JPH0695391B2 - Light card - Google Patents
Light cardInfo
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- JPH0695391B2 JPH0695391B2 JP60051998A JP5199885A JPH0695391B2 JP H0695391 B2 JPH0695391 B2 JP H0695391B2 JP 60051998 A JP60051998 A JP 60051998A JP 5199885 A JP5199885 A JP 5199885A JP H0695391 B2 JPH0695391 B2 JP H0695391B2
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- Japan
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- acid
- layer
- metal
- light
- recording
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光記録部を有するカードに関し、さらに詳
しくは、カードの表裏両面に光記録部を有する光カード
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a card having an optical recording section, and more particularly to an optical card having optical recording sections on both front and back surfaces of the card.
光学的に情報が記録・再生される光記録部を有する光カ
ードは、磁気材料が埋設された磁気カードに比較して、
高密度に情報を記録・再生することができ、しかも、光
記録部の記録寸法が1.5〜50μｍのように微細であるこ
とから、複製して偽造することが容易でないという特徴
を持っている。したがって、光カードは磁気カードに代
ってもしくは磁気記録と併用して、クレジットカード、
バンクカード、キャッシュカード、IDカードなどの種々
のカードに広く利用することができる。An optical card that has an optical recording unit that optically records and reproduces information, compared to a magnetic card in which a magnetic material is embedded,
It has characteristics that information can be recorded / reproduced with high density, and the recording dimension of the optical recording portion is as fine as 1.5 to 50 μm, so that it is not easy to duplicate and forge. Therefore, optical cards can be used in place of magnetic cards, or in combination with magnetic recording, credit cards,
It can be widely used for various cards such as bank cards, cash cards, and ID cards.
しかしながら、例えば、クレジットカードについて日本
工業規格（JIS）で規定されているように、エンボス文
字の寸法・位置、磁気ストライプの位置、および署名部
領域などが詳細に規定されているために、従来の光カー
ドの光記録部は、カードの片面、しかも磁気ストライプ
領域、エンボス部領域、および署名部領域から外れた領
域に設けられているにすぎなかった。However, the size and position of embossed characters, the position of the magnetic stripe, and the signature area, etc. are specified in detail as specified in the Japanese Industrial Standards (JIS) for credit cards. The optical recording portion of the optical card is only provided on one side of the card, and on the magnetic stripe area, the embossing area, and the area outside the signature area.
この発明は上述の問題点を解消するためになされたもの
であり、その目的とするところは光記録部の領域を広げ
てより多くの高密度記録が可能である光カードを提供す
ることである。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an optical card in which the area of an optical recording portion is expanded to enable more high density recording. .
のこ発明者等は、磁気ストライプによる記録・再生、エ
ンボス文字による記録・再生、および署名による記録・
再生が光記録部による記録・再生と異質のものであり、
したがってその記録および再生を重量的に実施できると
いう知見を得た。The inventors of the present invention have performed recording / reproduction with a magnetic stripe, recording / reproduction with embossed characters, and recording / reproduction with a signature.
The reproduction is different from the recording / reproduction by the optical recording unit,
Therefore, it was found that the recording and reproducing can be performed by weight.
すなわち、この発明の光カードは、カードの表側と裏側
のそれぞれに保護層で被覆された光記録部を有すること
を特徴とするものである。That is, the optical card of the present invention is characterized by having an optical recording portion covered with a protective layer on each of the front side and the back side of the card.
この発明の光カードの好ましい態様において、光記録部
を、光透過部分と遮光部分とを有する第１記録層とこの
第１記録層に隣接する金属薄膜の第２記録層とからなる
ものとすることができる。In a preferred embodiment of the optical card of the present invention, the optical recording part is composed of a first recording layer having a light transmitting part and a light shielding part, and a second recording layer of a metal thin film adjacent to the first recording layer. be able to.
この発明における光記録部は、光学的に情報が記録・再
生される領域、さらに具体的には光透過度の相違および
／または光反射率の相違によって情報の書込みおよび読
出しが行なわれる領域である。The optical recording section in the present invention is an area in which information is optically recorded / reproduced, more specifically, an area in which information is written and read by a difference in light transmittance and / or a difference in light reflectance. .
この発明の光カードにおいて、光記録部はカードの表裏
両面に設けられる。例えば、この発明の光カード側の断
面を示す第１図のように、この光カードでは、その一表
面から他の表面へ、表面硬化層４、保護層３、光記録部
（第１記録層2a、第２記録層2b）、接着剤層５、光記録
部（第２記録層2b、第１記録層2a）、保護層３、および
表面硬化層４が積層されている。また、第２図および第
３図に示されるように、文字、図案等がプリントされた
印刷層６を積層することもでき、さらに磁気層７を積層
してもよい。また、必要に応じて、ICメモリー、写真、
彫刻画像、文字、マークなどを光カードの表面もしくは
裏面に設けてもよい。In the optical card of the present invention, the optical recording parts are provided on both front and back surfaces of the card. For example, as shown in FIG. 1 showing a cross section of the optical card side of the present invention, in this optical card, the surface hardened layer 4, the protective layer 3, the optical recording portion (the first recording layer) from one surface to the other surface. 2a, the second recording layer 2b), the adhesive layer 5, the optical recording portion (the second recording layer 2b, the first recording layer 2a), the protective layer 3, and the surface hardened layer 4 are laminated. Further, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, a print layer 6 on which characters, patterns, etc. are printed may be laminated, and a magnetic layer 7 may be further laminated. Also, if necessary, IC memory, photos,
Engraved images, characters, marks and the like may be provided on the front surface or the back surface of the optical card.
以下、上述した光カードの構成部材について詳細に説明
する。Hereinafter, the constituent members of the above-described optical card will be described in detail.
