JPS61214152A - Optical card - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To execute recording with a high density, and to make it difficult to falsify the information by irradiating an energy beam to the second recording layer consisting of a reflecting metallic thin film layer, which is provided on the surface of the first recording layer consisting of a light transmitting part and a light shielding part. CONSTITUTION:The second recording layer 10 consisting of a reflecting metallic thin film layer is formed on the first recording layer 9 consisting of a light transmitting part 7 and a light shielding part 8. When the thin film layer of a low melting point alloy is used as 10, a reflection factor in a pit being a recording part and a reflection factor in a metallic thin film being an unrecorded part are made small, and an excellent information read-out characteristic is obtained. When a read-out use irradiating beam is irradiated, the irradiating beam is absorbed by the light shielding part and the reflection factor goes to small, and in the light transmitting part 7, said beam is not absorbed and the reflection factor becomes a large value. In the layer 9 and the layer 10, a difference of the reflection factors by the light shielding part 8 and the light transmitting part 7, and a difference of the reflection factors by the pit part and the unrecorded part are read, respectively, and information which has been written in a card can be read-out. In this way, recording can be executed with a high density, and also it makes remarkably falsification of the information difficult.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光カードに関し、さらに詳しくは、新規な光記
録材料を有し、高密度の情報を書込むことの可能なりＲ
ＡＷ型（ｄｉｒｅｃｔ　ｒｅａｄ　−ａｆｔｅｒ　−ｗ
ｒｔｔｅ）光カードに関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical card, and more particularly, it has a novel optical recording material and is capable of writing high-density information.
AW type (direct read-after-w
rtte) Regarding optical cards.

〔発明の技術的背景ならびにその問題点〕従来、クレジ
ットカード、バンクカードなどのカード類に埋設される
記録材料としては、磁気材料が主として用いられてきた
。この磁気材料は、情報の宙込みならびに読出しが容易
に行なえるという利点はあるが、反面、情報の改憲が容
易に行なわれ、しかも、高密度記録ができないという問
題点があった。[Technical Background of the Invention and Problems Therein] Conventionally, magnetic materials have been mainly used as recording materials embedded in cards such as credit cards and bank cards. This magnetic material has the advantage that information can be easily loaded and read, but on the other hand, it has the disadvantage that information can be easily amended and high-density recording is not possible.

ところで、上記のような問題点を解決するため、感光材
にパターン露光を施こして、未露光部である光透過部と
露光部である遮光部とを形成することによって、感光材
に情報を書込み、この情報を光透過度の際によって読取
るようなタイプの光記録材料が提案されている。このよ
うな光記録材料をカード基材に埋込んでカード用記録材
料として用いようとする場合には、以下のような問題点
がある。By the way, in order to solve the above-mentioned problems, information can be transmitted to the photosensitive material by subjecting the photosensitive material to pattern exposure to form an unexposed light-transmitting area and an exposed light-blocking area. Types of optical recording materials have been proposed in which this information can be written and read depending on the light transmission. When attempting to embed such an optical recording material in a card base material and use it as a recording material for a card, the following problems arise.

（ａ）　　カード基材は、その表面に種々の印刷を施こ
す場合が多く、このためにはカード基材は不透明である
ことが好ましい。ところが上記のような光記録材料を埋
込むためには少なくとも基材の一部を光透過性にする必
要があり、このことはカードの製造上著しく不利にして
いる。(a) A card base material is often subjected to various types of printing on its surface, and for this purpose, it is preferable that the card base material be opaque. However, in order to embed the optical recording material as described above, it is necessary to make at least a portion of the base material transparent, which is a significant disadvantage in the production of cards.

（ｂ）　　上記ような記録材料では、光透過部および遮
光部における光透過性の相違を充分大きくすることが難
かしく、しかも光透過度の相違により書込まれた情報を
読出そうとする場合には、カード表面の汚れに大きく左
右されるという問題点があった。(b) With the above-mentioned recording materials, it is difficult to make the difference in light transmittance between the light transmitting part and the light shielding part sufficiently large, and furthermore, when trying to read out written information due to the difference in light transmittance, has the problem that it is greatly affected by dirt on the surface of the card.

このため光透過度の相違による情報の読出しではなく、
光反射率の相違により情報を読出そうとする試みもある
。たとえば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散し
てなる記録層を有するカード類が提案されている。この
記録層への情報の書込みは、レーザビームを記録層に照
射して記録ビットを形成して行なわれている。この記録
層はコーティング法により連続的に製造でき、しかも銀
を用いることによって広い波長域にわたって均一な反射
率が骨られ、種々の波長のレーザビームを用いた記録再
生装置への適用が可能であるという利点を有している。For this reason, information is not read out due to differences in light transmittance.
There are also attempts to read information based on differences in light reflectance. For example, cards have been proposed that have a recording layer made of silver particles dispersed in a gelatin matrix. Information is written to the recording layer by irradiating the recording layer with a laser beam to form recording bits. This recording layer can be manufactured continuously using a coating method, and the use of silver ensures uniform reflectance over a wide wavelength range, making it possible to apply it to recording and reproducing devices that use laser beams of various wavelengths. It has the advantage of

しかしながらこの記録層に、写真的手法で記録を行なう
場合には、光反射性と解像性とを同時に向上させること
は困難であり、たとえば現像時間を長くすると光反射性
は向上するが、記録部（露光部）が太る傾向が認められ
解像性が低下してしまう。逆に現像時間を短かくすると
解像性は向上するが光反射性が不充分になってしまうと
いう問題点があった。However, when recording on this recording layer using a photographic method, it is difficult to simultaneously improve light reflectivity and resolution. For example, increasing the development time improves light reflectivity, but recording There is a tendency for the exposed area to become thicker, resulting in a decrease in resolution. On the other hand, if the development time is shortened, the resolution improves, but there is a problem in that the light reflectivity becomes insufficient.

一方また、記録材料の記録層に、レーザビームなどのエ
ネルギービームをスポット状に照射して、記録層の一部
を状態変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録
材料に用いる記録層としては、テルル、ビスマスなどの
金ｊｌｌＥｉｌ膜、ポリスチレン、ニトロセルロースな
どの有＊＊膜、あるいは相転位を利用したテルル低酸化
物膜などが用いられている。これらの記録材料は、情報
の書込みの後現像処理などの必要がなく、「門いた後直
読する」ことのできる、いわゆるＤＲＡＷ（旧ｒ１３ｃ
ｔ　ｒｏａｄａｆｔｅｒ　ｗｒｉｔｅ　＞　１１１体で
あり、高密度記録が可能であり追加書込みも可能である
ことから、ディスク用あるいはカード用の記録材料とし
ての用途の拡大が期待されている。On the other hand, tellurium is used as a recording layer for a so-called heat mode recording material in which the recording layer of the recording material is irradiated with an energy beam such as a laser beam in a spot shape to change the state of a part of the recording layer. , a gold film made of bismuth, a film made of polystyrene, nitrocellulose, etc., or a tellurium low oxide film using phase transition. These recording materials are so-called DRAW (formerly r13c
Since it is possible to perform high-density recording and additional writing, it is expected that its use as a recording material for disks or cards will expand.

これらのヒートモード記録材料のうち最も広く用いられ
ている、テルルあるいはビスマスなどの金属薄膜を基板
上に蒸着してなる記録材料においては、情報の書込みは
、レーザビームなどのエネルギービームを金属薄膜上に
スポット照射することにより、この部分の金属を蒸発除
去あるいは融解移動除去してビットを形成して行なわれ
ている。Among these heat mode recording materials, the most widely used recording materials are those made by depositing a metal thin film such as tellurium or bismuth on a substrate. Information is written by using an energy beam such as a laser beam on the metal thin film. This is done by spot irradiating the area to remove the metal in this area by evaporation or melting movement to form a bit.

また情報の読出しは、読出し光を記録層上に照射し、記
録部であるビット部と未記録部である金属薄膜とにお【
プる反射率の違いを読取ることによって行なわれている
。ところで、情報の書込みに際しては、読出すべき情報
そのものに相当する記録ビットを形成することに加えて
、光の案内溝に相当するトラッキングならびに読出すべ
きビットを特定するためのブレフォーマツティングをも
記録層に書込む必要があった。In addition, to read information, readout light is irradiated onto the recording layer, and the bit area, which is the recorded area, and the metal thin film, which is the unrecorded area, are exposed.
This is done by reading the difference in reflectance. By the way, when writing information, in addition to forming recording bits corresponding to the information to be read, tracking corresponding to a light guide groove and breformatting to specify the bit to be read are also performed. It was necessary to write to the recording layer.

ところが記録層を構成するテルル、ビスマスなどの金属
は、ある程Ｉｆｍ性を有するため取扱いに充分な配慮を
要するとともに、レーザビームなどのエネルギービーム
の照射によりビットを形成することは、高度な制御技術
が必要され、しかもそのビット形成工程が複雑であるた
めコスト面からみても必ずしも安いものではなかった。However, the metals that make up the recording layer, such as tellurium and bismuth, have Ifm properties to a certain extent, so they require careful handling, and forming bits by irradiation with energy beams such as laser beams requires advanced control technology. Moreover, since the bit forming process is complicated, it is not necessarily cheap from a cost standpoint.

したがつて、もし、光の案内溝に相当するためのブレフ
ォーマツティングがレーザビーム照射以外の簡便な方法
により大量にしかも安価に形成しうるような記録材料が
出現するならば、極めて有用性の高いものが得られると
期待される。Therefore, if a recording material were to emerge in which breformatting, which corresponds to a light guide groove, could be formed in large quantities and at low cost by a simple method other than laser beam irradiation, it would be extremely useful. It is expected that a high value will be obtained.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであって、以下のような目的を有する。The present invention aims to solve the problems associated with these conventional techniques, and has the following objects.

