JPH0614415B2 - Light card - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は情報記録カードに関し、さらに詳しくは、情報
を光学的に記録し再生することができる光カードに関す
る。TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an information recording card, and more particularly to an optical card capable of optically recording and reproducing information.

〔発明の技術的背景ならびにその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

従来、クレジットカード、ＩＤカード、キャッシュカー
ド等の情報記録カードとしては、磁気記録材料をカード
基材中に埋設した磁気カードが主として用いられてき
た。これら磁気カードは、情報の書込みならびに読出し
が比較的容易に行なえるという利点はあるが、反面、情
報の改竄が容易に行なわれ、しかも高密度記録ができな
いという問題がある。Conventionally, as information recording cards such as credit cards, ID cards and cash cards, magnetic cards in which a magnetic recording material is embedded in a card base material have been mainly used. These magnetic cards have an advantage that information can be written and read relatively easily, but on the other hand, they have a problem that information can be easily tampered with and high-density recording cannot be performed.

このような問題を解決するため、近年、情報を光学的に
記録し再生するようにした光カードの研究が進められて
いる。すなわち、光カードは、通常、レーザー等の光を
用いてカード基材上に設けられた光記録層の一部を選択
的に揮散、、変形もしくは反射率変化が生じるように変
化させることによって情報を記録し、さらにこのように
して記録された情報を光学的に再生できるようにしたも
のである。これら光カードは、従来用いられている磁気
カードと比較して記録密度を１桁以上高めることが可能
であり、カード基材上の記録層の面積も大幅に小さくす
ることができる等多くの利点を有している。In order to solve such a problem, in recent years, research on an optical card capable of optically recording and reproducing information has been advanced. That is, an optical card is usually formed by selectively changing a part of an optical recording layer provided on a card substrate by using light such as a laser so as to volatilize, deform, or change reflectance. Is recorded, and the information thus recorded can be optically reproduced. These optical cards are capable of increasing the recording density by one digit or more as compared with the conventionally used magnetic cards, and can greatly reduce the area of the recording layer on the card base material. have.

しかしながら、従来提案されている光カードには次の様
な問題がある。However, the conventionally proposed optical card has the following problems.

すなわち、一般に、情報を記録するカード類にあって
は、カードの所有者名等の可視情報を明示するために、
カード上にエンボス文字列が形成される。このようなエ
ンボス文字は目視による確認ができ便利ではあるが、反
面、偽造、変造等の改竄が容易に行なわれ得るという問
題がある。That is, in general, in cards that record information, in order to clearly show visible information such as the name of the owner of the card,
An embossed character string is formed on the card. Although such an embossed character can be visually confirmed and is convenient, on the other hand, there is a problem in that it can be easily tampered with such as forgery and alteration.

〔発明の目的および概要〕[Object and Summary of Invention]

本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、カ
ード所有者名等の可視情報を明瞭に把握することがで
き、しかもその改竄を有効に防止することができるよう
な光カードを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and provides an optical card capable of clearly grasping visible information such as a cardholder's name and effectively preventing falsification thereof. The purpose is to do.

上記目的を達成するため、本発明の光カードは、情報を
光学的に記録し再生することができる光記録部が設けら
れた光カードにおいて、前記光記録部が、コード化（符
号化）された情報と可視情報との２種類の情報記録領域
を有することを特徴としている。In order to achieve the above object, the optical card of the present invention is an optical card provided with an optical recording section capable of optically recording and reproducing information, wherein the optical recording section is coded (encoded). It is characterized in that it has two kinds of information recording areas of visible information and visible information.

本発明の光カードは、２進情報などのコード化された情
報の他に、従来エンボス文字列によって形成されていた
可視情報を光学的な記録手段で記録することができるの
で、従来の磁気カードと比較して高密度の情報記録が可
能になるとともにカードの偽造、改竄が著しく困難にな
るという効果がある。The optical card of the present invention can record visible information, which is conventionally formed by an embossed character string, by optical recording means in addition to coded information such as binary information. Compared with the above, there is an effect that it is possible to record information at high density and it becomes extremely difficult to forge and falsify the card.

〔発明の具体的説明〕[Specific Description of the Invention]

以下、本発明に係る光カードを、添付図面に基いて具体
的に説明する。Hereinafter, the optical card according to the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.

本発明の光カード１は、その正面図が第１図に示される
ように、カード基材２上に光記録部３が設けられてお
り、この光記録部３は、２進情報などのコード化された
情報を記録し再生することができるコード化情報記録領
域３ａと、目視により把握できる可視情報を記録し再生
することができる可視情報記録領域３ｂとの２種類の光
記録領域が併設されてなる。The optical card 1 of the present invention has an optical recording section 3 provided on a card substrate 2 as shown in the front view of FIG. 1. The optical recording section 3 is a code such as binary information. Two types of optical recording areas, a coded information recording area 3a capable of recording and reproducing encoded information and a visible information recording area 3b capable of recording and reproducing visually visible information, are provided side by side. It becomes.

光記録部３は、光学的な記録、再生が可能な媒体であれ
ばいずれの材料を使用することができる。例えば、Ｔｅ
またはその化合物、合金の薄膜で構成することができ、
この場合、可視情報の記録は、例えばレーザー光を集光
して可視情報領域３ｂに照射してレーザー光を移動させ
ながら文字、数字などの可視情報を記録することができ
る。さらに、文字、数字の記録用マスクを用い、キセノ
ンランプ等を光源にしてフラッシュ露光することにより
記録することもできる。The optical recording unit 3 may be made of any material as long as it is a medium capable of optical recording and reproduction. For example, Te
Alternatively, it can be composed of a thin film of its compound or alloy,
In this case, for the visible information recording, for example, visible information such as letters and numbers can be recorded while irradiating the visible light on the visible light information area 3b by focusing the laser light and moving the laser light. Further, it is possible to carry out recording by flash exposure using a xenon lamp or the like as a light source using a recording mask for letters and numbers.

以下、本発明を、更に具体的な実施態様に即して説明す
る。Hereinafter, the present invention will be described with reference to more specific embodiments.

本発明の具体的実施態様に係る光カード１は、その概念
断面図が第２図に示されるように、カード基材２と光記
録部３とが接着剤層３を介して接合一体化されてなる。In the optical card 1 according to the specific embodiment of the present invention, as shown in the conceptual cross-sectional view of FIG. 2, the card substrate 2 and the optical recording portion 3 are joined and integrated via the adhesive layer 3. It becomes.

光記録部３は、光記録部用基材５と、この基材５の上面
に設けられた表面硬化層６と、基材５の下面に設けられ
た、光透過部７と遮光部８とからなる第１記録層９と、
この第１記録層９の下面に設けられた反射性金属薄膜層
からなる第２記録層１０とが各々積層形成されてなる。
そして、光記録部３は、コード化情報記録領域３ａと可
視情報記録領域３ｂ（図示せず）とを有している。The optical recording part 3 includes a base material 5 for the optical recording part, a surface hardened layer 6 provided on the upper surface of the base material 5, and a light transmission part 7 and a light shielding part 8 provided on the lower surface of the base material 5. A first recording layer 9 consisting of
The second recording layer 10 formed of a reflective metal thin film layer provided on the lower surface of the first recording layer 9 is laminated and formed.
The optical recording section 3 has a coded information recording area 3a and a visible information recording area 3b (not shown).

一方、カード基材２は、不透明材料層２ａと透明材料層
２ｂとの積層体からなる。場合によっては、透明材料層
２ｂ中に磁気記録層１１が設けられていてもよい。ま
た、第１記録層９、第２記録層１０は、光記録部用基材
５の全面ではなく一部表面上に設けることもできる。さ
らに、必要に応じてＩＣメモリー、写真、彫刻画像、文
字、マーク、インプリントと称する浮き出し文字など
を、光カードの表面もしくは裏面に併設してもよい。こ
のようにすることにより、１枚のカードで種々の再生方
式に対応でき、また偽造がより効果的に防止できる。On the other hand, the card substrate 2 is composed of a laminated body of an opaque material layer 2a and a transparent material layer 2b. In some cases, the magnetic recording layer 11 may be provided in the transparent material layer 2b. The first recording layer 9 and the second recording layer 10 may be provided not on the entire surface of the optical recording substrate 5 but on a part of the surface. Further, an IC memory, a photograph, an engraved image, characters, marks, embossed characters called imprint, etc. may be provided on the front surface or the back surface of the optical card, if necessary. By doing so, it is possible to cope with various reproduction systems with one card, and it is possible to more effectively prevent forgery.