保護層 保護層３としては、光透過性であるガラス、セラミッ
ク、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布などあら
ゆるタイプの材料が用いられうるが、生産性および平滑
性の点からガラスあるいはプラスチックフィルムが好ま
しい。プラスチックとしては、セルロース誘導体、ポリ
エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、
ポリィミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメチルペ
ンテン樹脂、トリアセテートなどを用いることができ、
透明性および平滑性の点から、セルローストリアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリサルホン、ポリメチル
ペンテンなどが特に好ましい。この保護層３に、必要に
応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー処理
などの接着性改良のための前処理をしてもよい。Protective Layer The protective layer 3 may be made of any type of material such as glass, ceramic, paper, plastic film, woven cloth, non-woven cloth, which is transparent to light. However, from the viewpoint of productivity and smoothness, glass or plastic film is used. preferable. Examples of plastics include cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins,
Polyimide resin, acrylic resin, polyether resin, polysulfone resin, polyamide resin, polymethylpentene resin, triacetate, etc. can be used,
From the viewpoint of transparency and smoothness, cellulose triacetate, polyethylene terephthalate, polycarbonate,
Acrylic, polyvinyl chloride, polysulfone, polymethylpentene and the like are particularly preferable. If necessary, the protective layer 3 may be subjected to a pretreatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, or primer treatment for improving the adhesiveness.
第１記録層 第１記録層2aは、光透過部および遮光部から構成されて
いる。この第１記録層2aは、たとえば未露光部が光透過
性となり露光部が遮光性となる感光材をパターン露光
し、次いで現像することによって形成され。場合によっ
ては、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過性とな
る感光材をパターン露光し次いで現像することによっ
て、第１記録層2aを形成してもよい。First Recording Layer The first recording layer 2a is composed of a light transmitting portion and a light shielding portion. The first recording layer 2a is formed, for example, by pattern-exposing a photosensitive material in which the unexposed portion is light-transmissive and the exposed portion is light-shielding, and then developed. In some cases, the first recording layer 2a may be formed by pattern-exposing and developing a photosensitive material in which the unexposed portion becomes light-shielding and the exposed portion becomes light-transmissive.
感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹
脂、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の
現像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物から構成されている。この
感光材においては、バインダーとしての透明樹脂100重
量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤は１〜100重量部好ましくは20〜50重量
部の量で存在し、還元されて金属現像核となる金属錯化
合物または金属化合物は0.1〜100重量部好ましくは１〜
10重量部の量で存在している。上記の現像抑制剤、金属
錯化合物または金属化合物は、バインダーとしての透明
樹脂中に溶解あるいは分散されているが、好ましくは溶
解されている。The photosensitive material includes, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or a metal compound which becomes a metal development nucleus when reduced. It is configured. In this photosensitive material, the photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group is present in an amount of 1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the transparent resin as a binder. The metal complex compound or metal compound reduced to metal development nuclei is 0.1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight.
It is present in an amount of 10 parts by weight. The above-mentioned development inhibitor, metal complex compound or metal compound is dissolved or dispersed in a transparent resin as a binder, but preferably dissolved.
透明樹脂としては、親油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。親油性透明樹脂としては、ポリ
酔酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリル酸／酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン
／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する樹
脂、酢酸セルロースなどの水酸基を有する樹脂、カルボ
ン酸基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系樹
脂などが挙げられる。As the transparent resin, either lipophilic or hydrophilic transparent resin can be used. Examples of the lipophilic transparent resin include polyvinyl acetate resin, vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer resin, acrylic acid / vinyl acetate copolymer resin, ethylene / vinyl acetate copolymer resin, etc. having an ester group, cellulose acetate, etc. And a modified vinyl acetate resin containing a carboxylic acid group or a sulfonic acid group.
また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれら
の親油性透明樹脂に添加することも高感度化のために有
効である。Further, it is also effective for increasing the sensitivity to add a cellulose derivative such as nitrocellulose having a property of being deformed in a heat mode in view of optical recording characteristics to these lipophilic transparent resins.
また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カゼイ
ン、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子
化合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミ
ン、ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ル）、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸
共重合体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし
親水性樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用
可能である。バインダーとしての親水性透明樹脂には、
この透明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接
触させる際に、物理現像液が感光剤層に浸透して物理現
像が可能となる程度の親水性を有することが好ましい。Examples of hydrophilic transparent resins include natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethyl cellulose, ovalbumin, polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl acetate), polyacrylic acid, polyacrylamide. Although synthetic resins such as polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and maleic anhydride copolymers are used, other than the above, as long as it is a water-soluble or hydrophilic resin. For hydrophilic transparent resin as a binder,
When the photosensitive material layer is formed from this transparent resin and brought into contact with the physical developing solution, it is preferable that the physical developing solution has hydrophilicity such that the physical developing solution permeates the photosensitive agent layer and physical development is possible.
また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物質をエタノール
溶解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効で
ある。It is also effective to dissolve a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode in terms of optical recording characteristics, in ethanol and add it to the above hydrophilic transparent resin.
現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とパラホルムアルデヒドより得ら
れる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体的に
は、ｐ−N,N−ジエチルアミノベンゼンアゾニウム塩化
亜鉛複塩、ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチルア
ミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モルフォ
リノ−2,6−ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛
複塩、４−モルフォリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−2,5
−ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−
（４′−メトキシベンゾイルアミノ）−2,5−ジエトキ
シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（ｐ−トル
イルメルカプト）−2,5−ジメトキシベンゼンジアゾニ
ウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４′−メトキシジフェ
ニルアミン塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−３−メトキシ−
ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジアゾ基を有する
塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜鉛複塩の代わ
りに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸塩なども使用
できる。As the development inhibitor, a compound having a diazo group or an azide group is used. As the compound having a diazo group, a zinc chloride double salt or a borofluoride salt having a diazo group,
Alternatively, compounds that are condensation products obtained from these compounds and paraformaldehyde are preferable. More specifically, p-N, N-diethylaminobenzeneazonium zinc chloride double salt, p-N-ethyl-N-β hydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,6-diethoxy Benzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,5-dibutoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5
-Diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-
(4'-Methoxybenzoylamino) -2,5-diethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4- (p-toluylmercapto) -2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'- Methoxydiphenylamine zinc chloride double salt, 4-diazo-3-methoxy-
Instead of the zinc chloride double salt having a diazo group such as diphenylamine zinc chloride double salt or the above zinc chloride double salt, the above-mentioned borofluoride, sulfate, phosphate and the like can be used.
アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、4,4′−ジアジドカルコン、2,6−ビス−（４′
−アジドベンザル）−アセトン、2,6−ビス−（４′−
アジドベンザル）−シクロヘキサノン、2,6−ビス−
（４′−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノ
ン、2,6−ビス（４′−アジドスチリル）−アセトン、
アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する限り上記以外の化合物も使用することもで
き、また、上記したジアゾ基もしくはアジド基を有する
化合物を任意に２種以上併用して使用することもでき
る。Examples of compounds having an azido group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidochalcone and 2,6-bis- (4 '
-Azidobenzal) -acetone, 2,6-bis- (4'-
Azidobenzal) -cyclohexanone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 2,6-bis (4'-azidostyryl) -acetone,
Azidopyrene can be used. Compounds other than the above may be used as long as they have a diazo group or an azido group, and two or more compounds having the above-mentioned diazo group or azido group may be optionally used in combination.
なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルホン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。When a compound having a diazo group is used, it is preferable to use a stabilizer that stabilizes this compound, and an organic carboxylic acid or organic sulfonic acid can be used as this stabilizer. -It is preferable to use toluene sulfonic acid or the like.
次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。Next, a metal complex compound or a metal compound that is reduced to become a metal development nucleus will be described.
まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。First, as a metal complex compound that is reduced to form a metal development nucleus, a complex compound of a metal such as palladium, gold, silver, platinum, or copper is used, and a ligand serving as an electron donor is usually used for these metals. Known ones can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.
ビス（エチレンジアミン）パラジウム（II）塩、ジクロ
ロエチレンジアミンパラジウム（II）塩、ジクロロ（エ
チレンジアミン）白金（Ｖ）塩、テトラクロロジアンミ
ン白金（IV）塩、ジクロロビス（エチレンジアミン）白
金（IV）塩、テトラエチルアンモニウム銅（II）塩、ビ
ス（エチレンジアミン銅（II）塩。Bis (ethylenediamine) palladium (II) salt, dichloroethylenediaminepalladium (II) salt, dichloro (ethylenediamine) platinum (V) salt, tetrachlorodiammineplatinum (IV) salt, dichlorobis (ethylenediamine) platinum (IV) salt, tetraethylammonium copper (II) salt, bis (ethylenediamine copper (II) salt.
さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２カ
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第１級、第２級
もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミル二酢酸などの化合物が用いられる。Further, as a ligand that forms a metal complex compound, it is preferable to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more positions because the formed metal complex compound has high stability. . Examples of the chelating agent include primary, secondary or tertiary amines, oximes, imines, and ketones. More specifically, dimethylglyoxime, dithione, oxine, acetylacetone, glycine, Compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and uramildiacetic acid are used.
上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス（2,
2′−ビピリジン）パラジウム（II）塩、ビス（アセチ
ルアセトナート）パラジウム（II）、ビス（N,N−ジエ
チルエチレンジアミン）銅（II）塩、ビス（2,2′−ビ
ピリジン）銅（II）塩、ビス1,10−フェナントロリン）
銅（II）塩、ビス（ジメチルグリオキシマート）銅（I
I）、ビス（アセチルアセトナート）銅（II）、ビス
（アセチルアセトナート）白金（II）などが好ましい。As the above chelating agent, bis (2,
2'-bipyridine) palladium (II) salt, bis (acetylacetonato) palladium (II), bis (N, N-diethylethylenediamine) copper (II) salt, bis (2,2'-bipyridine) copper (II) Salt, bis 1,10-phenanthroline)
Copper (II) salt, bis (dimethylglyoximate) copper (I
I), bis (acetylacetonato) copper (II), bis (acetylacetonato) platinum (II) and the like are preferable.
還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。As a metal compound that is reduced to give a metal development nucleus, a metal compound such as a chloride of a metal such as palladium, gold, silver, platinum, or copper, or a water-soluble salt such as a nitrate is used. Specifically, electroless plating is used. Of these, salts of palladium chloride, silver nitrate, gold tetrahydrochloride, etc. contained in the activator solution are preferable, and of these, the salt of palladium is particularly preferable.
上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、
（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像
抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯
化合物または金属化合物は、バインダーとしての透明樹
脂に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗布に
適した粘度である10〜1000センチポイズを有する感光材
層形成用塗布液とされる。この感光材層形成用塗布液
は、保護層３上に通常0.1〜30μｍの膜厚に塗布されて
感光材層が形成される。As mentioned above, (a) a transparent resin as a binder,
(B) A photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azido group, and (c) a metal complex compound or a metal compound which becomes a metal development nucleus when reduced together with a solvent selected according to the transparent resin as a binder. The mixture is mixed to obtain a photosensitive material layer forming coating solution having a viscosity of 10 to 1000 centipoise which is suitable for coating. This coating solution for forming a photosensitive material layer is usually applied to the protective layer 3 in a film thickness of 0.1 to 30 μm to form a photosensitive material layer.
バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混合性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、親油性透明樹脂を用いる場合に
は、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸n-ブ
チルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の
高い溶剤が好ましく用いられる。As a solvent to dissolve the transparent resin as a binder,
Although various solvents can be used, when a hydrophilic transparent resin is used, a water-miscible solvent such as water, a lower alcohol, a ketone or an ether, or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent is used. When a lipophilic transparent resin is used, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, methyl cellosolve and the like. A highly polar solvent is preferably used.
なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。
硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂100部に対して0.1〜50部の量で予じめ混合
するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに形成され
た感光材層上に塗布することにより行なうことができ
る。When a hydrophilic transparent resin is used, it is desirable to carry out a hardening treatment after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developing solution during the physical development processing.
The film-hardening treatment is carried out by, for example, preliminarily mixing the following compounds in an amount of 0.1 to 50 parts with respect to 100 parts of the transparent resin in a coating solution for forming a photosensitive material, or a photosensitive material on which an aqueous solution of the following compounds has already been formed. It can be carried out by coating on the layer.
カリ明バン、アンモニウム明バンなどのAl化合物；クロ
ム明バン、硫酸クロムなどのCr化合物；ホルムアルデヒ
ド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メチルグ
ルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアルデヒド
類、;o−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シクロヘキ
サン−1,2−ジオン、シクロペンタン−1,2−ジオン、ジ
アセチル、2,3−ペンタンジオン、2,5−ヘキサンジオ
ン、2,5−ヘキセンジオンなどのジケトン；トリグリシ
ジルイソシアヌル酸塩などのエポキシド；テトラフタロ
イルクロリド、4,4′−ジフェニルメタンジスルフォニ
ルクロリドなどの酸無水物；タンニン酸、没食子酸、2,
4−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン、なら
びに一般式R2NPOX2（R2N）ｎPOX３−ｎ、 および Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ′（ここでＲは炭素２〜６のアルキ
ル基、Ｒ′は （CH3）3N+（CH3）3X-基、ＸはＦまたはCl、ｎは１また
は２）で表わされるリン化合物またはカルボジイミド；
スチレン／マレイン酸共重合体、ビニルピロリドン／マ
レイン酸共重合体、ビニルメチルエーテル／マレイン酸
共重合体、エチレンイミン／マレイン酸共重合体、メタ
クリル酸／メタクリロニトリル共重合体、ポリメタクリ
ルアミド、メタクリル酸エステル共重合体などの樹脂
類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、乳酸、クエン
酸、アスパラギン酸、グルコール酸、酒石酸など。Al compounds such as potassium potassium, ammonium ammonium, Cr compounds such as chromium aluminum, chromium sulfate; aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, succinaldehyde, o-benzoquinone, p -Benzoquinone, cyclohexane-1,2-dione, cyclopentane-1,2-dione, diacetyl, diketone such as 2,3-pentanedione, 2,5-hexanedione, 2,5-hexenedione; triglycidyl isocyanuric acid Epoxides such as salts; tetraphthaloyl chloride, acid anhydrides such as 4,4'-diphenylmethanedisulfonyl chloride; tannic acid, gallic acid, 2,
4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, as well as the general formula R 2 NPOX 2 (R 2 N) n POX 3-n , And R-N = C = N- R '( where R is an alkyl group having a carbon 2 to 6, R' is (CH 3) 3 N + ( CH 3) 3 X - group, X is F or Cl, n Is a phosphorus compound or carbodiimide represented by 1 or 2);
Styrene / maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone / maleic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic acid copolymer, ethyleneimine / maleic acid copolymer, methacrylic acid / methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, Resins such as methacrylic acid ester copolymers, glutaric acid, succinic acid, malic acid, lactic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, etc.
このようにして、保護層３上に設けられた感光材層をパ
ターン露光し、次いで現像して未露光部である光透過部
および露光部である遮光部とからなる第１記録層2aを形
成する。パターン露光は、たとえばホトマスクなどのマ
スクを介して行なうことができる。In this way, the photosensitive material layer provided on the protective layer 3 is pattern-exposed and then developed to form the first recording layer 2a composed of the light-transmitting portion which is an unexposed portion and the light-shielding portion which is an exposed portion. To do. The pattern exposure can be performed through a mask such as a photomask.
また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部を形成することもできる。It is also possible to collect the irradiation light in the form of a beam and directly irradiate it on the photosensitive material layer to form the light-shielding portion in a pattern.
第１記録層2aにおける光透過部および遮光部によりもた
らされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を読取
る際に、トラッキングおよびプレフォーマットとしての
働きをしている。The image information provided by the light transmitting portion and the light shielding portion in the first recording layer 2a serves as tracking and pre-formatting when reading the information itself or the information.
感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光量に応じて分解
されて潜像が形成される。In the exposed portion of the photosensitive material layer, the photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group is decomposed according to the amount of exposure to form a latent image.
露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しうる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。As the light source used for the exposure, any light source capable of decomposing a compound having a diazo group or an azido group can be arbitrarily used, and an ultrahigh pressure mercury lamp is usually preferably used.
上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。なお
未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像抑
制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触して
も金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存し
ている。The latent image formed by decomposition of the compound having a diazo group or azido group by the above-described pattern exposure is brought into contact with an aqueous reducing agent solution to generate metal development nuclei. In the unexposed area, since the development inhibitor having a diazo group or an azido group is not decomposed, metal development nuclei do not occur even when contacted with the reducing agent aqueous solution and remain as the light transmitting area.
この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第
１スズ溶液（weiss液）あるいは市販の無電解メッキ用
のセンシタイザー液などが特に好ましいが、一般には、
強力な還元剤であればすべて使用できる。Examples of the reducing agent used in this case include stannous chloride, stannous sulfate, sodium borohydride, boramine-based compounds such as dimethylamine borazane, diethylamine borazane and trimethylamine borazane, borane, diborane and methyldiborane. Borane compounds, hydrazine and the like are used. Of these, an acidic stannous chloride solution, a stannous sulfate solution (weiss solution) or a commercially available sensitizer solution for electroless plating is particularly preferable, but in general,
Any strong reducing agent can be used.