（ａ）　　高密度が可能で、しかも書込まれた情報の改
憲が困難である光記録材料を有する光カードを提供する
こと。(a) To provide an optical card having an optical recording material that is capable of high density and is difficult to modify the written information.

（ｂ）　　書込まれた情報を、光透過率の相違ではなく
、光反射率の相違に基いて読出すことができる光記録材
料を有する光カードを提供すること。(b) To provide an optical card having an optical recording material in which written information can be read out based on a difference in light reflectance rather than a difference in light transmittance.

（ｃ）　　記録層に書込まれるべき情報の一部を、レー
ザビームの照射によらずパターン露光などの量産可能な
方法により行なうことができ、したがって製造工程の簡
素化が可能で、しかも大量生産ならびにコストダウンが
可能な光記録材料を有する光カードを提供すること。(c) Part of the information to be written on the recording layer can be written by a method that allows for mass production, such as pattern exposure, without using laser beam irradiation, and therefore the manufacturing process can be simplified and mass production is possible. Also, to provide an optical card having an optical recording material that can reduce costs.

（ｄ）　　長期間の使用によっても、書込み、読出しの
精度が劣化せず、信頼性、耐久性にすぐれた光カードを
提供すること。(d) To provide an optical card with excellent reliability and durability without deterioration of writing and reading accuracy even after long-term use.

（発明のａｌｌ） 上記目的を達成するために、本発明のＤＲＡＷ型光カー
ドは、カード基材上に光記録部が設けられている光カー
ドにおいて、前記光記録部が、（ａ）光記録部用基材と
、（ｂ）この光記録部用基材上面に設けられた表面硬化
層と、（ｃ）光記録部用基材下面に設けられた、光透過
部および遮光部からなる第１記録層と、（ｄ）この第１
記録層の表面に設けられた、反射性金ｍ薄膜層からなる
第２記録層とからなり、前記カード基材が、不透明材料
層と透明材料層との積層体からなり、前記光記録部の第
２記録層側と前記カード基材の不透明材料層側とが接着
剤層を介して接合されてなるカードであって、前記第２
記録層にエネルギービームを照射することによって第２
記録層への情報の書込みができ、−込まれた情報の読出
しは、表面硬化層が設けられた側から記録再生光を照射
することにより行なうことを特徴とするものである。(All of the Inventions) In order to achieve the above object, the DRAW type optical card of the present invention is an optical card in which an optical recording section is provided on a card base material, in which the optical recording section includes (a) an optical recording section; (b) a hardened surface layer provided on the upper surface of the substrate for the optical recording portion; and (c) a light transmitting portion and a light blocking portion provided on the lower surface of the substrate for the optical recording portion. (d) this first recording layer;
a second recording layer made of a reflective gold thin film layer provided on the surface of the recording layer; the card base material is made of a laminate of an opaque material layer and a transparent material layer; A card in which a second recording layer side and an opaque material layer side of the card base material are bonded via an adhesive layer,
By irradiating the recording layer with an energy beam, the second
Information can be written into the recording layer, and the written information can be read out by irradiating recording and reproducing light from the side on which the surface hardening layer is provided.

〔発明の詳細な説明〕[Detailed description of the invention]

以下、本発明に係る光カードを、図面に示す具体例によ
り説明する。Hereinafter, the optical card according to the present invention will be explained using specific examples shown in the drawings.

本発明の光カード１は、その概念断面図が第１図に示さ
れるように、カード基材２と光記録部３とが接着剤層３
を介して接合一体化されてなる。In the optical card 1 of the present invention, as shown in a conceptual cross-sectional view in FIG.
They are joined and integrated through the .

光記録部３は、光記録部用基１ｉ４５と、この基材５の
上面に設けられた表面硬化層６と、基材５の下面に設け
られた、光透過部７と遮光部８とからなる第１記録層９
と、この第１記録層９の下面に設けられた反射性金ｍ簿
ｌｉ層からなる第２記録層１０とが各々積層形成されて
いる。The optical recording section 3 consists of an optical recording section base 1i45, a surface hardening layer 6 provided on the upper surface of the substrate 5, and a light transmitting section 7 and a light blocking section 8 provided on the lower surface of the substrate 5. The first recording layer 9 becomes
and a second recording layer 10 made of a reflective metal layer provided on the lower surface of the first recording layer 9 are laminated.

一方、カード基材２は、不透明材料１１１２ａと透明材
料層２ｂとの積層体からなる。場合によっては、透明材
料１ｉ１２ｂ中に磁気記録層１１が設けられていてもよ
い。また、第１記録層９、第２記録１１１０は、光記録
部用基材５の全面ではなく一部表面上に設けることもで
きる。さらに、必要に応じてＩＣメモリー、写真、彫刻
画像、文字、マーク、インプリントと称する浮き出し文
字などを、光カードの表面もしくは裏面に併設してもよ
い。On the other hand, the card base material 2 is made of a laminate of an opaque material 1112a and a transparent material layer 2b. In some cases, the magnetic recording layer 11 may be provided in the transparent material 1i12b. Further, the first recording layer 9 and the second recording layer 1110 may be provided on a part of the surface of the optical recording portion base material 5 instead of the entire surface. Furthermore, if necessary, an IC memory, a photograph, an engraved image, characters, a mark, an embossed character called an imprint, etc. may be provided on the front or back side of the optical card.

このようにすることにより、１枚のカードで種々の再生
方式に対応でき、また偽造がより効果的に防止できる。By doing so, one card can be used in various playback methods, and counterfeiting can be more effectively prevented.

第２図に示す別の具体例における光カード１においては
、光記録部３の第１記録層９と第２記録層１０との間に
パリ！’−１１１２が形成されており、その他の構成は
上記第１図の光カードの場合と同様である。このバリせ
一層１２は、温度の影響による第２記録層１０の金ＩＩ
膜層の変質を防止するために設けられるものであり、特
に第１記録層の感光材料が吸湿性材料の場合に有用であ
る。In the optical card 1 in another specific example shown in FIG. 2, there is a gap between the first recording layer 9 and the second recording layer 10 of the optical recording section 3. '-1112 is formed, and the other configuration is the same as that of the optical card shown in FIG. 1 above. This burred layer 12 is made of gold II of the second recording layer 10 due to the influence of temperature.
This is provided to prevent deterioration of the film layer, and is particularly useful when the photosensitive material of the first recording layer is a hygroscopic material.

以下、本発明の光カードの各構成部材について更に詳細
に説明する。Each component of the optical card of the present invention will be explained in more detail below.

互：」ＬｌＭ カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられうる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチルなどの
アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、アセチルセルロース、スチレン／ブタジェン共重合
体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
などが用いられる。場合によっては、鉄、ステンレス、
アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シート、合成
紙、紙なども用いられつる。このうち、不透明材料層２
ａとしては、白色硬質ポリ塩化ビニルが好ましく用いら
れ、透明材料層２ｂとしては、透明硬質ポリ塩化ビニル
が好ましく用いられる。As the card base material 2, any material that can be used as a base material for a normal card can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, acetylcellulose, styrene/butadiene copolymer, polyethylene, Polypropylene, polycarbonate, etc. are used. In some cases, iron, stainless steel,
Metal sheets such as aluminum, tin, copper, and zinc, synthetic paper, and paper are also used. Of these, opaque material layer 2
White hard polyvinyl chloride is preferably used as a, and transparent hard polyvinyl chloride is preferably used as the transparent material layer 2b.

ヱｒｌ　ｊ＊１１１Ｍ 光記録部用基材５としては、光透過性であるガラス、セ
ラミック、紙、プラスチックフィルム、絹布、不織布な
どあらゆるタイプの材料が用いられつるが、生産性およ
び平滑性の点からガラスあるいはプラスチックフィルム
が好ましい。プラスチックとしては、セルロース誘導体
、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系
樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメチ
ルペンテン樹脂、セルローストリアセテート樹脂などを
用いることができ、透明性および平滑性の点から、セル
ローストリアセテート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスル
ホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂などが特に好ましい
。これら基材５には、必要に応じて、コロナ放電処理、
プラズマ処理、ブライマー処理などの接着性改良のため
の前処理をしてもよい。All types of optically transparent materials such as glass, ceramic, paper, plastic film, silk cloth, and nonwoven fabric can be used as the base material 5 for the optical recording section, but there are certain issues in terms of productivity and smoothness. A glass or plastic film is preferred. As the plastic, cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyether resins, polysulfone resins, polyamide resins, polymethylpentene resins, cellulose triacetate resins, etc. can be used. In terms of transparency and smoothness, cellulose triacetate, polyethylene terephthalate,
Particularly preferred are polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polysulfone resin, polymethylpentene resin, and the like. These base materials 5 may be subjected to corona discharge treatment, if necessary.
Pretreatment for improving adhesion such as plasma treatment and brimer treatment may be performed.

■ｍ里 第１記録層９は、光透過部７および遮光部８から構成さ
れている。この第１記録ｗＪ９は、たとえば未露光部が
光透過性となり露光部が遮光性となる感光材をパターン
露光し、次いで現像することによって形成される。場合
によっては、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過
性となる感光材をパターン露光し次いで現像することに
よって、第１記録層９を形成してもよい。(1) The first recording layer 9 is composed of a light transmitting section 7 and a light shielding section 8. The first recording wJ9 is formed by, for example, exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-transmissive and exposed areas are light-shielding, and then developed. In some cases, the first recording layer 9 may be formed by exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-shielding and exposed areas are light-transmitting, followed by development.