第３図に示す別の具体例における光カード１において
は、光記録部３の第１記録層９と第２記録層１０との間
にバリヤー層１２が形成されており、その他の構成は上
記第２図の光カードの場合と同様である。このバリヤー
層１２は、湿度の影響による第２記録層１０の金属薄膜
層の変質を防止するために設けられるものであり、特に
第１記録層の感光材料が吸湿性材料の場合に有用であ
る。In an optical card 1 according to another specific example shown in FIG. 3, a barrier layer 12 is formed between the first recording layer 9 and the second recording layer 10 of the optical recording section 3, and other configurations are as described above. This is similar to the case of the optical card shown in FIG. The barrier layer 12 is provided to prevent alteration of the metal thin film layer of the second recording layer 10 due to the influence of humidity, and is particularly useful when the photosensitive material of the first recording layer is a hygroscopic material. .

以下、本発明の光カードの各構成部材について更に詳細
に説明する。Hereinafter, each component of the optical card of the present invention will be described in more detail.

カード基材 カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられうる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチルなど
のアクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラ
ール、アセチルセルロース、スチレン／ブタジエン共重
合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
トなどが用いられる。場合によっては、鉄、ステンレ
ス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シート、
合成紙、紙なども用いられうる。このうち、不透明材料
層２ａとしては、白色硬質ポリ塩化ビニルが好ましく用
いられ、透明材料層２ｂとしては、透明硬質ポリ塩化ビ
ニルが好ましく用いられる。As the card base material 2, any material that can be used as a base material for a normal card can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, acrylic polymer such as polymethylmethacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, acetyl cellulose, styrene / butadiene copolymer, polyethylene, Polypropylene, polycarbonate, etc. are used. In some cases, metal sheets such as iron, stainless steel, aluminum, tin, copper, zinc,
Synthetic paper, paper, etc. may also be used. Of these, white hard polyvinyl chloride is preferably used as the opaque material layer 2a, and transparent hard polyvinyl chloride is preferably used as the transparent material layer 2b.

光記録部用基材 光記録部用基材５としては、光透過性であるガラス、セ
ラミック、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布な
どあらゆるタイプの材料が用いられうるが、生産性およ
び平滑性の点からガラスあるいはプラスチックフィルム
が好ましい。プラスチックとしては、セルロース誘導
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエー
テル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメ
チルペンテン樹脂、セルローストリアセテート樹脂など
を用いることができ、透明性および平滑性の点から、セ
ルローストリアセテート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
スルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂などが特に好ま
しい。これら基材５には、必要に応じて、コロナ放電処
理、プラズマ処理、プライマー処理などの接着性改良の
ための前処理をしてもよい。Optical Recording Substrate As the optical recording substrate 5, any type of material such as glass, ceramic, paper, plastic film, woven fabric, non-woven fabric, etc., which is transparent to light, can be used. From the viewpoint of, glass or plastic film is preferable. As the plastic, cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyether resins, polysulfone resins, polyamide resins, polymethylpentene resins, cellulose triacetate resins, etc. can be used. From the viewpoint of transparency and smoothness, cellulose triacetate, polyethylene terephthalate, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, polysulfone resin, polymethylpentene resin and the like are particularly preferable. If necessary, these base materials 5 may be subjected to pretreatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and primer treatment for improving adhesiveness.

第１記録層 第１記録層９は、光透過部７および遮光部８から構成さ
れている。この第１記録層９は、たとえば未露光部が光
透過性となり露光部が遮光性となる感光材をパターン露
光し、次いで現像することによって形成される。場合に
よっては、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過性
となる感光材をパターン露光し次いで現像することによ
って、記録層９を形成してもよい。First Recording Layer The first recording layer 9 is composed of a light transmitting portion 7 and a light shielding portion 8. The first recording layer 9 is formed, for example, by pattern-exposing a photosensitive material in which the unexposed portion is light-transmissive and the exposed portion is light-shielding, and then developed. In some cases, the recording layer 9 may be formed by pattern-exposing and then developing a photosensitive material in which the unexposed portion becomes light-shielding and the exposed portion becomes light-transmissive.

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透明樹
脂、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の
現像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物から構成されている。この
感光材においては、バインダーとしての透明樹脂１００
重量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分
解性の現像抑制剤は１〜１００重量部好ましくは２０〜
５０重量部の量で存在し、還元されて金属現像核となる
金属錯化合物または金属化合物は０．１〜１００重量部
好ましくは１〜１０重量部の量で存在している。上記の
現像抑制剤、金属錯化合物または金属化合物は、バイン
ダーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散されている
が、好ましくは、溶解されている。The photosensitive material includes, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or a metal compound which becomes a metal development nucleus when reduced. It is configured. In this photosensitive material, the transparent resin 100 as a binder is used.
1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 100 parts by weight, of the photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group is used.
The metal complex compound or metal compound which is present in an amount of 50 parts by weight and is reduced to form metal development nuclei is present in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight. The above-mentioned development inhibitor, metal complex compound or metal compound is dissolved or dispersed in the transparent resin as a binder, but is preferably dissolved.

透明樹脂としては、新油性あるいは新水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。新油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重
合樹脂、アクリル酸／酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン
／酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する樹
脂、酢酸セルロースなどの水酸基を有する樹脂、カルボ
ン酸基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系樹
脂などが挙げられる。As the transparent resin, either a new oil-based or a new water-based transparent resin can be used. Examples of the new oily transparent resin include polyvinyl acetate resin, vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer resin, acrylic acid / vinyl acetate copolymer resin, ethylene / vinyl acetate copolymer resin and other resins having ester groups, cellulose acetate, etc. Examples thereof include a resin having a hydroxyl group and a modified vinyl acetate resin having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group.

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれら
の新油性透明樹脂に添加することも高感度化のために有
効である。In addition, it is effective to add a cellulose derivative such as nitrocellulose, which has a property of being deformed in a heat mode in view of optical recording characteristics, to these new oily transparent resins for high sensitivity.

また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カゼイ
ン、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子
化合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミ
ン、ポリビニルアルコール（部分ケン化ポリ燦々ビニ
ル）、ポリアクリル酸、ボリアクリルアミド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸
共重合体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし
親水性樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用
可能である。バインダーとしての親水性透明樹脂には、
この透明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接
触させる際に、物理現像液が感光材層に浸透して物理現
像が可能となる程度の親水性を有することが好ましい。Further, as the hydrophilic transparent resin, natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic and shellac, carboxymethyl cellulose, ovalbumin, polyvinyl alcohol (partially saponified poly vinyl), polyacrylic acid, polyacrylamide Although synthetic resins such as polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and maleic anhydride copolymers are used, other than the above, as long as it is a water-soluble or hydrophilic resin. For hydrophilic transparent resin as a binder,
When the photosensitive material layer is formed from this transparent resin and brought into contact with the physical developing solution, it is preferable that the physical developing solution has hydrophilicity such that the physical developing solution penetrates into the photosensitive material layer to enable physical development.

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物をエタノール溶
解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効であ
る。In addition, it is also effective to dissolve a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode in terms of optical recording characteristics, in ethanol and add it to the above hydrophilic transparent resin.

現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とパラホルムアルデヒドより得ら
れる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体的に
は、ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム
塩化亜鉛複塩、ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−βヒドロキシエチ
ルアミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−モル
フォリノ−２，６−ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩
化亜鉛複塩、４−モルフォリノ−２，５−ジブトキシベ
ンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミ
ノ−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛
複塩、４−（４′−メトキシベンゾイルアミノ）−２，
５−ジエトキシベンゼンアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−
（ｐ−トルイルメルカプト）−２，５−ジメトキシベン
ゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−４′−メ
トキシジフェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−ジアゾ−３
−メトキシ−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジア
ゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜
鉛複塩の代わりに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸
塩なども使用できる。As the development inhibitor, a compound having a diazo group or an azide group is used. As the compound having a diazo group, a zinc chloride double salt or a borofluoride salt having a diazo group,
Alternatively, compounds that are condensation products obtained from these compounds and paraformaldehyde are preferable. More specifically, p-N, N-diethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, p-N-ethyl-N-β hydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,6-diethoxybenzene. Diazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2,5-dibutoxybenzene diazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5-diethoxybenzene diazonium zinc chloride double salt, 4- (4'-methoxybenzoylamino) ) -2,
5-diethoxybenzeneazonium zinc chloride double salt, 4-
(P-Toluylmercapto) -2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine zinc chloride double salt, 4-diazo-3
Instead of the zinc chloride double salt having a diazo group such as -methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt or the above zinc chloride double salt, the above-mentioned borofluoride, sulfate, phosphate and the like can be used.

