JPS60183598A - X線コリメ−タ - Google Patents
X線コリメ−タInfo
- Publication number
- JPS60183598A JPS60183598A JP59038730A JP3873084A JPS60183598A JP S60183598 A JPS60183598 A JP S60183598A JP 59038730 A JP59038730 A JP 59038730A JP 3873084 A JP3873084 A JP 3873084A JP S60183598 A JPS60183598 A JP S60183598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- rays
- partition wall
- collimator
- ray collimator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、X線コリメータに関し、特にlll1l:X
線用のコリメータに関する。
線用のコリメータに関する。
[従来技術1
一、−Jllに、X線源は、X線分析装置等の分野に用
いられているが、近年LSI等の半導体製造の分野にお
いても、サブミクロン線幅の微細パターニングをf−i
う軟X線露光装置の露光源として用いられている。X線
コリメータは、このようなX線分析装置、X線露光装置
等においてX線源からのX線を平行化するために用いら
れる。
いられているが、近年LSI等の半導体製造の分野にお
いても、サブミクロン線幅の微細パターニングをf−i
う軟X線露光装置の露光源として用いられている。X線
コリメータは、このようなX線分析装置、X線露光装置
等においてX線源からのX線を平行化するために用いら
れる。
X線露光方式は、紫外光などの光露光を行う方式に比べ
て、回折や干渉、反則などによる解像度の低ドがほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転′qパターンA’”(りられ
るという利点かあるか、他方ではレジストの感度不足や
X線源の低効率のためにスループットが低いという不都
合かある。
て、回折や干渉、反則などによる解像度の低ドがほとん
どないので、木質的に微細パターンの転写が容易であり
、また高アスペクト比の転′qパターンA’”(りられ
るという利点かあるか、他方ではレジストの感度不足や
X線源の低効率のためにスループットが低いという不都
合かある。
従来この種の装置ζLは第1図(a)及び(b)に、」
りすように、カラス等の材ネ°1により成る板状部材9
に、規則止しく平行かつ同・の断面形状の微細(直径が
25gm −10(lLLm程度)な孔4が多数開けら
れて構成されている。板状部材9の厚さは通常0.5乃
至 5mm程度である。このコリメータにおいて図示上
方からx6iか入射すると、孔4により形成される隔v
5の表面に照射されずに孔4を通過したものが、はぼi
l+−行化されたX線2か出射される。
りすように、カラス等の材ネ°1により成る板状部材9
に、規則止しく平行かつ同・の断面形状の微細(直径が
25gm −10(lLLm程度)な孔4が多数開けら
れて構成されている。板状部材9の厚さは通常0.5乃
至 5mm程度である。このコリメータにおいて図示上
方からx6iか入射すると、孔4により形成される隔v
5の表面に照射されずに孔4を通過したものが、はぼi
l+−行化されたX線2か出射される。
しかしながら第1id(b)の部分断面(Aで小ずよラ
に、入用X線lが孔4の入射側の開口部4aにおける隔
壁5のエツジ部5aに照射されると散乱X線7か発生し
、また隔壁5の内表面に衝突した人n4Xffl lは
そこで吸収される。特に孔4の出射側の開目部4aにお
ける隔壁5のエツジ部5bは同様に散乱X線7を放射状
に発散さゼるので、このコリメータを通過したX線には
、111行な出用X11J2と散乱X線7が混在する。
に、入用X線lが孔4の入射側の開口部4aにおける隔
壁5のエツジ部5aに照射されると散乱X線7か発生し
、また隔壁5の内表面に衝突した人n4Xffl lは
そこで吸収される。特に孔4の出射側の開目部4aにお
ける隔壁5のエツジ部5bは同様に散乱X線7を放射状
に発散さゼるので、このコリメータを通過したX線には
、111行な出用X11J2と散乱X線7が混在する。
したがって11行でない散乱X線7の強度が弱い場合に
も、厳密な41行性を要求される場合、例えばサブミク
ロンの解像線I+]か要求される/露光装置の様な用途
には小都合である。あるいは入射X!!;llか隔壁5
の表面に!+((射されて吸収されると、ガラス材9は
変色、変質し、材質によっては分解するという欠点があ
る。
も、厳密な41行性を要求される場合、例えばサブミク
ロンの解像線I+]か要求される/露光装置の様な用途