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹脂
、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現
像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属
錯化合物または金属化合物から構成されている。この感
光材においては、バインダーとしての透明樹ｗａ１００
重量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分
解性の現像抑ｔ、ＩＩ剤は１〜１００重量部好ましくは
２０〜５０重ｆｆｉ部の量で存在し、還元されて金属現
像核となる金属錯化合物または金属化合物は０．１〜１
００重量部好ましくは１〜１０重社部のけで存在してい
る。上記の現像抑制剤、金属錯化合物または金属化合物
は、バインダーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散
されているが、好ましくは溶解されている。The photosensitive material is made of, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound that is reduced to become a metal development nucleus. It is configured. In this photosensitive material, transparent wood WA100 is used as a binder.
Based on the weight part, the photodegradable development inhibitor T, II agent having a diazo group or an azide group is present in an amount of 1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 50 parts by weight, and is reduced to form metal development nuclei. The metal complex compound or metal compound is 0.1 to 1
00 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight. The development inhibitor, metal complex compound, or metal compound described above is dissolved or dispersed in the transparent resin as a binder, and is preferably dissolved.

透明樹脂としては、新油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。新油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリル酸／酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン
／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する樹脂
、酢酸セルロースなどの水酸基を有する８１ｍ、カルボ
ンｍ基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系樹
脂などが挙げられる。As the transparent resin, either oil-based or hydrophilic transparent resin can be used. New oil-based transparent resins include resins with ester groups such as polyvinyl acetate resin, vinyl acetate/acrylic acid ester copolymer resin, acrylic acid/vinyl acetate copolymer resin, ethylene/vinyl acetate copolymer resin, and cellulose acetate. Examples include modified vinyl acetate resins containing 81m having a hydroxyl group, carboxyl m groups, or sulfonic acid groups.

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
する二ｉ・ロセルロースなどのセルロース誘導体をこれ
らの新油性透明樹脂に添加することも高感度化のために
有効である。Furthermore, in terms of optical recording properties, it is also effective to add cellulose derivatives such as dicellulose, which has the property of deforming in a heat mode, to these new oil-based transparent resins to increase sensitivity.

また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カゼイン
、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子化
合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミン、
ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ燦々ビニル）、
ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合
体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水性
樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用可能で
ある。バインダーとしての親水性透明樹脂には、この透
明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触させ
る際に、物理現像液が感光材層に浸透して物理現像が可
能となる程度の親水性を有することが好ましい。In addition, hydrophilic transparent resins include natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethyl cellulose, egg albumin,
Polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl),
Synthetic resins such as polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and maleic anhydride copolymers are used, but other resins than the above can also be used as long as they are water-soluble or hydrophilic resins. The hydrophilic transparent resin used as a binder has such hydrophilicity that when a photosensitive material layer is formed using this transparent resin and brought into contact with a physical developer, the physical developer penetrates into the photosensitive material layer and physical development is possible. It is preferable that the

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物をエタノール溶
解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効であ
る。In addition, it is also effective to dissolve a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode in terms of optical recording properties, in ethanol and then add it to the above-mentioned hydrophilic transparent resin.

現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とバラホルムアルデヒドより得ら
れる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体的に
は、ｐ−Ｎ。As the development inhibitor, a compound having a diazo group or an azide group is used. Examples of compounds having a diazo group include zinc chloride double salts or fluoroborate salts having a diazo group;
Alternatively, compounds which are condensation products obtained from these compounds and rose formaldehyde are preferred. More specifically, p-N.

Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、Ｉ）−Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチルアミノベ
ンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モルフォリノ−
２，６−ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、４−モルフォリノ−２゜５−ジブトキシベンゼンジア
ゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−２，５
−ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−
　（４’−メトキシベンゾイルアミノ）−２，５−ジェ
トキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−（ｐ−
トルイルメルカプト）−２，５−ジメトキシベンゼンジ
アゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４′−メトキシ
ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−３−メト
キシ−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジアゾ基を
有する塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜鉛複塩
の代わりに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸塩など
も使用できる。N-diethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, I)-N-ethyl-N-βhydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-
2,6-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2゜5-dibutoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5
-Jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-
(4'-methoxybenzoylamino)-2,5-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(p-
Chlorides having a diazo group such as (toluylmercapto)-2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine zinc chloride double salt, and 4-diazo-3-methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt In place of the zinc double salt or the above-mentioned zinc chloride double salt, the above-mentioned borofluoride salts, sulfates, phosphates, etc. can also be used.

アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、４．４′−ジアジドカルコン、２．６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−アセトン、２．６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−シクロヘキサノン、２．６
−ビス−（４′−７ジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２．６−ビス（４′−アジドスチリル）−
アセトン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基も
しくはアジド基を有する限り上記以外の化合物も使用す
ることもでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド
基を有する化合物を任意に２種以上併用して使用するこ
ともできる。Compounds having an azide group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidechalcone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal)-acetone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal)-cyclohexanone, 2.6
-bis-(4'-7zidobenzal)-4-methylcyclohexanone, 2,6-bis(4'-azidostyryl)-
Acetone, azidopyrene, etc. can be used. Compounds other than those mentioned above can also be used as long as they have a diazo group or an azide group, and two or more of the above-mentioned compounds having a diazo group or an azide group can also be used in combination.

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルホン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。In addition, when using a compound having a diazo group, it is recommended to use a stabilizer that stabilizes this compound. Organic carboxylic acids and organic sulfonic acids can be used as this stabilizer, and more practically p - It is preferable to use toluenesulfonic acid or the like.

次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。Next, the metal complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus will be explained.

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。First, complex compounds of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used as the metal complex compounds that are reduced and become metal development nuclei, and the ligands that serve as electron donors for these metals are usually Any known material can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（Ｉｆ＞塩、ジク
ロロエチレンジアミンパラジウム（Ｉ）塩、ジクロロ（
エチレンジアミン）白金（Ｖ）塩、テトラクロロジアン
ミン白金（ＩＶ）塩、ジクロロビス（エチレンジアミン
）白金（ｒＶ）塩、テトラエチルアンモニウム銅（Ｉ）
塩、ビス（エチレンジアミン鋼（ＩＩ）塩。Bis(ethylenediamine)palladium(If>salt, dichloroethylenediaminepalladium(I) salt, dichloro(
Ethylenediamine) platinum (V) salt, tetrachlorodiamine platinum (IV) salt, dichlorobis(ethylenediamine) platinum (rV) salt, tetraethylammonium copper (I)
salt, bis(ethylenediamine steel (II) salt.

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２力
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第１級、第２級
もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミルニ酢酸などの化合物が用いられる。Furthermore, as a ligand for forming a metal complex compound, it is preferable to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more sites because the stability of the metal complex compound formed is high. be. Examples of chelating agents include primary, secondary or tertiary amines, oximes, imines, and ketones; more specifically, dimethylglyoxime, dithion, oxine, acetylacetone, glycine, Compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and uramyl diacetic acid are used.

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス（２，
２’−ビピリジン）パラジウム（Ｉｆ＞塩、ビス（アセ
チルアセトナート）パラジウム（ＩＦ）、ビス（Ｎ、Ｎ
−ジエチルエチレンジアミン）銅（ＩＩ）塩、ビス（２
，２’−ビピリジン）銅（Ｉ）塩、ビス１．１０−フェ
ナントロリン）銅（ｎ）塩、ビス（ジメチルグリオキシ
マート）銅（Ｉ）、ビス（アセチルアセトナート）銅（
■）、ビス（アセチルアセトナート）白金（ｎ）などが
好ましい。Examples using the above chelating agent include bis(2,
2'-bipyridine) palladium (If > salt, bis (acetylacetonato) palladium (IF), bis (N, N
-diethylethylenediamine) copper(II) salt, bis(2
, 2'-bipyridine) copper (I) salt, bis 1,10-phenanthroline) copper (n) salt, bis (dimethylglyoximate) copper (I), bis (acetylacetonato) copper (
(2), bis(acetylacetonato)platinum (n), and the like are preferred.

還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。As metal compounds that are reduced to give metal development nuclei, metal compounds such as water-soluble salts such as chlorides and nitrates of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used. Specifically, they are used in electroless plating. Salts such as palladium chloride, silver nitrate, and gold tetrachloride contained in the activator solution are preferred, and among these, palladium salts are particularly preferred.

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（
ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑
ｍ１ｌｌ剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物は、バインダーとしての透
明樹脂に応じで選択された溶剤とともに混合されて、塗
布に適した粘度である１０〜１０００センチボイズを有
する感光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成
用塗布液は、光記録部用基材５上に通常０．１〜３０μ
ｍの膜厚に塗布されて感光材層が形成される。As mentioned above, (a) transparent resin as a binder, (
b) A photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus, together with a solvent selected depending on the transparent resin as a binder. They are mixed to form a coating solution for forming a photosensitive material layer having a viscosity of 10 to 1000 centivoise, which is suitable for coating. This coating liquid for forming a photosensitive material layer is applied onto the base material 5 for the optical recording section in an amount of usually 0.1 to 30 μm.
A photosensitive material layer is formed by applying the photosensitive material to a film thickness of m.

バインダーとしての透明１Ｍ脂を溶解する溶剤としては
、種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる
場合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなど
の水混和性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶
剤が用いられる。また、新油性透明樹脂を用いる場合に
は、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢＠ｎブ
チルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の
高い溶剤が好ましく用いられる。Various solvents can be used to dissolve the transparent 1M fat as a binder, but when using a hydrophilic transparent resin, water, a water-miscible solvent such as lower alcohol, ketone, or ether, or water and water can be used. A mixed solvent with a miscible solvent is used. In addition, when using a new oil-based transparent resin, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and vinegar@n-butyl, and methyl cellosolve, etc. A highly polar solvent is preferably used.

