei include metal compounds such as water-soluble salts such as chlorides and nitrates of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper a, and are specifically used in electroless plating. Salts of palladium chloride, silver nitrate, gold hydrogen tetrachloride, etc. contained in the activator solution are preferred, and 15-palladium salts are particularly preferred.

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（
ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑
制剤おＪ：び（ハ））元されて金属現像核となる金属♀
１！重合化または金属化合物は、バインダーとしての透
明樹脂に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗
布に適した粘度である１０〜１０００センチポイズを有
する感光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成
用塗布液は、光記録材料用基材５上に通常０．１〜３０
μｍの膜厚に塗布されて感光材層が形成される。As mentioned above, (a) transparent resin as a binder, (
b) A photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group;
1! The polymerized or metal compound is mixed with a solvent selected depending on the transparent resin used as the binder to form a coating solution for forming a photosensitive material layer having a viscosity of 10 to 1000 centipoise suitable for coating. This coating liquid for forming a photosensitive material layer is usually coated on the substrate 5 for optical recording material with a concentration of 0.1 to 30%.
A photosensitive material layer is formed by coating to a thickness of μm.

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水あるいは水と低級アルコール、ケトン、エー
テルなどの水混和性溶媒との混合溶剤が用いられる。ま
た、親油性透明樹脂を用いる場合には、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどの
低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなど
のケトン類、酢酸エチル、酢酸ロブデルなどのエステル
類、メチルセロソルブなどの極性の高い溶剤が好ましく
用いられる。As a solvent for dissolving the transparent resin as a binder,
Various solvents can be used, but when using a hydrophilic transparent resin, water or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent such as a lower alcohol, ketone, or ether is used. In addition, when using a lipophilic transparent resin, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and lobdel acetate, and polar compounds such as methyl cellosolve are used. High solvents are preferably used.

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制づるため、硬膜処理を行うことが望ましい。When a hydrophilic transparent resin is used, it is desirable to perform a hardening process after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developer during physical development.

硬膜処理は、たどえば下記化合物を感光月形成用塗布液
中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の墨で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光拐層上に塗布Ｊ“ることにより行なうこ
とができる。For hardening treatment, the following compounds are mixed in advance with 0.1 to 50 parts of black ink per 100 parts of transparent resin in a photosensitive moon forming coating solution, or an aqueous solution of the following compounds is already formed. This can be done by coating on the photosensitive layer.

カリ明パン、アンモニウム明パンなどのへρ化合物；ク
ロム明パン、硫酸クロム＜ＺどのＯｒ化合物：ホルムア
ルデヒド、グリオキリ゛ル、グルタルアルデヒド、２−
メチルグルタルアルデヒド、リークシナルデヒドなどの
アルデヒド類；Ｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、
シクロヘキリーン＝１．２−ジオン、シフ１コペンタン
ー１，２−ジオン、ジアセチル、２，３〜ペンタンジオ
ン、２゜５−ヘキサンジオン、２，５−ヘキセンジオン
などのジケトンニトリグリシジルイソシアヌル酸塩など
のエポキシド：テトラフタロイルクロリド、４．４′　
−ジフェニルメタンジスルフオニルクロリド、４．４’
　　−ジフェニルメタ、ンジスルフＡニルクロリドなど
の酸無水物；タンニン酸、没食子酸、２，４−ジクロロ
−６−ヒドロキシ−８−トリアジン、ならびに一般式Ｒ
２ＮＰＯｘ２、Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ’　　（ここでＲは
炭素２へ・６のアルキル基、Ｒ′は（ｃＨ）　　Ｎ＋　
（ｃＩ−１３）３Ｘ１、ＸはＦまたはＣｊｌ、ｎは１ま
たは２）で表わされるリン化合物またはカルボジイミド
：スチレン／マレイン酸共重合体、ビニルピロリドン／
マレイン酸共重合体、ビニルメチルエーテル／マレイン
酸共重合体、■チレンイミン／マレイン酸共重合体、メ
タクリル酸／メタクリロニトリル共重合体、ポリメタク
リルアミド、メタクリル酸エステル共重合体などの樹脂
類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、乳酸、クエン酸
、アスパラギン酸、グルコール酸、酒石酸など。Hemp compounds such as potassium light bread and ammonium light bread; chromium light bread, chromium sulfate <Z and other Or compounds: formaldehyde, glyocyl, glutaraldehyde, 2-
Aldehydes such as methylglutaraldehyde and liquenaldehyde; O-benzoquinone, p-benzoquinone,
Diketone nitriglycidyl isocyanurates such as cyclohexylene=1,2-dione, Schiff 1-copentane-1,2-dione, diacetyl, 2,3-pentanedione, 2゜5-hexanedione, 2,5-hexenedione, etc. Epoxide: Tetraphthaloyl chloride, 4.4'
-diphenylmethane disulfonyl chloride, 4.4'
- acid anhydrides such as diphenylmeth, disulfanyl chloride; tannic acid, gallic acid, 2,4-dichloro-6-hydroxy-8-triazine, and general formula R
2NPOx2, R-N=C=N-R' (where R is an alkyl group at carbon 2/6, R' is (cH) N+
(cI-13) Phosphorus compound or carbodiimide represented by 3X1, X is F or Cjl, n is 1 or 2): styrene/maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone/
Resins such as maleic acid copolymer, vinyl methyl ether/maleic acid copolymer, ■ tyreneimine/maleic acid copolymer, methacrylic acid/methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, methacrylic acid ester copolymer, Glutaric acid, succinic acid, malic acid, lactic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, etc.