次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
４が形成される。Then, when the metal developing nuclei thus obtained are brought into contact with a physical developing solution, the metal contained in the physical developing solution is reduced and the metal developing nuclei are mainly deposited to form the light shielding portion 4. To be done.
物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩および還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used at a low temperature or in a heated state if necessary.
被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバル
ト、鉄およびクロムなどのVIb族金属、銅などのIb族金
属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。また
一旦銅塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫酸錫で
置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得ること
も可能である。これらの中でも安全性、保存性を考慮す
るとニッケル、銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異なり
原料の純度、メッキ安定化剤などから少量の異種金属や
リン、イオウなどの元素が混入することはあり得るが、
特に光記録材料としての特性に影響を与えるものではな
い。As the reducible metal salt, for example, water-soluble salts of Group VIb metals such as nickel, cobalt, iron and chromium, and Group Ib metals such as copper are used alone or in combination. It is also possible to obtain a tin or tin / copper-based metal layer by carrying out physical development once with a copper salt solution and then displacement plating with stannous chloride or tin sulfate. Among these, nickel, copper and tin are preferable in consideration of safety and storability. However, unlike vapor deposition, a small amount of dissimilar metals or elements such as phosphorus and sulfur may be mixed from the raw material purity, plating stabilizer, etc.
In particular, it does not affect the characteristics of the optical recording material.
適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。Specific examples of suitable water-soluble reducible metal salts include the following.
塩化第一コバルト、ヨウ化第一コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第二クロム、ヨウ化第二クロム、塩化
第二銅などの重金属ハライド；硫酸ニッケル、硫酸第一
鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第二クロム、硫酸第二銅な
どの重金属硫酸塩；硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝酸第
一コバルト、硝酸第二クロム、硝酸第二銅などの重金属
硝酸塩；フェラスアセテート、コバルタスアセテート、
クロミックアセテート、キュープリックフォルメートな
どの金属の有機酸塩。Cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide,
Heavy metal halides such as ferrous chloride, chromic bromide, chromic iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous sulfate, cobaltous sulfate, chromic sulfate, cupric sulfate, etc. Heavy metal sulfates; heavy metal nitrates such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, chromic nitrate, cupric nitrate; ferras acetate, cobaltas acetate,
Organic acid salts of metals such as chromic acetate and cupric formate.
これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば10〜
100g/の量で含まれることが好ましい。These reducible heavy metal salts are contained in the physical developer in an amount of, for example, 10 to
It is preferably included in an amount of 100 g /.
還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラザン、ボラゼン、ポラジン、ｔ−ブチル
アミンボラザン、ボラゼン、ボラジン、ｔ−ブチルアミ
ンボラザン、ピリジンボラン、2,6−ルチジンボラン、
エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、ジメチ
ルホスフィンボラン、フェニルホスフィンボラン、ジメ
チルアルジンボラン、フェニルアルジンボラン、ジメチ
ルスチビンボラン、ジエチルスチビンボランなどが使用
できる。Examples of the reducing agent include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamine borane, borane, diborane, methyldiborane, diborazane, borazene, porazin, t-butylamineborazane, borazene, borazine, t-butylamineborazane, pyridineborane, 2,6-lutidineborane,
Ethylenediamine borane, hydrazine diborane, dimethylphosphine borane, phenylphosphine borane, dimethyl aldin borane, phenyl aldin borane, dimethyl stibine borane, diethyl stibine borane and the like can be used.
これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば0.1〜50g
/の量で用いられることが好ましい。These reducing agents are contained in the physical developer in an amount of, for example, 0.1 to 50 g.
It is preferably used in an amount of /.
物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成する重金属イオンが水酸化物として沈澱するの
を防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、コ
ハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、酒
石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖
酸、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の
一種または二種以上を含ませることができる。これら錯
塩化剤は、物理現像液中にたとえば１〜100g/の量で
用いられることが好ましい。In the physical developer, in order to prevent the heavy metal ions generated by the dissolution of the above-mentioned reducible heavy metal salt from precipitating as hydroxide, for example, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, malic acid, lactic acid, and other hydroxy compounds are used. Carboxylic acid, succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acids, may contain one or more complex chlorinating agents consisting of organic carboxylic acids such as quinic acid it can. These complex chloride agents are preferably used in the physical developer in an amount of, for example, 1 to 100 g /.
さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などのpH調節剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面活
性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。Further, in the physical developer, in order to improve the storability and operability of the developer and the quality of the obtained image, pH adjusting agents such as acids and bases, buffers, preservatives, brighteners and surfactants are used. Etc. are added as necessary according to a conventional method.
この添加剤のうち、pHを上げるためにはアンモニア水も
しくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好ま
しい。Among these additives, it is particularly preferable to use aqueous ammonia or aqueous sodium hydroxide solution to raise the pH.
また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た65℃から90℃の高温ニッケルメッキ浴または同メッキ
浴中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際得られ
た画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の水溶液
で５分間程度処理することにより光透過部の透明樹脂を
一部選択的に除去することもできる。The physical development may be carried out under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath at 65 ° C. to 90 ° C. using the sodium hypophosphite reducing agent or in the same plating bath. At this time, the transparent resin in the light transmitting portion can be selectively removed partially by treating the image obtained at this time with an aqueous solution of 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid for about 5 minutes.