には小都合である。あるいは入射X!!;llか隔壁5
の表面に!+((射されて吸収されると、ガラス材9は
変色、変質し、材質によっては分解するという欠点があ
る。
また多数の微細な孔4により形成される隔壁5はof能
な限り薄い方がX線の有効透過面積が増しtIf都合で
あるが、使用するX線の波長によってはこの隔壁に吸収
されることなく透過し、コリメータの機能を果さなくな
るという欠点がある。X線の中で比較的長波長の軟X線
と云えとも隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装
置には不都合である。
な限り薄い方がX線の有効透過面積が増しtIf都合で
あるが、使用するX線の波長によってはこの隔壁に吸収
されることなく透過し、コリメータの機能を果さなくな
るという欠点がある。X線の中で比較的長波長の軟X線
と云えとも隔壁が薄くなれば透過しやすくなり、露光装
置には不都合である。
[目的]
本発明の1−1的は、十−記従来例の欠点に鑑み、素材
を劣化させることのないX線コリメータを提供すること
を[i的とする。
を劣化させることのないX線コリメータを提供すること
を[i的とする。
[実施例]
リド図面を参照して本発明の詳細な説明する。第2図は
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第1図(a
)及び(b)と同し部材には同し参照符号をμイ(シで
ある。
本発明の一実施例の概略部分断面図であり、第1図(a
)及び(b)と同し部材には同し参照符号をμイ(シで
ある。
鉛(pb)の含有率の高いカラスより成る板状部材90
には、お伍いに・1行にかつ同一の断面形状の微細な孔
40が多数開けられて構成され、孔40の入射側の開「
1部40aにおける隔壁50の端部50a、及び孔40
の出射側の開口部40bにおける隔壁50の端部50b
は丸味を帯びて形状されている。図小1力から不図示の
X線源よりX線lが照射されると、その平行な部分は孔
40を通過してIi?+なX線2として出射され、他方
−IZ行でない部分は、隔壁5oを含み板状部4イ90
に吸収される。この場合隔壁5oの端部50a、50b
は丸みをI;?びているので、散乱X線が発散すること
かない。
には、お伍いに・1行にかつ同一の断面形状の微細な孔
40が多数開けられて構成され、孔40の入射側の開「
1部40aにおける隔壁50の端部50a、及び孔40
の出射側の開口部40bにおける隔壁50の端部50b
は丸味を帯びて形状されている。図小1力から不図示の
X線源よりX線lが照射されると、その平行な部分は孔
40を通過してIi?+なX線2として出射され、他方
−IZ行でない部分は、隔壁5oを含み板状部4イ90
に吸収される。この場合隔壁5oの端部50a、50b
は丸みをI;?びているので、散乱X線が発散すること
かない。
1記の隔壁50の端部50a 、 50bの形成′力法
としては、第1図(a)及び(b)の如く形成されたコ
リメータを、フン酸、フン硝酸等内に適当な11¥11
11侵すと、鋭いエツジ部はとエンチングされ易いので
結果的にエツジ部が除去される。
としては、第1図(a)及び(b)の如く形成されたコ
リメータを、フン酸、フン硝酸等内に適当な11¥11
11侵すと、鋭いエツジ部はとエンチングされ易いので
結果的にエツジ部が除去される。
第3図は、本発明の他の実施例の概略部分断面図であり
、第2図の隔壁50の入用側の端1゛τ1150a表面
に、X線吸収・会の高い物質6が被着されている。この
場合入射X線が直接カラス材90(及び隔壁50)の表
面に照射される率が軽減され、隔壁材であるカラス材8
0の変色等を防11、することができる。X線吸収・V
の高い物質6としてはAu、 Pt、 Pb”t・K金
属が適当であり、使用するX線の波長や強度から適当な
ものを選べば良い。被着の方法としては法着、スパンタ
等がある。
、第2図の隔壁50の入用側の端1゛τ1150a表面
に、X線吸収・会の高い物質6が被着されている。この
場合入射X線が直接カラス材90(及び隔壁50)の表
面に照射される率が軽減され、隔壁材であるカラス材8
0の変色等を防11、することができる。X線吸収・V
の高い物質6としてはAu、 Pt、 Pb”t・K金
属が適当であり、使用するX線の波長や強度から適当な
ものを選べば良い。被着の方法としては法着、スパンタ
等がある。
第4図は、第3図の実施例の変形例であり、隔部50の
出用側の端部50bの表面にも同様にX線吸収物質6か
被着されている。
出用側の端部50bの表面にも同様にX線吸収物質6か
被着されている。
第5図(a)は、第3図及び第4図の実施例の更に別の
変形例であり、第5図(a)及び(b)は、X線露光装
置苫の概略構成図である。第5図(a)において、X線
吸収物質6は隔壁50の表面に全て被着されている。こ
の場合X線吸収物質6としてa 、 1eftの反射?