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。In addition, when using a hydrophilic transparent resin, it is desirable to perform hardening treatment after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developer during physical development.

硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の量で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光材層上に塗布することにより行なうこと
ができる。For example, the hardening treatment can be carried out by pre-mixing the following compound in a coating solution for forming a photosensitive material in an amount of 0.1 to 50 parts per 100 parts of the transparent resin, or by adding an aqueous solution of the following compound to the coating solution that has already been formed. This can be done by coating on the photosensitive material layer.

カリ明パン、アンモニウム明パンなどのＡ１化合物；ク
ロム明パン、硫酸クロムなどのＣ「化合ｖＢ：ホルムア
ルデヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メ
チルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアル
デヒド類、二〇−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シ
クロヘキサン−１，２−ジオン、シクロペンタン−１，
２−ジオン、ジアセチル、２．３−ベンタンジオン、２
゜５−ヘキサンジオン、２．５−ヘキセンジオンなどの
ジケトン；トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエポ
キシド；テトラフタロイルウ０リド、４．４′−ジフェ
ニルメタンジスルフオニルクロリドなどの酸無水物；タ
ンニン酸、没食子酸、２゜４−ジクロロ−６−ヒドロキ
シ−ｓ−トリアジン、ならびに一般式Ｒ２ＮＰＯｘ２、 Ｒ−Ｎ−Ｃ−Ｎ−Ｒ’　　（ここでＲは炭素２〜６のア
ルキル基、Ｒ′は （ｃＨ３）３Ｎ　（ｃＨ３）３Ｘ−基、ＸはＦまたは（
Ｊ、ｎは１または２）で表わされるリン化合物またはカ
ルボジイミド：スチレン／マレイン酸共重合体、ビニル
ピロリドン／マレイン酸共重合体、ビニルメチルエーテ
ル／マレイン酸共重合体、エチレンイミン／マレイン酸
共重合体、メタクリルＩＩ／メタクリロニトリル共重合
体、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸エステル共重
合体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、
乳酸、クエン酸、アスパラギン酸、ゲルコール酸、酒石
酸など。A1 compounds such as potash light bread and ammonium light bread; C compounds such as chromium light bread and chromium sulfate VB: aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, and succinaldehyde, 20-benzoquinone , p-benzoquinone, cyclohexane-1,2-dione, cyclopentane-1,
2-dione, diacetyl, 2,3-bentanedione, 2
Diketones such as 5-hexanedione and 2,5-hexanedione; Epoxides such as triglycidyl isocyanurate; Acid anhydrides such as tetraphthaloyl uride and 4,4'-diphenylmethane disulfonyl chloride; Tannic acid , gallic acid, 2゜4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, and the general formula R2NPOx2, R-N-C-N-R' (where R is an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, R' is ( cH3)3N (cH3)3X- group, X is F or (
J, n is 1 or 2) Phosphorus compound or carbodiimide: styrene/maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone/maleic acid copolymer, vinyl methyl ether/maleic acid copolymer, ethyleneimine/maleic acid copolymer resins such as methacrylic II/methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, methacrylic acid ester copolymer, glutaric acid, succinic acid, malic acid,
Lactic acid, citric acid, aspartic acid, gelcholic acid, tartaric acid, etc.

このようにして、光記録部用基材５上に設けられた感光
材層をパターン露光し、次いで現像して未露光部である
光透過部７および露光部である遮光部８とからなる第１
記録層９を形成する。パターン露光は、たとえばホトマ
スクなどのマスクを介して行なうことができる。In this way, the photosensitive material layer provided on the optical recording part base material 5 is pattern-exposed, and then developed to form a light-transmitting part 7, which is an unexposed part, and a light-blocking part 8, which is an exposed part. 1
A recording layer 9 is formed. Pattern exposure can be performed, for example, through a mask such as a photomask.

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部８を形成することもできる。Alternatively, the light shielding portions 8 can be formed in a pattern by condensing the irradiation light into a beam and directly irradiating the photosensitive material layer.

第１記録１ｉ９における光透過部７および遮光部８によ
りもたらされる画像情報は、情報そのものあるいは情報
を読取る際に、トラッキングおよびプレフォーマットと
しての働きをしている。The image information provided by the light transmitting section 7 and the light shielding section 8 in the first recording 1i9 functions as tracking and preformat when reading the information itself or the information.

感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光層に応じて分解
されて潜像が形成される。In the exposed area of the photosensitive material layer, the photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is decomposed depending on the exposed layer to form a latent image.

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しつる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。As the light source used for exposure, any light source that can decompose a compound having a diazo group or an azide group can be used, and an ultra-high pressure mercury lamp is usually preferably used.

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。なお
未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像抑
制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触して
も金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存し
ている。A latent image formed by decomposition of a compound having a diazo group or an azide group by pattern exposure as described above is brought into contact with an aqueous reducing agent solution to generate metal development nuclei. Note that in the unexposed area, the development inhibitor having a diazo group or an azide group is not decomposed, so even when it comes into contact with the reducing agent aqueous solution, no metal development nuclei are generated and it remains as a light-transmitting area.

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第
１スズ溶液（ｗｅｉｓｓ液）あるいは市販の無電解メッ
キ用のセンシタイザ−液などが特に好ましいが、一般に
は、強力な還元剤であればすべて使用できる。Reducing agents used in this case include stannous chloride, stannous sulfate, sodium borohydride, borazane compounds such as dimethylamine borazane, diethylamine borazane, and trimethylamine borazane, borane, diborane, and methyldiborane. Borane compounds, hydrazine, etc. are used. Among these, acidic stannous chloride solution, stannous sulfate solution (Weiss solution), commercially available sensitizer solution for electroless plating, etc. are particularly preferred, but in general, any strong reducing agent can be used.

次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含よれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
８が形成される。Next, when the metal development nuclei thus obtained are brought into contact with a physical developer, the metal contained in the physical developer is reduced and precipitated around the metal development nuclei, and the light shielding portion 8 is formed. It is formed.

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩　　　　
□および還元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じ
て加温した状態で使用される。As a physical developer, a water-soluble reducible metal salt is used.
An aqueous solution containing □ and a reducing agent is used at a low temperature or heated if necessary.

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバル１
−１鉄およびクロムなどのｖｔｂ族金属、銅などのＩｂ
族金属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。Examples of reducible metal salts include nickel and cobal 1.
-1 Vtb group metals such as iron and chromium, Ib such as copper
Water-soluble salts of group metals are used alone or in mixtures.

また一旦＃４塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫
酸錫で置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得
ることも可能である。It is also possible to obtain a tin or tin/copper metal layer by performing physical development with #4 salt solution and then displacement plating with stannous chloride or tin sulfate.

これらの中でも安全性、保存性を考慮するとニッケル、
銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異なり原料の純度、メ
ッキ安定化剤などから少量の異種金属やリン、イオウな
どの元素が混入するこ、とはあり得るが、特に光記録材
料としての特性に影響を与えるものではない。Among these, considering safety and preservation, nickel,
Copper and tin are preferred. However, unlike vapor deposition, it is possible that small amounts of foreign metals and elements such as phosphorus and sulfur may be mixed in due to the purity of the raw materials and the plating stabilizer, but this does not particularly affect the properties of the material as an optical recording material. do not have.

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。Specifically, the following are used as suitable water-soluble reducible metal salts.

塩化第一コバルト、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第ニクロム、ヨウ化第二りＯム、塩化
第二銅などの重金属ハライド；硫酸ニッケル、ＷＩ酸第
−鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第ニクロム、硫酸第二銅
などの重金属硫酸塩：硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝酸
第一コバルト、硝酸第二りＯム、硝酸第二銅などの重金
ＷＩ＆硝酸塩：フエラスアセテート、コバルタスアセテ
ート、クロミックアセテート、キューブリックフォルメ
ートなどの金属の有ｆｉｌＷ！塩。Cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide,
Heavy metal halides such as ferrous chloride, nichrome bromide, ferric iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous WI acid, cobaltous sulfate, nichrome sulfate, cupric sulfate, etc. Heavy metal sulfates: nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, ferric nitrate, cupric nitrate, etc. Heavy metal WI & nitrates: ferras acetate, cobalt acetate, chromic acetate, Kubrick formate, etc. metal available filW! salt.

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にだとえば１０
〜１００９／ｊ！の量で含まれることが好ましい。These reducible heavy metal salts are contained in the physical developer, for example, 10
~1009/j! Preferably, it is contained in an amount of .

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラヂン、ボラザン、ボラジン、ｔ−ブチル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２．６−ルチシンボ
ラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、
ジメチルボスフィンボラン、フェニルホスフィンボラ！ ン、ジメチルアルシンボラン、フェニルアルシンボラン
、ジメチルスチビンボラン、ジエチルスチビンボランな
どが使用できる。Examples of reducing agents include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamineborane, borane, diborane, methyldiborane, diborazine, borazane, borazine, t-butylamineborazane, pyridineborane, 2,6-ruticineborane, ethylenediamineborane, hydrazinediborane,
Dimethylbosphineborane, phenylphosphineborane! Dimethylarsine borane, phenylarsine borane, dimethylstibine borane, diethylstibin borane, etc. can be used.

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１〜
５０ｇ／Ｊの量で用いられることが好ましい。These reducing agents are contained in the physical developer in an amount of, for example, 0.1 to
Preferably, an amount of 50 g/J is used.

