JPS6117100A - Ｘ線コリメ−タ - Google Patents
Ｘ線コリメ−タInfo
- Publication number
- JPS6117100A JPS6117100A JP59038732A JP3873284A JPS6117100A JP S6117100 A JPS6117100 A JP S6117100A JP 59038732 A JP59038732 A JP 59038732A JP 3873284 A JP3873284 A JP 3873284A JP S6117100 A JPS6117100 A JP S6117100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- ray
- partition wall
- collimator
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は、Ｘ線コリメータに関し、特に軟Ｘ線用のコリ
メータに関する。
メータに関する。
［従来技術］
一般に、Ｘ線源は、Ｘ線分析装置等の分野に用いられて
いるが、近年ＬＳＩ等の半導体製造の分野においても、
サブミクロン線幅の微細パターニングを行う軟Ｘ線露光
装置の露光源として用いられている。Ｘ線コリメータは
、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等においてＸ
線源からのＸ線を平行化するために用いられる。
いるが、近年ＬＳＩ等の半導体製造の分野においても、
サブミクロン線幅の微細パターニングを行う軟Ｘ線露光
装置の露光源として用いられている。Ｘ線コリメータは
、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等においてＸ
線源からのＸ線を平行化するために用いられる。
Ｘ線露光方式は、紫外光などの光露光を行う方式に比べ
て、回持や干渉、反射などによる解像度の低下がほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転写パターンガ得られるという
利点があるが、他方ではレジストの感度不足やＸ線源の
低効率のためにスループットが低いという不都合がある
。
て、回持や干渉、反射などによる解像度の低下がほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転写パターンガ得られるという
利点があるが、他方ではレジストの感度不足やＸ線源の
低効率のためにスループットが低いという不都合がある
。
先に木発明者が提案したこの種の装置は第１図（ａ）及
び（ｂ）に示すように、ガラス等の材料により成る板状
部材９に、規則正しく平行かつ同一の断面形状の微細（
直径が２５Ｂｍ〜１００ ｐ、 ｍ程度）な孔４が多数
開けられて構成されている。板状部材９の厚さは通常０
．５乃至５脂腸程度である。このコリメータにおいて図
示上方からＸ線１が入射すると、孔４により形成される
隔壁５の表面に照射されずに孔４を通過したものが、は
ぼ平行化されたＸ線２が出射される。
び（ｂ）に示すように、ガラス等の材料により成る板状
部材９に、規則正しく平行かつ同一の断面形状の微細（
直径が２５Ｂｍ〜１００ ｐ、 ｍ程度）な孔４が多数
開けられて構成されている。板状部材９の厚さは通常０
．５乃至５脂腸程度である。このコリメータにおいて図
示上方からＸ線１が入射すると、孔４により形成される
隔壁５の表面に照射されずに孔４を通過したものが、は
ぼ平行化されたＸ線２が出射される。
しかしながら第１図（ｂ）の部分断面図で示すように、
入射Ｘ線１が孔４の入射側の開口部４ａにおける隔壁５
のエツジ部５ａに照射されると散乱Ｘ線７が発生し、ま
た隔壁５の内表面に衝突した入射Ｘ線１はそこで吸収さ
れる。更に孔４の出射側の開口部４ａにおける隔壁５の
エツジ部５ｂも同様に散乱Ｘ線７を放射状に発散させ、
このコリメータを通過したＸ線には、平行な出射Ｘ線２
と散乱Ｘ！ｊＩ７が混在する。したがって平行でない散
乱Ｘ線７の強度が弱い場合にも、厳密な平行性を要求さ
れる場合、例えばサブミクロンの解像線巾が要求される
／ｆｉ光装置には不都合である。殊に入射Ｘ線１が隔壁
５の表面に照射されて吸収されると、ガラス材９は変色
、変質し、材質に１よっては分解するという欠点がある
。
入射Ｘ線１が孔４の入射側の開口部４ａにおける隔壁５
のエツジ部５ａに照射されると散乱Ｘ線７が発生し、ま
た隔壁５の内表面に衝突した入射Ｘ線１はそこで吸収さ
れる。更に孔４の出射側の開口部４ａにおける隔壁５の
エツジ部５ｂも同様に散乱Ｘ線７を放射状に発散させ、
このコリメータを通過したＸ線には、平行な出射Ｘ線２
と散乱Ｘ！ｊＩ７が混在する。したがって平行でない散
乱Ｘ線７の強度が弱い場合にも、厳密な平行性を要求さ
れる場合、例えばサブミクロンの解像線巾が要求される
／ｆｉ光装置には不都合である。殊に入射Ｘ線１が隔壁
５の表面に照射されて吸収されると、ガラス材９は変色
、変質し、材質に１よっては分解するという欠点がある
。
また多数の微細な孔４により形成される隔壁５は可能な
限り薄い方がＸ線の有効透過面積が増し好都合であるが
、使用するＸ線の波長によってはこの隔壁に吸収される
ことなく透過し、コリメータの機能を果さなくなるとい
う欠点がある。Ｘ線の中で比較的長波長の軟Ｘ線と云え
ども隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装置には
不都合である。
限り薄い方がＸ線の有効透過面積が増し好都合であるが
、使用するＸ線の波長によってはこの隔壁に吸収される
ことなく透過し、コリメータの機能を果さなくなるとい
