JPS6378056A - 全反射蛍光x線分析装置 - Google Patents
全反射蛍光x線分析装置Info
- Publication number
- JPS6378056A JPS6378056A JP22096086A JP22096086A JPS6378056A JP S6378056 A JPS6378056 A JP S6378056A JP 22096086 A JP22096086 A JP 22096086A JP 22096086 A JP22096086 A JP 22096086A JP S6378056 A JPS6378056 A JP S6378056A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- fluorescent
- total reflection
- mirrors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料面に、全反射を生ずるような微少の入射角
をもって励起X線を入射させることにより、蛍光X線の
発生に寄与することなく反射したX線を蛍光X線と分離
して、高いSN比で蛍光X線の検出を行い得るようにし
た全反射蛍光X線分析装置に関する。
をもって励起X線を入射させることにより、蛍光X線の
発生に寄与することなく反射したX線を蛍光X線と分離
して、高いSN比で蛍光X線の検出を行い得るようにし
た全反射蛍光X線分析装置に関する。
竿+ F!/’l t? 2.’f: 3!’−の仝げ
針常平y泊φ肝佑苦の堪酵を示した図で、X線管その他
適宜のX線源1から発生したX線を2つの発散スリブ)
・2および3で細い平行X線Xに絞って、全反射を生ず
るような充分小さい角度で試料4の表面に入射するよう
にしである。このX線の一部は試料を励起して蛍光X線
fを発生させるから、これを適宜のX線検出器5で検出
して、波長分析を行うことにより試料の成分を知ること
ができる。かつX線Xが試料面に極めて小さい角度で入
射するから、試料の励起に寄与しない入射X線が試料表
面で全反射を生じて、このX線yは検出器5に入射する
ことなく逸散する。従ってこのような全反射蛍光X線分
析装置は高感度の分析を行うことができる。しかしX線
源から発生したX線を2つの発散スリットで細く絞るか
らその強度を大きくして、試料から発生する蛍光X線の
強度を増大することが困fitである。
針常平y泊φ肝佑苦の堪酵を示した図で、X線管その他
適宜のX線源1から発生したX線を2つの発散スリブ)
・2および3で細い平行X線Xに絞って、全反射を生ず
るような充分小さい角度で試料4の表面に入射するよう
にしである。このX線の一部は試料を励起して蛍光X線
fを発生させるから、これを適宜のX線検出器5で検出
して、波長分析を行うことにより試料の成分を知ること
ができる。かつX線Xが試料面に極めて小さい角度で入
射するから、試料の励起に寄与しない入射X線が試料表
面で全反射を生じて、このX線yは検出器5に入射する
ことなく逸散する。従ってこのような全反射蛍光X線分
析装置は高感度の分析を行うことができる。しかしX線
源から発生したX線を2つの発散スリットで細く絞るか
らその強度を大きくして、試料から発生する蛍光X線の
強度を増大することが困fitである。
従って本発明は試料面におけるX線の入射範囲を増大す
ることなく、しかも入射X線の強度を増大して、上述の
欠点を軽減しようとするものである。
ることなく、しかも入射X線の強度を増大して、上述の
欠点を軽減しようとするものである。
すなわち本発明はX線源と試料面との間におけるX線通
路の両側に微少の間隔をもって相対向すると共に上記試
料面に対して充分小さい角度をなすように配置された1
対の全反射ミラーを設けたものである。従って仮にこの
1対の全反射ミラーの間隔を第1図におけるスリット2
および3の開口+1Jと等しく、またその長さをスリッ
ト2.3の間隔に等しくすると、試料面におけるX線の
幅が等しくなる。しかも全反射ミラーで反射したX線も
上記幅の範囲内に入射する。このため本発明に・よって
試料面における励起X線の幅を増大することなくその強
度が増大して、高感度の分析を行うことができる作用効
果がある。
路の両側に微少の間隔をもって相対向すると共に上記試
料面に対して充分小さい角度をなすように配置された1
対の全反射ミラーを設けたものである。従って仮にこの
1対の全反射ミラーの間隔を第1図におけるスリット2
および3の開口+1Jと等しく、またその長さをスリッ
ト2.3の間隔に等しくすると、試料面におけるX線の
幅が等しくなる。しかも全反射ミラーで反射したX線も
上記幅の範囲内に入射する。このため本発明に・よって
試料面における励起X線の幅を増大することなくその強
度が増大して、高感度の分析を行うことができる作用効
果がある。
第2図はこのような本発明実施例の構成を示した図で、
X線管のようなX線源1に微少の間隔で相対向する!対
の平行な全反射ミラー6および7の一端を対設し、その
2つのミラーの他端に任意の試料4を配置しである。こ
の試料4の表面がミラー6.7に対して充分小さい角度
aをなすように、」二足試料を設置すると共にその試料
の表面に適宜のX線検出器5を対向させたものである。
X線管のようなX線源1に微少の間隔で相対向する!対
の平行な全反射ミラー6および7の一端を対設し、その
2つのミラーの他端に任意の試料4を配置しである。こ
の試料4の表面がミラー6.7に対して充分小さい角度
aをなすように、」二足試料を設置すると共にその試料
の表面に適宜のX線検出器5を対向させたものである。