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成づ゛る重金属イオンが水酸化物として沈澱する
のを防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカル
ボン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、
コハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、
酒石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖
酸、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の
一種または二種以上を含ませることができる。これら錯
塩化剤は、物理現像液中にたとえば１〜１００ｇ／４１
の量で用いられることが好ましい。In order to prevent the heavy metal ions generated by dissolving the above-mentioned reducible heavy metal salts from precipitating as hydroxides, the physical developer contains, for example, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, malic acid, lactic acid, etc. hydroxycarboxylic acid,
Succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid,
One or more complexing agents consisting of organic carboxylic acids such as tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acid, and quinic acid can be included. These complex chloride agents may be contained in the physical developer at, for example, 1 to 100 g/41
It is preferable to use an amount of .

さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などのｐＨ調節剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面
活性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。In addition, physical developers contain pH adjusters such as acids and bases, buffers, preservatives, brighteners, surfactants, etc., to improve the storage and handling properties of the developer and the quality of the resulting images. etc. are added as necessary according to conventional methods.

この添加剤のうちｐＨを上げるためにはアンモニア水も
しくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好ま
しい。Among these additives, it is particularly preferable to use aqueous ammonia or aqueous sodium hydroxide solution in order to raise the pH.

また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た６５℃から９０℃の高温ニッケルメッキ浴または銅メ
ッキ機中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際得
られた画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の水
溶液で５分間程度処理することにより光透過部の透明樹
脂を一部選択的に除去することもできる。Physical development may also be performed under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath or copper plating machine at 65°C to 90°C using a sodium hypophosphite reducing agent. It is also possible to selectively remove a portion of the transparent resin in the light transmitting portion by treating the image obtained at this time with an aqueous solution of 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid for about 5 minutes, for example.

また、感光材としては、上述のような透明樹脂、現像抑
制剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほか
に、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商標）
などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジアゾ
ニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバ−フィ
ルム（登録商標）、ＰＤプロセス（登録商標）材料など
に代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモノマー、
ポリビニルケイ皮酸などに代表される光重合型光種かけ
型の７オトボリマー系材料（ホ）トナー像を形成するＣ
ｄ　Ｓ、Ｚｎ　Ｏ，ポリビニルカルバゾールなどの電子
写真感光体あるいはその転写体、（へ）フロスト像を形
成するサーモプラスチックス電子写真感光体などの電子
写真系材料、（ト）ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ
系、（チ）ダイラックス（登録商標）コバルト錯体とロ
イコ染料との組合せ系、（す）シュウ酸第二酸と鉄塩と
の組合せ系、（ヌ）スピロピラン、モリブデンタングス
テン化合物などの顔料または色素の画像を形成する材料
などが用いられつる。In addition to the above-mentioned systems consisting of transparent resins, development inhibitors, metal complex compounds, or metal compounds, examples of photosensitive materials include (a) silver halide, dry silver (registered trademark);
silver salt-based materials represented by organic silver salts such as system material, (d) acrylic monomer,
Photopolymerizable photoseeding type 7 otobolymer materials (e), such as polyvinyl cinnamic acid, which form toner images
Electrophotographic photoreceptors such as dS, ZnO, and polyvinylcarbazole or their transfer bodies, electrophotographic materials such as thermoplastic electrophotographic photoreceptors that form frost images, (th)leuco dyes and tetrabromide. Combination systems with carbon, (l) combination systems with Dylux (registered trademark) cobalt complex and leuco dye, (l) combination systems with dioxalic acid and iron salts, (n) spiropyran, molybdenum tungsten compounds, etc. Materials such as pigments or dyes that form images are used.

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。但し、上記の感光
材のうち、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（ロ）
ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑制剤
および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯化合物
または金属化合物から構成されている感光材を用いると
遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際にも高濃度の
ものとして読取り可能であり、解像度が高く、しかも明
室で取り扱える利点がある。Among the above-mentioned photosensitive materials, some types have light-shielding properties in exposed areas and light-transmitting properties in unexposed areas, while others have light-transmitting properties in exposed areas and light-blocking properties in unexposed areas. . In any case, any photosensitive material can be used as long as it can perform recording consisting of a light-transmitting area and a light-blocking area by developing as necessary after exposure. However, among the above photosensitive materials, (a) transparent resin as a binder, (b)
When using a photosensitive material composed of a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group and (c) a metal complex compound or metal compound that is reduced and becomes a metal development nucleus, the light shielding part 8 uses near infrared rays. It has the advantage that it can be read as a high-density object even when reading at low temperatures, has high resolution, and can be handled in a bright room.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘａ、電子線などが用いられうる。As the light for irradiating such a photosensitive material, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, Xa, electron beams, etc. can be used.

肛λ」ソ」里 次に、上記のようにして形成された、光透過部７および
遮光部８とからなる第１記録層９上に、反射性金属薄膜
層からなる第２記録層１０を形成する。Next, a second recording layer 10 made of a reflective metal thin film layer is formed on the first recording layer 9 made of the light transmitting part 7 and the light blocking part 8 formed as described above. Form.

反射性金属ｍｍｍは、Ｃｒ　、Ｔｉ　、Ｆ１３　、Ｃｏ
、Ｎｉ　、Ｃｕ　、Ａｇ、Ａｕ　１Ｇｃ　、Ａｌｌ　、
Ｍｇ、５ｂ１Ｔｅ、ｐｂ、Ｐｄ、ｃｄ、３ｉ、３ｎ。Reflective metal mmm is Cr, Ti, F13, Co
, Ni, Cu, Ag, Au1Gc, All,
Mg, 5b1Te, pb, Pd, cd, 3i, 3n.

３ｃ、ｉｎ、Ｇａ、Ｒｈなどの金属を単独もしくは二種
以上組合せて用いて形成される。It is formed using metals such as 3c, in, Ga, Rh, etc. alone or in combination of two or more.

反射性金属薄膜層からなる第２記録層１０に情報をエネ
ルギービームの照射によりさらに書込む場合には、低融
点金属であるＴｅ　、　Ｚｎ　、　Ｐｂ　。When information is further written on the second recording layer 10 made of a reflective metal thin film layer by irradiation with an energy beam, low melting point metals such as Te, Zn, and Pb are used.

Ｃｄ５Ｂ１．３ｎ、３ｅ、Ｉｎ、Ｑａ、Ｒｈなどの金属
を主成分として反射性金属薄膜を構成することが好まし
く、特にＴｅ　−８ｅ　、Ｔｃ　−８ｃ　−Ｐｂ　ＳＴ
ｅ　−Ｐｂ　、Ｔｅ　−８ｎ−８，Ｓｎ　−Ｃｕ　。It is preferable that the reflective metal thin film is composed mainly of metals such as Cd5B1.3n, 3e, In, Qa, Rh, etc., particularly Te-8e, Tc-8c-Pb ST
e-Pb, Te-8n-8, Sn-Cu.

Ｔｏ　−Ｃｕ　、Ｔｅ　−Ｃｕ−Ｐｂなどの合金が好ま
しい。Alloys such as To-Cu and Te-Cu-Pb are preferred.

さらにこれらの合金のうち、５〜４０原子数パーセント
のＣｕを含むＴＯ−Ｃｕ合金あるいは５〜４０＠子数パ
ーセントのＣｕおよびＣｕに対して１〜５０原子数パー
セントのＰｂを含むＴＯ−Ｃｕ−Ｐｂ合金が、読出し用
照射エネルギービームの波長を６５０　ｎｍ以上とする
場合に特に好ましい。これらの合金からなる反射性金属
１ｔｌｌ１層を第２記録層として用いると、外周部での
乱れが少ない記録ビットが得られ、しかも読出し用照射
エネルギービームの波長が６５０　ｎｍ以上特に７００
〜９００ｎｌｌである場合に、記録部であるビットにお
ける反射率と未記録部である金属ａ９膜における反射率
すなわち相対反射率が小さいという優れた情報読出し特
性を有する反射性金属薄膜が得られる。Further, among these alloys, TO-Cu alloy containing 5 to 40 atomic percent Cu or TO-Cu- alloy containing 5 to 40 atomic percent Cu and 1 to 50 atomic percent Pb to Cu. Pb alloys are particularly preferred when the wavelength of the readout irradiation energy beam is 650 nm or more. When a layer of reflective metal made of these alloys is used as the second recording layer, recording bits with less disturbance at the outer periphery can be obtained, and the wavelength of the readout irradiation energy beam is 650 nm or more, especially 700 nm.
900 nll, a reflective metal thin film can be obtained that has excellent information read characteristics such that the reflectance in bits, which are recorded parts, and the reflectance, that is, relative reflectance, in the metal A9 film, which is unrecorded parts, are small.

さらに、１〜４０原子数パーセントのＱｕを含む５ｎ−
Ｃｕ合金を用いると記録ビット形状の外周部の乱れが少
なく、かつ毒性の低い反射性金属薄膜が得られる。Furthermore, 5n- containing 1 to 40 atomic percent Qu
When a Cu alloy is used, a reflective metal thin film with less disturbance in the outer periphery of the recording bit shape and with low toxicity can be obtained.

