JPS6117100A - X線コリメ−タ - Google Patents
X線コリメ−タInfo
- Publication number
- JPS6117100A JPS6117100A JP59038732A JP3873284A JPS6117100A JP S6117100 A JPS6117100 A JP S6117100A JP 59038732 A JP59038732 A JP 59038732A JP 3873284 A JP3873284 A JP 3873284A JP S6117100 A JPS6117100 A JP S6117100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- ray
- partition wall
- collimator
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、X線コリメータに関し、特に軟X線用のコリ
メータに関する。
メータに関する。
[従来技術]
一般に、X線源は、X線分析装置等の分野に用いられて
いるが、近年LSI等の半導体製造の分野においても、
サブミクロン線幅の微細パターニングを行う軟X線露光
装置の露光源として用いられている。X線コリメータは
、このようなX線分析装置、X線露光装置等においてX
線源からのX線を平行化するために用いられる。
いるが、近年LSI等の半導体製造の分野においても、
サブミクロン線幅の微細パターニングを行う軟X線露光
装置の露光源として用いられている。X線コリメータは
、このようなX線分析装置、X線露光装置等においてX
線源からのX線を平行化するために用いられる。
X線露光方式は、紫外光などの光露光を行う方式に比べ
て、回持や干渉、反射などによる解像度の低下がほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転写パターンガ得られるという
利点があるが、他方ではレジストの感度不足やX線源の
低効率のためにスループットが低いという不都合がある
。
て、回持や干渉、反射などによる解像度の低下がほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転写パターンガ得られるという
利点があるが、他方ではレジストの感度不足やX線源の
低効率のためにスループットが低いという不都合がある
。
先に木発明者が提案したこの種の装置は第1図(a)及
び(b)に示すように、ガラス等の材料により成る板状
部材9に、規則正しく平行かつ同一の断面形状の微細(
直径が25Bm〜100 p、 m程度)な孔4が多数
開けられて構成されている。板状部材9の厚さは通常0
.5乃至5脂腸程度である。このコリメータにおいて図
示上方からX線1が入射すると、孔4により形成される
隔壁5の表面に照射されずに孔4を通過したものが、は
ぼ平行化されたX線2が出射される。
び(b)に示すように、ガラス等の材料により成る板状
部材9に、規則正しく平行かつ同一の断面形状の微細(
直径が25Bm〜100 p、 m程度)な孔4が多数
開けられて構成されている。板状部材9の厚さは通常0
.5乃至5脂腸程度である。このコリメータにおいて図
示上方からX線1が入射すると、孔4により形成される
隔壁5の表面に照射されずに孔4を通過したものが、は
ぼ平行化されたX線2が出射される。
しかしながら第1図(b)の部分断面図で示すように、
入射X線1が孔4の入射側の開口部4aにおける隔壁5
のエツジ部5aに照射されると散乱X線7が発生し、ま
た隔壁5の内表面に衝突した入射X線1はそこで吸収さ
れる。更に孔4の出射側の開口部4aにおける隔壁5の
エツジ部5bも同様に散乱X線7を放射状に発散させ、
このコリメータを通過したX線には、平行な出射X線2
と散乱X!jI7が混在する。したがって平行でない散
乱X線7の強度が弱い場合にも、厳密な平行性を要求さ
れる場合、例えばサブミクロンの解像線巾が要求される
/fi光装置には不都合である。殊に入射X線1が隔壁
5の表面に照射されて吸収されると、ガラス材9は変色
、変質し、材質に1よっては分解するという欠点がある
。
入射X線1が孔4の入射側の開口部4aにおける隔壁5
のエツジ部5aに照射されると散乱X線7が発生し、ま
た隔壁5の内表面に衝突した入射X線1はそこで吸収さ
れる。更に孔4の出射側の開口部4aにおける隔壁5の
エツジ部5bも同様に散乱X線7を放射状に発散させ、
このコリメータを通過したX線には、平行な出射X線2
と散乱X!jI7が混在する。したがって平行でない散
乱X線7の強度が弱い場合にも、厳密な平行性を要求さ
れる場合、例えばサブミクロンの解像線巾が要求される
/fi光装置には不都合である。殊に入射X線1が隔壁
5の表面に照射されて吸収されると、ガラス材9は変色
、変質し、材質に1よっては分解するという欠点がある
。
また多数の微細な孔4により形成される隔壁5は可能な
限り薄い方がX線の有効透過面積が増し好都合であるが
、使用するX線の波長によってはこの隔壁に吸収される
ことなく透過し、コリメータの機能を果さなくなるとい
う欠点がある。X線の中で比較的長波長の軟X線と云え
ども隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装置には
不都合である。
限り薄い方がX線の有効透過面積が増し好都合であるが
、使用するX線の波長によってはこの隔壁に吸収される
ことなく透過し、コリメータの機能を果さなくなるとい