このようにして、光記録材料用基材５上に設けられた感
光４４層をパターン露光し、次いＣ′現像して、未露光
部である光透過部６おにび露光部である遮光部７とから
なる記録層８を形成する。パターン露光は、たとえばホ
トマスクなどのマスクを介して行なうことができる。In this way, the 44 photosensitive layers provided on the base material 5 for optical recording materials are pattern-exposed, and then C' is developed. A recording layer 8 consisting of portions 7 is formed. Pattern exposure can be performed, for example, through a mask such as a photomask.

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部７を形成ηることもできる。Alternatively, the light shielding portions 7 can be formed in a pattern by condensing the irradiation light into a beam and irradiating it directly onto the photosensitive material layer.

記録層８における光透過部６おＪ：び遮光部７によりも
たらされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を読
取る際に、［・ラッキングおにびブレフォーマツ１〜と
しての働きをしている。The image information provided by the light transmitting portions 6 and 7 in the recording layer 8 functions as the information itself or as a racking device 1 when reading the information.

感光材層におｔ−Ｊる露光部では、ジアゾ基またはアジ
ド基を右Ｊる光分解性の現像抑制剤は、露光部に応じて
分解されて潜像が形成される。In the exposed area of the photosensitive material layer, the photodegradable development inhibitor containing a diazo group or an azide group is decomposed depending on the exposed area to form a latent image.

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しつる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。As the light source used for exposure, any light source that can decompose a compound having a diazo group or an azide group can be used, and an ultra-high pressure mercury lamp is usually preferably used.

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を右づる化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。イｒ
お未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像
抑制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触し
ても金属現像核は発生せずそのまま光透過部どして残存
して・いる。A latent image formed by decomposition of a compound having a diazo group or an azide group by pattern exposure as described above is brought into contact with an aqueous reducing agent solution to generate metal development nuclei. Ir
In the unexposed area, the development inhibitor having a diazo group or azide group is not decomposed, so even when it comes into contact with the reducing agent aqueous solution, metal development nuclei are not generated and remain as they are in the light-transmitting area. .

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、Ｉｉ
ｉ！Ｉ酸第１スズ、水素化ホウ素す１〜リウム、ジエチ
ルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、１〜リメヂル
アミンボラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボ
ラン、メチルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジ
ンなどが用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液
、硫酸第１スズ溶液（ｗｃｉｓｓ液）あるいは市販の無
電解メッキ用のセンシタイザ−液（２とが特に好ｊｊシ
いが、一般には、強力な還元剤であればすべて使用でき
る。The reducing agent used at this time is stannous chloride, Ii
i! Stannous I acid, 1-lithium borohydride, diethylamine borane, diethylamine borane, borazane compounds such as 1-rimedylamine borazane, borane compounds such as borane, diborane, methyldiborane, hydrazine, etc. are used. . Among these, acidic stannous chloride solution, stannous sulfate solution (WCISS solution), and commercially available sensitizer solution for electroless plating (2) are particularly preferred, but in general, any strong reducing agent may be used. All can be used.

次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
４が形成される。Next, when the metal development nuclei thus obtained are brought into contact with a physical developer, the metal contained in the physical developer is reduced and precipitated around the metal development nuclei, forming the light-shielding portion 4. be done.

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩おにび還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used at a low temperature or in a heated state if necessary.

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバルト
、鉄およびクロムなどのＶＩｂ族金属、銅などのＩｂ族
金属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。ま
た一旦銅塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫酸錫
で置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得るこ
とも可能である。これらの中でも安全性、保存性を考慮
するとニッケル、銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異な
り原料のｉｌ１度、メッキ安定化剤などから少量の異種
金属やリン、イオ゛つなどの元素が混入することはあり
得るが、特に光記録材料としての特性に影響を与えるも
のではない。As the reducible metal salt, water-soluble salts of group VIb metals such as nickel, cobalt, iron and chromium, and group Ib metals such as copper are used alone or in combination. It is also possible to obtain a tin or tin/copper metal layer by performing physical development with a copper salt solution and then performing displacement plating with stannous chloride or tin sulfate. Among these, nickel, copper, and tin are preferred in consideration of safety and preservability. However, unlike vapor deposition, it is possible for small amounts of foreign metals, phosphorus, iodine, and other elements to be mixed in from the raw material's 1°C illumination and plating stabilizers, which particularly affect the properties of the optical recording material. isn't it.