このような反射性金属薄膜層を第１記録層上に形成する
には、上記のような金属あるいは合金を準備し、これを
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング
法、電気メツキ法などの従来既知の方法によって第１記
録層上に成膜すればよい。この反射性金ｆｉＩｋ薄ＩＩ
Ｉ層の膜厚は、２００〜１０．０ＯＯＡ好ましくは１０
００〜５０００Ａであることが好ましい。場合によって
は、上記金属からなる多層膜たとえばＩｎ１ｇ１とＴｅ
膜との多層膜も反射性金属薄膜として用いられる。また
、上記金属と有機化合物または無ａｍ化物との複合物た
とえばＴｅ　−ＣＨ１Ｔｅ　−Ｃ８、Ｔｃ　−スチレン
、５ｎ−８ｏ２、Ｇｅ５−８ｎ　、Ｓｎ　Ｓ−８す、！
’（７）ＨＨＩアルイハＳｉ　０２　／Ｔｉ　／Ｓｉ　
０２／Ａｊｌなどの多ＷＪ膜も反射性金属薄膜として用
いられうる。In order to form such a reflective metal thin film layer on the first recording layer, the above-mentioned metal or alloy is prepared and then processed by sputtering method, vacuum evaporation method, ion blating method, electroplating method, etc. The film may be formed on the first recording layer by a conventionally known method. This reflective gold fiIk thin II
The thickness of the I layer is 200 to 10.0OOA, preferably 10.0OOA.
It is preferable that it is 00-5000A. In some cases, a multilayer film made of the above metals, for example In1g1 and Te
Multilayer films with films are also used as reflective metal thin films. Also, composites of the above metals and organic compounds or atomized compounds such as Te-CH1Te-C8, Tc-styrene, 5n-8o2, Ge5-8n, Sn S-8!
'(7) HHI Aluiha Si 02 /Ti /Si
Multi-WJ films such as 02/Ajl can also be used as reflective metal films.

さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた薄膜、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金属粒
子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面
に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射性金
属ｉｆ！膜として用いられうる。In addition, there are thin films made by aggregating pigments such as cyanine to give light reflectivity, films in which pigments or metal particles such as silver are dispersed in thermoplastic resins such as nitrocellulose, polystyrene, and polyethylene, or films made from thermoplastic resins such as pigments or metal particles such as silver. Reflective metals include those with agglomerated pigments or metal particles on their surfaces. It can be used as a membrane.

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、ＴｃＦｌｔ化物、ｓｂ酸化
物、ＭＯ酸化物、Ｑｅ酸化物、■酸化物、Ｓｌ酸化物、
あるいはＴｅ酸化物−ＧＯｌＴｅ−３ｎなどの化合物が
、反射性金属薄膜として用いられつる。Furthermore, TcFlt oxides, sb oxides, MO oxides, Qe oxides,
Alternatively, compounds such as Te oxide-GOlTe-3n can be used as the reflective metal thin film.

また、カルコーゲンあるいは発色型のＭ２Ｏ３−ｃｕ　
、ｖｏ　Ｏ３−３ｎ−ｃｕが反射性金属薄膜として用い
られ、場合によっては泡形成型の有機ＭＩＩｌと金属薄
膜との多層体も反射性金属薄膜として用いられつる。In addition, chalcogen or colored M2O3-cu
, vo O3-3n-cu are used as the reflective metal thin film, and in some cases, a multilayer of a bubble-forming organic MIIl and a metal thin film can also be used as the reflective metal thin film.

ざらに光磁記録材料であるＧｄ　Ｃｏ　、Ｔｂ　Ｃ０１
Ｇｄ　　Ｆｅ　　、　　Ｄｙ　　Ｆｃ　　、　　Ｇｄ　
　Ｔｂ　　Ｆｅ　　。Gd Co, Tb C01, which are magneto-optical recording materials
GdFe, DyFc, Gd
TbFe.

Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、Ｔｂ　Ｄｙ　Ｆｅ　、Ｍｎ　Ｃｕ
　Ｂｉなども反射性金１薄膜として用いられつる。Gd Fe Bi , Tb Dy Fe , Mn Cu
Bi or the like is also used as a reflective gold film.

上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。It is also possible to use a combination of various types of reflective metal thin films as described above.

Ｋ皿亙北１ 表面硬化ＪＩＩ６は、光カード１の光記録部側の表面の
硬度を高めてその保護をすることにより、カードの携帯
や使用時に表面に傷がつくことを防止する。これにより
、カードの耐久性と書込み、読取り精度における信頼性
の向上を図ることができる。K plate Kokita 1 Surface hardening JII6 increases the hardness of the surface of the optical recording section side of the optical card 1 and protects it, thereby preventing the surface from being scratched when the card is carried or used. Thereby, it is possible to improve the durability of the card and the reliability in writing and reading accuracy.

この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬（ＩＪＪヤ
ＡＩＩ　□０３、Ｓ　ｉ　Ｏ２などの金ａｍ化物の他、
プラズマ重合膜などが用いられる。Materials for this surface hardening layer include silicone, acrylic, melamine, urethane, epoxy hard materials (gold-amide such as IJJ Ya AII □03, S i O2,
A plasma polymerized film or the like is used.

五隻ヱニＩ バリＡ７一層１２は、第１記録層９を構成する感光材料
が、第２記録層１０に対して物理的に、科学的な悪影響
を及ぼすのを防止するために設けられる。特に、第１記
録層の感光材料が吸湿性の場合、高湿度下で第２記録層
が変質するのを防止するのに有用である。The barrier A7 layer 12 is provided to prevent the photosensitive material constituting the first recording layer 9 from having a physical or scientific adverse effect on the second recording layer 10. In particular, when the photosensitive material of the first recording layer is hygroscopic, it is useful for preventing the second recording layer from deteriorating under high humidity.

バリヤー層の材料としては、アクリル系、メラニン系、
ウレタン系またはセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンやＡ１２０３　、Ｓ
！　０２なトノ金りａ酸化物の他、プラズマ重合膜など
を用いることができる。Materials for the barrier layer include acrylic, melanin,
Urethane or cellulose resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, A1203, S
! In addition to 02 Tonokin gold a oxide, a plasma polymerized film or the like can be used.

接着剤層 接着剤層４を構成する接着剤としては種々のものが用い
られつるが、例えばポリウレタンもしくはエポキシなど
の熱硬化性接着剤、あるいはアクリル樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル樹脂、ポリエチレン／酢酸ビニル共重合ｌ！４１１
ｉ等の感熱接着剤などを用いることができる。これらの
うち耐薬品性が要求されるときは熱硬化性接着剤、好ま
しくはポリウレタン接着剤が用いられる。Adhesive Layer A variety of adhesives can be used to form the adhesive layer 4, including thermosetting adhesives such as polyurethane or epoxy, acrylic resin, polyvinyl acetate resin, and polyethylene/vinyl acetate copolymer. l! 411
A heat-sensitive adhesive such as I can be used. Among these, thermosetting adhesives, preferably polyurethane adhesives, are used when chemical resistance is required.

光カードの製　方゛ 次に本発明に係る光カードの製造方法について説明する
。Method of manufacturing an optical card Next, a method of manufacturing an optical card according to the present invention will be explained.

まず上述のようにして、光記録部用基材上に表面硬化層
、第１記録層および第２記録層さらに必要に応じてバリ
ヤー層を設は光記録部を形成する。First, as described above, a surface hardening layer, a first recording layer, a second recording layer, and, if necessary, a barrier layer are provided on a substrate for an optical recording section to form an optical recording section.

この光記録部用基材は、光カードとして組立てられた゛
場合に、カード保護層としての役割をも果している。This base material for the optical recording section also plays a role as a card protective layer when assembled as an optical card.

次に、カード基材と光記録部用基材とを、光記録部の第
２記録層側がカード基材の不透明材料層側と接するよう
に、熱硬化性接着剤もしくは感熱接着剤などの接着剤層
を介して重ね合わせた後、９０〜１５０℃程度に加熱さ
れた熱ロールなどにて圧着することにより光カードを製
造できる。Next, the card base material and the base material for the optical recording section are bonded together using a thermosetting adhesive or a heat-sensitive adhesive such that the second recording layer side of the optical recording section is in contact with the opaque material layer side of the card base material. An optical card can be manufactured by stacking the two layers together with an agent layer interposed therebetween and then pressing them together using a hot roll heated to about 90 to 150°C.

場合によっては、以下のようにして光カードを製造する
こともできる。すなわち光記録部用基材上に、親水性ｅ
ｌＩＩｌをバインダーとして含む第１記録層および第２
記録層を設けた後、第２記録層である反射性金ｍ薄股上
に、アクリル樹脂などの保護膜をスクリーン印刷などに
より塗布し、この部分を耐水性とする。この際光記録部
用基材の周辺縁部にはその保護膜は設けない。次いでこ
の光記録材料を温水に浸漬し、保護膜の設けられていな
い部分の親水性樹脂を除去した後乾燥する。Depending on the case, an optical card can also be manufactured as follows. That is, on the base material for the optical recording part, the hydrophilic e
A first recording layer and a second recording layer containing lIIl as a binder.
After providing the recording layer, a protective film of acrylic resin or the like is applied by screen printing or the like on the second recording layer, which is a reflective gold film, to make this part water-resistant. At this time, the protective film is not provided on the peripheral edge of the base material for the optical recording section. Next, this optical recording material is immersed in warm water to remove the hydrophilic resin in the areas where the protective film is not provided, and then dried.

一方、白色ポリ塩化ビニルフィルムなどのカード基材に
は、必要に応じて、熱プレス法などによって光記録部の
第１記録層および第２記録層を嵌込むための四部を形成
することも表面に接着剤層を設けることもできる。On the other hand, if necessary, a card base material such as a white polyvinyl chloride film may be formed with four parts for fitting the first recording layer and the second recording layer of the optical recording part by heat pressing or the like. It is also possible to provide an adhesive layer.

次に、光記録材料とカード基材とを、光記録材料の第２
記録層がカード基材と接するようにして重ね合わせ、熱
ロールなどにて圧着することにより光カードを製造でき
る。Next, the optical recording material and the card base material are connected to the second layer of the optical recording material.
An optical card can be manufactured by overlapping the recording layer so that it is in contact with the card base material and pressing them together with a hot roll or the like.