アジド基を有する化合物としては、ｐ−アジドアセトフ
ェノン、４，４′−ジアジドカルコン、２，６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−アセトン、２，６−ビス−
（４′−アジドベンザル）−シクロヘキサノン、２，６
−ビス−（４′−アジドベンザル）−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２，６−ビス（４′−アジドスチリル）−
アセトン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ基も
しくはアジド基を有する限り上記以外の化合物も使用す
ることもでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド
基を有する化合物を任意に２種以上併用して使用するこ
ともできる。Examples of the compound having an azido group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidochalcone and 2,6-bis-
(4'-azidobenzal) -acetone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal) -cyclohexanone, 2,6
-Bis- (4'-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone, 2,6-bis (4'-azidostyryl)-
Acetone, azidopyrene, etc. can be used. Compounds other than the above may be used as long as they have a diazo group or an azido group, and two or more compounds having the above-mentioned diazo group or azido group may be optionally used in combination.

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルホン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。When a compound having a diazo group is used, it is preferable to use a stabilizer that stabilizes this compound, and an organic carboxylic acid or organic sulfonic acid can be used as this stabilizer. -It is preferable to use toluene sulfonic acid or the like.

次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。Next, a metal complex compound or a metal compound that is reduced to become a metal development nucleus will be described.

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることができ
る。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いられ
る。First, as a metal complex compound that is reduced to form a metal development nucleus, a complex compound of a metal such as palladium, gold, silver, platinum, or copper is used, and a ligand serving as an electron donor is usually used for these metals. Known ones can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（II）塩、ジクロ
ロエチレンジアミンパラジウム（II）塩、ジクロロ（エ
チレンジアミン）白金（Ｖ）塩、テトラクロロジアンミ
ン白金（IV）塩、ジクロロビス（エチレンジアミン）白
金（IV）塩、テトラエチルアンモニウム銅（II）塩、ビ
ス（エチレンジアミン銅（II）塩。Bis (ethylenediamine) palladium (II) salt, dichloroethylenediaminepalladium (II) salt, dichloro (ethylenediamine) platinum (V) salt, tetrachlorodiammineplatinum (IV) salt, dichlorobis (ethylenediamine) platinum (IV) salt, tetraethylammoniumcopper (II) salt, bis (ethylenediamine copper (II) salt.

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、２ヵ
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第１級、第２級
もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミル二酢酸などの化合物が用いられる。Further, as a ligand that forms a metal complex compound, it is preferable to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more positions because the formed metal complex compound has high stability. . Examples of the chelating agent include primary, secondary or tertiary amines, oximes, imines, and ketones. More specifically, dimethylglyoxime, dithione, oxine, acetylacetone, glycine, Compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and uramildiacetic acid are used.

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス（２，
２′−ビピリジン）パラジウム（II）塩、ビス（アセチ
ルアセトナート）パラジウム（II）、ビス（Ｎ，Ｎ−ジ
エチルエチレンジアミン）銅（II）塩、ビス（２，２′
−ビピリジン）銅（II）塩、ビス１，１０−フェナント
ロリン）銅（II）塩、ビス（ジメチルグリオキシマー
ト）銅（II）、ビス（アセチルアセトナート）銅（I
I）、ビス（アセチルアセトナート）白金（II）などが
好ましい。As the one using the above chelating agent, bis (2,2
2′-bipyridine) palladium (II) salt, bis (acetylacetonato) palladium (II), bis (N, N-diethylethylenediamine) copper (II) salt, bis (2,2 ′)
-Bipyridine) copper (II) salt, bis 1,10-phenanthroline) copper (II) salt, bis (dimethylglyoximate) copper (II), bis (acetylacetonato) copper (I
I), bis (acetylacetonato) platinum (II) and the like are preferable.

還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。As a metal compound that is reduced to give a metal development nucleus, a metal compound such as a chloride of a metal such as palladium, gold, silver, platinum, or copper, or a water-soluble salt such as a nitrate is used. Specifically, electroless plating is used. Of these, salts of palladium chloride, silver nitrate, gold tetrahydrochloride, etc. contained in the activator solution are preferable, and of these, the salt of palladium is particularly preferable.

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、
（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像
抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯
化合物または金属化合物は、バインダーとしての透明樹
脂に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗布に
適した粘度である１０〜１０００センチポイズを有する
感光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成用塗
布液は、光記録部用基材５上に通常０．１〜３０μｍの
膜厚に塗布されて感光材層が形成される。As mentioned above, (a) a transparent resin as a binder,
(B) A photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azido group, and (c) a metal complex compound or a metal compound which becomes a metal development nucleus when reduced together with a solvent selected according to the transparent resin as a binder. The mixture is mixed to obtain a photosensitive material layer forming coating solution having a viscosity suitable for coating of 10 to 1000 centipoise. This coating solution for forming a photosensitive material layer is applied on the optical recording substrate 5 to a film thickness of usually 0.1 to 30 μm to form a photosensitive material layer.

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混和性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、新油性透明樹脂を用いる場合に
は、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎブ
チルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の
高い溶剤が好ましく用いられる。As a solvent to dissolve the transparent resin as a binder,
Although various solvents can be used, when a hydrophilic transparent resin is used, a water-miscible solvent such as water, a lower alcohol, a ketone or an ether, or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent is used. When a new oily transparent resin is used, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, and polar such as methyl cellosolve. Solvents having a high viscosity are preferably used.

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。
硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の量で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光材層上に塗布することにより行なうこと
ができる。When a hydrophilic transparent resin is used, it is desirable to carry out a hardening treatment after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developing solution during the physical development processing.
For the hardening treatment, for example, the following compounds are preliminarily mixed in a coating liquid for forming a photosensitive material in an amount of 0.1 to 50 parts with respect to 100 parts of a transparent resin, or an aqueous solution of the following compounds is already formed. It can be carried out by coating on the photosensitive material layer.

カリ明バン、アンモニウム明バンなどのＡｌ化合物；ク
ロム明バン、硫酸クロムなどのＣｒ化合物；ホルムアル
デヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メチ
ルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアルデ
ヒド類、；ｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シク
ロヘキサン−１，２−ジオン、シクロペンタン−１，２
−ジオン、ジアセチル、２，３−ペンタンジオン、２，
５−ヘキサンジオン、２，５−ヘキセンジオンなどのジ
ケトン；トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエポキ
シド；テトラフタロイルクロリド、４，４′−ジフェニ
ルメタンジスルフォニルクロリドなどの酸無水物；タン
ニン酸、没食子酸、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ
−ｓ−トリアジン、ならびに一般式Ｒ_２ＮＰＯＸ_２、 （Ｒ_２Ｎ）_ｎＰＯＸ_３−ｎ、 および Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ′（ここでＲは炭素２〜６のアルキ
ル基、Ｒ′は （ＣＨ_３）_３Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３Ｘ⁻基、ＸはＦまたはＣ
ｌ、ｎは１または２）で表わされるリン化合物またはカ
ルボジイミド；スチレン／マレイン酸共重合体、ビニル
ピロリドン／マレイン酸共重合体、ビニルメチルエーテ
ル／マレイン酸共重合体、エチレンイミン／マレイン酸
共重合体、メタクリル酸／メタクリロニトリル共重合
体、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸エステル共重
合体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、
乳酸、クエン酸、アスパラギン酸、グルコール酸、酒石
酸など。Al compounds such as potassium alum and ammonium alum; Cr compounds such as chromium alum and chromium sulfate; aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, succinaldehyde, o-benzoquinone, p -Benzoquinone, cyclohexane-1,2-dione, cyclopentane-1,2
-Dione, diacetyl, 2,3-pentanedione, 2,
Diketones such as 5-hexanedione and 2,5-hexenedione; epoxides such as triglycidyl isocyanurate; acid anhydrides such as tetraphthaloyl chloride and 4,4′-diphenylmethanedisulfonyl chloride; tannic acid, gallic acid, 2,4-dichloro-6-hydroxy--s- triazine and the general formula _{R 2 NPOX 2,, (R} 2 n) n POX 3-n, And R-N = C = N- R '( where R is an alkyl group having a carbon 2 to 6, R' is ^{_{(CH 3) 3 N + (}} CH 3) 3 X - group, X is F or C
l and n are phosphorus compounds or carbodiimides represented by 1 or 2); styrene / maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone / maleic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic acid copolymer, ethyleneimine / maleic acid copolymer Resins such as polymer, methacrylic acid / methacrylonitrile copolymer, polymethacrylamide, methacrylic acid ester copolymer, glutaric acid, succinic acid, malic acid,
Lactic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, etc.

