JPS60183598A - Ｘ線コリメ−タ - Google Patents
Ｘ線コリメ−タInfo
- Publication number
- JPS60183598A JPS60183598A JP59038730A JP3873084A JPS60183598A JP S60183598 A JPS60183598 A JP S60183598A JP 59038730 A JP59038730 A JP 59038730A JP 3873084 A JP3873084 A JP 3873084A JP S60183598 A JPS60183598 A JP S60183598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- rays
- partition wall
- collimator
- ray collimator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は、Ｘ線コリメータに関し、特にｌｌｌ１ｌ：Ｘ
線用のコリメータに関する。
線用のコリメータに関する。
［従来技術１
一、−Ｊｌｌに、Ｘ線源は、Ｘ線分析装置等の分野に用
いられているが、近年ＬＳＩ等の半導体製造の分野にお
いても、サブミクロン線幅の微細パターニングをｆ−ｉ
う軟Ｘ線露光装置の露光源として用いられている。Ｘ線
コリメータは、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置
等においてＸ線源からのＸ線を平行化するために用いら
れる。
いられているが、近年ＬＳＩ等の半導体製造の分野にお
いても、サブミクロン線幅の微細パターニングをｆ−ｉ
う軟Ｘ線露光装置の露光源として用いられている。Ｘ線
コリメータは、このようなＸ線分析装置、Ｘ線露光装置
等においてＸ線源からのＸ線を平行化するために用いら
れる。
Ｘ線露光方式は、紫外光などの光露光を行う方式に比べ
て、回折や干渉、反則などによる解像度の低ドがほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転′ｑパターンＡ’”（りられ
るという利点かあるか、他方ではレジストの感度不足や
Ｘ線源の低効率のためにスループットが低いという不都
合かある。
て、回折や干渉、反則などによる解像度の低ドがほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転′ｑパターンＡ’”（りられ
るという利点かあるか、他方ではレジストの感度不足や
Ｘ線源の低効率のためにスループットが低いという不都
合かある。
従来この種の装置ζＬは第１図（ａ）及び（ｂ）に、」
りすように、カラス等の材ネ°１により成る板状部材９
に、規則止しく平行かつ同・の断面形状の微細（直径が
２５ｇｍ −１０（ｌＬＬｍ程度）な孔４が多数開けら
れて構成されている。板状部材９の厚さは通常０．５乃
至 ５ｍｍ程度である。このコリメータにおいて図示上
方からｘ６ｉか入射すると、孔４により形成される隔ｖ
５の表面に照射されずに孔４を通過したものが、はぼｉ
ｌ＋−行化されたＸ線２か出射される。
りすように、カラス等の材ネ°１により成る板状部材９
に、規則止しく平行かつ同・の断面形状の微細（直径が
２５ｇｍ −１０（ｌＬＬｍ程度）な孔４が多数開けら
れて構成されている。板状部材９の厚さは通常０．５乃
至 ５ｍｍ程度である。このコリメータにおいて図示上
方からｘ６ｉか入射すると、孔４により形成される隔ｖ
５の表面に照射されずに孔４を通過したものが、はぼｉ
ｌ＋−行化されたＸ線２か出射される。
しかしながら第１ｉｄ（ｂ）の部分断面（Ａで小ずよラ
に、入用Ｘ線ｌが孔４の入射側の開口部４ａにおける隔
壁５のエツジ部５ａに照射されると散乱Ｘ線７か発生し
、また隔壁５の内表面に衝突した人ｎ４Ｘｆｆｌ ｌは
そこで吸収される。特に孔４の出射側の開目部４ａにお
ける隔壁５のエツジ部５ｂは同様に散乱Ｘ線７を放射状
に発散さゼるので、このコリメータを通過したＸ線には
、１１１行な出用Ｘ１１Ｊ２と散乱Ｘ線７が混在する。