の　　゛　　　・　　１　し 次に、上記のような反射性金ＷｉＮＷＡへの情報の書込
みおよび光カードに書込まれた情報の読出しについて説
明する。1. Next, writing of information to the reflective gold WiNWA as described above and reading of information written to the optical card will be explained.

反射性金１１１１１ｇ１［への情報の書込みは、この金
ｉ＊ａｍに波長３００〜１１０００ｍのレーザビームな
どのエネルギービームをレンズなどにより集光して照射
し、照射部分の金属を蒸散あるいは偏在させて記録ビッ
トを形成することにより行なう。To write information to the reflective gold 11111g1, the gold i*am is irradiated with an energy beam such as a laser beam with a wavelength of 300 to 11000 m, focused by a lens, etc., and the metal in the irradiated area is evaporated or unevenly distributed. This is done by forming recording bits.

この際エネルギービームの強度は、０．１〜１００ｍＷ
、パルス巾は５　ｎ５ｅｃ　〜５００　ｍ５ｅｃ１ビー
ム径は、０．１〜１００μｍであることが好ましい。At this time, the intensity of the energy beam is 0.1 to 100 mW.
, the pulse width is preferably 5 n5ec to 500 m5ec1, and the beam diameter is preferably 0.1 to 100 μm.

反射性金属薄ｍｗａ上に照射されるエネルギービームと
しては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリウム−ネ
オンレーザなとのレーザビーム、赤外線フラッシュなど
が用いられる。As the energy beam irradiated onto the reflective metal thin mwa, a laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a helium-neon laser, an infrared flash, or the like is used.

−六本発明に係る光カードに書込まれた情報の読出しは
、反射性金属１１１ｇ１層を溶融させない程度の低エネ
ルギーのエネルギービームあるいは白色光、タングステ
ン光などをレンズなどを介して光カードの保護層側から
光記録部および遮光部からなる第１記録層ならびに第２
記録層上に集光して照射し、反射光の強度と位相変化と
を関連づけて検出することによって行なわれる。-6 To read the information written on the optical card according to the present invention, the optical card is protected by using a low energy beam, white light, tungsten light, etc. that does not melt the reflective metal 111g layer through a lens or the like. A first recording layer consisting of an optical recording section and a light shielding section from the layer side, and a second recording layer.
This is performed by condensing and irradiating light onto the recording layer and detecting the intensity of the reflected light in association with the phase change.

第１記録層における遮光部は、前述のように金属現像核
を中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形
成されているため、この遮光部に読出し用照射ビームが
照射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射
率は小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあまり
吸収されずに反射性金属Ｓ膜層に達するため、この光透
過部における反射率は大きい値となる。As mentioned above, the light-shielding portion in the first recording layer is formed with a color close to black due to the metal precipitated around the metal development nucleus, so the reading irradiation beam is irradiated onto this light-shielding portion. Then, the irradiation beam is absorbed in this part and the reflectance becomes small. On the other hand, in the light transmitting part, the irradiation beam is not absorbed much and reaches the reflective metal S film layer, so the reflectance in this light transmitting part becomes a large value.

また、反射性金属薄膜層における未記録部に相当する金
ｊ！′ｆａｌＩ層では高い反射率が得られるのに対し、
記録部に相当するビット部では低い反射率となる。Also, gold j! corresponds to the unrecorded area in the reflective metal thin film layer. While the 'falI layer provides high reflectance,
The bit portion corresponding to the recording portion has a low reflectance.

このようにして、第１記録層では社交部と光透過部とに
おける反射率の相違、また第２記録層ではピット部と未
記録部とにおける反射率の相違を読取ることによって、
本発明に係る光カードに書込まれた情報を読出すことが
できる。In this way, by reading the difference in reflectance between the social part and the light transmitting part in the first recording layer, and the difference in reflectance between the pit part and the unrecorded part in the second recording layer,
Information written on the optical card according to the present invention can be read.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に係る光カードは、感光材層からなる第１記録層
および反射性金属Ｓ膜層からなる第２記録層を含む光記
録材料を有するので、以下のような効果を有する。Since the optical card according to the present invention has an optical recording material including a first recording layer made of a photosensitive material layer and a second recording layer made of a reflective metal S film layer, it has the following effects.

（ａ）　　磁気記録カードと比較して、はるかに高密度
記録が可能で、しかも書込まれた情報の改憲が著しく困
難である。(a) Compared to magnetic recording cards, much higher density recording is possible, and it is extremely difficult to modify the written information.

（ｂ）　　光記録材料に書込まれた情報を、光反射率の
相違に基いて読出すことができる。(b) Information written on an optical recording material can be read out based on differences in light reflectance.

（ｃ）　　光記録材料の第１記録層への情報の書込みを
、レーザビームの照射によらず、パターン露光などの量
産可能な方法により行ないうる。(c) Information can be written in the first recording layer of the optical recording material by a mass-producible method such as pattern exposure without laser beam irradiation.

（ｄ）　　感光材として、透明樹脂、現像抑ｉｌｌ剤、
金属錯化合物または金属化合物からなる系を用いる場合
には、明室での操作が可能となる。(d) As a photosensitive material, a transparent resin, a development inhibitor,
When using a metal complex compound or a system consisting of a metal compound, operation can be performed in a bright room.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

友凰亘−ユ 厚み４００μｍのポリカーボネートフィルム上に下引き
処理剤（信越化学−プライマーｐｃ−４）をグラビアコ
ーティングし、次にその上にシリコーン系表面硬化剤（
信越化学−Ｘ−１２−２１５０）をグラビアコーティン
グし、１００℃１分間でキュアして表面硬化層を得た。An undercoating agent (Shin-Etsu Chemical Primer PC-4) was gravure coated onto a 400 μm thick polycarbonate film, and then a silicone surface hardening agent (
Shin-Etsu Chemical (X-12-2150) was gravure coated and cured at 100°C for 1 minute to obtain a surface hardened layer.

上記のポリカーボネートフィルムの裏面に下記組成の感
光材層形成用塗布液をグラビアコーティングした。A coating solution for forming a photosensitive material layer having the following composition was gravure coated on the back side of the above polycarbonate film.

感光材層形成塗布液の塗布量は乾燥時で３ｇ／ゴであっ
た。The coating amount of the photosensitive material layer forming coating liquid was 3 g/g when dry.

ポリビニルメチルエーテル無水マレイン酸エステル（Ｇ
、　Ａ、　Ｆ　　Ｃｏｒｐ　Ｉ！Ｊ　　ガニ／ｌｌ／ｙ
’）ＡＮ１３９）　　１０％　メチルエチルケトン溶液
：２０重１部 ポリ酢酸ビニル（積木化学製　ニスニールＣ−２＞　　
２０％　メチルエチルケトン溶液＝２０重量部 アクリル系樹脂（綜研化学製　Ｌ−４０）２５％　メチ
ルセロソルブ溶液　　＝１２重聞置場化パラジウム　０
．１％　メチルセロソルブ溶液　　　　　　　　　　　
　　　：３８重山部（Ｐｄ　ＣＪ□　：濃塩酸：メチル
セロソルプ＝１　　：１０：１０００） ４−モルフォリノ−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウムホウフッ化塩（大東化学ＩＪＤＨ３００８Ｆ４）
　　１０％　メチルセロソルブ溶液：１０重量部 次に、このようにして形成された感光材面と、たて１５
μｍ１よこ５μｍのドツトをピッチ１５μｍで並んだ列
を列間ピッチ２０μｍの配列でネガティブにバターニン
グしたフォトマスクのマスク面とを密着させ、フォトマ
スク側から超高圧水銀灯（３ｋｗ、距離１ｙｉ）で１０
秒間露光した。この際使用したフォトマスクパターンは
フォトエツチング法で得た。その作製は、ガラス板上に
Ｃｒ　　　　　　−薄膜をスパッタリング法により作製
した上にフォトレジスト（シラプレー製ＡＺ１３５０）
を塗布し乾燥した表面に、位置制御したＸＹステージ上
でＨｅ−Ｃｄレーザーをビーム径２μ雇に絞って照射し
た。これにより、たて１５μｍ１よこ５μｍのドツトを
ピッチ１５μ雇で並んだ列を列間ピッチ２０μｍの配列
で形成し、さらに、レジスト現像液（シラプレー製）で
処理し、１３０℃２５分間加熱処理した後、塩化第二鉄
液にてエツチングして、ドツト部が光透過性となるパタ
ーンを得た。Polyvinyl methyl ether maleic anhydride (G
, A, F Corp I! J Gani/ll/y
') AN139) 10% methyl ethyl ketone solution: 20 parts by weight polyvinyl acetate (Made by Block Chemical Co., Ltd. Varnish Neil C-2>
20% Methyl ethyl ketone solution = 20 parts by weight Acrylic resin (Soken Chemical L-40) 25% Methyl cellosolve solution = 12 layers of palladium 0
．． 1% methyl cellosolve solution
:38 Heavy Yamabe (Pd CJ□ : concentrated hydrochloric acid : methyl cellosolp = 1 :10:1000) 4-morpholino-2,5-dibutoxybenzenediazonium borofluoride salt (Daito Chemical IJDH3008F4)
10% methyl cellosolve solution: 10 parts by weight Next, the surface of the photosensitive material thus formed and the vertical 15
A row of dots with a width of 5 μm and a pitch of 15 μm was placed in close contact with the mask surface of a negatively patterned photomask with a pitch of 20 μm between the rows, and an ultra-high pressure mercury lamp (3 kW, distance 1 yi) was used from the photo mask side for 10 min.
Exposure for seconds. The photomask pattern used at this time was obtained by photoetching. Its fabrication consisted of forming a Cr-thin film on a glass plate by sputtering, and then applying a photoresist (AZ1350 manufactured by Silapray).
The coated and dried surface was irradiated with a He-Cd laser focused to a beam diameter of 2 μm on a position-controlled XY stage. As a result, rows of dots with a length of 15 μm and a width of 5 μm arranged at a pitch of 15 μm were formed with an inter-row pitch of 20 μm, and the dots were further treated with a resist developer (manufactured by Silapray) and heated at 130° C. for 25 minutes. Then, etching was performed using a ferric chloride solution to obtain a pattern in which the dot portions were transparent to light.