また、感光材では、上述のような透明樹脂、現像抑制
剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほか
に、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商標）
などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジアゾ
ニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバーフィ
ルム（登録商標）、PDプロセス（登録商標）材料などに
代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモノマー、ポ
リビニルケイ皮酸などに代表される光重合型光橋かけ型
のフォトポリマー系材料（ホ）トナー像を形成するCd
S、ZnO、ポリビニルカルバゾールなどの電子写真感光体
あるいはその転写体、（ヘ）フロスト像を形成するサー
モプラスチックス電子写真感光体などの電子写真系材
料、（ト）ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ系、
（チ）ダイラックス（登録商標）コバルト錯体とロイコ
染料との組合せ系、（リ）シュウ酸第二酸と鉄塩との組
合せ系、（ヌ）スピロピラン、モリブデンタングステン
化合物などの顔料または色素の画像を形成する材料など
が用いられうる。Further, in the photosensitive material, in addition to the transparent resin, the development inhibitor, the metal complex compound or the metal compound-based system as described above, (a) silver halide and dry silver (registered trademark)
Silver salt-based materials such as organic silver salts, (b) diazonium salt and coupler combinations, (c) Culver film (registered trademark), diazo-based materials such as PD process (registered trademark) materials Material, (d) Acrylic monomer, polyvinyl cinnamic acid, and other photopolymerization type photocrosslinking type photopolymer material (e) Cd that forms a toner image
Electrophotographic photoconductors such as S, ZnO and polyvinylcarbazole, or their transfer materials, (f) electrophotographic materials such as thermoplastics electrophotographic photoconductors that form frost images, (to) leuco dyes and carbon tetrabromide Combination system of
(H) Image of pigment or dye such as combination system of Dilux (registered trademark) cobalt complex and leuco dye, combination system of (ri) oxalic acid secondary acid and iron salt, (N) spiropyran, molybdenum tungsten compound A material for forming the can be used.
上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。Among the above-mentioned photosensitive materials, some of the photosensitive materials have a light-shielding property in the exposed areas and have a light-transmitting property in the unexposed areas, while some materials have a light-transmitting property in the exposed areas and have light-shielding properties in the unexposed areas. . In any case, any photosensitive material can be used as long as it is possible to perform recording consisting of a light transmitting portion and a light shielding portion by developing after exposure after exposure.
但し、上記の感光材のうち、（イ）バインダーとしての
透明樹脂、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分
解性の現像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核と
なる金属錯化物または金属化合物から構成されている感
光材を用いると遮光部が近赤外線を使用した読取りの際
にも高濃度のものとして読取り可能であり、解像度を高
く、しかも明室で取り扱える利点がある。However, among the above-mentioned photosensitive materials, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound which becomes a metal development nucleus when reduced. Alternatively, when a photosensitive material composed of a metal compound is used, the light-shielding portion can be read as a high-density one even when reading using near-infrared light, which has the advantages of high resolution and handling in a bright room.
このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられうる。Ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, electron beams and the like can be used as the irradiation light to such a photosensitive material.
第２記録層 光透過部および遮光部とからなる第１記録層2a上に、反
射性金属薄膜層からなる第２記録層2bを形成する。Second recording layer A second recording layer 2b made of a reflective metal thin film layer is formed on the first recording layer 2a made of a light transmitting portion and a light shielding portion.
反射性金属薄膜層は、Cr、Ti、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、A
u、Ge、Al、Mg、Sb、Te、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、I
n、Ga、Rbなどの金属を単独もしくは二種以上組合せて
用いて形成される。The reflective metal thin film layer is made of Cr, Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, A.
u, Ge, Al, Mg, Sb, Te, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn, Se, I
It is formed by using metals such as n, Ga and Rb alone or in combination of two or more kinds.
反射性金属薄膜層からなる第２記録層2bに情報をエネル
ギービームの照射によりさらに書込む場合には、低融点
金属であるTe、Zn、Pb、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga、Rbな
どの金属を主成分として反射性金属薄膜を構成すること
が好ましく、特にTe−Se、Te−Se−Pb、Te−Pb、Te−Sn
−Ｓ、Sn−Cu、Te−Cu、Te−Cu−Pbなどの合金が好まし
い。When information is further written on the second recording layer 2b made of a reflective metal thin film layer by irradiation with an energy beam, low melting point metals such as Te, Zn, Pb, Cd, Bi, Sn, Se, In, Ga, It is preferable to form a reflective metal thin film mainly composed of a metal such as Rb, especially Te-Se, Te-Se-Pb, Te-Pb, Te-Sn.
Alloys such as -S, Sn-Cu, Te-Cu, Te-Cu-Pb are preferable.
さらにこれらの合金のうち、５〜40原子数パーセントの
Cuを含むTe−Cu合金あるいは５〜40原子数パーセントの
CuおよびCuに対して１〜50原子数パーセントのPbを含む
Te−Cu−Pb合金が、読出し用照射エネルギービームの波
長を650nm以上とする場合に特に好ましい。これらの合
金からなる反射性金属薄膜層を第２記録層として用いる
と、外周部での乱れが少ない記録ピットが得られ、しか
も読出し用照射エネルギービームの波長が650nm以上特
に700〜900nmである場合に、記録部であるピットにおけ
る反射率と未記録部である金属薄膜における反射率すな
わち相対反射率が小さいという優れた情報読出し特性を
有する反射性金属薄膜が得られる。In addition, of these alloys,
Te-Cu alloy containing Cu or 5-40 atomic percent
Contains Cu and 1 to 50 atomic percent Pb with respect to Cu
Te-Cu-Pb alloy is particularly preferable when the wavelength of the irradiation energy beam for reading is 650 nm or more. When a reflective metal thin film layer made of these alloys is used as the second recording layer, recording pits with less disturbance in the outer peripheral portion can be obtained, and the wavelength of the irradiation energy beam for reading is 650 nm or more, particularly 700 to 900 nm. In addition, a reflective metal thin film having excellent information reading characteristics such that the reflectance in the pit which is the recorded portion and the reflectance in the metal thin film which is the unrecorded portion, that is, the relative reflectance is small can be obtained.