う欠点がある。X線の中で比較的長波長の軟X線と云え
ども隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装置には
不都合である。
[目的]
本発明の目的は、上記従来例の欠点に鑑み、素材を劣化
させることのないX線コリメータを提供することを目的
とする。
させることのないX線コリメータを提供することを目的
とする。
[実施例]
以r図面を参照して本発明の詳細な説明する。第2図は
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第1図(a
)及び(b)と同じ部材には同じ参照符号を附しである
。
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第1図(a
)及び(b)と同じ部材には同じ参照符号を附しである
。
鉛(pb)の含有率の高いカラスより成る板状部材90
には、お互いに平行にかつ同一の断面形状の微細な孔4
0が多数開けられて構成され、孔40の入射側の開口部
40aにおける隔壁50の端部50a、及び孔40の出
射側の開口部40bにおける隔壁50の端部50bは入
射したX線を散乱させる様に丸味を帯びて形へされてい
る。更に隔壁50の入射側の端部50a表面に、X線吸
収率の高い物質6が被着されている。但し、用途によっ
ては端部50a 、 50b *角状のまま被着しても
良い。
には、お互いに平行にかつ同一の断面形状の微細な孔4
0が多数開けられて構成され、孔40の入射側の開口部
40aにおける隔壁50の端部50a、及び孔40の出
射側の開口部40bにおける隔壁50の端部50bは入
射したX線を散乱させる様に丸味を帯びて形へされてい
る。更に隔壁50の入射側の端部50a表面に、X線吸
収率の高い物質6が被着されている。但し、用途によっ
ては端部50a 、 50b *角状のまま被着しても
良い。
、尚、上記の隔壁50の端部50a 、50bの形紙゛
方法としては、第1図(a)及び(b)の如く形成され
たコリメータを、フッ酸、フッ硝酸等内に・適当な時間
浸すと、鋭いエツジ部はどエツチングされ易いので結果
的に第3図のようにエツジ部が除去される。被着の方法
としては蒸着、スパッタ等、があり、X線吸収率の高い
物質6としてはAu、 Pt、 Pb等重金属が適当で
あり、使用するX線の波長や強度から適当なものを選べ
は良い。
方法としては、第1図(a)及び(b)の如く形成され
たコリメータを、フッ酸、フッ硝酸等内に・適当な時間
浸すと、鋭いエツジ部はどエツチングされ易いので結果
的に第3図のようにエツジ部が除去される。被着の方法
としては蒸着、スパッタ等、があり、X線吸収率の高い
物質6としてはAu、 Pt、 Pb等重金属が適当で
あり、使用するX線の波長や強度から適当なものを選べ
は良い。
上記構成において、図示上方から、不図示のX線源より
X線lが照射されると、その平行な部分は孔40を通過
して平行なX線2として出射され、他方平行でない部分
は、隔壁50を含む板状部材80に吸収される。この場
合隔壁50の端部50a 、 50bは丸みを帯びてい
るので、散乱X線が発散することがない。更に物質6に
より、入射X線が直接ガラス材90(及び隔壁50)の
表面に照射される率が軽減され、隔壁材であるガラス材
80の変色等を防止することができる。
X線lが照射されると、その平行な部分は孔40を通過
して平行なX線2として出射され、他方平行でない部分
は、隔壁50を含む板状部材80に吸収される。この場
合隔壁50の端部50a 、 50bは丸みを帯びてい
るので、散乱X線が発散することがない。更に物質6に
より、入射X線が直接ガラス材90(及び隔壁50)の
表面に照射される率が軽減され、隔壁材であるガラス材
80の変色等を防止することができる。
第4図は、第2図の実施例の変形例であり、隔壁部50
の出射側の端部50bの表面にも同様にX線吸収物質6
が被着されている。
の出射側の端部50bの表面にも同様にX線吸収物質6
が被着されている。
第5図(a)は、第2図及び第4図の実施例の更に別の
変形例であり、第5図(a)及び(b)は、X線露光装
置の概略構成図である。第5図(a)において、X線吸
収物質6は!4壁50の表面に全て被着されている。こ
の場合X線吸収物質6としてAu等の透過の低い物質を
用いる。物質6の表面に1乃至2°でX線が入射すると
、全反射され、はぼ平行な出射X線3が得られる。この
全反射X線3と、孔40を直接通過したX線2とが合成
されて、パターン11を有するX線マスクIOを露光し
5、ウェハ13上に塗布されたX線しジスh12を感光
する。
変形例であり、第5図(a)及び(b)は、X線露光装
置の概略構成図である。第5図(a)において、X線吸
収物質6は!4壁50の表面に全て被着されている。こ
の場合X線吸収物質6としてAu等の透過の低い物質を
用いる。物質6の表面に1乃至2°でX線が入射すると
、全反射され、はぼ平行な出射X線3が得られる。この
全反射X線3と、孔40を直接通過したX線2とが合成
されて、パターン11を有するX線マスクIOを露光し
5、ウェハ13上に塗布されたX線しジスh12を感光
する。
[効果]
以上説明したように本発明によれば、微細貫通孔により
形成される板状部材の隔壁の表面にX線吸収率の高い物
質を被着することにより、有用でない散乱X線の発生を
防止することができると同時に隔壁材であるガラス材を
保護することができ、また隔壁の表面全てに上記の物質
を被着すれば入射光線の反射光も利用することができる