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。Specifically, the following are used as suitable water-soluble reducible metal salts.

塩化第一］パル１〜、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄
、塩化第一鉄、臭化第ニクロム、ヨウ化第ニクロム、塩
化第二銅などの重金属ハライド；硫酸ニッケル、硫酸第
一鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第ニクロム、硫酸第二銅
などの重金属硫酸塩；硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝酸
第一コバルト、硝酸第ニクロム、硝酸第二銅などの重金
属硝酸塩；フェラスアセテート、コバルタスアセテ−１
〜、クロミックアセテ゛−ト、キュープリツクフオルメ
−１・などの金属の有機酸塩。Heavy metal halides such as Pal 1~, cobalt iodide, ferrous bromide, ferrous chloride, nichrome bromide, nichrome iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous sulfate Heavy metal sulfates such as iron, cobaltous sulfate, dichromic sulfate, cupric sulfate; heavy metal nitrates such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, dichromic nitrate, cupric nitrate; ferrous acetate, cobaltus acetate-1
~, organic acid salts of metals such as chromic acetate and Cuprick's Formation 1.

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば１０
〜１００ｇ／ｆＪの皐で含まれることが好ましい。These reducible heavy metal salts are contained in a physical developer solution, for example, 10
Preferably, the content is 100 g/fJ.

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボーラザン、ボラザン、ボラジン、ｔ−ブチ
ルアミンボラザン、ピリジンボラン、２．６−ルチシン
ボラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン
、ジメチルホスフィンボラン、フェニルホスフィンボラ
ン、ジメチルアルシンボラン、フェニルアルジンボラン
、ジメヂルスチビンボラン、ジエヂルスチビンボラン４
ｒどが使用できる。Examples of reducing agents include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamineborane, borane, diborane, methyldiborane, diborazane, borazane, borazine, t-butylamineborazane, pyridineborane, 2,6-rutisineborane, ethylenediamineborane, hydrazinediborane, dimethylphosphineborane, phenylphosphineborane, dimethylarsineborane, phenyl Alginborane, Dimedylstibineborane, Diedylstibineborane 4
r can be used.

これらの）■元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１
〜５０ｙ／、ｆｌの量で用いられることが好ましい。These (1) base agents are added to the physical developer at a concentration of, for example, 0.1
It is preferably used in an amount of ~50y/fl.

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成−りる重金属イオンが水酸化物どして沈澱する
のを防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカル
ボン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸；
コハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、
酒石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖
酸、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の
一種又は二種以上を含まゼることができる。これら錯塩
化剤は、物理現像液中にたとえば１〜１００ｇ／、Ｑの
量で用いられることが好ましい。In order to prevent heavy metal ions produced by dissolving the above-mentioned reducible heavy metal salts from precipitating as hydroxides, the physical developer contains, for example, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, malic acid, Hydroxycarboxylic acids such as lactic acid;
Succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid,
One or more complexing agents consisting of organic carboxylic acids such as tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acid, and quinic acid can be included. These complex chloride forming agents are preferably used in an amount of, for example, 1 to 100 g/Q in the physical developer.

ざらに、物理現像液には、現像液の保存性おＪ：び操作
性ならびに得られる画像の質を改善するために、酸ａ３
よび塩基などのｌ）　ｌ−１調節剤、緩衝剤、防腐剤、
増白剤、界面活性剤などが常法に従い必要に応じて添加
される。In general, acid A3 is added to the physical developer in order to improve the shelf life and operability of the developer as well as the quality of the resulting images.
and bases, etc. l-1 regulators, buffers, preservatives,
Brighteners, surfactants, etc. are added as necessary according to conventional methods.

この添加剤のうち、アンモニア系でｐＨを上げると特に
感光材表面に光沢が得やすくなるためｐｌ」調節剤とし
てアンモニウム塩、またはアンモニウム塩とアンモニア
とからなるｐＨ調節剤を用いることが特に好ましい。Among these additives, it is particularly preferable to use an ammonium salt, or a pH adjuster consisting of an ammonium salt and ammonia, as the PL adjuster, since raising the pH with an ammonia-based additive makes it easier to obtain gloss on the surface of the photosensitive material.

また、物理現像は、次亜リン酸す１〜リウム還元剤を用
いた６５℃から９０℃の高温ニッケルメッキ浴または同
メッキ浴中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際
得られた画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の
水溶液で５分間稈瓜処理づ−ることにＪ：り光透過部の
透明樹脂を一部選択的に除去することもできる。The physical development may also be carried out under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath at 65° C. to 90° C. using a mono-lithium hypophosphite reducing agent or the same plating bath. It is also possible to selectively remove a portion of the transparent resin in the light-transmitting area by subjecting the image obtained at this time to a rind treatment for 5 minutes with an aqueous solution of 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid, for example. .