このようにして、光記録部用基材５上に設けられた感光
材層をパターン露光し、次いで現像して未露光部である
光透過部７および露光部である遮光部８とからなる第１
記録層９を形成する。パターン露光は、たとえばホトマ
スクなどのマスクを介して行なうことができる。In this way, the photosensitive material layer provided on the optical recording portion base material 5 is pattern-exposed and then developed to form a light-transmitting portion 7 which is an unexposed portion and a light-shielding portion 8 which is an exposed portion. 1
The recording layer 9 is formed. The pattern exposure can be performed through a mask such as a photomask.

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部８を形成することもできる。It is also possible to collect the irradiation light in the form of a beam and directly irradiate the photosensitive material layer to form the light shielding portion 8 in a pattern.

第１記録層９における光透過部７および遮光部８により
もたらされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を
読取る際に、トラッキングおよびプレフォーマットとし
ての働きをしている。The image information provided by the light transmitting portion 7 and the light shielding portion 8 in the first recording layer 9 serves as tracking and preformatting when reading the information itself or the information.

感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光量に応じて分解
されて潜像が形成される。In the exposed portion of the photosensitive material layer, the photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azide group is decomposed according to the amount of exposure to form a latent image.

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しうる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。As the light source used for the exposure, any light source capable of decomposing a compound having a diazo group or an azido group can be arbitrarily used, and an ultrahigh pressure mercury lamp is usually preferably used.

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。なお
未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像抑
制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触して
も金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存し
ている。The latent image formed by decomposition of the compound having a diazo group or azido group by the above-described pattern exposure is brought into contact with an aqueous reducing agent solution to generate metal development nuclei. In the unexposed area, since the development inhibitor having a diazo group or an azido group is not decomposed, metal development nuclei do not occur even when contacted with the reducing agent aqueous solution and remain as the light transmitting area.

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第
１スズ溶液（weiss液）あるいは市販の無電解メッキ用
のセンシタイザー液などが特に好ましいが、一般には、
強力な還元剤であればすべて使用できる。Examples of the reducing agent used in this case include stannous chloride, stannous sulfate, sodium borohydride, boramine-based compounds such as dimethylamine borazane, diethylamine borazane and trimethylamine borazane, borane, diborane and methyldiborane. Borane compounds, hydrazine and the like are used. Of these, an acidic stannous chloride solution, a stannous sulfate solution (weiss solution) or a commercially available sensitizer solution for electroless plating is particularly preferable, but in general,
Any strong reducing agent can be used.

次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
８が形成される。Then, when the metal developing nuclei thus obtained are brought into contact with a physical developing solution, the metal contained in the physical developing solution is reduced and the metal developing nuclei are mainly deposited to form the light shielding portion 8. To be done.

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩および還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used at a low temperature or in a heated state if necessary.

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバル
ト、鉄およびクロムなどのVIｂ族金属、銅などのＩｂ族
金属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。ま
た一旦銅塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫酸錫
で置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得るこ
とも可能である。これらの中でも安全性、保存性を考慮
するとニッケル、銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異な
り原料の純度、メッキ安定化剤などから少量の異種金属
やリン、イオウなどの元素が混入することはあり得る
が、特に光記録材料としての特性に影響を与えるもので
はない。As the reducible metal salt, for example, water-soluble salts of Group VIb metals such as nickel, cobalt, iron and chromium and Group Ib metals such as copper are used alone or in combination. It is also possible to obtain a tin or tin / copper-based metal layer by carrying out physical development once with a copper salt solution and then displacement plating with stannous chloride or tin sulfate. Among these, nickel, copper and tin are preferable in consideration of safety and storability. However, unlike vapor deposition, a small amount of different metals or elements such as phosphorus and sulfur may be mixed from the raw material purity, plating stabilizer, etc., but this does not particularly affect the characteristics as an optical recording material.

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。Specific examples of suitable water-soluble reducible metal salts include the following.

塩化第一コバルト、ヨウ化第一コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第二クロム、ヨウ化第二クロム、塩化
第二銅などの重金属ハライド；硫酸ニッケル、硫酸第一
鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第二クロム、硫酸第二銅な
どの重金属硫酸塩；硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝酸第
一コバルト、硝酸第二クロム、硝酸第二銅などの重金属
硝酸塩；フェラスアセテート、コバルタスアセテート、
クロミックアセテート、キュープリックフォルメートな
どの金属の有機酸塩。Cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide,
Heavy metal halides such as ferrous chloride, chromic bromide, chromic iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous sulfate, cobaltous sulfate, chromic sulfate, cupric sulfate, etc. Heavy metal sulfates; heavy metal nitrates such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, chromic nitrate, cupric nitrate; ferras acetate, cobaltas acetate,
Organic acid salts of metals such as chromic acetate and cupric formate.

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば１０
〜１００ｇ／の量で含まれることが好ましい。These reducible heavy metal salts are contained in the physical developer in an amount of, for example, 10
It is preferably contained in an amount of -100 g /.

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラザン、ボラゼン、ボラジン、ｔ−ブチル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２，６−ルチジンボ
ラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、
ジメチルホスフィンボラン、フェニルホスフィンボラ
ン、ジメチルアルジンボラン、フェニルアルジンボラ
ン、ジメチルスチビンボラン、ジエチルスチビンボラン
などが使用できる。Examples of the reducing agent include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamine borane, borane, diborane, methyldiborane, diborazane, borazene, borazine, t-butylamineborazane, pyridineborane, 2,6-lutidineborane, ethylenediamineborane, hydrazinediborane,
Dimethylphosphine borane, phenylphosphine borane, dimethyl argin borane, phenyl argin borane, dimethyl stibine borane, diethyl stibine borane, etc. can be used.

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１〜
５０ｇ／の量で用いられることが好ましい。These reducing agents may be added to the physical developer in an amount of, for example, 0.1 to
It is preferably used in an amount of 50 g /.

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成する重金属イオンが水酸化物として沈澱するの
を防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、コ
ハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、酒
石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖
酸、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の
一種または二種以上を含ませることができる。これら錯
塩化剤は、物理現像液中にたとえば１〜１００ｇ／の
量で用いられることが好ましい。In the physical developer, in order to prevent the heavy metal ions generated by the dissolution of the above-mentioned reducible heavy metal salt from precipitating as hydroxide, for example, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, malic acid, lactic acid, and other hydroxy compounds are used. Carboxylic acid, succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acids, may contain one or more complex chlorinating agents consisting of organic carboxylic acids such as quinic acid it can. These complex chloride agents are preferably used in the physical developer in an amount of, for example, 1 to 100 g /.

さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などのｐＨ調節剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面
活性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。Further, in the physical developer, in order to improve the storability and operability of the developer and the quality of the obtained image, a pH adjusting agent such as acid and base, a buffering agent, a preservative, a whitening agent and a surfactant are added. Etc. are added as necessary according to a conventional method.

この添加剤のうちｐＨを上げるためにはアンモニア水も
しくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好ま
しい。Among these additives, it is particularly preferable to use ammonia water or sodium hydroxide aqueous solution for increasing the pH.

また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た６５℃から９０℃の高温ニッケルメッキ浴または銅メ
ッキ欲中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際得
られた画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の水
溶液で５分間程度処理することにより光透過部の透明樹
脂を一部選択的に除去することもできる。The physical development may be carried out under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath at 65 ° C. to 90 ° C. using a sodium hypophosphite reducing agent or in a copper plating bath. At this time, the transparent resin in the light transmitting portion can be selectively removed partially by treating the image obtained at this time with an aqueous solution of 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid for about 5 minutes.