う欠点がある。Ｘ線の中で比較的長波長の軟Ｘ線と云え
ども隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装置には
不都合である。
［目的］
本発明の目的は、上記従来例の欠点に鑑み、素材を劣化
させることのないＸ線コリメータを提供することを目的
とする。
させることのないＸ線コリメータを提供することを目的
とする。
［実施例］
以ｒ図面を参照して本発明の詳細な説明する。第２図は
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第１図（ａ
）及び（ｂ）と同じ部材には同じ参照符号を附しである
。
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第１図（ａ
）及び（ｂ）と同じ部材には同じ参照符号を附しである
。
鉛（ｐｂ）の含有率の高いカラスより成る板状部材９０
には、お互いに平行にかつ同一の断面形状の微細な孔４
０が多数開けられて構成され、孔４０の入射側の開口部
４０ａにおける隔壁５０の端部５０ａ、及び孔４０の出
射側の開口部４０ｂにおける隔壁５０の端部５０ｂは入
射したＸ線を散乱させる様に丸味を帯びて形へされてい
る。更に隔壁５０の入射側の端部５０ａ表面に、Ｘ線吸
収率の高い物質６が被着されている。但し、用途によっ
ては端部５０ａ 、 ５０ｂ ＊角状のまま被着しても
良い。
には、お互いに平行にかつ同一の断面形状の微細な孔４
０が多数開けられて構成され、孔４０の入射側の開口部
４０ａにおける隔壁５０の端部５０ａ、及び孔４０の出
射側の開口部４０ｂにおける隔壁５０の端部５０ｂは入
射したＸ線を散乱させる様に丸味を帯びて形へされてい
る。更に隔壁５０の入射側の端部５０ａ表面に、Ｘ線吸
収率の高い物質６が被着されている。但し、用途によっ
ては端部５０ａ 、 ５０ｂ ＊角状のまま被着しても
良い。
、尚、上記の隔壁５０の端部５０ａ 、５０ｂの形紙゛
方法としては、第１図（ａ）及び（ｂ）の如く形成され
たコリメータを、フッ酸、フッ硝酸等内に・適当な時間
浸すと、鋭いエツジ部はどエツチングされ易いので結果
的に第３図のようにエツジ部が除去される。被着の方法
としては蒸着、スパッタ等、があり、Ｘ線吸収率の高い
物質６としてはＡｕ、 Ｐｔ、 Ｐｂ等重金属が適当で
あり、使用するＸ線の波長や強度から適当なものを選べ
は良い。
方法としては、第１図（ａ）及び（ｂ）の如く形成され
たコリメータを、フッ酸、フッ硝酸等内に・適当な時間
浸すと、鋭いエツジ部はどエツチングされ易いので結果
的に第３図のようにエツジ部が除去される。被着の方法
としては蒸着、スパッタ等、があり、Ｘ線吸収率の高い
物質６としてはＡｕ、 Ｐｔ、 Ｐｂ等重金属が適当で
あり、使用するＸ線の波長や強度から適当なものを選べ
は良い。
上記構成において、図示上方から、不図示のＸ線源より
Ｘ線ｌが照射されると、その平行な部分は孔４０を通過
して平行なＸ線２として出射され、他方平行でない部分
は、隔壁５０を含む板状部材８０に吸収される。この場
合隔壁５０の端部５０ａ 、 ５０ｂは丸みを帯びてい
るので、散乱Ｘ線が発散することがない。更に物質６に
より、入射Ｘ線が直接ガラス材９０（及び隔壁５０）の
表面に照射される率が軽減され、隔壁材であるガラス材
８０の変色等を防止することができる。
Ｘ線ｌが照射されると、その平行な部分は孔４０を通過
して平行なＸ線２として出射され、他方平行でない部分
は、隔壁５０を含む板状部材８０に吸収される。この場
合隔壁５０の端部５０ａ 、 ５０ｂは丸みを帯びてい
るので、散乱Ｘ線が発散することがない。更に物質６に
より、入射Ｘ線が直接ガラス材９０（及び隔壁５０）の
表面に照射される率が軽減され、隔壁材であるガラス材
８０の変色等を防止することができる。
第４図は、第２図の実施例の変形例であり、隔壁部５０
の出射側の端部５０ｂの表面にも同様にＸ線吸収物質６
が被着されている。
の出射側の端部５０ｂの表面にも同様にＸ線吸収物質６
が被着されている。
第５図（ａ）は、第２図及び第４図の実施例の更に別の
変形例であり、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装
置の概略構成図である。第５図（ａ）において、Ｘ線吸
収物質６は！４壁５０の表面に全て被着されている。こ
の場合Ｘ線吸収物質６としてＡｕ等の透過の低い物質を
用いる。物質６の表面に１乃至２°でＸ線が入射すると
、全反射され、はぼ平行な出射Ｘ線３が得られる。この
全反射Ｘ線３と、孔４０を直接通過したＸ線２とが合成
されて、パターン１１を有するＸ線マスクＩＯを露光し
５、ウェハ１３上に塗布されたＸ線しジスｈ１２を感光
する。
変形例であり、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装
置の概略構成図である。第５図（ａ）において、Ｘ線吸
収物質６は！４壁５０の表面に全て被着されている。こ
の場合Ｘ線吸収物質６としてＡｕ等の透過の低い物質を
用いる。物質６の表面に１乃至２°でＸ線が入射すると
、全反射され、はぼ平行な出射Ｘ線３が得られる。この
全反射Ｘ線３と、孔４０を直接通過したＸ線２とが合成
されて、パターン１１を有するＸ線マスクＩＯを露光し
５、ウェハ１３上に塗布されたＸ線しジスｈ１２を感光
する。
［効果］
以上説明したように本発明によれば、微細貫通孔により
形成される板状部材の隔壁の表面にＸ線吸収率の高い物
質を被着することにより、有用でない散乱Ｘ線の発生を
防止することができると同時に隔壁材であるガラス材を
保護することができ、また隔壁の表面全てに上記の物質
を被着すれば入射光線の反射光も利用することができる
ので、Ｘ線露光装置に使用すればスルーブツトを増大す