また、感光材としては、上ｊ」ｉのにうな透明樹脂、現
像抑制剤、金属錯化合物なたは金属化合物からなる系の
ほかに、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商
標）などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジ
アゾニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバ−
フィルム（登録商標）、Ｐ［ｌプロセス（０録商標）材
料などに代表され＝　　２３　− るジアゾ系材料、（ニ）アクリル七ツマ−、ポリビニル
ケイ皮酸などに代表される光重合型光橋かＵ型のフＡト
ボリマー系材料（ホ）トナー像を形成するＣｄＳ、Ｚｎ
Ｏ、ポリビニルカルバゾールなどの電子写真感光体ある
いはその転写体、くべ）フロスト像を形成するサーモプ
ラスヂックス電子写真感光体などの電子写真系材料、（
ト）ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ系、（ヂ）ダイ
ラックス（登録商標）コバルト錯体とロイコ染料との組
合せ系、（す）シュウ酸第二酸と鉄塩との組合せ系、（
ヌ）スピロピラン、モリブデンタングステン化合物など
の顔料または色素の画像を形成するＩＪ　Ｉｔなどが用
いられうる。In addition to transparent resins, development inhibitors, metal complex compounds, or metal compounds as described above, photosensitive materials include (a) silver halide, dry silver (registered trademark), etc. Silver salt-based materials represented by organic silver salts, (b) combination systems of diazonium salts and couplers, (c) carba-
Film (registered trademark), diazo materials such as P[l process (0 registered trademark) materials, etc., photopolymerizable photobridges such as (d) acrylic nitrate, polyvinyl cinnamic acid, etc. CdS, Zn that forms a U-shaped toner image
O, electrophotographic photoreceptors such as polyvinyl carbazole or their transfer materials, electrophotographic materials such as thermoplastics electrophotographic photoreceptors that form frost images, (
g) Combination system of leuco dye and carbon tetrabromide, (d) Combination system of Dylux (registered trademark) cobalt complex and leuco dye, (S) Combination system of dioxalic acid and iron salt, (
n) IJIt, which forms images of pigments or dyes such as spiropyran and molybdenum tungsten compounds, can be used.

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することにＪ
：って、光透過部分ど遮光部分とからなる記録を行ない
うるにうな感光材であれば使用できる。Among the above-mentioned photosensitive materials, some types have light-shielding properties in exposed areas and light-transmitting properties in unexposed areas, while others have light-transmitting properties in exposed areas and light-blocking properties in unexposed areas. . In any case, develop as necessary after exposure.
: Any photosensitive material can be used as long as it can perform recording consisting of a light-transmitting part and a light-blocking part.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられつる。The light used to irradiate such a photosensitive material includes ultraviolet rays, visible light, infrared rays, X-rays, and electron beams.

次に、上記のようにして形成された、光透過部６および
遮光部７とからなる記録層８上に、反射性金属簿膜層９
を形成する。Next, a reflective metal recording film layer 9 is placed on the recording layer 8 formed as described above and consisting of the light transmitting part 6 and the light shielding part 7.
form.

反射性金属薄膜層は、Ｃｒ、　Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ
、Ｃｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａ、Ｑ　、Ｍｑ。The reflective metal thin film layer is made of Cr, Ti, Fe, Co, Ni.
, Cl, Ag, Au, Ge, A, Q, Mq.

Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂ　ｉ、Ｓｎ。Sb, Te, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn.

Ｓｅ、ＩｎＸＧａ、Ｒ，ｂなどの金属を単独もしくは２
種以上組合せて用いて形成される。Metals such as Se, InXGa, R, b, etc. alone or in combination
Formed by combining more than one species.

Ａｎ　、Ｎ　ｉ、ＡＧ、Ａｌｌなどの特に光反射性に優
れた金属あるいは合金により反射性金属薄膜層を形成す
ることが好ましい。It is preferable to form the reflective metal thin film layer using a metal or alloy having particularly excellent light reflectivity, such as An, Ni, AG, and All.