また、感光材としては、上述のような透明樹脂、現像抑
制剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほか
に、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商標）
などの有機銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジアゾ
ニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバーフィ
ルム（登録商標）、ＰＤプロセス（登録商標）材料など
に代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモノマー、
ポリビニルケイ皮酸などに代表される光重合型光橋かけ
型のフォトポリマー系材料（ホ）トナー像を形成するＣ
ｄＳ、ＺｎＯ、ポリビニルカルバゾールなどの電子写真
感光体あるいはその転写体、（ヘ）フロスト像を形成す
るサーモプラスチックス電子写真感光体などの電子写真
系材料、（ト）ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ系、
（チ）ダイラックス（登録商標）コバルト錯体とロイコ
染料との組合せ系、（リ）シュウ酸第二酸と鉄塩との組
合せ系、（ヌ）スピロピラン、モリブデンタングステン
化合物などの顔料または色素の画像を形成する材料など
が用いられうる。Further, as the photosensitive material, in addition to the transparent resin, the development inhibitor, the metal complex compound or the metal compound-based system as described above, (a) silver halide and dry silver (registered trademark)
Silver salt-based materials typified by organic silver salts, such as (b) diazonium salt-coupler combination systems, (c) Culver film (registered trademark), PD process (registered trademark) materials, and other diazo-based materials Material, (d) Acrylic monomer,
Photopolymerizable photocrosslinking type photopolymer material (e.g., polyvinyl cinnamic acid) (e) C that forms a toner image
An electrophotographic photosensitive member such as dS, ZnO or polyvinylcarbazole or its transfer member, (f) an electrophotographic material such as a thermoplastics electrophotographic photosensitive member which forms a frost image, (to) a leuco dye and carbon tetrabromide Combination system of
(H) Image of pigment or dye such as combination system of Dilux (registered trademark) cobalt complex and leuco dye, combination system of (ri) oxalic acid secondary acid and iron salt, (N) spiropyran, molybdenum tungsten compound A material for forming the can be used.

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。但し、上記の感光
材のうち、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（ロ）
ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑制剤
および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯化合物
または金属化合物から構成されている感光材を用いると
遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際にも高濃度の
ものとして読取り可能であり、解像度が高く、しかも明
室で取り扱える利点がある。Among the above-mentioned photosensitive materials, some of the photosensitive materials have a light-shielding property in the exposed areas and have a light-transmitting property in the unexposed areas, while some materials have a light-transmitting property in the exposed areas and have light-shielding properties in the unexposed areas. . In any case, any photosensitive material can be used as long as it is possible to perform recording consisting of a light transmitting portion and a light shielding portion by developing after exposure after exposure. However, among the above photosensitive materials, (a) a transparent resin as a binder, (b)
When a photodecomposable development inhibitor having a diazo group or an azido group and (c) a metal complex compound or a photosensitive material composed of a metal compound which becomes a metal development nucleus when reduced, near-infrared rays are used for the light-shielding portion 8. It is possible to read as a high density even when reading, and there is an advantage that the resolution is high and it can be handled in a bright room.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられうる。Ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, electron beams and the like can be used as the irradiation light to such a photosensitive material.

金属錯化合物または金属化合物から構成されている感光
材を用いると遮光部８が近赤外線を使用した読取りの際
にも高濃度のものとして読取り可能であり、解像度が高
く、しかも明室で取り扱える利点がある。The use of a metal complex compound or a photosensitive material composed of a metal compound allows the light-shielding portion 8 to be read as a high-density one even when reading using near-infrared light, has a high resolution, and can be handled in a bright room. There is.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、Ｘ線、電子線などが用いられうる。Ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, electron beams and the like can be used as the irradiation light to such a photosensitive material.

第２記録層 次に、上記のようにして形成された、光透過部７および
遮光部８とからなる第１記録層９上に、反射性金属薄膜
層からなる第２記録層１０を形成する。Second Recording Layer Next, the second recording layer 10 made of a reflective metal thin film layer is formed on the first recording layer 9 made of the light transmitting portion 7 and the light shielding portion 8 formed as described above. .

反射性金属薄膜層は、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐ
ｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ
などの金属を単独もしくは二種以上組合せて用いて形成
される。The reflective metal thin film layer includes Cr, Ti, Fe, Co, Ni,
Cu, Ag, Au, Ge, Al, Mg, Sb, Te, P
b, Pd, Cd, Bi, Sn, Se, In, Ga, Rb
It is formed by using one metal or a combination of two or more metals.

反射性金属薄膜層からなる第２記録層１０に情報をエネ
ルギービームの照射によりさらに書込む場合には、低融
点金属であるＴｅ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓ
ｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂなどの金属を主成分として反射性
金属薄膜を構成することが好ましく、特にＴｅ−Ｓｅ、
Ｔｅ−Ｓｅ−Ｐｂ、Ｔｅ−Ｐｂ、Ｔｅ−Ｓｎ−Ｓ、Ｓｎ
−Ｃｕ、Ｔｅ−Ｃｕ、Ｔｅ−Ｃｕ−Ｐｂなどの合金が好
ましい。When information is further written on the second recording layer 10 made of a reflective metal thin film layer by irradiation with an energy beam, Te, Zn, Pb, Cd, Bi, Sn and S which are low melting point metals are used.
It is preferable that the reflective metal thin film is composed mainly of a metal such as e, In, Ga, or Rb, and especially Te-Se,
Te-Se-Pb, Te-Pb, Te-Sn-S, Sn
Alloys such as -Cu, Te-Cu and Te-Cu-Pb are preferable.

さらにこれらの合金のうち、５〜４０原子数パーセント
のＣｕを含むＴｅ−Ｃｕ合金あるいは５〜４０原子数パ
ーセントのＣｕおよびＣｕに対して１〜５０原子数パー
セントのＰｂを含むＴｅ−Ｃｕ−Ｐｂ合金が、読出し用
照射エネルギービームの波長を６５０ｎｍ以上とする場
合に特に好ましい。これらの合金からなる反射性金属薄
膜層を第２記録層として用いると、外周部での乱れが少
ない記録ピットが得られ、しかも読出し用照射エネルギ
ービームの波長が６５０ｎｍ以上特に７００〜９００ｎ
ｍである場合に、記録部であるピットにおける反射率と
未記録部である金属薄膜における反射率すなわち相対反
射率が小さいという優れた情報読出し特性を有する反射
性金属薄膜が得られる。Further, among these alloys, a Te-Cu alloy containing 5 to 40 atomic percent Cu or 5 to 40 atomic percent Cu and Te-Cu-Pb containing 1 to 50 atomic percent Pb with respect to Cu. The alloy is particularly preferable when the wavelength of the irradiation energy beam for reading is 650 nm or more. When the reflective metal thin film layer made of these alloys is used as the second recording layer, recording pits with less disturbance in the outer peripheral portion can be obtained, and the wavelength of the irradiation energy beam for reading is 650 nm or more, particularly 700 to 900 n.
In the case of m, a reflective metal thin film having excellent information reading characteristics that the reflectance in the pit which is the recorded portion and the reflectance in the metal thin film which is the unrecorded portion, that is, the relative reflectance is small can be obtained.

さらに、１〜４０原子数パーセントのＣｕを含むＳｎ−
Ｃｕ合金を用いると記録ピット形状の外周部の乱れが少
なく、かつ毒性の低い反射性金属薄膜が得られる。Further, Sn-containing 1 to 40 atomic percent Cu.
If a Cu alloy is used, a disordered outer peripheral portion of the recording pit shape and a less toxic reflective metal thin film can be obtained.

反射性金属薄膜層からなる第２記録層１０に情報を書込
まずに単に反射層として使用する場合には、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕなどの特に光反射性の優れた金属
あるいは合金により反射性金属薄膜層を形成することが
好ましい。When the second recording layer 10 made of a reflective metal thin film layer is used as a reflective layer without writing information, Al, C
It is preferable to form the reflective metal thin film layer from a metal or an alloy having particularly excellent light reflectivity such as r, Ni, Ag, Au.

このような反射性金属薄膜層を第１記録層上に形成する
には、上記のような金属あるいは合金を準備し、これを
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、電気メッキ法などの従来既知の方法によって第１記
録層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の膜厚
は、２００〜１０，０００Å好ましくは１０００〜５０
００Åであることが好ましい。場合によっては、上記金
属からなる多層膜たとえばＩｎ膜とＴｅ膜との多層膜も
反射性金属薄膜として用いられる。また、上記金属と有
機化合物または無機酸化物との複合物たとえばＴｅ−Ｃ
Ｈ_４、Ｔｅ−ＣＳ_２、Ｔｅ−スチレン、Ｓｎ−ＳＯ_２、
Ｇｅｓ−Ｓｎ、ＳｎＳ−Ｓなどの薄膜あるいはＳｉＯ_２
／Ｔｉ／ＳｉＯ_２／Ａｌなどの多層膜も反射性金属薄膜
として用いられうる。In order to form such a reflective metal thin film layer on the first recording layer, a metal or alloy as described above is prepared, and this is subjected to sputtering, vacuum deposition, ion plating, electroplating or the like. The film may be formed on the first recording layer by a conventionally known method. The thickness of the reflective metal thin film layer is 200 to 10,000Å, preferably 1000 to 50.
It is preferably 00Å. In some cases, a multilayer film made of the above metal, for example, a multilayer film of In film and Te film is also used as the reflective metal thin film. In addition, a complex of the above metal and an organic compound or an inorganic oxide, such as Te-C.
_{H 4, Te-CS 2,} Te- styrene, _Sn-SO 2,
Thin film such as Ges-Sn, SnS-S or SiO ₂
A multilayer film such as / Ti / SiO ₂ / Al can also be used as the reflective metal thin film.

さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた薄膜、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金属粒
子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面
に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射性金
属薄膜として用いられうる。Further, a thin film obtained by aggregating a dye such as cyanine to give light reflectivity, a resin in which metal particles such as a dye or silver are dispersed in a thermoplastic resin such as nitrocellulose, polystyrene, or polyethylene, or this thermoplastic resin A material obtained by aggregating a dye or metal particles on the surface may be used as the reflective metal thin film.

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、Ｔｅ酸化物、Ｓｂ酸化物、
Ｍｏ酸化物、Ｇｅ酸化物、Ｖ酸化物、Ｓｍ酸化物、ある
いはＴｅ酸化物−Ｇｅ、Ｔｅ−Ｓｎなどの化合物が、反
射性金属薄膜として用いられうる。Furthermore, Te oxide, Sb oxide, which undergoes a phase transition upon irradiation with an energy beam and whose reflectance changes,
A compound such as Mo oxide, Ge oxide, V oxide, Sm oxide, or Te oxide-Ge or Te-Sn may be used as the reflective metal thin film.

また、カルコーゲンあるいは発色型のＭｏＯ_３−Ｃｕ、
ＭｏＯ_３−Ｓｎ−Ｃｕが反射性金属薄膜として用いら
れ、場合によっては泡形成型の有機薄膜と金属薄膜との
多層体も反射性金属薄膜として用いられうる。In addition, chalcogen or coloring type MoO ₃ -Cu,
MoO ₃ —Sn—Cu is used as the reflective metal thin film, and in some cases, a multilayer body of a foam-forming organic thin film and a metal thin film can also be used as the reflective metal thin film.

さらに光磁記録材料であるＧｄＣｏ、ＴｂＣｏ、ＧｄＦ
ｅ、ＤｙＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、 ＧｄＦｅＢｉ、ＴｂＤｙＦｅ、ＭｎＣｕＢｉなども反射
性金属薄膜として用いられうる。Furthermore, GdCo, TbCo and GdF which are magneto-optical recording materials
e, DyFe, GdTbFe, GdFeBi, TbDyFe, MnCuBi and the like can also be used as the reflective metal thin film.

上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。It is also possible to use a combination of various types of reflective metal thin films as described above.

表面硬化層 表面硬化層６は、光カード１の光記録部側の表面の硬度
を高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使
用時に表面に傷がつくことを防止する。これにより、カ
ードの耐久性と書込み、読取り精度における信頼性の向
上を図ることができる。Surface Hardened Layer The surface hardened layer 6 increases the hardness of the surface of the optical card 1 on the side of the optical recording portion to protect the surface thereof, thereby preventing the surface from being scratched when the card is carried or used. As a result, the durability of the card and the reliability of writing and reading accuracy can be improved.

この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やＡｌ
_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２などの金属酸化物の他、プラズマ重合
膜などが用いられる。Examples of the material for the surface hardened layer include silicon-based, acrylic-based, melamine-based, urethane-based, epoxy-based curing agents and Al.
_In addition to metal oxides such as ₂ O ₃ and SiO ₂ , plasma polymerized films are used.

バリヤー層 バリヤー層１２は、第１記録層９を構成する感光材料
が、第２記録層１０に対して物理的に、科学的な悪影響
を及ぼすのを防止するために設けられる。特に、第１記
録層の感光材料が吸湿性の場合、高湿度下で第２記録層
が変質するのを防止するのに有用である。Barrier Layer The barrier layer 12 is provided in order to prevent the photosensitive material constituting the first recording layer 9 from exerting a physical or scientific adverse effect on the second recording layer 10. In particular, when the photosensitive material of the first recording layer is hygroscopic, it is useful for preventing the second recording layer from deteriorating under high humidity.

バリヤー層の材料としては、アクリル系、メラニン系、
ウレタン系またはセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンやＡｌ_２Ｏ_３，Ｓｉ
Ｏ_２などの金属酸化物の他、プラズマ重合膜などを用い
ることができる。Materials for the barrier layer include acrylic, melanin,
Urethane-based or cellulose-based resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Al ₂ O ₃ , Si
Besides a metal oxide such as O ₂ , a plasma polymerized film or the like can be used.

接着剤層 接着剤層４を構成する接着剤としては種々のものが用い
られうるが、例えばポリウレタンもしくはエポキシなと
の熱硬化性接着剤、あるいはアクリル樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル樹脂、ポリエチレン／酢酸ビニル共重合樹脂等の感
熱接着剤などを用いることができる。これらのうち耐薬
品性が要求されるときは熱硬化性接着剤、好ましくはポ
リウレタン接着剤が用いられる。Adhesive Layer Various adhesives can be used as the adhesive constituting the adhesive layer 4. For example, a thermosetting adhesive such as polyurethane or epoxy, an acrylic resin, a polyvinyl acetate resin, or a polyethylene / vinyl acetate adhesive can be used. A heat-sensitive adhesive such as a polymer resin can be used. When chemical resistance is required among these, a thermosetting adhesive, preferably a polyurethane adhesive is used.

光カードの製造方法 次に本発明に係る光カードの製造方法について説明す
る。Method of Manufacturing Optical Card Next, a method of manufacturing the optical card according to the present invention will be described.

まず上述のようにして、光記録部用基材上に表面硬化
層、第１記録層および第２記録層さらに必要に応じてバ
リヤー層を設け光記録部を形成する。この光記録部用基
材は、光カードとして組立てられた場合に、カード保護
層としての役割をも果している。First, as described above, the surface-cured layer, the first recording layer, the second recording layer and, if necessary, the barrier layer are provided on the substrate for the optical recording section to form the optical recording section. The optical recording portion base material also functions as a card protective layer when assembled as an optical card.

次に、カード基材と光記録部用基材とを、光記録部の第
２記録層側がカード基材の不透明材料層側と接するよう
に、熱硬化性接着剤もしくは感熱接着剤などの接着剤層
を介して重ね合わせた後、９０〜１５０℃程度に加熱さ
れた熱ロールなどにて圧着することにより光カードを製
造できる。Next, the card base material and the optical recording portion base material are bonded together with a thermosetting adhesive or a heat-sensitive adhesive so that the second recording layer side of the optical recording portion contacts the opaque material layer side of the card base material. An optical card can be manufactured by stacking the layers via the agent layer and then pressure-bonding the layers with a heating roll heated to about 90 to 150 ° C.

場合によっては、以下のようにして光カードを製造する
こともできる。すなわち光記録部用基材上に、親水性樹
脂をバインダーとして含む第１記録層および第２記録層
を設けた後、第２記録層である反射性金属薄膜上に、ア
クリル樹脂などの保護膜をスクリーン印刷などにより塗
布し、この部分を耐水性とする。この際光記録部用基材
の周辺縁部にはその保護膜は設けない。次いでこの光記
録材料を温水に浸漬し、保護膜の設けられていない部分
の親水性樹脂を除去した後乾燥する。In some cases, the optical card can be manufactured as follows. That is, after providing a first recording layer and a second recording layer containing a hydrophilic resin as a binder on an optical recording substrate, a protective film such as an acrylic resin is provided on the reflective metal thin film which is the second recording layer. Is applied by screen printing to make this portion water resistant. At this time, the protective film is not provided on the peripheral edge portion of the optical recording substrate. Next, this optical recording material is immersed in warm water to remove the hydrophilic resin in the portion where the protective film is not provided, and then dried.