従って全反射ミラー6.7の間を通過した幅の狭いX線
Xが試料4の表面に入射し、その一部は試料を励起して
蛍光X線fを発生させるから、この蛍光X線が検出器5
で検出されて蛍光X線分析が行われる。かつ試料4の励
起に寄与しないXgAxは、試料面で全反射を生ずるか
ら、このX線yは検出器5に入射することなく逸散する
。
Xが試料4の表面に入射し、その一部は試料を励起して
蛍光X線fを発生させるから、この蛍光X線が検出器5
で検出されて蛍光X線分析が行われる。かつ試料4の励
起に寄与しないXgAxは、試料面で全反射を生ずるか
ら、このX線yは検出器5に入射することなく逸散する
。
第3図(A)は前記第1図に示した従来の装置における
スリット2.3および試料4の表面を示した拡大図、ま
た(B)は第2図における全反射ミラー6.7と試料4
の表面を示した図で、各図とも試料4の表面を入射X線
に対して直角に表しであるが、実際はX @ xが全反
射角以下の角度で入射するように傾斜している。このよ
うに従来の装置は幅Wの2つの発散スリット2.3を適
当な間隔lを6って配置することにより平行X線Xを形
成して試料4に入射させていたから、その入射X線の強
度分布は図示したように梯形のグラフpで表される。ま
た(B)は第2図に示した本発明の装置における同様の
図で、X線源からミラー6.7の相対向する内面に入射
したX線は、その表面で全反射を生ずる。このX線は1
回の反射によって直接試料に入射するか、あるいはミラ
ー6.7の間で全反射を繰り返して試料4に入射する。
スリット2.3および試料4の表面を示した拡大図、ま
た(B)は第2図における全反射ミラー6.7と試料4
の表面を示した図で、各図とも試料4の表面を入射X線
に対して直角に表しであるが、実際はX @ xが全反
射角以下の角度で入射するように傾斜している。このよ
うに従来の装置は幅Wの2つの発散スリット2.3を適
当な間隔lを6って配置することにより平行X線Xを形
成して試料4に入射させていたから、その入射X線の強
度分布は図示したように梯形のグラフpで表される。ま
た(B)は第2図に示した本発明の装置における同様の
図で、X線源からミラー6.7の相対向する内面に入射
したX線は、その表面で全反射を生ずる。このX線は1
回の反射によって直接試料に入射するか、あるいはミラ
ー6.7の間で全反射を繰り返して試料4に入射する。
しかし何れにしてもミラーの長さを1、間隔をWとし、
かつその全反射角が充分小さいものとすると、全反射ミ
ラー6または7の反射によって試料に入射するX線は前
記グラフpにおける幅の狭い底辺上に集中する。すなわ
ち本発明の装置における試料面上の入射X線分布は折線
グラフqで表したように、その節回が増大することなく
、しかも斜線部分で示したように特に中央部の強度が増
大する。
かつその全反射角が充分小さいものとすると、全反射ミ
ラー6または7の反射によって試料に入射するX線は前
記グラフpにおける幅の狭い底辺上に集中する。すなわ
ち本発明の装置における試料面上の入射X線分布は折線
グラフqで表したように、その節回が増大することなく
、しかも斜線部分で示したように特に中央部の強度が増
大する。
このため本発明は試料面上の位置的分解能を低下するこ
となく、検出感度を向上し得る効果がある。
となく、検出感度を向上し得る効果がある。
第1図は従来の装置の構成を示した図、第2図は本発明
実施例の構成を示した図、第3図は本発明の詳細な説明
するための線図である。なお図において、lはX線源、
2および3は発散スリット、4は試料、5は検出器、6
および7は全反射ミラーである。 特許出願人 理学電機工業株式会社 く−
実施例の構成を示した図、第3図は本発明の詳細な説明
するための線図である。なお図において、lはX線源、
2および3は発散スリット、4は試料、5は検出器、6
および7は全反射ミラーである。 特許出願人 理学電機工業株式会社 く−
Claims (1)
- 試料面で全反射を生ずるような低角度をもって上記試料
面にX線を入射させるX線源と、上記試料面から発生す
る蛍光X線の検出器と、前記X線源と試料面との間にお
けるX線通路の両側に微少の間隔で相対向すると共に試
料面に対して前記低角度をなすように配置された1対の
全反射ミラーと、よりなることを特徴とする全反射蛍光
X線分析装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22096086A JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22096086A JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6378056A true JPS6378056A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=16759252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22096086A Pending JPS6378056A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | 全反射蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6378056A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02124537U (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-15 | ||