に、入用Ｘ線ｌが孔４の入射側の開口部４ａにおける隔
壁５のエツジ部５ａに照射されると散乱Ｘ線７か発生し
、また隔壁５の内表面に衝突した人ｎ４Ｘｆｆｌ ｌは
そこで吸収される。特に孔４の出射側の開目部４ａにお
ける隔壁５のエツジ部５ｂは同様に散乱Ｘ線７を放射状
に発散さゼるので、このコリメータを通過したＸ線には
、１１１行な出用Ｘ１１Ｊ２と散乱Ｘ線７が混在する。
したがって１１行でない散乱Ｘ線７の強度が弱い場合に
も、厳密な４１行性を要求される場合、例えばサブミク
ロンの解像線Ｉ＋］か要求される／露光装置の様な用途
には小都合である。あるいは入射Ｘ！！；ｌｌか隔壁５
の表面に！＋（（射されて吸収されると、ガラス材９は
変色、変質し、材質によっては分解するという欠点があ
る。
も、厳密な４１行性を要求される場合、例えばサブミク
ロンの解像線Ｉ＋］か要求される／露光装置の様な用途
には小都合である。あるいは入射Ｘ！！；ｌｌか隔壁５
の表面に！＋（（射されて吸収されると、ガラス材９は
変色、変質し、材質によっては分解するという欠点があ
る。
また多数の微細な孔４により形成される隔壁５はｏｆ能
な限り薄い方がＸ線の有効透過面積が増しｔＩｆ都合で
あるが、使用するＸ線の波長によってはこの隔壁に吸収
されることなく透過し、コリメータの機能を果さなくな
るという欠点がある。Ｘ線の中で比較的長波長の軟Ｘ線
と云えとも隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装
置には不都合である。
な限り薄い方がＸ線の有効透過面積が増しｔＩｆ都合で
あるが、使用するＸ線の波長によってはこの隔壁に吸収
されることなく透過し、コリメータの機能を果さなくな
るという欠点がある。Ｘ線の中で比較的長波長の軟Ｘ線
と云えとも隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装
置には不都合である。
［目的］
本発明の１−１的は、十−記従来例の欠点に鑑み、素材
を劣化させることのないＸ線コリメータを提供すること
を［ｉ的とする。
を劣化させることのないＸ線コリメータを提供すること
を［ｉ的とする。
［実施例］
リド図面を参照して本発明の詳細な説明する。第２図は
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第１図（ａ
）及び（ｂ）と同し部材には同し参照符号をμイ（シで
ある。
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第１図（ａ
）及び（ｂ）と同し部材には同し参照符号をμイ（シで
ある。
鉛（ｐｂ）の含有率の高いカラスより成る板状部材９０
には、お伍いに・１行にかつ同一の断面形状の微細な孔
４０が多数開けられて構成され、孔４０の入射側の開「
１部４０ａにおける隔壁５０の端部５０ａ、及び孔４０
の出射側の開口部４０ｂにおける隔壁５０の端部５０ｂ
は丸味を帯びて形状されている。図小１力から不図示の
Ｘ線源よりＸ線ｌが照射されると、その平行な部分は孔
４０を通過してＩｉ？＋なＸ線２として出射され、他方
−ＩＺ行でない部分は、隔壁５ｏを含み板状部４イ９０
に吸収される。この場合隔壁５ｏの端部５０ａ、５０ｂ
は丸みをＩ；？びているので、散乱Ｘ線が発散すること
かない。
には、お伍いに・１行にかつ同一の断面形状の微細な孔
４０が多数開けられて構成され、孔４０の入射側の開「
１部４０ａにおける隔壁５０の端部５０ａ、及び孔４０
の出射側の開口部４０ｂにおける隔壁５０の端部５０ｂ
は丸味を帯びて形状されている。図小１力から不図示の
Ｘ線源よりＸ線ｌが照射されると、その平行な部分は孔
４０を通過してＩｉ？＋なＸ線２として出射され、他方
−ＩＺ行でない部分は、隔壁５ｏを含み板状部４イ９０
に吸収される。この場合隔壁５ｏの端部５０ａ、５０ｂ
は丸みをＩ；？びているので、散乱Ｘ線が発散すること
かない。
１記の隔壁５０の端部５０ａ 、 ５０ｂの形成′力法
としては、第１図（ａ）及び（ｂ）の如く形成されたコ
リメータを、フン酸、フン硝酸等内に適当な１１￥１１
１１侵すと、鋭いエツジ部はとエンチングされ易いので