一方、白色ポリ塩化ビニルフィルムなどのカード基材に
は、必要に応じて、熱プレス法などによって光記録部の
第１記録層および第２記録層を嵌込むための凹部を形成
することも表面に接着剤層を設けることもできる。On the other hand, a card base material such as a white polyvinyl chloride film may be provided with a concave portion for fitting the first recording layer and the second recording layer of the optical recording portion by a heat pressing method or the like, if necessary. It is also possible to provide an adhesive layer on.

次に、光記録材料とカード基材とを、光記録材料の第２
記録層がカード基材と接するようにして重ね合わせ、熱
ロールなどにて圧着することにより光カードを製造でき
る。Next, the optical recording material and the card base material are combined into a second optical recording material.
An optical card can be manufactured by stacking the recording layers so that they come into contact with the card base material, and press-bonding them with a heat roll or the like.

情報の書込み・読出し 次に、上記のような反射性金属薄膜への情報の書込みお
よび光カードに書込まれた情報の読出しについて説明す
る。Writing / Reading Information Next, writing of information on the reflective metal thin film and reading of information written on the optical card will be described.

反射性金属薄膜層への情報の書込みは、この金属薄膜層
に波長３００〜１１００ｎｍのレーザビームなどのエネ
ルギービームをレンズなどにより集光して照射し、照射
部分の金属を蒸散あるいは偏在させて記録ピットもしく
は可視情報を形成することにより行なう。この際エネル
ギービームの強度は、０．１〜１００ｍＷ、パルス巾は
５nsec〜５００msec、ビーム径は、０．１〜１００μｍ
であることが好ましい。To write information to the reflective metal thin film layer, an energy beam such as a laser beam having a wavelength of 300 to 1100 nm is focused on the metal thin film layer by a lens or the like and irradiated, and the metal in the irradiated portion is evaporated or unevenly recorded. This is done by forming pits or visible information. At this time, the intensity of the energy beam is 0.1 to 100 mW, the pulse width is 5 nsec to 500 msec, and the beam diameter is 0.1 to 100 μm.
Is preferred.

反射性金属薄膜層上に照射されるエネルギービームとし
ては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリウム−ネオ
ンレーザなどのレーザビーム、赤外線フラッシュなどが
用いられる。A laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a helium-neon laser, an infrared flash, or the like is used as the energy beam with which the reflective metal thin film layer is irradiated.

一方本発明に係る光カードに書込まれたコード化された
情報の読出しは、反射性金属薄膜層を溶融させない程度
の低エネルギーのエネルギービームあるいは白色光、タ
ングステン光などをレンズなどを介して光カードの保護
層側から光記録部および遮光部からなる第１記録層なら
びに第２記録層上に集光して照射し、反射光の強度と位
相変化とを関連づけて検出することによって行なわれ
る。On the other hand, for reading the coded information written in the optical card according to the present invention, an energy beam of low energy or white light, tungsten light, or the like which does not melt the reflective metal thin film layer is transmitted through a lens or the like. It is performed by converging and irradiating the first recording layer and the second recording layer, which are composed of the optical recording portion and the light shielding portion, from the protective layer side of the card, and correlating and detecting the intensity of the reflected light and the phase change.

第１記録層における遮光部は、前述のように金属現像核
を中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に形
成されているため、この遮光部に読出し用照射ビームが
照射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反射
率は小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあまり
吸収されずに反射性金属薄膜層に達するため、この光透
過部における反射率は大きい値となる。As described above, the light-shielding portion of the first recording layer is formed in a color tone close to black by depositing metal around the metal development nuclei, so that the read-out irradiation beam is irradiated to this light-shielding portion. Then, the irradiation beam is absorbed in this portion, and the reflectance is reduced. On the other hand, in the light transmitting portion, the light is not absorbed so much by the irradiation beam and reaches the reflective metal thin film layer, so that the reflectance in the light transmitting portion has a large value.

また、反射性金属薄膜層における未記録部に相当する金
属薄膜層では高い反射率が得られるのに対し、記録部に
相当するピット部では低い反射率となる。Further, the metal thin film layer corresponding to the unrecorded portion of the reflective metal thin film layer has a high reflectance, while the pit portion corresponding to the recorded portion has a low reflectance.

このようにして、第１記録層では遮光部と光透過部とに
おける反射率の相違、また第２記録層では、金属が蒸散
もしくは偏在した部分と未記録部とにおける反射率の相
違を読取ることによって、コード化情報ならびに可視情
報の読出しが可能となる。In this way, the difference in reflectance between the light-shielding portion and the light-transmitting portion in the first recording layer, and the difference in reflectance between the portion where the metal is evaporated or unevenly distributed and the unrecorded portion are read in the second recording layer. It enables the reading of coded information as well as visible information.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例 １ 厚み４００μｍのポリカーボネートフィルム上に下引き
処理剤（信越化学製 プライマーｐｃ−４）をグラビア
コーティングし、次にその上にシリコーン系表面硬化剤
（信越化学製 Ｘ−１２−２１５０）をグラビアコーテ
ィングし、１００℃１分間でキュアして表面硬化層を得
た。上記のポリカーボネートフィルムの裏面に下記組成
の感光材層形成用塗布液をグラビアコーティングした。
感光材層形成塗布液の塗布量は乾燥時で３ｇ／m²であっ
た。Example 1 A 400 μm-thick polycarbonate film was gravure-coated with an undercoating treatment agent (Shin-Etsu Chemical Primer pc-4), and then a silicone-based surface curing agent (Shin-Etsu Chemical X-12-2150) was gravure-coated. Coating and curing at 100 ° C. for 1 minute gave a surface-hardened layer. The back surface of the above polycarbonate film was gravure coated with a coating solution for forming a photosensitive material layer having the following composition.
The coating amount of the coating solution for forming a photosensitive material layer was 3 g / m ² when dried.

感光材層形成用塗布液組成 ポリビニルメチルエーテル無水マレイン酸エステル
（Ｇ．Ａ．Ｆ Ｃorp製 ガントレッツＡＮ１３９）１
０％ メチルエチルケトン溶液 ：２０重量部 ポリ酢酸ビニル（積水化学製 エスニールＣ−２）２０
％ メチルエチルケトン溶液 ：２０重量部 アクリル系樹脂（綜研化学製 Ｌ−４０）２５％ メチ
ルセロソルブ溶液 ：１２重量部 塩化パラジウム ０．１％ メチルセロソルブ溶液 ：
３８重量部 （ＰｄＣｌ_２：濃塩酸：メチルセロソルブ＝１：１０：
１０００） ４−モルフォリノ−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウムホウフッ化塩（大東化学製 ＤＨ３００ＢＦ_４）
１０％ メチルセロソルブ溶液 ：１０重量部 次に、このようにして形成された感光材面と、たて１５
μｍ、よこ５μｍのドットをピッチ１５μｍで並んだ列
を列間ピッチ２０μｍの配列でネガティブにパターニン
グしたフォトマスクのマスク面とを密着させ、フォトマ
スク側から長高圧水銀灯（３kw、距離１ｍ）で１０秒間
露光した。この際使用したフォトマスクパターンはフォ
トエッチング法で得た。その作製は、ガラス板上にＣｒ
薄膜をスパッタリング法により作製した上にフォトレジ
スト（シップレー製ＡＺ１３５０）を塗布し乾燥した表
面に、位置制御したＸＹステージ上でＨｅ−Ｃｄレーザ
ーをビーム径２μｍに絞って照射した。これにより、た
て１５μｍ、よこ５μｍのドットをピッチ１５μｍで並
んだ列を列間ピッチ２０μｍの配列で形成し、さらに、
レジスト現像液（シップレー製）で処理し、１３０℃２
５分間加熱処理した後、塩化第二鉄液にてエッチングし
て、ドット部が光透過性となるパターンを得た。Coating Solution Composition for Photosensitive Material Layer Polyvinyl Methyl Ether Maleic Anhydride (GANTREZ AN139, manufactured by GF Corp) 1
0% methyl ethyl ketone solution: 20 parts by weight Polyvinyl acetate (Sekisui Chemical's Ethnyl C-2) 20
% Methyl ethyl ketone solution: 20 parts by weight Acrylic resin (L-40 manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd.) 25% Methyl cellosolve solution: 12 parts by weight Palladium chloride 0.1% Methyl cellosolve solution:
38 parts by weight (PdCl ₂ : concentrated hydrochloric acid: methyl cellosolve = 1:10:
1000) 4-morpholino-2,5-dibutoxybenzenediazonium borofluoride salt (DH300BF ₄ manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.)
10% methyl cellosolve solution: 10 parts by weight Next, the surface of the photosensitive material thus formed and
The rows of 5 μm and 5 μm dots arranged at a pitch of 15 μm are closely contacted with the mask surface of the photomask in which the pattern is negatively patterned with an array pitch of 20 μm. From the photomask side, a long high pressure mercury lamp (3 kw, distance 1 m) Exposed for 2 seconds. The photomask pattern used at this time was obtained by photoetching. Its production is Cr on a glass plate.
A thin film was formed by a sputtering method, a photoresist (AZ1350 manufactured by Shipley) was applied, and the dried surface was irradiated with a He—Cd laser with a beam diameter of 2 μm on a position-controlled XY stage. As a result, rows in which dots of 15 μm in height and 5 μm in width are arranged at a pitch of 15 μm are formed in an array with a pitch between columns of 20 μm.
Treated with resist developer (Shipley), 130 ℃ 2
After heat treatment for 5 minutes, etching was performed with a ferric chloride solution to obtain a pattern in which the dot portion was light-transmissive.