このような反射性金属薄膜層を記録層上に形成するには
、上記のような金属あるいは合金を準備し、これをスパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング法、
電気メツキ法などの従来既知の方法によって記録層上に
成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の膜厚は、２０
０〜１０００八であることが好ましい。場合によっては
、上記金属からなる多層膜たとえば［ｎ膜とｌ−ｅ膜と
の多層ＩＱも反射性金属薄膜として用いられる。また、
−に記金属と有機化合物または無機酸化物との複合物た
とえばＴｅ　−Ｃｌ−１４、Ｔｅ　−Ｃ８２、Ｔｅ　−
スブレン、Ｓ　ｎ　　Ｓ　０２　、Ｇ　ｅ　Ｓ　−Ｓ　
ｒｌ、Ｓ「）Ｓ−８などの薄膜あるいは５ｉｎ２／Ｔｉ
／Ｓ　！　０２　／　Ａ　ＩＩなどの多層膜も反躬性金
ｆｔ１．薄膜として用いられうる。In order to form such a reflective metal thin film layer on the recording layer, the above-mentioned metal or alloy is prepared and then sputtered, vacuum evaporated, ion blasted, or
The film may be formed on the recording layer by a conventionally known method such as electroplating. The thickness of this reflective metal thin film layer is 20
It is preferable that it is 0-10008. In some cases, a multilayer film made of the above-mentioned metals, such as a multilayer IQ of an n film and a le film, is also used as a reflective metal thin film. Also,
-Composites of metals and organic compounds or inorganic oxides such as Te-Cl-14, Te-C82, Te-
Soubren, S n S 02 , G e S -S
rl, S'') Thin film such as S-8 or 5in2/Ti
/S! Multilayer films such as 02/A II also contain repellent gold ft1. It can be used as a thin film.

さらに、シアニンなどの色素を凝集さけて光反用竹−を
りえた厄Ｉ膜、二１ヘロセルロース、ポリスチレン、ポ
リエチレンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの
金属粒子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂
の表面に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反
射性金属薄膜として用いられうる。In addition, there is a film made of light-resistant bamboo that avoids agglomeration of pigments such as cyanine, a film in which pigments or metal particles such as silver are dispersed in a thermoplastic resin such as 21 helocellulose, polystyrene, or polyethylene; Alternatively, a reflective metal thin film in which dyes or metal particles are aggregated on the surface of this thermoplastic resin can be used.

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化Ｊ−る、Ｔｅ酸化物、ｓｂ酸化物
、ＭＯ酸化物、Ｇｅ酸化物、■酸化物、Ｓｍ酸化物、あ
るいはＴｅ酸化物−Ｑｅ、１ｅ−３ｎなどの化合物が、
反射性金属薄膜どして用いられうる。Furthermore, irradiation with an energy beam causes a phase transition and its reflectance changes. Te oxide, sb oxide, MO oxide, Ge oxide, Compounds such as -Qe, 1e-3n,
It can be used as a reflective metal thin film.

また、カルコーゲンあるいは発色型のＭ２Ｏ３−ＣＬＩ
、ＭＯ○３−３ｎ−Ｃｕが反射性金属薄膜どして用いら
れ、場合によっては泡形成型の有機薄膜と金属薄膜との
多層体も反則性金属薄膜どして用いられうる。In addition, chalcogen or colored M2O3-CLI
, MO○3-3n-Cu are used as the reflective metal thin film, and in some cases, a multilayer body of a bubble-forming organic thin film and a metal thin film can also be used as the nonconforming metal thin film.

さらに光磁気記録月利であるＧｄ　Ｃｏ、ＴｂＣｏ、Ｇ
ｄＦｅ、ＤＶＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ。Furthermore, the monthly interest rate of magneto-optical recording Gd Co, TbCo, G
dFe, DVFe, GdTbFe.

ＧｄＦｅＢ１　、ＴｂＤＶＦｅ、ＭｎＣｕＢ１　、ｌ、
ｒども反射性金属薄膜として用いられうる。GdFeB1, TbDVFe, MnCuB1, l,
It can also be used as a reflective metal thin film.

上記のような各種のタイプの反則性金属薄膜を相合せて
用いることも可能である。It is also possible to use a combination of various types of irregular metal thin films as described above.

次に本発明に係る光カードの製造方法について説明する
。Next, a method for manufacturing an optical card according to the present invention will be explained.

まずポリエヂレンテレフタレー１−１白色硬質塩化ビニ
ールなどのカード基材に、光記録材料を埋設するための
凹部を熱プレス法などにより形成し、必要に応じてこの
四部を含めてカード基材表面に接着用ブイマー処理を施
こしておく。First, a concave part for embedding the optical recording material is formed in a card base material such as polyethylene terephthalate 1-1 white hard vinyl chloride using a heat press method, and if necessary, the card base material is made by including these four parts. Apply adhesive boomer treatment to the surface.