ることができる。
形成される板状部材の隔壁の表面にＸ線吸収率の高い物
質を被着することにより、有用でない散乱Ｘ線の発生を
防止することができると同時に隔壁材であるガラス材を
保護することができ、また隔壁の表面全てに上記の物質
を被着すれば入射光線の反射光も利用することができる
ので、Ｘ線露光装置に使用すればスルーブツトを増大す
ることができる。
第１図（ａ）は、従来のＸ線コリメータの概略部分断面
図、第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の概略部分断面図で
ある。第２図は、本発明の一実施例の概略部分断面図、
第３図は、第２図の実施例の製造工程を説明する概略部
分断面図、第４図及び第５図（ａ）は、それぞれ本発明
の他の実施例の概略部分断面図、第４図（ａ）及び（ｂ
）は、−Ｘ線露光装置の概略構成図である。 ４０−ｍ−微細貫通口 ４０ａ 、 ４０ｂ−一開口部 ５０−ｍ−隔壁 ５０ａ、 ５０ｂ −−一 隔壁端部 ９０−ｍ−板状部材 ６ −−−Ｘ線吸収部材 ｍ ５ 区１ｊ 、手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特許願 第３８７３２号
２、発明の名称 Ｘ線コリメータ ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （１００）キャノン株式会社 ４、代、理 人 住所 東京都港区赤坂１丁目９番２０号５、補正命令
の日付 発送日：昭和６０年７月３０日 ６、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 ７、補正の内容 明細書の第７頁第１３行目の「第４図（ａ）及び（ｂ）
は、」を「第５図（ｂ）は、」に訂正する。
図、第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の概略部分断面図で
ある。第２図は、本発明の一実施例の概略部分断面図、
第３図は、第２図の実施例の製造工程を説明する概略部
分断面図、第４図及び第５図（ａ）は、それぞれ本発明
の他の実施例の概略部分断面図、第４図（ａ）及び（ｂ
）は、−Ｘ線露光装置の概略構成図である。 ４０−ｍ−微細貫通口 ４０ａ 、 ４０ｂ−一開口部 ５０−ｍ−隔壁 ５０ａ、 ５０ｂ −−一 隔壁端部 ９０−ｍ−板状部材 ６ −−−Ｘ線吸収部材 ｍ ５ 区１ｊ 、手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示 昭和５８年 特許願 第３８７３２号
２、発明の名称 Ｘ線コリメータ ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （１００）キャノン株式会社 ４、代、理 人 住所 東京都港区赤坂１丁目９番２０号５、補正命令
の日付 発送日：昭和６０年７月３０日 ６、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 ７、補正の内容 明細書の第７頁第１３行目の「第４図（ａ）及び（ｂ）
は、」を「第５図（ｂ）は、」に訂正する。
Claims (1)
- Ｘ線源からのＸ線を平行化するＸ線コリメータにおいて
、多数の微細な貫通口を有する部材を含み、該貫通口に
より形成される該部材の隔壁の少なくとも端部の表面に
Ｘ線吸収率の高い物質が被着されていることを特徴とす
るＸ線コリメータ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038732A JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
| DE19853507340 DE3507340A1 (de) | 1984-03-02 | 1985-03-01 | Roentgenkollimator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038732A JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6117100A true JPS6117100A (ja) | 1986-01-25 |
Family
ID=12533495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59038732A Pending JPS6117100A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6117100A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0248897U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | ||
| JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP59038732A patent/JPS6117100A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0248897U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | ||
| JPH0539519Y2 (ja) * | 1988-09-30 | 1993-10-06 | ||
| JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
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