結果的にエツジ部が除去される。
としては、第１図（ａ）及び（ｂ）の如く形成されたコ
リメータを、フン酸、フン硝酸等内に適当な１１￥１１
１１侵すと、鋭いエツジ部はとエンチングされ易いので
結果的にエツジ部が除去される。
第３図は、本発明の他の実施例の概略部分断面図であり
、第２図の隔壁５０の入用側の端１゛τ１１５０ａ表面
に、Ｘ線吸収・会の高い物質６が被着されている。この
場合入射Ｘ線が直接カラス材９０（及び隔壁５０）の表
面に照射される率が軽減され、隔壁材であるカラス材８
０の変色等を防１１、することができる。Ｘ線吸収・Ｖ
の高い物質６としてはＡｕ、 Ｐｔ、 Ｐｂ”ｔ・Ｋ金
属が適当であり、使用するＸ線の波長や強度から適当な
ものを選べば良い。被着の方法としては法着、スパンタ
等がある。
、第２図の隔壁５０の入用側の端１゛τ１１５０ａ表面
に、Ｘ線吸収・会の高い物質６が被着されている。この
場合入射Ｘ線が直接カラス材９０（及び隔壁５０）の表
面に照射される率が軽減され、隔壁材であるカラス材８
０の変色等を防１１、することができる。Ｘ線吸収・Ｖ
の高い物質６としてはＡｕ、 Ｐｔ、 Ｐｂ”ｔ・Ｋ金
属が適当であり、使用するＸ線の波長や強度から適当な
ものを選べば良い。被着の方法としては法着、スパンタ
等がある。
第４図は、第３図の実施例の変形例であり、隔部５０の
出用側の端部５０ｂの表面にも同様にＸ線吸収物質６か
被着されている。
出用側の端部５０ｂの表面にも同様にＸ線吸収物質６か
被着されている。
第５図（ａ）は、第３図及び第４図の実施例の更に別の
変形例であり、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装
置苫の概略構成図である。第５図（ａ）において、Ｘ線
吸収物質６は隔壁５０の表面に全て被着されている。こ
の場合Ｘ線吸収物質６としてａ 、 １ｅｆｔの反射？
（＜の高い物質を用いる。物質６の表面に１乃−′＋９
２°でＸ線か入射すると、全反射され、はぼ・１１行な
出用Ｘ線３が得られる。この全反射Ｘ線３と、孔４０を
直接通°過したＸ線２とか合成されて、パターン１１を
イ１するＸｉマスクＩＯを露光し、ウェハ１３上に塗布
されたＸ線レジスト１２を感光する。
変形例であり、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装
置苫の概略構成図である。第５図（ａ）において、Ｘ線
吸収物質６は隔壁５０の表面に全て被着されている。こ
の場合Ｘ線吸収物質６としてａ 、 １ｅｆｔの反射？
（＜の高い物質を用いる。物質６の表面に１乃−′＋９
２°でＸ線か入射すると、全反射され、はぼ・１１行な
出用Ｘ線３が得られる。この全反射Ｘ線３と、孔４０を
直接通°過したＸ線２とか合成されて、パターン１１を
イ１するＸｉマスクＩＯを露光し、ウェハ１３上に塗布
されたＸ線レジスト１２を感光する。
［効果］
以ト説明したように本発明によれば、微細貫通孔により
形成される板状部材の隔壁の端部を丸味をもって形成す
ることにより１．４川でない散乱Ｘ線の発生を防１１．
することができ、・ｌ’ｌｔ性の高いＸ線コリメータを
実現することが０丁能となる。
形成される板状部材の隔壁の端部を丸味をもって形成す
ることにより１．４川でない散乱Ｘ線の発生を防１１．
することができ、・ｌ’ｌｔ性の高いＸ線コリメータを
実現することが０丁能となる。
第１図（ａ）は、るＹ来のＸ線コリメータの概略部分胴
視１ｙ５．第１図（ｂ）は、第１１：’４（ａ）（７）
４１１略１“イｈ分断面図である。第２図は、本発明の
・実施例の概略部分断面図１第３図ダ、第４図、第５図
（ａ）は、それぞれ本発明の他の実施例の概略部分断面
図、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装置の１！を
略構成図である。 ４０−−一 微細貫通１−１ ４０ａ 、 ４０ｂ−−一開１−’１部５０−−−隔長
Ｖ ５０ａ、 ５０ｂ −−一 隔壁端部 ９０−ｍ−板状部材 特許出願人 ギヤノン株式会社 、ｌ、５ 図１３ 手 続 補 正 書（方式） ％式％（５６ ２発明の名称 Ｘ線コリメータ ３６ 袖１１をする者 ｉｊｉイ１１との関係 出願人 （］（Ｈ−１）片ヤノン（′４、入会で１゜４、代理人 住所 東京都港区赤坂１丁目９番２０号−！’ｉ、 Ｒ