さらに、１〜40原子数パーセントのCuを含むSn−Cu合金
を用いると記録ピット形状の外周部の乱れが少なく、か
つ毒性の低い反射性金属薄膜が得られる。Furthermore, when an Sn-Cu alloy containing 1 to 40 atomic percent Cu is used, a reflective metal thin film with less disorder in the outer peripheral portion of the recording pit shape and low toxicity can be obtained.
反射性金属薄膜層からなる第２記録層2bに情報を書込ま
ずに単に反射層として使用する場合には、Al、Cr、Ni、
Ag、Auなどの特に光反射性に優れた金属あるいは合金に
より反射性金属薄膜層を形成することが好ましい。When the second recording layer 2b made of a reflective metal thin film layer is used as a reflective layer without writing information, Al, Cr, Ni,
It is preferable to form the reflective metal thin film layer of a metal or an alloy having excellent light reflectivity, such as Ag or Au.
このような反射性金属薄膜層を第１記録層上に形成する
には、上記のような金属あるいは合金を準備し、これを
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、電気メッキ法などの従来既知の方法によって第１記
録層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の膜厚
は、200〜10,000Å好ましくは1000〜5000Åであること
が好ましい。場合によっては、上記金属からなる多層膜
たとえばIn膜とTe膜との多層膜も反射性金属薄膜として
用いられる。また、上記金属と有機化合物または無機酸
化物との複合物たとえばTe−CH4、Te−CS2、Te−スチレ
ン、Sn−SO2、GeS−Sn、SnS−Ｓなどの薄膜あるいはSiO
2/Ti/SiO2/Alなどの多層膜も反射性金属薄膜として用い
られる。In order to form such a reflective metal thin film layer on the first recording layer, a metal or alloy as described above is prepared, and this is subjected to sputtering, vacuum deposition, ion plating, electroplating or the like. The film may be formed on the first recording layer by a conventionally known method. The thickness of the reflective metal thin film layer is preferably 200 to 10,000Å, more preferably 1000 to 5000Å. In some cases, a multilayer film made of the above metal, for example, a multilayer film of In film and Te film is also used as the reflective metal thin film. Also, composites e.g. Te-CH 4 between the metal and an organic compound or an inorganic oxide, Te-CS 2, Te- styrene, Sn-SO 2, GeS- Sn, thin film or SiO such as SnS-S
A multilayer film such as 2 / Ti / SiO 2 / Al is also used as the reflective metal thin film.
さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた薄膜、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金属粒
子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面
に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射性金
属薄膜として用いられうる。Further, a thin film obtained by aggregating a dye such as cyanine to give light reflectivity, a resin in which metal particles such as a dye or silver are dispersed in a thermoplastic resin such as nitrocellulose, polystyrene, or polyethylene, or this thermoplastic resin A material obtained by aggregating a dye or metal particles on the surface may be used as the reflective metal thin film.
さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、Te酸化物、Sb酸化物、Mo酸
化物、Ge酸化物、Ｖ酸化物、Sm酸化物、あるいはTe酸化
物−Ge、Te−Snなどの化合物が、反射性金属薄膜として
用いられうる。Furthermore, Te oxide, Sb oxide, Mo oxide, Ge oxide, V oxide, Sm oxide, or Te oxide-Ge, which undergoes a phase transition upon irradiation with an energy beam to change its reflectance. , Te-Sn, etc. can be used as the reflective metal thin film.
また、カルコーゲンあるいは発色型のMoO3−Cu、MoO3−
Sn−Cuが反射性金属薄膜として用いられ、場合によって
は泡形成型の有無薄膜と金属薄膜との多層体も反射性金
属薄膜として用いられうる。Further, MoO of Karukogen or coloring type 3 -Cu, MoO 3 -
Sn-Cu is used as the reflective metal thin film, and in some cases, a multilayer body of the bubble forming type presence / absence thin film and the metal thin film can also be used as the reflective metal thin film.
さらに光磁記録材料であるGd Co、Tb Co、Gd Fe、Dy F
e、Gd Tb Fe、 Gd Fe Bi、Tb Dy Fe、Mn Cu Biなども反射性金属薄膜と
して用いられうる。Furthermore, Gd Co, Tb Co, Gd Fe, Dy F
E, Gd Tb Fe, Gd Fe Bi, Tb Dy Fe, Mn Cu Bi and the like can also be used as the reflective metal thin film.
上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。It is also possible to use a combination of various types of reflective metal thin films as described above.
表面硬化層 表面硬化層６は、光カード１の光記録部側の表面の硬度
を高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使
用時における表面損傷を防止する。これにより、カード
の耐久性と書込み、読取り精度を高めて信頼性を向上さ
せる。Surface Hardened Layer The surface hardened layer 6 increases the hardness of the surface of the optical card 1 on the side of the optical recording portion to protect the surface thereof, thereby preventing surface damage when the card is carried or used. This improves the durability and writing / reading accuracy of the card and improves the reliability.
この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やAl2O
3、SiO2などの金属酸化物の他、プラズマ重合膜などが
用いられる。Materials for this surface-hardened layer include silicon-based, acrylic-based, melamine-based, urethane-based, epoxy-based curing agents and Al 2 O.
In addition to metal oxides such as 3 and SiO 2 , plasma polymerized films are used.
記録・再生 反射性金属薄膜層への情報の書込みおよび光カードに書
込まれた情報の読出しについて説明する。Recording / reproducing Writing of information to the reflective metal thin film layer and reading of information written in the optical card will be described.