ので、X線露光装置に使用すればスルーブツトを増大す
ることができる。
形成される板状部材の隔壁の表面にX線吸収率の高い物
質を被着することにより、有用でない散乱X線の発生を
防止することができると同時に隔壁材であるガラス材を
保護することができ、また隔壁の表面全てに上記の物質
を被着すれば入射光線の反射光も利用することができる
ので、X線露光装置に使用すればスルーブツトを増大す
ることができる。
第1図(a)は、従来のX線コリメータの概略部分断面
図、第1図(b)は、第1図(a)の概略部分断面図で
ある。第2図は、本発明の一実施例の概略部分断面図、
第3図は、第2図の実施例の製造工程を説明する概略部
分断面図、第4図及び第5図(a)は、それぞれ本発明
の他の実施例の概略部分断面図、第4図(a)及び(b
)は、−X線露光装置の概略構成図である。 40−m−微細貫通口 40a 、 40b−一開口部 50−m−隔壁 50a、 50b −−一 隔壁端部 90−m−板状部材 6 −−−X線吸収部材 m 5 区1j 、手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第38732号
2、発明の名称 X線コリメータ 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (100)キャノン株式会社 4、代、理 人 住所 東京都港区赤坂1丁目9番20号5、補正命令
の日付 発送日:昭和60年7月30日 6、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 7、補正の内容 明細書の第7頁第13行目の「第4図(a)及び(b)
は、」を「第5図(b)は、」に訂正する。
図、第1図(b)は、第1図(a)の概略部分断面図で
ある。第2図は、本発明の一実施例の概略部分断面図、
第3図は、第2図の実施例の製造工程を説明する概略部
分断面図、第4図及び第5図(a)は、それぞれ本発明
の他の実施例の概略部分断面図、第4図(a)及び(b
)は、−X線露光装置の概略構成図である。 40−m−微細貫通口 40a 、 40b−一開口部 50−m−隔壁 50a、 50b −−一 隔壁端部 90−m−板状部材 6 −−−X線吸収部材 m 5 区1j 、手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第38732号
2、発明の名称 X線コリメータ 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (100)キャノン株式会社 4、代、理 人 住所 東京都港区赤坂1丁目9番20号5、補正命令
の日付 発送日:昭和60年7月30日 6、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 7、補正の内容 明細書の第7頁第13行目の「第4図(a)及び(b)
は、」を「第5図(b)は、」に訂正する。
Claims (1)
- X線源からのX線を平行化するX線コリメータにおいて
、多数の微細な貫通口を有する部材を含み、該貫通口に
より形成される該部材の隔壁の少なくとも端部の表面に
X線吸収率の高い物質が被着されていることを特徴とす
るX線コリメータ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59038732A JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
DE19853507340 DE3507340A1 (de) | 1984-03-02 | 1985-03-01 | Roentgenkollimator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59038732A JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6117100A true JPS6117100A (ja) | 1986-01-25 |
Family
ID=12533495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59038732A Pending JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6117100A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248897U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | ||
JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP59038732A patent/JPS6117100A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248897U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | ||
JPH0539519Y2 (ja) * | 1988-09-30 | 1993-10-06 | ||
JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
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