次に、上述のようにして形成された光記録材料を、ｊｙ
−ド基材の凹部に嵌込み、片面にたとえば熱接着剤層が
設【ノられた透明ポリカーボネー１〜フィルムを重ね合
せ、９０〜１５０℃程度に加熱された熱定着ロールにて
圧着することにより光カードを製造できる。Next, the optical recording material formed as described above is
- Overlap the transparent polycarbonate films 1 to 1 which have been fitted into the recesses of the base material and have a heat adhesive layer on one side, and press-bond them with a heat fixing roll heated to about 90 to 150°C. Optical cards can be manufactured by

場合にＪ：っては、上述のようにして形成された光記録
材料を予じめ透明ポリ塩化ビニルなどのカード保護層上
に接着剤層を介して貼着させておぎ、次いで、得られた
積層体を予じめ熱プレスなどによって四部が形成された
カード基材上に、光記録材料が四部に嵌込まれるように
して接着剤層を介して重ね合せ、次いで熱ロールにて圧
着することにＪ：っても光カードを製造できる。In the case of J:, the optical recording material formed as described above is adhered in advance to a card protective layer such as transparent polyvinyl chloride via an adhesive layer, and then the obtained The laminate is stacked on a card base material on which four parts have been formed in advance by heat pressing or the like, with an adhesive layer interposed so that the optical recording material is fitted into the four parts, and then pressed with a hot roll. In particular, even J: can produce optical cards.

本発明に係る光カードに書込まれた情報の読出しは、反
射性金属薄膜層を溶融ざぜない程度の低エネルギーのエ
ネルギービームあるいは白色光、タングステン光などを
レンズなどを介して光カードの保護層側から光透過部お
よび遮光部からなる記録層ならびに金属薄膜層上に来光
して照射し、反射光の強度と位相変化とを関連づ（Ｊて
検出することによって行なわれる。To read the information written on the optical card according to the present invention, a low-energy energy beam, white light, tungsten light, etc. that does not melt the reflective metal thin film layer is transmitted through a lens or the like to the protective layer of the optical card. This is carried out by irradiating light onto the recording layer and the metal thin film layer, which are made up of a light transmitting part and a light shielding part, from the side, and detecting the intensity and phase change of the reflected light in relation to each other.

記録層における遮光部は、前述のように金属規像核を中
心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形成さ
れているため、この遮光部に読出し用照射ビームが照射
されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射率は
小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあまり吸収
されずに反射性金属薄膜層に達するため、この光透過部
にお（プる反射率は大きい値となる。As mentioned above, the light-shielding area in the recording layer is formed with metal precipitated around the metal image nucleus and has a color close to black, so when this light-shielding area is irradiated with the readout irradiation beam, , the irradiation beam is absorbed in this part and the reflectance becomes small. On the other hand, in the light transmitting part, the irradiation beam reaches the reflective metal thin film layer without being absorbed much by the irradiation beam, so the reflectance of the light transmitting part becomes a large value.

このようにして、記録層にお【プる遮光部と光透過部と
の反射率の相違を位相変化と関連づけて読取ることによ
って、本発明に係る光カードに書込まれた情報を読出す
ことができる。In this way, information written on the optical card according to the present invention can be read by reading the difference in reflectance between the light-shielding part and the light-transmitting part in the recording layer in association with the phase change. I can do it.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に係る光カードは、感光材層からなる記録層およ
び反射性金属薄膜層を含む光記録材料を有するので、以
下のような効果を有する。Since the optical card according to the present invention has an optical recording material including a recording layer made of a photosensitive material layer and a reflective metal thin film layer, it has the following effects.

（ａ）磁気記録材料と比較して、はるかに高密度記録が
可能で、しかも書込まれた情報の改悲が名しく困ｆｆ１
１１である。(a) Compared to magnetic recording materials, much higher density recording is possible, and it is difficult to revise written informationff1
It is 11.

（ｂ）光記録月利に書込まれた情報を、光反！Ｊ４率の
相違に基いて読出Ｊことができる。(b) The information written on the optical recording monthly interest rate can be transferred to the optical record! Reading can be performed based on the difference in the J4 rate.

（ｃ）光記録月１１の記録層への情報の川込みを、レー
ザビームの照射によらず、パターン露光などの量産可能
な方法により行ないうる。(c) Information can be transferred to the recording layer of the optical recording layer 11 by a mass-producible method such as pattern exposure without laser beam irradiation.

（ｄ）感光材として、透明樹脂、現像抑制剤、金属錯化
合物または金属化合物から４する系を用いる場合には、
明室での操作が可能となる。(d) When using a transparent resin, a development inhibitor, a metal complex compound, or a metal compound as a photosensitive material,
It can be operated in a bright room.

以下本発明を実施例ににり説明覆るが、本発明は実施例
に限定されるものではない。The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to the Examples.

実施例 まず、光カード中に埋設される光記録月利を以下のよう
にして製造しｌＪｏ 下記組成の感光材層形成用塗布液を調整し、これを膜厚
１８８μｍのポリエステルフイルム（ルミラー＃１００
、東し製造）にワイヤーへ−＃３６を用いて塗布し、８
０℃のオーブンで乾燥し、膜厚４μｍの感光拐層を形成
した。Example First, an optical recording medium to be embedded in an optical card was manufactured as follows. A coating solution for forming a photosensitive material layer having the following composition was prepared, and this was applied to a polyester film (Lumirror #100) with a film thickness of 188 μm.
, east manufacturing) to the wire using - #36, 8
It was dried in an oven at 0°C to form a photosensitive layer with a thickness of 4 μm.