次いで上記のようにしてパターン露光された感光材層を
下記組成の処理液〔Ａ〕，〔Ｂ〕にこの順序でそれぞれ
６０秒、８０秒浸漬した（処理温度３０℃）。Then, the light-sensitive material layer pattern-exposed as described above was dipped in the processing solutions [A] and [B] having the following compositions in this order for 60 seconds and 80 seconds, respectively (processing temperature 30 ° C.).

〔Ａ〕シバニッケル（奥野製薬製） ホウ素系還元剤 ： ０．５ｇ 硫酸ニッケル ： ３．０ｇ クエン酸ナトリウム ： １．０ｇ 水 ：９５．５ｇ 〔Ｂ〕ＴＭＰ化学ニッケル−Ａ、 ＴＭＰ化学ニッケル−Ｂの１対１混合液 硫酸ニッケル ： ９．０ｇ 次亜リン酸ナトリウム ： ７．０ｇ ＮＨ_３水溶液（２８％）： ６．５ｇ クエン酸ナトリウム ：１０．０ｇ 水 ：６７．５ｇ しかる後、水洗、乾燥して、光透過部と遮光部に相当す
る黒色のポジティブパターンとを有する第１記録層を得
た。[A] Shiba nickel (manufactured by Okuno Seiyaku) Boron-based reducing agent: 0.5 g Nickel sulfate: 3.0 g Sodium citrate: 1.0 g Water: 95.5 g [B] TMP chemical nickel-A, TMP chemical nickel-B 1: 1 mixture of nickel sulphate: 9.0 g sodium hypophosphite: 7.0 g NH ₃ aqueous solution (28%): 6.5 g sodium citrate: 10.0 g water: 67.5 g Then, wash with water and dry. Then, a first recording layer having a light-transmitting portion and a black positive pattern corresponding to the light-shielding portion was obtained.

上記のようにしてパターニングされた記録層上にＴｅ−
Ｃｕ−Ｐｂ合金（スパッタターゲット組成比 モル比
８０：１５：５）をスパッタリングして第２記録層が形
成された光記録材料を得た。このとき、Ｔｅ−Ｃｕ−Ｐ
ｂ薄膜は記録層の周辺縁部に形成しなかった。Te-on the recording layer patterned as described above.
Cu-Pb alloy (Sputtering target composition ratio Molar ratio
80: 15: 5) was sputtered to obtain an optical recording material having a second recording layer. At this time, Te-Cu-P
The b thin film was not formed on the peripheral edge of the recording layer.

一方、カード基材は以下の様に作製した。まず、白色硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ２００μｍ）の両面に文字図案
のパターンをスクリーン印刷法により設け、別に透明硬
質ポリ塩化ビニル（厚さ１００μｍ）の片面一部に磁気
記録層を巾６．５mmで設けた。その裏面と上記印刷済み
の白色ポリ塩化ビニルとを重ねて、ステンレス板二枚に
はさみプレス機にて１４０℃３０分間加熱加圧してカー
ド基材を得た。On the other hand, the card base material was prepared as follows. First, a pattern of a character pattern is provided on both sides of white hard polyvinyl chloride (thickness 200 μm) by a screen printing method, and a magnetic recording layer is 6.5 mm wide on a part of one side of transparent hard polyvinyl chloride (thickness 100 μm). Set up in. The back side and the above-mentioned printed white polyvinyl chloride were overlapped and sandwiched between two stainless steel plates and heated and pressurized at 140 ° C. for 30 minutes to obtain a card substrate.

上記のようにして作成した光記録材料とカード基材を光
記録材料の第二記録層とカード基材の白色ポリ塩化ビニ
ル面（印刷面）とを、接着剤であるウレタン系樹脂（ア
ルプス化学産業アルボンＥＵ−４２００、ＥＨＵ４２０
０の混合比１０対１）を介して重ね合わせ、ロールなど
により圧着した。２４時間放置後打ち抜き金型により打
抜き光カードを得た。The optical recording material and the card base material prepared as described above are attached to the second recording layer of the optical recording material and the white polyvinyl chloride surface (printing surface) of the card base material by the urethane resin (Alps Chemical Industrial Albon EU-4200, EHU420
They were superposed with a mixing ratio of 0 (10: 1) and pressure-bonded with a roll or the like. After leaving for 24 hours, a punching optical card was obtained with a punching die.

実施例 ２ 実施例１と同様にして得られたパターニングされた第１
記録層上にバーコートによりメラニン系樹脂（大日本イ
ンキ化学工業 タフコート１１２）を塗布し、１２０
℃、３分間加熱処理してバリヤー層（膜厚３μｍ）を形
成した。次に、Ｔｅ−Ｃｕ−Ｐｂ合金（スパッタターゲ
ット組成比 モル比 ８０：１５：５）をスパッタリン
グして第２記録層が形成して光記録材料を得た。この際
Ｔｅ−Ｃｕ−Ｐｂ薄膜は記録層の周辺縁部に形成しなか
った。Example 2 First patterned layer obtained in the same manner as in Example 1
A melanin-based resin (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. Toughcoat 112) was applied on the recording layer by bar coating, and 120
A heat treatment was performed at 3 ° C. for 3 minutes to form a barrier layer (thickness 3 μm). Next, a Te-Cu-Pb alloy (sputtering target composition ratio: molar ratio 80: 15: 5) was sputtered to form a second recording layer, and an optical recording material was obtained. At this time, the Te-Cu-Pb thin film was not formed on the peripheral edge of the recording layer.

以下実施例１と同様にしてカード基材を作製して、上記
の光記録材料と接着剤を介して貼り合わせて硬化後打抜
き、光カードを得た。Thereafter, a card base material was prepared in the same manner as in Example 1, and was bonded to the above-mentioned optical recording material via an adhesive, cured and punched to obtain an optical card.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第１図は、本発明の光カードの外観正面図であり、第２
図および第３図は、本発明の一実施例に係る光カードの
断面図である。 １……光カード、２……光カード基材、２ａ……不透明
材料層、２ｂ……透明材料層、３……光記録部、３ａ…
…コード化情報記録領域、３ｂ……可視情報記録領域、
４……接着剤層、５……光記録部用基材、６……表面硬
化層、７……光透過部、８……遮光部、９……第１記録
層、１０……第２記録層、１１……磁気記録層、１２…
…バリヤー層。FIG. 1 is an external front view of the optical card of the present invention.
FIG. 3 and FIG. 3 are sectional views of an optical card according to an embodiment of the present invention. 1 ... Optical card, 2 ... Optical card substrate, 2a ... Opaque material layer, 2b ... Transparent material layer, 3 ... Optical recording part, 3a ...
... coded information recording area, 3b ... visible information recording area,
4 ... Adhesive layer, 5 ... Optical recording part base material, 6 ... Surface hardening layer, 7 ... Light transmitting part, 8 ... Light shielding part, 9 ... First recording layer, 10 ... Second Recording layer, 11 ... Magnetic recording layer, 12 ...
… Barrier layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】情報を光学的に記録し再生することができ
る光記録部が設けられた光カードにおいて、前記光記録
部が、コード化された情報と可視情報との２種類の情報
記録領域を有し、前記２種類の情報の双方が同一の手段
であるエネルギービームの照射によって形成されること
を特徴とする、光カード。1. An optical card provided with an optical recording section capable of optically recording and reproducing information, wherein the optical recording section has two types of information recording areas of coded information and visible information. And an optical card which is characterized in that both of the two types of information are formed by irradiation of an energy beam which is the same means.