JPH0518912A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Rigaku Denki Kogyo Kk | X線分析における試料の方位の判定方法および装置 |
WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光x線分析装置及び全反射蛍光x線分析方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5111955A (en) * | 1974-07-17 | 1976-01-30 | Toyo Boseki | Bosekishino fumenhatsuseidohyokahoho |
JPS6073445A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Shimadzu Corp | 螢光x線分析装置 |
JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
-
1986
- 1986-09-20 JP JP22096086A patent/JPS6378056A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5111955A (en) * | 1974-07-17 | 1976-01-30 | Toyo Boseki | Bosekishino fumenhatsuseidohyokahoho |
JPS6073445A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Shimadzu Corp | 螢光x線分析装置 |
JPS6188128A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Kawasaki Steel Corp | 合金被膜の膜厚及び組成測定方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02124537U (ja) * | 1989-03-22 | 1990-10-15 | ||
JPH0518912A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Rigaku Denki Kogyo Kk | X線分析における試料の方位の判定方法および装置 |
WO2010026750A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光x線分析装置及び全反射蛍光x線分析方法 |
JP5846469B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2016-01-20 | 国立大学法人京都大学 | 全反射蛍光x線分析装置及び全反射蛍光x線分析方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7115876B2 (en) | Imaging array and methods for fabricating same | |
JPS6378056A (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
US7105826B2 (en) | Imaging array and methods for fabricating same | |
JPH0456274B2 (ja) | ||
JPH1137934A (ja) | 表面プラズモンセンサーおよび暗線位置検出装置 | |
JPH05340866A (ja) | 塵粒子検出器 | |
JPH0348188A (ja) | オートラジオグラフィ装置 | |
JP2776823B2 (ja) | 光学検出装置 | |
JPH0269692A (ja) | 荷電粒子ビームのエネルギーの球状ミラー分析器 | |
JPH03188361A (ja) | 蛍光x線発生装置 | |
JPH01244344A (ja) | X線吸収スペクトル測定装置 | |
JPS6321854B2 (ja) | ||
JPS6073447A (ja) | 軽元素けい光x線分光器 | |
Maeda et al. | Real-time analysis for MBE by time-resolved core-level photoelectron spectroscopy | |
JP2004163239A (ja) | 表面評価装置 | |
RU2080624C1 (ru) | Устройство для измерения потоков незаряженных частиц и квантов | |
JPS5833643Y2 (ja) | 質量分析装置におけるイオンビ−ム電流検出装置 | |
JPH0215159Y2 (ja) | ||
JPH1038823A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JPH1186783A (ja) | 電子エネルギ分析装置 | |
JPS6040602B2 (ja) | 光集束装置 | |
JPH01180439A (ja) | X線分光装置 | |
JPH01196544A (ja) | 蛍光測定装置 | |
JPH05107109A (ja) | 複光束測光器の光電子増倍管を照明する照明装置 | |
JPS6231885Y2 (ja) |