(<の高い物質を用いる。物質6の表面に1乃−′+9
2°でX線か入射すると、全反射され、はぼ・11行な
出用X線3が得られる。この全反射X線3と、孔40を
直接通°過したX線2とか合成されて、パターン11を
イ1するXiマスクIOを露光し、ウェハ13上に塗布
されたX線レジスト12を感光する。
変形例であり、第5図(a)及び(b)は、X線露光装
置苫の概略構成図である。第5図(a)において、X線
吸収物質6は隔壁50の表面に全て被着されている。こ
の場合X線吸収物質6としてa 、 1eftの反射?
(<の高い物質を用いる。物質6の表面に1乃−′+9
2°でX線か入射すると、全反射され、はぼ・11行な
出用X線3が得られる。この全反射X線3と、孔40を
直接通°過したX線2とか合成されて、パターン11を
イ1するXiマスクIOを露光し、ウェハ13上に塗布
されたX線レジスト12を感光する。
[効果]
以ト説明したように本発明によれば、微細貫通孔により
形成される板状部材の隔壁の端部を丸味をもって形成す
ることにより1.4川でない散乱X線の発生を防11.
することができ、・l’lt性の高いX線コリメータを
実現することが0丁能となる。
形成される板状部材の隔壁の端部を丸味をもって形成す
ることにより1.4川でない散乱X線の発生を防11.
することができ、・l’lt性の高いX線コリメータを
実現することが0丁能となる。
第1図(a)は、るY来のX線コリメータの概略部分胴
視1y5.第1図(b)は、第11:’4(a)(7)
411略1“イh分断面図である。第2図は、本発明の
・実施例の概略部分断面図1第3図ダ、第4図、第5図
(a)は、それぞれ本発明の他の実施例の概略部分断面
図、第5図(a)及び(b)は、X線露光装置の1!を
略構成図である。 40−−一 微細貫通1−1 40a 、 40b−−一開1−’1部50−−−隔長
V 50a、 50b −−一 隔壁端部 90−m−板状部材 特許出願人 ギヤノン株式会社 、l、5 図13 手 続 補 正 書(方式) %式%(56 2発明の名称 X線コリメータ 36 袖11をする者 ijiイ11との関係 出願人 (](H−1)片ヤノン(′4、入会で1゜4、代理人 住所 東京都港区赤坂1丁目9番20号−!’i、 R
fl I[i’Qi令のIlf”J発J汐1111ζ”
l (I+ 50年5月2!夕((6、hli +l:
a+ス1象 明細111「σ)11ン1曲σ)fバ)?1jな説明−
1(1) 1Ff17補正の内容 明み411+ 、1シ第7貞第(i TJ乃ヤ第7汀の
1−第5図(a)・・・である。」を1第5図(b)
Lj、第fi l−:4 (a) a)X斜(=1リメ
ータをX線露光装置に月Iいた場合のマス少々ウェハの
概略J:、l、l、成図である。1に?)li +ドす
る。
視1y5.第1図(b)は、第11:’4(a)(7)
411略1“イh分断面図である。第2図は、本発明の
・実施例の概略部分断面図1第3図ダ、第4図、第5図
(a)は、それぞれ本発明の他の実施例の概略部分断面
図、第5図(a)及び(b)は、X線露光装置の1!を
略構成図である。 40−−一 微細貫通1−1 40a 、 40b−−一開1−’1部50−−−隔長
V 50a、 50b −−一 隔壁端部 90−m−板状部材 特許出願人 ギヤノン株式会社 、l、5 図13 手 続 補 正 書(方式) %式%(56 2発明の名称 X線コリメータ 36 袖11をする者 ijiイ11との関係 出願人 (](H−1)片ヤノン(′4、入会で1゜4、代理人 住所 東京都港区赤坂1丁目9番20号−!’i、 R
fl I[i’Qi令のIlf”J発J汐1111ζ”
l (I+ 50年5月2!夕((6、hli +l:
a+ス1象 明細111「σ)11ン1曲σ)fバ)?1jな説明−
1(1) 1Ff17補正の内容 明み411+ 、1シ第7貞第(i TJ乃ヤ第7汀の
1−第5図(a)・・・である。」を1第5図(b)
Lj、第fi l−:4 (a) a)X斜(=1リメ
ータをX線露光装置に月Iいた場合のマス少々ウェハの
概略J:、l、l、成図である。1に?)li +ドす
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 X線itからのXiを・17−行化するX線コリメータ
において、 多数の微細な貫通1−1を有する板状部材を含み。 該11通目縁部で、少なくともX線源とは反射側の縁部
は丸味をもって形成されていることを特徴とするX線コ
リメータ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59038730A JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
DE19853507340 DE3507340A1 (de) | 1984-03-02 | 1985-03-01 | Roentgenkollimator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59038730A JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60183598A true JPS60183598A (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=12533441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59038730A Pending JPS60183598A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | X線コリメ−タ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60183598A (ja) |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP59038730A patent/JPS60183598A/ja active Pending
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