ｆｌ Ｉ［ｉ’Ｑｉ令のＩｌｆ”Ｊ発Ｊ汐１１１１ζ”
ｌ （Ｉ＋ ５０年５月２！夕（（６、ｈｌｉ ＋ｌ：
ａ＋ス１象 明細１１１「σ）１１ン１曲σ）ｆバ）？１ｊな説明−
１（１） １Ｆｆ１７補正の内容 明み４１１＋ 、１シ第７貞第（ｉ ＴＪ乃ヤ第７汀の
１−第５図（ａ）・・・である。」を１第５図（ｂ）
Ｌｊ、第ｆｉ ｌ−：４ （ａ） ａ）Ｘ斜（＝１リメ
ータをＸ線露光装置に月Ｉいた場合のマス少々ウェハの
概略Ｊ：、ｌ、ｌ、成図である。１に？）ｌｉ ＋ドす
る。
視１ｙ５．第１図（ｂ）は、第１１：’４（ａ）（７）
４１１略１“イｈ分断面図である。第２図は、本発明の
・実施例の概略部分断面図１第３図ダ、第４図、第５図
（ａ）は、それぞれ本発明の他の実施例の概略部分断面
図、第５図（ａ）及び（ｂ）は、Ｘ線露光装置の１！を
略構成図である。 ４０−−一 微細貫通１−１ ４０ａ 、 ４０ｂ−−一開１−’１部５０−−−隔長
Ｖ ５０ａ、 ５０ｂ −−一 隔壁端部 ９０−ｍ−板状部材 特許出願人 ギヤノン株式会社 、ｌ、５ 図１３ 手 続 補 正 書（方式） ％式％（５６ ２発明の名称 Ｘ線コリメータ ３６ 袖１１をする者 ｉｊｉイ１１との関係 出願人 （］（Ｈ−１）片ヤノン（′４、入会で１゜４、代理人 住所 東京都港区赤坂１丁目９番２０号−！’ｉ、 Ｒ
ｆｌ Ｉ［ｉ’Ｑｉ令のＩｌｆ”Ｊ発Ｊ汐１１１１ζ”
ｌ （Ｉ＋ ５０年５月２！夕（（６、ｈｌｉ ＋ｌ：
ａ＋ス１象 明細１１１「σ）１１ン１曲σ）ｆバ）？１ｊな説明−
１（１） １Ｆｆ１７補正の内容 明み４１１＋ 、１シ第７貞第（ｉ ＴＪ乃ヤ第７汀の
１−第５図（ａ）・・・である。」を１第５図（ｂ）
Ｌｊ、第ｆｉ ｌ−：４ （ａ） ａ）Ｘ斜（＝１リメ
ータをＸ線露光装置に月Ｉいた場合のマス少々ウェハの
概略Ｊ：、ｌ、ｌ、成図である。１に？）ｌｉ ＋ドす
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｘ線ｉｔからのＸｉを・１７−行化するＸ線コリメータ
において、 多数の微細な貫通１−１を有する板状部材を含み。 該１１通目縁部で、少なくともＸ線源とは反射側の縁部
は丸味をもって形成されていることを特徴とするＸ線コ
リメータ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038730A JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
| DE19853507340 DE3507340A1 (de) | 1984-03-02 | 1985-03-01 | Roentgenkollimator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038730A JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60183598A true JPS60183598A (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=12533441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59038730A Pending JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Ｘ線コリメ−タ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60183598A (ja) |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP59038730A patent/JPS60183598A/ja active Pending
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