反射性金属薄膜層への情報の書込みは、この金属薄膜層
に波長300〜1100nmのレーザビームなどのエネルギービ
ームをレンズなどにより集光して照射し、照射部分の金
属を蒸散あるいは偏在させて記録ピットを形成すること
により行なう。この際エネルギービームの強度は、0.1
〜100mW、パルス巾は5nsec〜500msec、ビーム径は、0.1
〜100μｍであることが好ましい。Information is written to the reflective metal thin film layer by irradiating the metal thin film layer with an energy beam such as a laser beam having a wavelength of 300 to 1100 nm which is focused by a lens and radiated to disperse or unevenly distribute the metal in the irradiated portion. This is done by forming pits. At this time, the intensity of the energy beam is 0.1
~ 100mW, pulse width 5nsec ~ 500msec, beam diameter 0.1
It is preferably ˜100 μm.
反射性金属薄膜層上に照射されるエネルギービームとし
ては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリウム−ネオ
ンレーザなどのレーザビーム、赤外線フラッシュなどが
用いられる。A laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a helium-neon laser, an infrared flash, or the like is used as the energy beam with which the reflective metal thin film layer is irradiated.
一方本発明に係る光カードに書込まれた情報の読出し
は、反射性金属薄膜層を溶融させない程度の低エネルギ
ーのエネルギービームあるいは白色光、タングステン光
などをレンズなどを介して光カードの保護層側から光透
過部および遮光部からなる第１記録層ならびに第２記録
層上に集光して照射し、反射光の強度と位相変化とを関
連づけて検出することによって行なわれる。On the other hand, for reading information written in the optical card according to the present invention, a low-energy energy beam or white light, tungsten light, or the like that does not melt the reflective metal thin film layer is passed through a lens or the like to form a protective layer for the optical card. It is performed by condensing and irradiating the first recording layer and the second recording layer, which are composed of the light transmitting portion and the light shielding portion from the side, with the intensity of the reflected light and the phase change being associated with each other.
第１記録層における遮光部は、前述のように金属現像核
を中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形
成されているため、この遮光部に読出し用照射ビームが
照射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射
率は小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあまり
吸収されずに反射性金属薄膜層に達するため、この光透
過部における反射率は大きい値となる。As described above, the light-shielding portion of the first recording layer is formed in a color tone close to black by depositing metal around the metal development nuclei, so that the read-out irradiation beam is irradiated to this light-shielding portion. Then, the irradiation beam is absorbed in this portion, and the reflectance is reduced. On the other hand, in the light transmitting portion, the light is not absorbed so much by the irradiation beam and reaches the reflective metal thin film layer, so that the reflectance in the light transmitting portion has a large value.
また、反射性金属薄膜層における未記録部に相当する金
属薄膜層では高い反射率が得られるのに対し、記録部に
相当するピット部では低い反射率となる。Further, the metal thin film layer corresponding to the unrecorded portion of the reflective metal thin film layer has a high reflectance, while the pit portion corresponding to the recorded portion has a low reflectance.
このようにして、第１記録層では遮光部と光透過部とに
おける透過度の相違、また第２記録層ではピット部と未
記録部とにおける反射率の相違を位相変化と関連づけて
読出すことによって、本発明に係る光カードに書込まれ
た情報を読出すことができる。In this way, the difference in the transmittance between the light-shielding portion and the light-transmitting portion in the first recording layer and the difference in the reflectance between the pit portion and the unrecorded portion in the second recording layer are read in association with the phase change. Thus, the information written in the optical card according to the present invention can be read.
この発明の光カードによってカードの表裏の両面に光記
録部が設けられるので、より多くの高密度記録が可能に
なるとともに、表側と裏側とで異った機能に持たせるこ
ともできるので、従来の光カードに比べて多機能なカー
ドを提供することができる。With the optical card of the present invention, optical recording parts are provided on both the front and back sides of the card, so that more high-density recording is possible and different functions can be provided on the front side and the back side. It is possible to provide a card with more functions than the optical card of.
第１図および第２図は、この発明の光カードの一実施例
を示すカードの断面図、第３図は光カードの一例を示す
平面図である。 １……光カード、2a……第１記録層、2b……第２記録
層、３……保護層、４……表面硬化層、５……接着剤
層、６……印刷層、７……磁気層。1 and 2 are sectional views of a card showing an embodiment of the optical card of the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing an example of the optical card. 1 ... Optical card, 2a ... First recording layer, 2b ... Second recording layer, 3 ... Protective layer, 4 ... Surface hardening layer, 5 ... Adhesive layer, 6 ... Printing layer, 7 ... … Magnetic layer.
Claims (1)
と、この第１記録層に隣接し反射性金属薄膜からなる第
２記録層とからなる光記録部が、カードの表側および裏
側に設けられていることを特徴とする、光カード。1. An optical recording section comprising a first recording layer having a light transmitting portion and a light shielding portion, and a second recording layer adjacent to the first recording layer and made of a reflective metal thin film. An optical card, which is provided in.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60051998A JPH0695391B2 (en) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | Light card |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60051998A JPH0695391B2 (en) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | Light card |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210544A JPS61210544A (en) | 1986-09-18 |
| JPH0695391B2 true JPH0695391B2 (en) | 1994-11-24 |
Family
ID=12902513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60051998A Expired - Lifetime JPH0695391B2 (en) | 1985-03-15 | 1985-03-15 | Light card |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695391B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988003310A1 (en) * | 1986-10-29 | 1988-05-05 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Draw type optical recording medium |
| JPS6416695A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-20 | Canon Kk | Optical card |
| JPS6416696A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-20 | Canon Kk | Optical card |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52135613A (en) * | 1976-05-10 | 1977-11-12 | Sony Corp | Information recording media |
| JPS57130243A (en) * | 1981-02-05 | 1982-08-12 | Toshiba Corp | Information storage medium |
-
1985
- 1985-03-15 JP JP60051998A patent/JPH0695391B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61210544A (en) | 1986-09-18 |
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