感；祠シ杉成用塗イＵ紅裁 アクリル酸／醋酸ビニル共千含）６］脂（］−ポニール
Ｐｃ　−５０Ｍ　（ｌ−ｌ）　、日本合成化学１業製）
２０％エタノール溶液　　　　　：　２０４７４−モル
フＡリノー２，５−ジブＩ〜：１ニジベンげンジアゾニ
ウムホウフッ化塩、（Ｎｏ１１１３　Ｆ　ＬＪ　　レス
ベケミカル製）　１０％Ｍ［１〈溶液　　　　　　　　
　　　　　＝　３．ｏ≦ＩＰｄＣβ　溶液（ＰｄＣ−Ｑ
　　　：８カｊ頷酸：］ニクノ一ルー０．１：５：１０
０）　　　：１０ｇポリエヂレンＡキザイド（ＰＦＯ−
３、製鉄化学製）　１％エタノール溶液　　：　　２．
ｏｑＰ−１〜ルエンスルホン酸　５％エタノール溶液：
　　１．（１ 次に、このようにして形成された感光材面と、「１］脂
μｍのラインを１０μｍピッデス１へライブ状にネガテ
ィブにパターニングしたフ７ＩＩ・マスクのマスク面と
を密着させ、フ−Ａｉ・マスク側から超高圧水銀灯（３
ＫＷ、距鰹１１　ｍ　）　テロ　０秒間露光した。露光
量は、３６５ｎｌｌｌＴ”５０１ｎ、ｔ／ｃｒＡテあっ
た。Sensation; 100% acrylic acid/vinyl acetate) 6] Resin (]-Ponyl Pc-50M (l-l), manufactured by Nippon Gosei Kagaku 1)
20% ethanol solution: 20474-Morph A Rino 2,5-dibu I~: 1 dibenzene diazonium borofluoride salt, (No. 1113 F LJ manufactured by Resbe Chemical) 10% M [1〈solution
= 3. o≦IPdCβ solution (PdC-Q
:8kajnodic acid:]Nikunoichirou 0.1:5:10
0): 10g Polyethylene A Kizide (PFO-
3. Made by Steel Chemical Co., Ltd.) 1% ethanol solution: 2.
oqP-1 ~ Luenesulfonic acid 5% ethanol solution:
1. (1) Next, the surface of the photosensitive material formed in this way is brought into close contact with the mask surface of the F7II mask in which the line of 10 μm of fat is negatively patterned in a live manner to 10 μm of width 1. Ultra-high pressure mercury lamp (3) from the Ai/mask side
KW, distance 11 m) Terrorism Exposure for 0 seconds. The exposure amount was 365nllllT''501n,t/crAte.

次いで」１記のようにしてパターン露光された感光＋Ａ
層を、下記組成の処理液（Ａ）、（Ｂ）にこの順序でそ
れぞれ４０秒、１００秒浸漬した（処理温度２５℃）。Next, the photosensitive +A exposed in a pattern as described in 1.
The layer was immersed in treatment solutions (A) and (B) having the following compositions in this order for 40 seconds and 100 seconds, respectively (treatment temperature: 25° C.).

〔△〕シバニッケル（奥野製薬製） ボウ索系還元剤　　　　　　　　：０．５ｇ硫酸ニッケ
ル　　　　　　　　　：３．０９クエン酸す１〜リウム
　　　　　　　：　　１．０７水　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　：９５．　５ｙ硫酸ニツ
ケル　　　　　　　　　：９．０！ｌ？次亜リン酸す１
〜リウム　　　　　：　　７．ＯｇＮ　＋−１３水溶液
（２８％）　　　　　：６．５ｇクエン酸す１−リウム
　　　　　　：１０．０ｙ水　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　：６７．　５ｙしかる後、水
洗乾燥して、光透過部ど遮光部に相当する黒色のポジテ
ィブパターンとを右づる記録層を得た。[△] Shiba Nickel (manufactured by Okuno Pharmaceutical) Bow cord reducing agent: 0.5g Nickel sulfate: 3.09 Lithium citrate: 1.07 Water
:95. 5y nickel sulfate: 9.0! l? Hypophosphorous acid 1
~Rium: 7. OgN +-13 aqueous solution (28%): 6.5g 1-lium citrate: 10.0y water
:67. After 5 y, the film was washed with water and dried to obtain a recording layer in which the light-transmitting areas and black positive patterns corresponding to the light-shielding areas were arranged on the right side.