次いで上記のようにしてパターン露光された感光材層を
下記組成の処理液（Ａ）、（Ｂ）にこの順序でそれぞれ
６０秒、８０秒浸漬した（処理温度３０℃）。Next, the photosensitive material layer pattern-exposed as described above was immersed in processing solutions (A) and (B) having the following compositions in this order for 60 seconds and 80 seconds, respectively (processing temperature: 30°C).

（Ａ）シバニッケル（奥野製薬製） ホウ素系還元剤　　　　二　〇。５ｇ 硫酸ニッケル　　　：３．Ｏｇ クエン酸ナトリウム　　：　　１．０ｇ水　　　　　　
　　　　　　　　　　　：　９５゜　５ｇ（Ｂ）ＴＭＰ
化学ニッケルーＡ１ ＴＭＰ化学ニッケルー８の１対１混合液硫酸ニッケル　
　　　　＝　９゜Ｏｇ 次亜リン酸ナトリウム　：　７゜Ｏｇ ＮＨ水溶液（２８％）：　　６．５ｇ クエン酸ナトリウム　　：１０．０ｇ 水　　　　　　　　　　　　　　　　　：６７．　５ｇ
しかる後、水洗、乾燥して、光透過部と遮光部に相当す
る黒色のポジティブパターンとを有する第１記録層を得
た。(A) Shiba Nickel (manufactured by Okuno Pharmaceutical) Boron-based reducing agent 20. 5g Nickel sulfate: 3. Og Sodium citrate: 1.0g water
: 95° 5g(B)TMP
Chemical nickel-A1 TMP chemical nickel-8 1:1 mixture nickel sulfate
= 9°Og Sodium hypophosphite: 7°Og NH aqueous solution (28%): 6.5g Sodium citrate: 10.0g Water: 67. 5g
Thereafter, it was washed with water and dried to obtain a first recording layer having a light-transmitting area and a black positive pattern corresponding to a light-blocking area.

上記ようにしてバターニングされた記録層上にＴｅ　−
Ｃｕ−Ｐｂ合金（スパッタターゲット組成比　モル比　
８０　：　１５　：　５）をスパッタリングして第２記
録層が形成された光記録材料を得た。Te −
Cu-Pb alloy (sputter target composition ratio molar ratio
80:15:5) was sputtered to obtain an optical recording material on which a second recording layer was formed.

このとき、Ｔｅ　−Ｃｕ−Ｐｂ薄躾は記録層の周辺縁部
に形成しなかった。At this time, no Te-Cu-Pb thin layer was formed at the peripheral edge of the recording layer.

一方、カード基材は以下の様に作製した。まず、白色硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ２００μｍ）の両面に文字図案
のパターンをスクリーン印刷法により設け、別に透明硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ１００μ而）の片面一部に磁気
記録層を巾６．５ａｍで設けた。その裏面と上記印刷済
みの白色ポリ塩化ビニルとを重ねて、ステンレス板二枚
にはさみプレス機にて１４０℃３０分間加熱加圧してカ
ード基材を得た。On the other hand, a card base material was produced as follows. First, a character design pattern was formed on both sides of a white hard polyvinyl chloride (thickness: 200 μm) using a screen printing method, and a magnetic recording layer with a width of 6.0 mm was separately formed on a portion of one side of a transparent hard polyvinyl chloride (thickness: 100 μm). It was set at 5am. The back surface and the printed white polyvinyl chloride were stacked on top of each other and placed between two stainless steel plates and heated and pressed at 140° C. for 30 minutes using a scissors press to obtain a card base material.

上記のようにして作成した光記録材料とカード基材を光
記録材料の第二記録層とカード基材の白色ポリ塩化ビニ
ル面（印刷面）とを、接着剤であるウレタン系樹脂（ア
ルプス化学産業アルポンＥＬＩ−４２００、ＥＨｔＪ４
２００の混合比１０対１）を介して重ね合わせ、ロール
などにより圧着した。２４時間放置後打ち抜き金型によ
り打抜き光カードを得た。The optical recording material and card base material created as described above are bonded to the second recording layer of the optical recording material and the white polyvinyl chloride surface (printing surface) of the card base material. Industrial Alpon ELI-4200, EHtJ4
200 with a mixing ratio of 10:1) and pressed together using a roll or the like. After standing for 24 hours, a punched optical card was obtained using a punching die.

１１五−ユ 実施例１と同様にして得られたパターニングされた第１
記録層上にバーコードによりメラニン系樹脂（大日本イ
ンキ化学工業　タフコート１１２）を塗布し、１２０℃
、３分間加熱処理してバリヤー層（１１厚３μｍ）を形
成した。次に、Ｔａ　−Ｃｕ−Ｐｂ合金（スパッタター
ゲット組成比　モル比　８０　：　１５　：　５）をス
パッタリングして第２記録層を形成して光記録材料を得
た。この際”ｒｅ　−ｃｕ　−ｐｂ　ｓ膜は記録層の周
辺縁部に形成しなかった。115-U Patterned first pattern obtained in the same manner as in Example 1
Melanin-based resin (Dainippon Ink & Chemicals, Toughcoat 112) was coated on the recording layer using a barcode, and heated at 120°C.
A barrier layer (11 thickness: 3 μm) was formed by heat treatment for 3 minutes. Next, a second recording layer was formed by sputtering a Ta-Cu-Pb alloy (sputter target composition ratio molar ratio 80:15:5) to obtain an optical recording material. At this time, the ``re-cu-pbs'' film was not formed on the peripheral edge of the recording layer.

以下実施例１と同様にしてカード基材を作製して、上記
の光記録材料と接着剤を介して貼り合わせて硬化後打抜
き、光カードを得た。Thereafter, a card base material was prepared in the same manner as in Example 1, bonded to the above-mentioned optical recording material via an adhesive, cured, and then punched out to obtain an optical card.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図および第２図は、本発明に係る光カードの断面図
である。 １・・・光カード、２・・・光カード基材、２ａ・・・
不透明材料層、２ｂ・・・透明材料層、３・・・光記録
部、４・・・接着剤層、５・・・光記録部用基材、６・
・・表面硬化層、７・・・光透過部、８・・・遮光部、
９・・・第１記録層、１０・・・第２記録層、１１・・
・磁気記録層、１２・・・バリヤー層。1 and 2 are cross-sectional views of an optical card according to the present invention. 1... Optical card, 2... Optical card base material, 2a...
Opaque material layer, 2b... Transparent material layer, 3... Optical recording section, 4... Adhesive layer, 5... Base material for optical recording section, 6.
...Surface hardening layer, 7...Light transmitting part, 8... Light shielding part,
9... First recording layer, 10... Second recording layer, 11...
-Magnetic recording layer, 12...barrier layer.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] １．カード基材上に、光記録部が設けられている光カー
ドにおいて、前記光記録部が、（ａ）光記録部用基材と
、（ｂ）この光記録部用基材上面に設けられた表面硬化
層と、（ｃ）光記録部用基材下面に設けられた、光透過
部および遮光部からなる第１記録層と、（ｄ）この第１
記録層の表面に設けられた、反射性金属薄膜層からなる
第２記録層とからなり、前記カード基材が、不透明材料
層と透明材料層との積層体からなり、前記光記録部の第
２記録層側と前記カード基材の不透明材料層側とが接着
剤層を介して接合されてなるカードであつて、前記第２
記録層にエネルギービームを照射することによつて第２
記録層への情報の書込みができ、書込まれた情報の読出
しは、表面硬化層が設けられた側から記録再生光を照射
することにより行なうことを特徴とする、ＤＲＡＷ型光
カード。1. In an optical card in which an optical recording part is provided on a card base material, the optical recording part is provided on the top surface of (a) a base material for an optical recording part, and (b) the base material for an optical recording part. (c) a first recording layer consisting of a light transmitting part and a light shielding part provided on the lower surface of the base material for an optical recording part; (d) this first recording layer;
a second recording layer made of a reflective metal thin film layer provided on the surface of the recording layer; the card base material is made of a laminate of an opaque material layer and a transparent material layer; A card in which the second recording layer side and the opaque material layer side of the card base material are bonded via an adhesive layer,
By irradiating the recording layer with an energy beam, the second
A DRAW type optical card, characterized in that information can be written to a recording layer, and the written information is read by irradiating recording and reproducing light from the side on which the surface hardening layer is provided. ２．前記光記録部の第１記録層と第２記録層とがバリヤ
ー層を介して積層されている、特許請求の範囲第１項に
記載の光カード。2. The optical card according to claim 1, wherein the first recording layer and the second recording layer of the optical recording section are laminated with a barrier layer interposed therebetween. ３．前記カード基材の透明材料層が磁気記録部を有して
いる、特許請求の範囲第１項または第２項に記載の光カ
ード。3. The optical card according to claim 1 or 2, wherein the transparent material layer of the card base material has a magnetic recording section.