この際使用したフォトマスクパターンは、アト−３２＝ レスおよびガイドラインがレイアラ１〜されてなるデー
タが直径５μｍの円形ドラ１〜列どして表わされている
。The photomask pattern used at this time is data in which the address and the guideline are laid out in rows of circular drums 1 to 5 .mu.m in diameter.

上記のようにしてパターニゲされた記録層上に八ρを膜
厚１５００人になる」；うに蒸着して反則性金属薄膜層
を形成して光記録月利を得た。On the patterned recording layer as described above, a non-conforming metal thin film layer was formed by vapor depositing 8 ρ to a film thickness of 1,500 nm to obtain an optical recording medium.

この光記録月利の反則性金属薄膜層には情報を書込まず
、記録層に書込まれた情報を読出すタイプのものである
。This optical recording device is of a type in which no information is written in the irregular metal thin film layer, but the information written in the recording layer is read out.

一方、カード基材としての厚さ４００μｍの白色硬質塩
化ビニルフィルムに熱プレスにて、光記録月利を埋設す
るための四部を形成した。またカード保護層としての厚
さ３００μｍの透明ポリカーボネートフィルム表面に、
熱接着剤（ダイセル化学工業、プラクセルｌ−１−７）
を設【プ、他面はシリコン系表面硬化剤により処理した
。On the other hand, four parts for embedding an optical recording monthly rate were formed on a 400 μm thick white hard vinyl chloride film as a card base material by hot pressing. In addition, on the surface of a 300 μm thick transparent polycarbonate film as a card protective layer,
Thermal adhesive (Daicel Chemical Industries, Plaxel l-1-7)
The other side was treated with a silicone surface hardening agent.

次に、カード基材である白色硬質塩化ビニルの凹部に、
光記録月利を嵌込み、カード保護層を光記録月利が嵌込
まれたカード基材上に接着剤層を介して重ね合わせ、表
面温度１２０℃の熱ロールにて圧着して張り合わけた。Next, in the concave part of the white hard vinyl chloride that is the card base material,
The optically recorded monthly rate was fitted, and the card protective layer was superimposed on the card base into which the optically recorded monthly rate was fitted via an adhesive layer, and the cards were bonded together by pressing with a hot roll at a surface temperature of 120°C.

次に、この光記録材わ１が埋設された光カードに、カー
ド保護層側から、レーリ゛−ダイＡ−ド（７９００人）
のビームを照射して記録層の・遮光部に相当づ−る黒色
囮をガイドラインと（）で円形ドラ１〜列の反射光を読
取ったところ、マスク１ｊ；１坂のデータ入力信号と同
じであることが確認された。Next, a Rayleigh die A (7900 people) was inserted into the optical card in which this optical recording material 1 was embedded from the card protective layer side.
When I irradiated the beam with the black decoy corresponding to the light-shielding part of the recording layer and read the reflected light from the circular drive rows 1 to 1 using the guideline and (), I found that it was the same as the data input signal for the mask 1j; 1 slope. It was confirmed that there is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は、本発明に係る光カードの断面図である。 １・・・光カード、２・・・カード累月、３・・・光記
録材料、４・・・カード保護層、８・・・記録層、９・
・・金属薄膜層。 出願人代理人　　佐　　藤　　−Ｒ１ 手続　７山　正　店　（方式） ％式％ ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 （２８９）大日本印刷株式会社 ４、代　理　人　（郵便番号１００） 昭和６０年１１月６日 （発送日　昭和６０年１１月２６日） ６、補正の対象 図面。The figure is a sectional view of an optical card according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Optical card, 2... Card charge, 3... Optical recording material, 4... Card protective layer, 8... Recording layer, 9...
...Metal thin film layer. Applicant's agent Sato -R1 Procedure 7 Yama Seiten (Method) % formula % 3. Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant (289) Dai Nippon Printing Co., Ltd. 4, Agent (zip code 100) November 6, 1985 (Shipping date: November 26, 1985) 6. Drawings subject to amendment.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] １、カード基材上に、光記録材料とカード保護層とがこ
の順序に設けられている光カードであって、前記光記録
材料は、（ａ）光記録材料用基材と、（ｂ）この光記録
材料用基材下面に設けられた、光透過部および遮光部か
らなる記録層と、（ｃ）この記録層下面に設けられた、
反射性金属薄膜層とからなり、この光記録材料は、カー
ド基材上に前記金属薄膜層が接するように設けられてい
ることを特徴とするＲＯＭ型光カード。1. An optical card in which an optical recording material and a card protective layer are provided in this order on a card base material, the optical recording material comprising (a) a base material for optical recording material, and (b) (c) a recording layer provided on the lower surface of this substrate for optical recording material and consisting of a light transmitting part and a light shielding part; (c) provided on the lower surface of this recording layer;
1. A ROM type optical card comprising a reflective metal thin film layer, and the optical recording material is provided on a card base material so that the metal thin film layer is in contact with the card base material.